KR100546492B1 - 섀도우 마스크용 광경화형 에칭저항제 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 광중합형 올리고머(A), 광중합형 모노머(B), 광중합개시제(C), 및/또는 연쇄이동제, 레벨링제, 소포제, 안정제 등의 첨가제를 포함하는 섀도우 마스크용 광경화형 에칭저항제 조성물에 있어서, 상기 광중합형 올리고머(A)가 1개의 인산기 및 1개 이상의 메타(아크릴로일기)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 섀도우 마스크용 광경화형 에칭저항제 조성물에 관한 것으로서, 상기 조성물은 내에칭성이 우수하며, 알칼리 용액에서 금속 박판으로부터 용이하게 박리되고, 쉽게 용해될 수 있다.

Description

섀도우 마스크용 광경화형 에칭저항제 조성물{PHOTO-CURABLE ETCHING-RESISTANT COMPOSITION FOR SHADOW MASK}
본 발명은 섀도우 마스크용 광경화형 에칭저항제 조성물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 광중합형 올리고머, 반응성 모노머, 광중합개시제, 및 레벨링제, 연쇄이동제, 소포제, 안정제 등의 첨가제를 포함하며, 섀도우 마스크 제조시 2차 에칭 공정에 사용되는 이면고정재용 조성물에 관한 것이다.
섀도우 마스크(shadow mask)는 수십만 개의 작은 구멍이 규칙적으로 뚫려 있는 얇은 금속판으로서, TV 및 PC 모니터 스크린의 패널 내면에 장착되어 선명도를 좌우하는 컬러 TV용 브라운관의 핵심부품 중의 하나이며, 컬러 TV용 브라운관의 전자총에서 주사되는 전자빔을 각각 해당하는 패널 내면의 형광면에 정확히 도달 되도록 하여 선명한 컬러를 나타낼 수 있게 하는 색 선별의 기능을 가진다. 따라서, 우수한 색 선별능력을 갖는 섀도우 마스크가 요구되며 이러한 특성을 위해 에칭공정이 수행된다.
그러나, 1차 에칭공정으로서 원형구멍을 형성할 경우, 구멍이 비정상적으로 커지고 연결되거나 비뚤어지는 현상이 발생함에 따라 이러한 현상을 방지하기 위하여, 미국특허 제4,069,085호에는 1차 에칭공정 이전에 이면고정재를 이용하여 철판에 패턴을 형성하고 에칭조성물을 박리시킨 후 2차 에칭공정에 의해 구멍을 형성하는, 2차에 걸친 에칭공정이 개시되어 있다.
대한민국 특허 제180,829호, 제257,206호 및 제300,091호, 및 특허출원 제99-25345호에는 1 개의 카르복실기와 1 개의 아크릴로일 또는 메타아크릴로일기를 갖는 광중합형 올리고머, 1 개 이상의 아크릴로일 또는 메타아크릴로일기를 갖는 광중합형 모노머 및 광중합개시제로 구성되며, 첨가제로서 레벨링제, 소포제, 안정제 등을 사용하는, 섀도우 마스크 제조용 감광성 수지 조성물이 개시되어 있다.
상기와 같은 종래의 섀도우 마스크용 조성물을 이용하여 2차 에칭공정을 실시할 경우, 충분한 시간동안 금속판 표면을 보호하고 빠른 시간 내에 알칼리 성분을 박리시키기 위해서는 약산인 카르복실산이 다량 필요하므로 올리고머의 함량도 증가하여 전체 성분의 50 내지 70 중량부가 사용되어야 한다. 그러나 올리고머의 함량이 증가됨에 따라 점도 상승 및 다른 기능성 첨가물을 첨가하기 어려워진다. 특히 점도의 상승에 따라 도포시 구멍메임성, 표면평활성을 충족하기 위해서는 고온에서 공정이 이루어져야 하므로, 설비 및 휘발에 따른 작업환경의 악화를 초래하는 문제점이 있다. 또한 박리가 되어도 알칼리 용액에 완전히 용해되기 위해서는 많은 시간이 필요하고, 용해시간이 길어짐에 따라 알칼리 박막조에 감광성 수지 조성물 찌꺼기가 다량 발생함으로써 철판의 찍힘 불량 등이 빈번하게 발생하는 문제 점이 있다.
이에 따라 본 발명의 목적은, 1개의 인산기 및 1개 이상의 (메타)아크릴로일기를 포함하는 광중합형 올리고머에 광중합형 모노머, 광중합개시제, 또는 레벨링제, 소포제, 안정제 등의 첨가제를 첨가하여 제조된, 내에칭성, 알칼리 박리성 및 용해성이 우수한, 섀도우 마스크 제조용 광경화형 에칭저항제 조성물을 제공하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 (A) 1개의 인산기 및 1개 이상의 (메타)아크릴로일기를 포함하는 광중합형 올리고머 20 내지 80 중량%; (B) 1개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 (메타)아크릴레이트 20 내지 80 중량%; 상기 성분 (A) 및 (B)의 합계 100 중량부에 대하여, (C) 광중합개시제 1 내지 15 중량부; 및 선택적으로, 연쇄이동제, 레벨링제, 소포제 및 안정제로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 첨가물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 섀도우 마스크용 광경화형 에칭저항제 조성물을 제공한다.
이하 본 발명을 상세히 설명한다.
(A) 광중합형 올리고머
본 발명에서 사용되는 광중합형 올리고머(A)는 1개의 인산 화합물 또는 인산 무수물에 1개 이상의 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트를 반응시킴으로써 제조된다.
상기 인산 화합물 또는 인산 무수물은 이소프로필포스페이트, 2-아미노에틸포스페이트, 메틸렌이인산, 페닐디클로로포스페이트, 포스포러스펜톡사이드, 포스포릴브로마이드, 포스포릴클로라이드 등을 포함한다.
상기 (메타)아크릴레이트는 분자 말단에 히드록시기를 가지며, 시클로헥산디메탄올 모노아크릴레이트, 폴리카프로락톤 변성 히드록시부틸아크릴레이트, 폴리카프로락톤 변성 시클로헥산디메탄올 모노아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 모노아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 모노아크릴레이트 등을 포함한다.
상기 광중합형 올리고머(A)의 제조는 통상의 방법에 의해 수행될 수 있으며, 구체예로서, 반응 플라스크에 인산, 분자 말단에 히드록시기를 갖는 모노(메타)아크릴레이트 및 촉매를 가하고 냉각시킨 후 교반하면서 5시간 반응시켜 제조된다.
상기 광중합형 올리고머(A)의 제조에 사용되는 촉매로는 트리메틸벤질 암모늄클로라이드, 트리에틸벤질 암모늄크로라이드, 메틸트리에틸 암모늄클로라이드, 테트라에틸 암모늄클로라이드 및 메틸트리에틸 암모늄아이오다이드로 이루어진 군으로부터 선택되며, 이중에서 트리메틸벤질 암모늄클로라이드가 바람직하다.
상기 광중합형 올리고머(A)는 광중합형 올리고머(A) 및 광중합형 모노머(B)의 합계 중량에 대하여 20 내지 80 중량%로 사용되며, 바람직하게는 30 내지 70 중량%로 사용된다.
(B) 광중합형 모노머
본 발명에서 사용되는 광중합형 모노머(B)는 1개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 (메타)아크릴레이트로서, 본 발명의 조성물의 경화막에 내에칭성을 부여한다. 상기 모노머(B)는 (메타)아크릴로일기를 함유하는 수에 따라, 단관능기 모노머, 2관능기 모노머 또는 3관능기 이상을 갖는 모노머로 구분될 수 있으며, 이중에서 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 단관능기 광중합형 모노머로서, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트 등의 알킬(메타)아크릴레이트; 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메타)아크릴레이트; 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트 등의 페녹시알킬(메타)아크릴레이트; 벤질(메타)아크릴레이트; 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트; 이소보르닐(메타)아크릴레이트 등이 사용될 수 있다.
2관능기 광중합형 모노머로서, 부탄디올디(메타)아크릴레이트, 헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 폴리올폴리(메타)아크릴레이트; 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 폴리에테르글리콜디(메타)아크릴레이트; 다가알코올에 알킬렌옥사이드를 부가시키 화합물과 (메타)아크릴산의 반응물로서 비스페놀 A의 알킬렌옥사이드 부가물의 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 F의 알킬렌옥사이드 부가물의 디(메타)아크릴레이트, 헥산디올의 알킬렌옥사이드 부가물의 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜의 알킬렌옥사이드 부가물의 디(메타)아크릴레이트 등이 사용될 수 있다.
3관능기 이상의 광중합형 모노머로서, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리테트라(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판의 알킬렌옥사이드 부가물의 트리(메타)아크릴레이트 등이 사용될 수 있다.
상기 광중합형 반응성 모노머(B)는 상기 광중합형 올리고머(A) 및 광중합형 모노머(B)의 합계 중량에 대하여 20 내지 80 중량%로 사용된다. 20 중량% 미만으로 사용되는 경우에는 내에칭성이 저하되고, 80 중량% 보다 많은 양으로 사용되는 경우에는 알칼리 용해에서의 경화막의 박리성이 불충분하다.
(C) 광중합개시제
본 발명에서 사용되는 광중합개시제(C)는 자외선을 흡수하여 상기 광중합형 올리고머(A)와 광중합형 모노머(B)가 광중합 반응을 할 수 있도록 라디칼을 발생시키는 물질로서, 아세토페논계, 벤조페논계, 아실포스핀옥사이드계, 벤조인에테르계 또는 티옥산톤계가 있다.
아세토페논계로는 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르포리노페닐)-부탄온, 벤질디메틸케탈, 2-메틸-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르포리노-1-프로판온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐(2-히드록시-2-프로필)케톤 등이 있다. 벤조페논계로는 벤조페논, O-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸-디페닐설파이드, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등이 있다. 아실포스핀옥사이드계로는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드 등이 있다. 벤조인에테르계로는 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등이 있다. 티옥산톤계로는 2-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤 등이 있다.
상기 광중합개시제(C)는 아세토페논계 및 아실포스핀옥사이드계를 함께 배합하여 사용하는 것이 바람직하며, 이 경우에 섀도마스크의 제조시 경화 조성물이 균일한 패턴을 형성하도록 도와주고, 경화 조성물의 표면 및 내부의 경화도 차에 의한 금속판에 비정상적으로 발생하는 큰 구멍을 예방할 수 있다.
상기 광중합개시제(C)는 상기 (A) 및 (B) 성분의 합계 100 중량부에 대해 1 내지 15 중량부로 사용되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 3 내지 10 중량부로 첨가된다. 1 중량부 미만인 경우에는 중합 개시를 촉진하는 효과가 불충분하여 설비의 증설시 비용이 증가하며, 15 중량부 이상인 경우에는 경화막에 필요한 다른 성분의 첨가량이 감소되고 경화 조성물의 과다한 경화에 의한 금속판 비틀림 현상이 유발되는 문제점이 있다.
(D) 연쇄이동제
본 발명에서 사용되는 연쇄이동제(D)는 옥틸메르캅탄, 노닐메르캅탄, 데실메르캅탄, 도데실메르캅탄 등이 있다. 상기 연쇄이동제는 성분 (A) 및 (B)의 합계 100 중량부에 대하여 0.01 내지 5 중량부로 사용되는 것이 바람직하다. 0.01 중량부 미만에서는 경화조성물의 경화시 수축이 심해져 인접한 구멍들 사이의 금속부분이 비틀리게 되고 경화조성물의 용해 또는 박리성이 저하되어 금속판에 형성된 구 멍간의 간격이 불균일하게 된다. 5 중량부를 초과하는 경우에는 경화조성물의 에칭저항성이 저하되어 에칭저항제 조성물로서의 역할이 불충분해진다.
(E) 레벨링제
본 발명에서 사용되는 레벨링제(E)는 실리콘 계열이며, 조성물의 구멍메임성 및 경화막의 표면평활성을 향상시킬 목적으로 첨가된다. 통상적으로 사용되는 레벨링제로는 실리콘 계열 또는 불소화합물이 있으나, 불소화합물은 특유의 냄새로 인해 본 발명에서는 사용하지 않는다.
실리콘 계열의 레벨링제로는 테고 #245, #500 등이 사용되며, 광중합형 아크릴레이트기를 갖는 레벨링제는 비와이케이 ＃371, ＃373, ＃375 (제조원: BYK-chemie) 등이 사용되며, 이들은 도막 포면에 균일하게 분포되며 첨가제 자체의 반응성으로 인해 수지와 경화 반응되어 도막 표면에 고정된다. 또한, 표면장력 저하능력이 크고 습윤성을 향상시키며 분화구 현상을 방지하는 레벨링제로서 비와이케이 #307, #306, #333 등을 사용할 수 있다.
상기 레벨링제(E)는 성분 (A) 및 (B)의 합계 100 중량부에 대하여 0.01 내지 3 중량부의 범위에서 사용되는 것이 바람직하며, 0.01 중량부 미만에서는 구멍메임성 및 표면평활성의 특성을 본 발명의 조성물에 부여하기 어렵고 특히, 표면평활성 고르지 않아 경화 조성물에 의한 에칭저항능력이 떨어져 에칭용액이 내부로 침투하게 되고, 심할 경우 경화조성물과 금속판이 들뜨게 된다. 3 중량부를 초과하는 경우에는 수지도막의 결함을 발생시킬 우려가 있다.
(F) 소포제
본 발명에서 사용되는 소포제(F)는 친유성 폴리실록산을 기본으로 하며, 소포제의 상용성은 상기 폴리실록산의 친유성 성질에 영향을 받는다. 친유성이 강할수록 비상용성이 강해지며, 이에 따라 소포 특성이 더욱 증가한다. 상기 소포제(F)의 예로는, 비실리콘 계열은 비와이케이 ＃051, ＃052, # 053, # 055 및 # 057, 테고에어렉스 ＃900, # 910 및 # 920, 테고포멕스엔(제조원: 테고-chemie사) 등이 있으며, 실리콘 계열은 비와이케이 # 020, # 065, # 080, 테고에어렉스 # 931, #986 등이 있다. 상기 소포제(F)는 성분 (A) 및 (B)의 합계 100 중량부에 대하여 0.01 내지 3 중량부의 범위에서 사용되는 것이 바람직하다.
(G) 안정제
광중합개시제(C)의 종류에 따라 형광등이나 가시광선에 의한 상온에서의 저장성 문제를 유발하며, 특히 장파장 광중합개시제의 사용시 20W 이상의 형광등에 노출될 경우 수십 분이 경과하면 표면에서 광중합이 일어나므로 안정제가 요구된다. 본 발명에서 사용되는 안정제(G)의 예로는 히드로퀴논, 톨루히드로퀴논, 히드로퀴논모노메틸에테르 등이 있으며, 성분 (A) 및 (B)의 합계 100 중량부에 대하여 0.01 내지 1 중량부의 함량으로 사용될 수 있다.
본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 더 잘 이해될 수 있으며, 하기의 실시예는 본 발명의 예시 목적을 위한 것이며 첨부된 특허청구범위에 의하여 한정되는 보호범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.
실시예
광중합형 올리고머의 제조
제조 1
3L의 4구 반응 플라스크에 인산 150g, 2-히드록시 에틸 아크릴레이트 244.9g, 촉매로 벤질트리메틸 암모늄클로라이드 7.5g을 넣고 0 내지 -10℃로 온도를 냉각시켜 5 시간 교반하면서 반응시킴으로써 광중합형 올리고머(399.6g)를 제조하였다. 이때 상기 생성 올리고머의 점도는 25℃에서 340 cps, 산가는 350 mgKOH/g 이었다.
제조 2
2-히드록시 에틸 아크릴레이트(244.9g) 대신에 2-히드록시 에틸 메타아크릴레이트(274.4g)를 첨가한 것을 제외하고는, 제조 1과 동일한 방법에 의해 올리고머(421.6g)를 제조하였으며,생성물의 점도는 25℃에서 360 cps, 산가는 340 mgKOH/g 이었다.
제조 3
2-히드록시 에틸 아크릴레이트(244.9g) 대신에 카프로락톤 2-아크릴로일옥시 에틸 에스테르(309.1g)를 첨가한 것을 제외하고는, 제조 1과 동일한 방법에 의해 올리고머(456.3g)를 제조하였으며, 생성물의 점도는 25℃에서 620 cps, 산가는 250 mgKOH/g 이었다.
제조 4
2-히드록시 에틸 아크릴레이트(244.9g) 대신에 카프로락톤 2-메타아크릴로일옥시 에틸 에스테르(323.1g)를 첨가한 것을 제외하고는, 제조 1과 동일한 방법에 의해 올리고머(469.7g)를 제조하였으며, 생성물의 점도는 25℃에서 640 cps, 산가는 240 mgKOH/g 이었다.
제조 5
2-히드록시 에틸 아크릴레이트를 489.7g을 첨가한 것을 제외하고는, 제조 1과 동일한 방법에 의해 올리고머(636.3g)를 제조하였으며, 생성물의 점도는 25℃에서 750 cps, 산가는 160 mgKOH/g 이었다.
제조 6
2-히드록시 에틸 아크릴레이트(244.9g) 대신에 2-히드록시 에틸 메타아크릴레이트(548.9g)를 첨가한 것을 제외하고는, 제조 1과 동일한 방법에 의해 올리고머(695.5g)를 제조하였으며, 생성물의 점도는 25℃에서 800 cps, 산가는 140 mgKOH/g 이었다.
제조 7
2-히드록시 에틸 아크릴레이트(244.9g) 대신에 카프로락톤 2-아크릴로일옥시 에틸 에스테르(971.3g)를 첨가한 것을 제외하고는, 제조 1과 동일한 방법에 의해 올리고머(1116.9g)를 제조하였으며, 생성물의 점도는 25℃에서 1280 cps, 산가는 130 mgKOH/g 이었다.
제조 8
2-히드록시 에틸 아크릴레이트(244.9g) 대신에 카프로락톤 2-메타아크릴로일옥시 에틸 에스테르(1030.2g)를 첨가한 것을 제외하고는, 제조 1과 동일한 방법에 의해 올리고머(1176.8g)를 제조하였으며, 생성물의 점도는 25℃에서 1320 cps, 산 가는 110 mgKOH/g 이었다.
섀도우 마스크용 에칭저항제 조성물의 제조
실시예 1
광중합형 올리고머(A)로서, 상기 제조 1에서 제조한 올리고머 40 중량부와 M-5400(제조원: 동아합성화학 주식회사) 30 중량부를, 분자 중에 1 이상의 아크릴레이트기 또는 메타아크릴레이트기를 갖는 광중합형 모노머(B)로서, 페녹시에틸 아크릴레이트(b1) 7 중량부, 폴리에틸렌글리콜 디아크릴레이트(b2) 6.6 중량부 및 에틸렌옥시드 3몰 부가형 프로판트리아크릴레이트(b3) 10 중량부를, 광중합개시제(C)로서 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(제조원: 시바 가이기사) 5 중량부를, 레벨링제(E), 소포제(F) 및 안정제(G)로서, 각각 비와이케이 #371 1 중량부, 비와이케이 #022(이상 제조원: 비와이케미칼사) 0.3 중량부 및 테트라히드로퀴논 0.1 중량부를 혼합하여 섀도우 마스크용 조성물을 제조하였다.
실시예 2 내지 8
제조 1에서 제조한 올리고머 대신에, 제조 2 내지 8에서 각각 제조된 올리고머를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 절차에 의하여 조성물을 제조하였다.
비교실시예 1
비교를 위하여, 광중합형 올리고머로서 1 개의 카르복시기와 1관능 아크릴레이트를 포함하는 M-5400을 70 중량부 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 절차에 의하여 수지조성물을 제조하였다.
물성 평가 1
상기 실시예 1 내지 8에서 각각 제조된 에칭저항제 조성물을 300×200 ㎟의 금속 박판 위에 두께 20 마이크론으로 코팅한 후, 120 W의 고압 수은등으로 이루어진 자외선 경화 장치인 퓨전 램프로 600 mJ/㎠ 이상에서 경화시켰다. 이어서 상기 경화된 조성물들의 각각의 물성을 하기 방법에 의해 평가하였으며, 그 결과를 표 1에 나타내었다.
1) 점도 : 25℃에서 브룩필드 회전 점도계 스핀들 넘버 3번, 60 rpm으로 측정한다.
2) 경화성 : 표면의 끈적임 유무로 다음과 같이 판단한다:
◎ : 완전경화 끈적임 없음.
○: 끈적임은 있으나 도막은 밀리지 않음.
△ : 끈적이고 도막이 밀림.
3) 내산성 : 경화 시편을 43% 염화제이철 수용액에 투입하고 60℃로 유지하면서 산성에 견디는 시간을 측정한다. 내산성의 기준은 도막의 얼룩, 백탁, 박리 등의 변화가 없어야 하며, 이를 육안으로 평가하고 시간을 측정한다.
4) 박리성 : 경화 시편을 25% 수산화나트륨 용액에 투입하고 60℃로 유지하면서 박리가 되는 정도를 육안으로 평가하며, 박리되는 시간을 측정한다.
Figure 112001020589605-pat00001
실시예 9 내지 14
상기 제조 1에서 제조한 올리고머를 이용하여, 하기 표 2에 기재된 성분 및 조성비로 혼합하여 섀도우 마스크용 조성물을 제조하였다.
Figure 112001020589605-pat00002
물성 평가 2
상기 실시예 9 내지 14에서 각각 제조된 에칭저항제 조성물을 물성 평가 1과 같은 방법으로 점도, 경화성, 내산성 및 박리성을 측정하여 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.
Figure 112001020589605-pat00003
본 발명에 따른 광경화형 에칭저항제 조성물은 인산기 및 메타(아크릴로일기)를 포함하는 광중합형 올리고머에 광중합형 모노머, 광중합개시제, 레벨링제, 소포제, 안정제 등을 혼합하여 제조함으로써, 내에칭성이 우수하며 알칼리 용액에서 금속 박판으로부터 쉽게 박리되며 용해될 수 있다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.

Claims (17)

  1. (A) 1개의 인산기 및 1개 이상의 (메타)아크릴로일기를 함유하는 올리고머를 포함하는 광중합형 올리고머, (B) 1개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 (메타)아크릴레이트계 광중합형 모노머 및 (C) 광중합개시제를 포함하며, 상기 인산기 및 (메타)아크릴로일기 함유 올리고머의 함량이 광중합형 올리고머 성분(A)의 전체 중량에 대해 50 내지 100 중량％를 차지하는 것을 특징으로 하는, 섀도우 마스크용 광경화형 에칭저항제 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    광중합형 올리고머(A) 20 내지 80 중량%, 1개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 (메타)아크릴레이트(B) 20 내지 80 중량%, 및 상기 성분 (A) 및 (B)의 합계 100 중량부에 대하여, 광중합개시제(C) 1 내지 15 중량부인 것을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    광중합형 올리고머(A)가 1개의 인산 화합물 또는 인산 무수물과 1개 이상의 (메타)아크릴레이트를 반응시켜 제조된 것임을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제3항에 있어서,
    인산 화합물 또는 인산 무수물이 이소프로필포스페이트, 2-아미노에틸포스페이트, 메틸렌이인산, 페닐디클로로포스페이트, 포스포러스펜톡사이드, 포스포릴브로마이드 및 포스포릴클로라이드를 포함하는 군으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 조 성물.
  5. 제3항에 있어서,
    (메타)아크릴레이트가 분자 말단에 히드록시기를 가지며, 시클로헥산디메탄올 모노아크릴레이트, 폴리카프로락톤 변성 히드록시부틸아크릴레이트, 폴리카프로락톤 변성 시클로헥산디메탄올 모노아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 모노아크릴레이트 및 폴리프로필렌글리콜 모노아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제1항에 있어서,
    (메타)아크릴레이트(B)가 1개의 (메타)아크릴로일기를 갖는 단관능기 모노머, 2개의 (메타)아크릴로일기를 갖는 2관능기 모노머, 3개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 3관능기 이상의 모노머 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제6항에 있어서,
    단관능기 모노머가 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트 및 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 알킬(메타)아크릴레이트; 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트 및 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 히드록시알킬(메타)아크릴레이트; 페녹시알킬(메 타)아크릴레이트; 벤질(메타)아크릴레이트; 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트; 또는 이소보르닐(메타)아크릴레이트인 것을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제6항에 있어서,
    2관능기 모노머가 부탄디올디(메타)아크릴레이트, 헥산디올디(메타)아크릴레이트 및 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 폴리올폴리(메타)아크릴레이트; 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트 또는 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트인 폴리에테르글리콜디(메타)아크릴레이트; 또는 비스페놀 A의 알킬렌옥사이드 부가물의 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 F의 알킬렌옥사이드 부가물의 디(메타)아크릴레이트, 헥산디올의 알킬렌옥사이드 부가물의 디(메타)아크릴레이트 및 네오펜틸글리콜의 알킬렌옥사이드 부가물의 디(메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된, 다가알코올에 알킬렌옥사이드를 부가시킨 화합물과 (메타)아크릴산의 반응물인 것을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제6항에 있어서,
    3관능기 이상의 모노머가 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리테트라(메타)아크릴레이트 및 트리메틸올프로판의 알킬렌옥사이드 부가물의 트리(메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 조성물.
  10. 제1항에 있어서,
    광중합개시제(C)가 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르포리노페닐)-부탄온, 벤질디메틸케탈, 2-메틸-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르포리노-1-프로판온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온 및 4-(2-히드록시에톡시) 페닐(2-히드록시-2-프로필)케톤으로 이루어진 군으로부터 선택된 아세토페논계; 벤조페논, O-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸-디페닐설파이드 및 2,4,6-트리메틸벤조페논으로 이루어진 군으로부터 선택된 벤조페논계; 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 또는 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드로부터 선택된 아실포스핀옥사이드계; 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 및 벤조인이소부틸에테르로 이루어진 군으로부터 선택된 벤조인에테르계; 또는 2-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤 및 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤으로 이루어진 군으로부터 선택된 티옥산톤계인 것을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제10항에 있어서,
    광중합개시제(C)가 아세토페논계로부터 선택된 1종 이상 및 아실포스핀옥사이드계로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  12. 제1항 내지 제11항중 어느 한 항에 있어서,
    연쇄이동제(D), 레벨링제(E), 소포제(F) 및 안정제(G)로 이루어진 군으로부터 선택 된 1종 이상의 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제12항에 있어서,
    성분 (A) 및 (B)의 합계 100 중량부에 대하여, 연쇄이동제(D) 0.01 내지 5 중량부, 레벨링제(E) 0.01 내지 3 중량부, 소포제(F) 0.01 내지 3 중량부, 및 안정제(G) 0.01 내지 1 중량부인 것을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제12항에 있어서,
    연쇄이동제(D)가 옥틸메르캅탄, 노닐메르캅탄, 데실메르캅탄 및 도데실메르캅탄으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제12항에 있어서,
    레벨링제(E)가 테고 #245 또는 #500, 또는 비와이케이 ＃371, ＃373, ＃375, #307, #306 또는 #333로부터 선택된 것을 특징으로 하는 조성물.
  16. 제12항에 있어서,
    소포제(F)가 비와이케이 ＃051, ＃052, # 053, # 055, # 057, # 020, # 065 또는 # 080; 테고에어렉스 ＃900, # 910, # 920, # 931 또는 #986; 또는 테고포멕스엔으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 조성물.
  17. 제12항에 있어서,
    안정제(G)가 히드로퀴논, 톨루히드로퀴논 및 히드로퀴논모노메틸에테르로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 조성물.
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