KR100286736B1 - 트렌치 격리 형성 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 활성 질화막의 스트립시, 산화 방지용 질화막이 덴트(dent) 되는 문제를 해결하는 트렌치 격리 형성 방법에 관한 것으로서, 반도체 기판 상에 트렌치 형성 영역을 정의하여 적어도 하나의 활성 질화막을 포함하는 트렌치 마스크층이 형성된다. 트렌치를 형성하기 위해 상기 트렌치 마스크층을 사용하여 상기 반도체 기판을 식각한다. 상기 식각 단계에서 발생된 반도체 기판 손상을 제거하기 위해 트렌치 바닥 및 양측 벽에 산화막이 형성된다. 트렌치를 포함하여 활성 질화막 상에 트렌치 내벽의 산화를 방지하지 위한 마스크, 예를 들면 질화막이 형성된다. 트렌치를 완전히 채우도록 트렌치 격리막이 형성된다. 트렌치 격리막을 치밀화 시키기 위한 어닐링 공정이 수행된다. 산화 방지용 질화막이 노출될 때까지 트렌치 격리막이 제거된다. 활성 질화막에 손상을 주기 위해 반도체 기판 상에 이온 주입 또는 플라즈마 (plasma) 처리를 한다. 이때, 반도체 기판 자체에는 손상이 가해지지 않는다. 반도체 기판의 상부 표면이 노출될 때까지 활성 질화막을 포함하여 트렌치 마스크층을 스트립 한다. 이와 같은 반도체 장치 제조 방법에 의해서, 활성 질화막을 스트립 하기 이전에 이온 주입 또는 플라즈마 처리를 하여 활성 질화막이 손상 되도록 하므로써, 활성 질화막의 스트립 시간을 감소시킬 수 있고, 활성 질화막의 스트립시 산화 방지용 질화막이 식각되어 덴트되는 현상을 방지 할 수 있으며, 따라서 트텐치 격리 특성 저하를 방지할 수 있다.

Description

트렌치 격리 형성 방법( A method of forming a trench isolation )

본 발명은 반도체 장치 제조 방법에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 활성 질화막의 스트립시 산화 방지용 질화막이 덴트되는 문제를 해결하는 트렌치 격리 형성 방법에 관한 것이다.

소자의 집적도가 증가함에 따라 소자 격리 방법이 종래의 LOCOS (local oxidation of silicon) 에서 STI (shallow trench isolation) 으로 바뀌고 있다. 그러나 STI 방법은 트렌치 내부의 산화막의 팽창 때문에 얕은 구멍 (shallow pit) 이 발생되는 문제점이 있다. 이로 인해 반도체 기판의 활성 영역에서 누설 전류가 증가하는 문제가 발생된다.

상기 문제를 해결하기 위해, 트렌치 내벽이 산화되는 것을 방지하기 위한 질화막이 사용되고 있다. 질화막을 사용할 경우, 트렌치 내벽의 산화를 방지하여 얕은 구멍의 발생은 방지할 수 있으나, 활성 질화막 스트립시 산화 방지용 질화막이 식각되어 움푹 파이는 덴트 현상이 발생된다. 이러한 덴트 현상이 발생할 경우, 후속 게이트 폴리 식각시 스트링어 (stringer) 가 남는 심각한 문제점이 발생된다.

상기 산화 방지용 질화막이 덴트되는 문제를 방지하기 위해서 종래의 기술은, 예를 들면 U.S. PAT.NO.5,447,884 는 50Å 이하의 두께를 갖는 산화 방지용 질화막을 사용하고 있다.

상기 개시된 종래의 방법은, 반도체 기판 상에 트렌치를 형성하는 단계; 상기 트렌치 형성 단계에서 발생하는 기판 손상을 제거하기 위해 트레치의 측벽을 산화하는 단계; 상기 트렌치 내벽의 산화를 방지하기 위해 산화 방지용 질화막을 증착하는 단계; 트렌치 격리막을 증착하는 단계; 상기 트렌치 격리막을 치밀화 시키기위해 어닐링 공정을 수행하는 단계; 그리고 질화막을 스트립하는 단계를 포함한다.

상기의 방법은 50Å 이하의 두께를 갖는 산화 방지용 질화막을 사용하여 덴트 현상을 방지하였다. 그러나, 이러한 방법은 덴트 현상을 방지하기 위해 얇은 질화막을 사용한 결과, 트렌치 내벽의 산화를 충분히 방지하지 못하게 되는 또다른 문제점을 야기 하게 되었다.

따라서, 트렌지 내벽의 산화 방지도 충분히 하면서, 산화 방지용 질화막이 덴트되는 현상을 방지하는 트렌치 격리 형성 방법이 필요하게 되었다.

본 발명은 상술한 제반 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 이온 주입 또는 플라즈마 처리를 통해 활성 질화막의 스트립 시간을 줄임으로써, 활성 질화막 스트립시 산화 방지용 질화막이 덴트되는 현상을 방지하는 트렌치 격리 형성 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.

도 1 내지 도 7 은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 트렌치 격리 형성 방법의 공정들을 순차적으로 보여주는 흐름도.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명

200 : 반도체 기판 202a : 패드 산화막

202b : 활성 질화막 202 : 트렌치 마스크층

203 : 트렌치 204 : 산화막

205 : 산화 방지 질화막 206 : 트렌치 격리막

208 : 트렌치격리

(구성)

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의하면, 트렌치 격리 형성 방법은, 반도체 기판 상에 트렌치 형성 영역을 정의하여 적어도 하나의 활성 질화막을 포함하는 트렌치 마스크층을 형성하는 단계; 상기 트렌치 마스크층을 사용하여 반도체 기판을 식각하여 트렌치를 형성하는 단계; 상기 트렌치 형성과정에서 발생하는 기판 손상을 제거하기 위해 트렌치 바닥 및 양측 벽에 산화막을 형성하는 단계; 상기 트렌치를 포함하여 상기 활성 질화막 상에 트렌치 내벽의 산화를 방지하기 위한 산화 방지용 질화막을 형성하는 단계; 상기 트렌치를 완전히 채우도록 트렌치 격리막을 형성하는 단계; 상기 트렌치 격리막을 치밀화 시키기 위해 어닐링 공정을 수행하는 단계; 상기 트렌치 양측의 산화 방지용 질화막의 상부 표면이 노출될 때까지 상기 트렌치 격리막을 평탄화 식각하는 단계; 상기 활성 질화막의 Si-N 사이의 결합력을 약화시키기 위해 상기 활성 질화막에 손상을 주는 단계; 그리고 상기 반도체 기판의 상부 표면이 노출될 때까지 상기 트렌치 마스크층을 스트립 하는 단계를 포함한다.

(작용)

도 6 및 도 7을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 트렌치 격리 형성 방법은 먼저, 반도체 기판 상에 활성 질화막을 포함하는 트렌치 마스크층이 형성된다. 반도체 기판이 식각되어 트렌치가 형성된다. 트렌치의 양측 벽 및 바닥에 산화막이 형성된다. 트렌치를 포함하여 활성 질화막 상에 트렌치 내벽의 산화를 방지하기 위한 질화막이 형성된다. 트렌치를 완전히 채우도록 트렌치 격리막이 형성된다. 활성 질화막에 손상을 주기 위해 이온 주입 또는 플라즈마 처리를 한다. 반도체 기판의 상부 표면이 노출될 때까지 활성 질화막을 포함하여 트렌치 마스크층을 스트립 한다. 이와 같은 반도체 장치 제조 방법에 의하면, 트렌치 마스크층을 스트립 하기 이전에 이온 주입 또는 플라즈마 처리를 하여 활성 질화막에 손상을 입혀 활성 질화막의 스트립 시간을 줄일 수 있고, 따라서 활성 질화막 의 스트립시 산화 방지용 질화막이 식각되어 덴트되는 현상을 방지 할 수 있다.

(실시예)

이하, 도 1 내지 도 7 을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.

도 1을 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 트렌치 격리 형성 방법은 먼저, 반도체 기판 (200) 상에 패드 산화막 (202a) 및 활성 질화막 (202b) 이 차례로 형성된다. 그리고 나서, 이 분야에서 잘 알려진 사진 식각 (photolithography) 공정에 의해, 트렌치 형성 영역이 정의된 트렌치 마스크층 (202) 이 형성된다. 다음, 상기 트렌치 마스크층 (202) 을 사용하여 상기 반도체 기판 (200) 이 식각되어 트렌치 (203) 가 형성된다.

다음, 도 2에 있어서, 상기 트렌치 (203) 형성시 발생된 실리콘 격자 손상 등 결함을 제거하기 위해 트렌치 (203) 의 내벽 즉, 트렌치의 바닥 및 양측 벽에 산화막 (204) 이 형성된다. 상기 산화막 (204)은 예를 들면 실리콘 산화막 (silicon dioxide layer) 이다.

도 3을 참조하면, 상기 트렌치 (203) 를 포함하여 상기 활성 질화막 (202b) 상에 트렌치 (203) 내벽의 산화를 방지하기 위한 마스크막인 산화 방지용 질화막 (205) 이 잘 알려진 LPCVD 방법으로 형성된다. 상기 질화막 (205) 은 예를 들면 실리콘 질화막 (silicon nitride layer) 이다. 상기 질화막 (205) 은 산화를 방지하기에 충분한 두께로 형성된다. 예를 들면 약 300Å 내지 600Å 두께 범위로 형성 될 수 있다.

도 4에 있어서, 상기 트렌치 (203) 를 포함하여 상기 질화막 (205) 상에, 상기 트렌치 (203) 를 완전히 채우도록 트렌치 격리막 (206), 예를 들면 USG막이 형성된다. 그리고 나서, 상기 트렌치 격리막 (206) 을 치밀화 시키기 위해 어닐링 공정이 수행된다.

다음, 상기 산화 방지 질화막 (205) 의 상부 표면이 노출될 때까지 상기 트렌치 (203) 양측의 상기 트렌치 격리막 (206) 이 도 5에서 와 같이, 잘 알려진 CMP 등의 평탄화 식각 공정을 통해 제거된다.

다음, 도 6을 참조하면, 상기 활성 질화막 (202b) 의 인산 스트립 시간을 줄이기 위해 이온 주입 또는 플라즈마 처리를 하여 상기 활성 질화막 (202b) 에 손상을 준다. 이때, 상기 반도체 기판 (200) 에는 손상이 가해지지 않는다. 상기 주입되는 이온은 예를 들면 P, As, B, Ar, 그리고 Si 중 어느 하나이고, 가속 에너지가 약 10 KeV 내지 1000 KeV 의 범위 내에서 수행되며, 이때 주입되는 이온의 도즈 (Dose) 는 약 1×1010cm-2내지 1×1017cm-2범위 내이다. 한편, 상기 플라즈마 처리 이온은 예를 들면 Xe, Kr, 그리고 Ar 중 어느 하나이고, 파우어 (power) 가 약 10 W 내지 5000 W 인 범위 내에서 압력이 약 1×10-4Torr 내지 700Torr 범위 내에서 이루어진다.

마지막으로, 상기 트렌치 마스크층 (202) 을 인산을 사용하여 스트립하면, 도 7 에 나타난 바와 같이, 트렌치 격리 (208) 가 완성된다.

상술한 신규한 트렌치 격리 형성 방법은 도 6 및 도 7에 나타난 바와 같이, 상기 활성 질화막 (202b) 이 스트립 되기 이전에 이온 주입 또는 플라즈마 처리를 하므로써, 상기 활성 질화막 (202b) 에 손상을 주어 그후 스트립 공정에서 스트립 시간을 줄임으로서 종래의 기술이 가지고 있던 활성 질화막이 스트립될 때 산화 방지용 질화막이 덴트되는 현상을 방지할 수 있다.

종래의 트렌치 격리 방법은 산화 방지용 질화막이 덴트되는 문제점을 해결하기 위해 그 두께를 얇게 하여 트렌치 격리를 구현하고 있으나, 이는 덴트 문제는 방지할 수 있으나, 질화막이 너무 얇은 관계로 트렌치 내벽의 산화를 방지하는데는 충분한 역할을 하지 못하는 문제점이 있었다.

이를 위해 상술한 바와 같이, 본 발명은 활성 질화막을 스트립 하기 이전에 이온 주입 또는 플라즈마 처리를 하여 활성 질화막이 손상되도록 하므로써, 활성 질화막의 스트립 시간을 감소시킬 수 있고, 활성 질화막의 스트립시 산화 방지용 질화막이 식각되어 덴트되는 현상을 방지 할 수 있으며, 활성 영역에서의 누설 전류를 방지하여, 트렌치 격리 특성 저하를 방지할 수 있는 효과가 있다.

Claims (9)

  1. 반도체 기판 상에 트렌치 형성 영역을 정의하여 적어도 하나의 활성 질화막을 포함하는 트렌치 마스크층을 형성하는 단계; 상기 트렌치 마스크층을 사용하여 상기 반도체 기판을 식각하여 트렌치를 형성하는 단계; 상기 트렌치 형성 과정에서 발생하는 상기 반도체 기판 손상을 제거하기 위해 트렌치 바닥 및 양측 벽에 산화막을 형성하는 단계; 상기 트렌치를 포함하여 상기 활성 질화막 상에 트렌치 내벽의 산화를 방지 하기 위한 산화 방지용 질화막을 형성하는 단계; 상기 트렌치를 완전히 채우도록 트렌치 격리막을 형성하는 단계; 상기 트렌치 격리막을 치밀화 시키기 위해 어닐링 공정을 수행하는 단계; 상기 트렌치 양측의 산화 방지용 질화막의 상부 표면이 노출될 때까지 상기트렌치 격리막을 평탄화 식각하는 단계; 상기 활성 질화막의 Si-N 사이의 결합력을 약화시키기 위해 상기 활성 질화 막에 손상을 주는 단계; 그리고 상기 반도체 기판의 상부 표면이 노출될 때까지 상기 트렌치 마스크층을 습식 식각으로 제거하는 단계를 포함하는 트렌치 격리 형성 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 활성 질화막에 손상을 주는 단계는, 이온 주입 공정에 의해서 수행되는 트랜치 격리 형성 방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 이온 주입공정은 P, As, B, Ar, 그리고 Si 중 어느 하나의 이온을 사용하여 수행되는 트렌치 격리 형성 방법.
  4. 제2항에 있어서, 상기 이온 주입 공정은, 약 1×1010cm-2내지 1×1017cm-2범위 내의 도즈(dose) 조건에서 수행되는 트렌치 격리 형성 방법.
  5. 제2항에 있어서, 상기 이온 주입 공정은, 10KeV 내지 1000KeV 범위 내의 가속 에너지 조건에서 수행되는 트렌치 격리 형성 방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 활성 질화막에 손상을 주는 단계는, 플라즈마 처리에 의해 수행되는 트랜치 격리 형성 방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 플라즈마 처리는, Xe, Kr, 그리고 Ar 중 어느 하나의 이온을 사용하여 수행되는 트렌치 격리 형성 방법.
  8. 제6항에 있어서, 상기 플라즈마 처리는, 약 10W 내지 5000W 범위 내의 파우어 (power) 조건에서 수행되는 트렌치 격리 형성 방법.
  9. 제6항에 있어서, 상기 플라즈마 처리는, 약 1×10-4Torr 내지 700Torr 범위 내의 압력 조건에서 수행되는 트렌치 격리 형성 방법.
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