KR100222569B1 - 필름용 폴리에틸렌 나프탈레이트 수지 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 나프탈렌디카본산, 이의 폴리에스테르 형성성 유도체(예를 들어, 디메틸-2,6-나프탈렌디카르복실레이트), 또는 이들을 산성분으로하여 에틸렌글리콜과의 에스테르화 반응으로 형성된 다이머, 또는 올리고머로 이루어지는 군에서 선택된 폴리에스테르 형성성 물질과 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속의 화합물을 반응시켜 얻은 생성입자와 이 입자를 내부 입자로 첨가한 폴리에틸렌프탈레이트를 제공한다. 이 폴리에스테르 수지 내에서 이 입자의 분산성은 매우 좋으며, 이로부터 제조된 필름은 0.4이상의 마찰 계수, 0.03이하의 필름표면의 평균 조도, 0.3

Description

[발명의 명칭]

필름용 폴리에틸렌 나프탈레이트 수지 제조방법

[발명의 상세한 설명]

[산업상 이용 분야]

본 발명은 폴리에스테르 수지에 관한 것으로서, 상세하게는 균일 미세한 입자를 다량 함유하고 필름 성형시에 표면특성, 내마모성, 이활성 향상에 유효한 폴리에스테르 제조를 목적으로 한다.

[종래 기술]

일반적으로 폴리에스테르는 우수한 역학 특성, 내열성, 내후성, 전기절연성, 내약품성을 갖기 때문에 의류, 산업용사, 자기테이프용 필름, 사진용 필름, 절연 필름, 콘덴서용 필름 등의 필름 분야에 널리 이용되고 있다.

특히 폴리에틸렌나프탈레이트(이하 PEN)는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)에 비하여 역학적 성질 등이 30정도 향상되었고, 열안정성 및 산소 차단성 등이 우수하여 각종 제품의 고성능화, 소형화에 대응할 수 있는 소재로서 최근각광받고 있다.

폴리에스테르를 필름 분야에서 사용할 경우의 용융압출, 연신, 열처리 공정에서의 가공성(processability), 또한 필름 성형시의 권취, 슬릿팅(slitting), 코로나 처리, 자성층 도포, 전기부품에의 적용시 작업성, 필름 제품의 이활성, 내마모성, 표면특성 등 최종제품으로서의 품질을 향상시키기 위해서 폴리에스테르 조성물에 미립자를 함유시켜 표면에 적당히 요철을 향상시키는 방법이 행해지고 있다. 이러한 미립자를 함유한 폴리에스테르 조성물로서는 ①산화규소, 이산화티탄, 탄산칼슘, 클레이, 카올린, 유기화합물 등의 불활성 미립자를 첨가해서 얻는 폴리에스테르 수지 조성물, ②폴리에스테르의 합성계에 첨가된 알칼리, 알칼리토금속 등의 금속화합물과 인화합물을 중축합반응중에 반응석출시켜 얻는 폴리에스테르 수지 조성물 등이 알려져 있다. 그러나 이와같은 폴리에스테르 수지 조성물에는 다음과 같은 문제점이 있다.

즉 ①의 불활성 미립자 첨가법에 의해 얻어진 폴리에스테르 수지 조성물은 첨가입자의 미세화가 곤란하고, 입자끼리의 응집에 기인하는 조대입자의 생성, 입자경의 불균일, 불활성 미립자와 폴리에스테르의 친화성 부족 등으로 인하여 필름 성형시 필름 표면에서 탈리되는 문제점을 가지고 있다. 또한 조대입자에 기인하는 조대돌기에 의하여 얼룩(Fishy eye), 드롭 아웃(Drop out) 등의 문제가 발생한다. 이러한 조대입자의 생성을 억제하기 위하여 분산제를 첨가하기도 하고, 특수한 기계적 분산방법을 채용하기도 하지만 분산제를 첨가하는 방법은 폴리에스테르의 내열성, 전기적 특성을 악화시키고, 기계적으로 분산시키는 방법은 공정이 불완전하다는 단점을 가지고 있다.

한편 ②의 미립자 석출법에 의해 얻어진 입자 함유 폴리에스테르 수지 조성물은 입자함유량을 많게 하려면 석출입자의 입경 조정(Control)이 어렵고, 또한 입자함유량을 많게 하기 위해 촉매 금속화합물의 양을 증가시키면 입자끼리의 응집에 의한 조대입자의 생성 등의 문제가 발생한다. 특히 최근들어 자기기록 테이프의 고밀도화, 소형화, 전기전자부품의 소형화 경량화 경향에 따라 기제 필름의 두께를 얇게 하려는 경향이 점점 더 강해지고 있으며, 그럴수록 필름 표면을 균일하고 미세하게 하려는 요구가 더해지고 있다. 더욱이 입자를 함유하지 않거나 입자함유량이 적은 폴리에스터에 배합해서 폴리에스테르 필름을 얻고, 그 폴리에스테르 필름에 양호한 표면특성을 부여하고 이활성이 우수한 성형품으로 하기 위해 조대입자가 없고 또한 미세한 입자를 다량 함유하는 원료가 요구되고 있다. 그러나 이렇게 입자가 미세하고 입자량이 많으면 입자끼리의 응집에 의한 조대입자의 생성이 일어나기 쉽다.

[발명이 해결하려는 과제]

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 미세화가 가능하면서 입자끼리 응집하지 않고 동시에 폴리에스테르 수지와의 친화력이 우수하여 필름으로 가공하였을 때 폴리에스테르 수지로부터 탈락 현상이 발생하지 않는 입자, 이 입자를 첨가한 폴리에스테르 수지 및 이 수지로부터 제조된 필름을 제공하려는 데에 그 목적이 있다.

[과제를 달성하기 위한 수단]

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 나프탈렌 디카본산, 이의 폴리에스테르 형성성 유도체(예를 들어, 디메틸-2,6-나프탈렌디카르복실레이트), 또는 이들을 산성분으로 하여 에틸렌 글리콜과의 에스테르화 반응으로 형성된 다이머, 또는 올리고머로 이루어지는 군에서 선택된 폴리에스테르 형성성 물질과 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 망간계 금속의 화합물을 반응시켜 얻은 생성입자를 제공한다.

본 발명에서 나프탈렌 디카본산 또는 폴리에스테르 형성성 유도체는 나프탈렌 디카본산의 골격을 갖는 것으로 예를 들면 1,5-나프탈렌디카본산, 2,6-나프탈렌디카본산, 2,7-나프탈렌디카본산, 1,5-나프탈렌디클로라이드, 2,6-나프탈렌디클로라이드, 2,7-나프탈렌디클로라이드 등을 들 수 있다. 입자생성에 사용하는 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 망간계 금속의 화합물은 알칼리 금속, 알카리 토금속 또는 망간계 금속의 수산화물, 염화물, 탄산염, 카본산염, 초산염 등을 들 수 있다. 구체적으로는 초산리튬, 염화리튬, 염화리튬, 초산나트륨, 염화나트륨, 초산칼슘, 초산마그네슘, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 초산망간, 염화망간 등을 들 수 있다.

전기한 나프탈렌디클로라이드 또는 나프탈렌디카본산과 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 망간계 금속을 디올 용매중에서 100∼200에서 반응시킴으로써 폴리에스테르 제조에 사용되는 입자를 제조할 수 있다. 또한 인화합물을 사용하는 경우에도 같은 방법으로 나프탈렌디클로라이드 또는 나프탈렌디카본산, 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 망간계 금속의 화합물 및 인화합물을 에틸렌글리콜 용매중에서 100∼200에서 반응시켜 얻을 수 있다.

본 발명에서 폴리에스테르 제조를 위해서 사웅되는 생성입자 제조방법의 일례를 들면 다음과 같다.

즉, 나프탈렌 디카본산, 이의 폴리에스테르 형성성 유도체(예를 들어 , 디메틸 -2,6-나프탈렌디카르복실레이트), 또는 이들을 산성분으로 하여 에틸렌 글리콜과의 에스테르화 반응으로 형성된 다이머 , 또는 올리고머로 이루어지는 군에서 선택된 폴리에스테르 형성성 물질에 대하여 20배몰 이상의 에틸렌글리콜에 나프탈렌디클로라이드 또는 나프탈렌디카본산을 첨가하여 교반용해시키고, 나프탈렌디클로라이드 또는 나프탈렌디카본산에 대하여 1∼4배몰의 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 망간계 금속의 화합물을 첨가하고 150∼200, 좋게는 170∼190에서 반응시키는 것이다.

이때 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 망간계 금속의 화합물은 1∼10에틸렌글리콜 용액 형태로 첨가한다. 그렇지 않으면 급격한 에스테르 교환 반응에 의하여 분쇄가 불가능한 겔상 물질을 생성시켜 바람직하지 않게 된다.

또한 인화합물을 사용하는 경우에는 상기 반응후에 알칼리 또는 알칼리토금속 화합물에 대하여 0.5∼2배몰의 인화합물을 첨가하고, 150∼200좋게는 170∼190에서 반응을 시키는 방법이다. 이때 알칼리 또는 알칼리 토금속과 인화합물의 첨가 시기는 위와 역순으로 해도 좋고 동시에 하여도 좋다. 이와 같은 방법에 의해 얻어지는 생성물은 슬러리 상으로 얻어진다. 이와 같이 얻어진 입자는 여과, 원심분리를 거쳐서 사용해도 좋고 또는 그대로 회석 또는 농축해서 사용해도 좋다.

본 발명은 또한, 나프탈렌 디 카본산, 이의 폴리에스테르 형성성 유도체(예를 들어, 디메틸-2,6-나프탈렌디카르복실레이트), 또는 이들을 산성분으로하여 에틸렌 글리콜과의 에스테르화 반응으로 형성된 다이머, 또는 올리고머로 이루어지는 군에서 선택된 폴리에스테르 형성성 물질과 에틸렌글리콜과의 에스테르화반응 또는 에스테르 교환반응을 행하고 이어서 중축합반응을 행해서 폴리에스테르를 합성할 때, 중축합 반응의 게시전 임의의 시점에서, 반응계외에서 별도로 합성된 나프탈렌디클로라이드와 알칼리금속 또는 알칼리토금속 화합물과의 반응 생성물을 불활성 미립자와 함께 투입하는 것을 특징으로 하는 폴리에틸렌나프탈레이트 수지의 제조 방법을 제공한다.

본 발명에서 제조하는 폴리에스테르는 호모폴리에스테르, 코폴리에스테르 어느 것이라도 좋고 공단량체로는 예를 들면 디에틸렐 글리콜, 프로필렌 글리콜, 네오펜틸 글리콜, 폴리알킬렌 글리콜, 시클로헥산 디메탄올 등의 디올성분, 테레프탈산, 아디핀산, 세바신산, 숙신산, 프탈산, 이소프탈산 등의 다관능성 디카본산 성분을 들 수 있다.

본 발명에서는 나프탈렌 디 카본산, 이의 폴리에스테르 형성성 유도체(예를 들어, 디메틸-2,6-나프탈렌디카르복실레이트), 또는 이들을 산성분으로하여 에틸렌 글리콜과의 에스테르화 반응으로 형성된 다이머, 또는 올리고머로 이루어지는 군에서 선택된 폴리에스테르 형성성 물질, 알칼리 또는 알칼리토금속, 및 인화합물의 반응 생성물외에 폴리머에 불용인 불활성 미립자를 첨가한다. 불활성 미립자로는 산화규소, 이산화 티탄, 탄산칼슘, 클레이, 또는 카올린을 들 수 있다.

반응계에 불용인 불활성 미립자의 BET 법에 의한 비표면적은 30 ㎡/g 이상 1000 ㎡/g 이하가 좋다. 비표면적이 30㎡/g 이하이면 폴리머 중에서의 입자 분산성이 저하한다. 두가지 입자의 폴리에스테르에 첨가하는 양은 폴리에스테르를 구성하는 산성분에 대하여 0.005∼1.0중량가 좋고, 0.01∼0.5중량이면 더욱 좋다. 이들 입자의 분산처리는 에틸렌글리콜 슬러리상태로 특수교반기를 사용한 기계적인 분산방법을 사용하거나 분산제를 사용한 화학적인 분산방법을 사용하여 폴리에스테르의 중축합계 내에 첨가하기 전에 미리 제조하여 둔다.

분산 처리한 입자의 에틸렌글리콜 슬러리를 반응계내에 첨가하는 시기는 에스테르화 반응 또는 에스테르 교환 반응이 실질적으로 종료되고 중축합 반응 개시 전에 첨가하는 것이 좋으나, 에스테르화 반응 또는 에스테르 교환 반응 반응중에 첨가하여도 좋다. 또 본 발명에서 에스테르화 반응 또는 에스테르 교환 반응의 촉매로서는 리튬, 나트륨, 칼륨 등의 알칼리금속류, 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 바륨 등의 알칼리토금속류 및 아연, 망간, 코발트의 수소화물, 알콜레이트, 염화물, 초산염 등의 글리콜 가용성염을 촉매로서 사용할 수 있다. 이중 초산리튬, 초산칼슘, 초산아연, 초산망간 등의 금속초산염이 특히 좋다.

본 발명은 또한, 상기한 폴리에스테르 수지 조성물로부터 제조되는 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 제공한다. 이 필름은 0.4이상의 마찰 계수, 0.03이하의 필름 표면의 평균 조도, 0.3이하의 필름 표면 최대 조도의 특성을 나타내며, 주행 특성이 우수하다.

[실시예]

다음에 본 발명을 바람직한 실시예를 통하여 보다 상세히 설명하고자 한다.

그러나 이들 실시예들은 본 발명을 더욱 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.

이하 실시예 및 비교예에서 얻어지는 폴리머의 각종 분석법은 다음과 같다.

[폴리머 특성]

i)극한점도 Ⅳ

폴리머 0.1000±0.0007g 페놀/테트라클로로에탄 (60/40 부피) 25ml에 130±5에서 용해시켜, 30에서 측정하였다.

ii)폴리머 중의 입도 Rank

폴리머 20mg을 두매의 카바글라스 사이에 끼우고 290에서 용융 프레스, 냉각후 현미경으로 관찰하고 평균입자경으로부터 다음과 같이 평가하였다.

A : 입경 1이하

B : 입경 1이상 3이하

C : 입경 3이상 5이하

D : 입경 5이상

iii) 폴리머중의 입자분산성

폴리머 20mg을 두매의 카바글라스 사이에 끼우고 290에서 용응 프레스, 냉각후 현미경으로 관찰하고, 1㎟에 존재하는 3이상의 입자수를 세어서 판단하고 다음과 같이 표시하였다.

1급 : 3를 넘는 입자는 10개/㎟ 미만 존재한다.

2급 : 3를 넘는 입자는 10∼30개/㎟ 존재한다.

3급 : 3를 넘는 입자는 30개/㎟ 이상 존재한다.

[필름 특성]

i) 필름의 마찰계수

SliP Tester를 사용해 ASTM-D 1894법에 의해 측정하였다. 또한 필름 이활성의 척도로서 정마찰계수를 사용하였다.

ii) 필름의 표면조도

필름 표면을 촉침식 조도계로 측정하고 얻어진 표면 요철부의 최고부와 최저부의 차를로 나타내었다.

[실시예 1]

[입자의 제조]

교반장치 및 한류관을 갖춘 장치에 디메털-2,6-나프탈렌디카르복실레이트(NDC) 10.3 중량부 및 에틸렌글리콜 82.2 중량부를 투입하여 완전히 용해시키고 이 용액에 초산칼슘 수화물의 2에틸렌글리콜 용액 40 중량부를 투입하여 교반하면서 180에서 3시간 반응시켰다. 얻어진 슬러리를 고속교반기를 사용해 회전수 3000rpm에서 2시간 고속 교반하고 입자를 미분산시켜 미립자 슬러리를 얻었다.

[폴리에스테르의 제조방법]

디메틸-2,6-나프탈렌디카르복실레이트 100중량부, 에틸렌글리콜 70중량부, 초산망간 4수염 0.04 중량부를 반응용기에 넣고 서서히 승온시켜 메탄을 및 과량의 에틸렌글리콜을 유출시켜 에스테르 교환반응을 진행하였다. 이때 4시간 경과후 반응온도가 230되는 시점에서 에스테르 교환반응을 종결하고 얻어진 저중합체(BHN)에, 3산화 안티몬 0.03부, 인산트리메틸 0.02 중량부 및 전기 제조한 입자의 에틸렌글리콜 슬러리를 입자로서 0.3 중량부, 미리 10의 EG슬러리로 잘 분산시킨 이산화규소(비표면적 200㎡/g) 0.2 중량부를 투입하고 0.3torr 감압하, 290에서 4.0시간 중축합 반응해서 Ⅳ 0.49의 PEN 수지를 제조하였다. 폴리머중의 입도는 A Rank, 분산성은 1급으로 양호하였다.

[실시예 2]

[입자의 제조]

교반장치 및 환류관을 갖춘 장치에 비스-(β-하이드록시에틸)나프탈레이트(BHN) 100 중량부 및 에틸렌글리콜 250 중량부를 투입하고 가열 용해하였다. 이어서 교반하면서 초산칼슘 수화물의 에틸렌글리콜 용액 300 중량부를 첨가하고 190에서 3시간 반응시켰다. 이어서 에틸렌글리콜 200 중량부, 인산트리메틸 30 중량부를 190에서 1시간 반응시켰다. 얻어진 슬러리를 고속교반기를 사용해 회전수 3000rpm에서 2시간 고속 교반하고 입자를 미분산시켜 미립자 슬러리를 얻었다.

[폴리에스테르의 제조방법]

디메틸-2,6-나프탈렌디카르복실레이트 100 중량부, 에틸렌 글리콜 70 중량부, 초산망간 4수염 0.04중량부를 반응용기에 넣고 서서히 승온시켜 메탄을 및 과량의 에틸렌 글리콜을 유출시켜 에스테르 교환반응을 진행하였다. 이때 4시간 경과후 반응 온도가 230되는 시점에서 에스테르 교환반응을 종결하고 얻어진 저중합체(BHN)에, 3산화안티몬 0.03부, 인산트리메틸 0.02 중량부 및 전기 제조한 입자의 에틸렌 글리콜 슬러리를 입자로서 0.3 중량부 미리 10의 에틸렌 글리콜 슬러리로 잘 분산시킨 이산화규소(비표면적 200㎡/g) 0.2 중량부를 투입하고 0.3torr 감압하, 290에서 4.0시간 중축합반응해서 IV 0.50의 폴리에틸렌나프탈레이트 수지를 제조하였다. 폴리머중의 입도는 A Rank, 분산성을 1급으로 양호하였다.

[비교예 1]

실시예 1에서 에스테르 교환반응 종결후 실시예 1에서 제조한 입자를 첨가하지 않고 초산망간 0.3, 인산트리메틸 0.2, 3산화안티몬 0.03 중량부 만을 첨가해서 반응하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 Ⅳ 0.50의 폴리머를 얻었다. 폴리머중의 입도는 D Rank, 분산성을 3급으로 좋지 않았다.

[실시예 3∼6]

실시예 2에서 불활성 미립자의 종류, 량을 변경시켜 반응시킨 이외에는 실시예 2와 동일하게 해서 폴리에스테르를 얻었다. 폴리며중의 입도 및 분산성을 표1에 나타내었다.

[비교예 2∼3]

실시예 1에서 첨가하는 불활성미립자의 BET법에 의한 비표면적이 다른 이외에는 실시예 1과 동일하게 해서 폴리에스테르를 얻었다. 폴리머중의 입도 및 분산성은 표1에 나타내었다.

[실시예 7]

실시예 1에서 얻어진 폴리머를 통상의 방법대로 무정형 시트(Sheet)로 만들고 이축연신기에 의해 종연신배율 3.5, 횡연신배율 3.4배 연신한 후 240에서 열처리해서 두께 12의 필름을 얻었다. 제막시의 작업안정성은 양호하였고 파단 등의 문제는 생기지 않았다. 필름의 마찰계수는 0.45, 필름표면의 평균조도 0.021, 필름표면 최대조도 0.22로 양호하였다.

[실시예 8]

실시예 2에서 얻어진 폴리머를 이용한 이외에는 실시예 9와 같은 방법으로 두께 12의 2축연신 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 마찰계수는 0.46, 필름표면의 평균조도 0.022, 필름표면 최대조도 0.24로 양호하였다.

[비교예 4]

비교예 1에서 얻어진 폴리머를 사용한 이외에는 실시예 9와 같은 방법으로 두께 122축연신 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 마찰계수는 0.39, 필름표면의 평균묠 0.032, 필름표면 최대조도 0.34로 좋지 않았다.

Claims (10)

1. 나프탈렌디카본산, 이의 폴리에스테르 형성성 유도체, 또는 이들을 산성분으로 하여 에틸렌 글리콜과의 에스테르화 반응으로 형성된 다이머, 또는 올리고머로 이루어지는 군에서 선택된 폴리에스테르 형성성 물질과 Li, Na, Ca, Mg, K 및 Mn으로 이루어진 군으로부터 선택된 금속의 화합물을 1 : 1∼4의 몰비로 반응시켜 얻은 생성입자.
2. 제1항에 있어서, 상기 금속의 화합물은 초산리튬, 염화리튬, 초산나트륨, 염화나트륨, 초산칼숨, 초산마그네슘, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 초산망간 및 염화 망간으로 이루어지는 군에서 선택된 것을 특징으로 하는 입자.
3. 제1항에 있어서, 상기 폴리에스테르 형성성 물질과 금속의 화합물에 인화합물을 더 첨가하여 제조되는 입자.
4. 나프탈렌 디카본산, 이의 폴리에스테르 형성성 유도체, 또는 이들을 산성분으로 하여 에틸렌 글리콜과의 에스테르화 반응으로 형성된 다이머, 또는 올리고머로 이루어지는 군에서 선택된 폴리에스테르 형성성 물질과 Li, Na, Ca, Mg, K 및 Mn으로 이루어지는 군으로부터 선택된 금속의 화합물을 1 : 1∼4의 몰비로 디올 용매중에서 100∼20에서 방응시켜 슬러리상의 생성물을 얻도록 하는 폴리에스테르 제조에 사용되는 입자의 제조방법.
5. 제4항에 있어서, 상기 금속의 1∼10에틸렌글리콜 용액 형태로 첨가함을 특징으로 하는 입자의 제조방법.
6. 제5항에 있어서, 상기 금속의 화합물에 대하여 0.5∼2배의 몰비로 인화합물을 더 첨가하고, 150∼200, 좋게는 170∼190에서 반응시킴을 특징으로 하는 입자의 제조방법.
7. 나트탈렌 디카본산, 이의 폴리에스테르 형성성 유도체, 또는 이들을 산성분으로 하여 에틸렌 글리콜과의 에스테르화 반응으로 형성된 다이머 , 또는 올리고머로 이루어지는 군에서 선택된 폴리에스테르 형성성 물질과 에틸렌 글리롤과의 에스테르화 반응 또는 에스테르 교환반응을 행하고 이어서 중축합 반응을 행해서 폴리에스테르를 합성할 때, 중축합 반응의 개시전 임의의 시점에서, 반응계외에서 별도로 합성된 제1항의 생성입자를 불활성 미립자와 함께 투입하는 것을 특징으로 하는 폴리에틸렌나프탈레이트 수지의 제조방법.
8. 제7항에 있어서, 불활성 미립자의 BET법에 의한 비표면적은 300㎡/g 이상1000㎡/g 이하임을 특징으로 하는 제조방법.
9. 제7항에 있어서, 상기 제1항의 생성입자와 불활성 미립자의 첨가량은 폴리에스테르를 구성하는 산성분에 대하여 0.005∼1.0 중량인 것을 특징으로 하는 제조방법.
10. 나프탈렌 디카본산, 이의 폴리에스테르 형성성 유도체, 또는 이들을 산성분으로 하여 에틸렌글리콜과의 에스테르화 반응으로 형성된 다이머 , 또는 올리고머로 이루어지는 군에서 선택된 폴리에스테르 형성성 물질과 에틸렌 글리콜과의 에스테르화 반응 또는 에스테르 교환반응을 행하고 이어서 중축합 반응을 행해서 폴리에스테르를 합성할 때, 중축합 반응의 개시전 임의의 시점에서, 반응계외에서 별도로 합성된 제1항의 생성입자를 불활성 미립자와 함께 투입하여 제조한 폴리에스테르 수지 조성물로부터 제조되는 0.4이상의 마찰 계수, 0.03이하의 필름 표면의 평균 조도, 0.3이하의 필름 표면 최대 조도의 특성을 나타내는 폴리에틸렌나프탈레이트 필름.