JPWO2019117018A1 - ネガ型感光性樹脂組成物 - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 148
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 90
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 90
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 84
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 17
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 13
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims abstract description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 5
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims description 91
- -1 aliphatic heterocyclic compound Chemical class 0.000 claims description 78
- 230000002940 repellent Effects 0.000 claims description 72
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 25
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 21
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 13
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 3
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 abstract description 73
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 22
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 20
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 abstract description 17
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 abstract description 11
- 238000003491 array Methods 0.000 abstract description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 108
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 108
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 37
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 32
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 description 31
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 29
- 238000011161 development Methods 0.000 description 19
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 19
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 19
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 19
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 17
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 15
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 13
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 13
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 12
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 11
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 10
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 9
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 8
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 6
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 5
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical group C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 4
- KMOUUZVZFBCRAM-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride Chemical compound C1C=CCC2C(=O)OC(=O)C21 KMOUUZVZFBCRAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N (z)-2-cyano-3-thiophen-2-ylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\C#N)=C/C1=CC=CS1 QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N 0.000 description 2
- KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)N(CC=C)C(=O)N(CC=C)C1=O KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDWRKTULOHXYGN-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(ethenoxy)-2,2-bis(ethenoxymethyl)propane Chemical compound C=COCC(COC=C)(COC=C)COC=C XDWRKTULOHXYGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OOXMQACSWCZQLX-UHFFFAOYSA-N 3,9-bis(ethenyl)-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecane Chemical compound C1OC(C=C)OCC21COC(C=C)OC2 OOXMQACSWCZQLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RQPNXPWEGVCPCX-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylbutanoic acid Chemical compound CC(S)CC(O)=O RQPNXPWEGVCPCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTLHIRNKQSFSJS-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylbutanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylbutanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylbutanoate Chemical compound CC(S)CC(=O)OCC(COC(=O)CC(C)S)(COC(=O)CC(C)S)COC(=O)CC(C)S VTLHIRNKQSFSJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005415 aminobenzoic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- NWRZGFYWENINNX-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-tris(ethenyl)cyclohexane Chemical compound C=CC1CCCCC1(C=C)C=C NWRZGFYWENINNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTRQRAQRHBLCSQ-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-tris(ethenyl)cyclohexane Chemical compound C=CC1CCC(C=C)C(C=C)C1 KTRQRAQRHBLCSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZRRRFSJFQTGGB-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazinane-2,4,6-trithione Chemical compound S=C1NC(=S)NC(=S)N1 WZRRRFSJFQTGGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical class OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDCBZHHORLHNCZ-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(C(F)(F)F)C=C1 PDCBZHHORLHNCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 1,4a-dimethyl-7-propan-2-yl-2,3,4,4b,5,6,10,10a-octahydrophenanthrene-1-carboxylic acid Chemical compound C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZAVRNDQSIORTH-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2,2-bis(ethenoxymethyl)butane Chemical compound C=COCC(CC)(COC=C)COC=C CZAVRNDQSIORTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOC=C SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)butyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(CC)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 2-N-[8-[[8-(4-aminoanilino)-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]amino]-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]-8-N,10-diphenylphenazin-10-ium-2,8-diamine hydroxy-oxido-dioxochromium Chemical compound O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.Nc1ccc(Nc2ccc3nc4ccc(Nc5ccc6nc7ccc(Nc8ccc9nc%10ccc(Nc%11ccccc%11)cc%10[n+](-c%10ccccc%10)c9c8)cc7[n+](-c7ccccc7)c6c5)cc4[n+](-c4ccccc4)c3c2)cc1 FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methoxy-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-4-methoxy-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound COC(C)(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)(C)OC PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCYCUECVHJJFIQ-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(benzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 VCYCUECVHJJFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFGWEGUVPBZOEA-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;2-methyl-2-sulfanylpropanoic acid Chemical compound CC(C)(S)C(O)=O.CC(C)(S)C(O)=O.CC(C)(S)C(O)=O.CCC(CO)(CO)CO HFGWEGUVPBZOEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFMXKZGZSGFZES-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;2-sulfanylacetic acid Chemical compound OC(=O)CS.OC(=O)CS.OC(=O)CS.CCC(CO)(CO)CO RFMXKZGZSGFZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBEKRAXYEBAHQF-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;3-sulfanylbutanoic acid Chemical compound CC(S)CC(O)=O.CC(S)CC(O)=O.CC(S)CC(O)=O.CCC(CO)(CO)CO WBEKRAXYEBAHQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanatoethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN=C=O DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILRVMZXWYVQUMN-UHFFFAOYSA-N 3-ethenoxy-2,2-bis(ethenoxymethyl)propan-1-ol Chemical compound C=COCC(CO)(COC=C)COC=C ILRVMZXWYVQUMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 3-mercaptopropionate Chemical compound [O-]C(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FYRWKWGEFZTOQI-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxy-2,2-bis(prop-2-enoxymethyl)propan-1-ol Chemical compound C=CCOCC(CO)(COCC=C)COCC=C FYRWKWGEFZTOQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- WVFPLWUDEMDNSU-UHFFFAOYSA-N SC(CC(=O)O)C.SC(CC(=O)O)C.SC(CC(=O)O)C.SC(CC(=O)O)C.SC(CC(=O)O)C.SC(CC(=O)O)C.SC(CC(=O)O)C Chemical compound SC(CC(=O)O)C.SC(CC(=O)O)C.SC(CC(=O)O)C.SC(CC(=O)O)C.SC(CC(=O)O)C.SC(CC(=O)O)C.SC(CC(=O)O)C WVFPLWUDEMDNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- RYIHVCKWWPHXMZ-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-sulfanylacetyl)oxy-2-[(2-sulfanylacetyl)oxymethyl]propyl] 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCC(CO)(COC(=O)CS)COC(=O)CS RYIHVCKWWPHXMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUDUCNPHDIMQCY-UHFFFAOYSA-N [3-(2-sulfanylacetyl)oxy-2,2-bis[(2-sulfanylacetyl)oxymethyl]propyl] 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCC(COC(=O)CS)(COC(=O)CS)COC(=O)CS RUDUCNPHDIMQCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAAUVJUJVBJRSQ-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2-[[3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS YAAUVJUJVBJRSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N acetic acid;ethoxyethane Chemical compound CC(O)=O.CCOCC KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical group C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000004653 anthracenylene group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- ORZGJQJXBLFGRP-AATRIKPKSA-N bis(ethenyl) (e)-but-2-enedioate Chemical compound C=COC(=O)\C=C\C(=O)OC=C ORZGJQJXBLFGRP-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- ORZGJQJXBLFGRP-WAYWQWQTSA-N bis(ethenyl) (z)-but-2-enedioate Chemical compound C=COC(=O)\C=C/C(=O)OC=C ORZGJQJXBLFGRP-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWICIOVOJVNAIJ-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,3-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC(C(=O)OC=C)=C1 FWICIOVOJVNAIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHXBXGHGYCSRAP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC=C)C=C1 IHXBXGHGYCSRAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid Chemical compound OC(=O)CC=C PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- NLCKLZIHJQEMCU-UHFFFAOYSA-N cyano prop-2-enoate Chemical group C=CC(=O)OC#N NLCKLZIHJQEMCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N decyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCOC(=O)C=C FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical group [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N n-[2-(2-hydroxyethylamino)ethyl]-2-[[1-[2-(2-hydroxyethylamino)ethylamino]-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCCNCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCNCCO QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005591 trimellitate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Abstract
Description
[1]主鎖に芳香族環を含み分子中に酸性基とエチレン性二重結合とを有し酸価が40mgKOH/g以上のアルカリ可溶性樹脂と、光ラジカル重合開始剤と、下記式(I)で示される化合物(I)と、を含有することを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。
[3]前記化合物(I)が、脂肪族ヘテロ環状化合物である[1]のネガ型感光性樹脂組成物。
[4]前記アルカリ可溶性樹脂を、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中、5〜80質量%含有する[1]〜[3]のいずれかのネガ型感光性樹脂組成物。
[5]前記光ラジカル重合開始剤をネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中、0.1〜50質量%含有する[1]〜[4]のいずれかのネガ型感光性樹脂組成物。
[6]前記式(I)で示される化合物(I)を、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中、1〜50質量%含有する[1]〜[5]のいずれかのネガ型感光性樹脂組成物。
[7]さらに、1分子中にメルカプト基を2個以上有するチオール化合物を含有する[1]〜[6]のいずれかのネガ型感光性樹脂組成物。
[9]さらに、撥インク剤を含有する[1]〜[8]のいずれかのネガ型感光性樹脂組成物。
[10]前記撥インク剤は、エチレン性二重結合を有する[9]のネガ型感光性樹脂組成物。
[11]前記撥インク剤は、1〜40質量%のフッ素含有率を有する[9]または[10]のネガ型感光性樹脂組成物。
[12]前記撥インク剤を、ネガ型感光性樹脂組成物中の全固形分中、0.01〜15質量含有する[9]〜[11]のいずれかのネガ型感光性樹脂組成物。
[13]さらに、溶媒を含有する[1]〜[12]のいずれか1項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
[14]前記ネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成される樹脂硬化膜の表面における水接触角が60度以上である[1]〜[136]のいずれかのネガ型感光性樹脂組成物。
[15]前記ネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成される樹脂硬化膜の表面におけるプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート接触角が30度以上である[1]〜[13]のいずれかのネガ型感光性樹脂組成物。
「酸価」とは、試料1g中の樹脂酸等を中和するのに必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価は、JIS K 0070の測定方法に準じて測定でき、単位はmgKOH/gである。
「(メタ)アクリロイル基」は、「メタクリロイル基」と「アクリロイル基」の総称である。(メタ)アクリル酸、および(メタ)アクリレートもこれに準じる。「(メタ)アリル」とは、「アリル」と「メタリル」の総称である。「(イソ)シアヌレート」とは、「シアヌレート」と「イソシアヌレート」の総称である。
「ある成分を主として構成される樹脂」または「ある成分を主体とする樹脂」とは、該成分の含有割合が樹脂全量に対して50質量%以上を占めることをいう。
「感光性樹脂組成物の全固形分」とは、感光性樹脂組成物が含有する成分のうち後述する硬化膜を形成する成分を意味し、感光性樹脂組成物を140℃で24時間加熱して溶媒を除去した残存物から求める。なお、全固形分量は仕込み量からも計算できる。
樹脂硬化膜は、基材上の所定の領域を複数の区画に仕切る形に形成された隔壁の形態であってもよい。隔壁で仕切られた区画、すなわち隔壁で囲まれた開口部に、例えば、以下の「インク」が注入され、「ドット」が形成される。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、主鎖に芳香族環を含み分子中に酸性基とエチレン性二重結合とを有し酸価が40以上のアルカリ可溶性樹脂(以下、アルカリ可溶性樹脂(A)ともいう。)と、光ラジカル重合開始剤(以下、光重合開始剤(B)ともいう。)と、上記式(I)で示される化合物(I)と、を含有することを特徴とする。
アルカリ可溶性樹脂は、アルカリ可溶性樹脂(A)を主体とする。アルカリ可溶性樹脂(A)は、主鎖に芳香族環を含み、分子中に酸性基とエチレン性二重結合とを有する、酸価が40mgKOH/g以上の感光性樹脂である。アルカリ可溶性樹脂(A)は、主鎖に芳香族環を含み、酸価が40mgKOH/g以上であることで、化合物(I)と組み合わせて得られるネガ型感光性樹脂組成物は、現像性が良好となり、露光部における基材密着性と非露光部における残渣の低減の両立が達成できる。酸価は、残渣の観点から45mgKOH/g以上が好ましく、50mgKOH/g以上がより好ましい。アルカリ可溶性樹脂(A)の酸価の上限は、基材に対する密着性の観点から100mgKOH/gが好ましく、80mgKOH/gがより好ましい。
化合物(I)は、下記式(I)で示されるとおり、分子内にn個(nは2以上)のエチレン性二重結合を有する、架橋剤として機能する化合物である。
化合物(I)は、分子内に2個以上のCH2=CR−Q−基を有し、CH2=CR−Q−基以外に、(メタ)アクリロイル基等のエチレン性二重結合を含有しない。2個以上のCH2=CR−Q−基は同一であっても異なってもよい。
化合物(I)において、CH2=CR−Q−基の数を示すnは、基材に対する密着性の観点から3以上が好ましい。nは、現像液への溶解性の観点から10以下が好ましく、6以下がより好ましい。
上記(B)の場合、CH2=CR−Q−基の末端に水酸基を有する化合物とはCH2=CR−Q−OHであり、他の基についても同様である。(B)の場合、基XのCH2=CR−Q−基との結合末端は、エステル結合、エーテル結合、アミド結合、ウレタン結合等で構成される。
本発明における光重合開始剤(B)は、活性光線によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤としての機能を有する化合物であれば特に制限されない。
撥インク剤は、本発明のネガ型感光性樹脂組成物が任意に含有する成分である。撥インク剤としては、分子内にフッ素原子を有する撥インク剤(以下、撥インク剤(E)ともいう。)が好ましい。撥インク剤(E)は、分子内にフッ素原子を有すると、これを含有するネガ型感光性樹脂組成物を用いて硬化膜を形成する過程で上面に移行する性質(上面移行性)および撥インク性に優れる。撥インク剤(E)を用いることで、得られる硬化膜の上面を含む上層部は、撥インク剤(E)が密に存在する層(以下、撥インク層ということもある。)となり、硬化膜上面に撥インク性が付与される。
撥インク剤(E1)および撥インク剤(E2)は、単独で、または組み合わせて用いられる。本発明のネガ型感光性樹脂組成物においては、耐紫外線/オゾン性の点に優れる点で、特に撥インク剤(E2)を用いることが好ましい。
撥インク剤(E1)は、主鎖が炭化水素鎖であり、フッ素原子を有する側鎖を含む化合物である。撥インク剤(E1)のMwは、100〜1.0×106が好ましい。Mwは5.0×103以上がより好ましい。一方でMwは1.0×105以下がより好ましい。Mwが下限値以上であると、ネガ型感光性樹脂組成物を用いて硬化膜を形成する際に、撥インク剤(E1)が上面移行しやすい。上限値以下であると開口部残渣が少なくなり好ましい。
撥インク剤(E2)は、加水分解性シラン化合物混合物(以下、「混合物(M)」ともいう。)の部分加水分解縮合物である。該混合物(M)は、フルオロアルキレン基および/またはフルオロアルキル基、および、ケイ素原子に加水分解性基が結合した基とを有する加水分解性シラン化合物(以下、「加水分解性シラン化合物(s1)」ともいう。)を必須成分として含み、任意に加水分解性シラン化合物(s1)以外の加水分解性シラン化合物を含む。混合物(M)が任意に含有する加水分解性シラン化合物としては、以下の加水分解性シラン化合物(s2)、(s3)が挙げられる。混合物(M)が任意に含有する加水分解性シラン化合物としては、加水分解性シラン化合物(s2)が特に好ましい。
加水分解性シラン化合物(s3);エチレン性二重結合を有する基とケイ素原子に加水分解性基が結合した基とを有し、フッ素原子を含まない加水分解性シラン化合物。
混合物(M)は、任意に加水分解性シラン化合物(s1)〜(s3)以外の加水分解性シラン化合物を1種または2種以上含むことができる。
ここで、n1〜n3は構成単位の合計モル量に対する各構成単位のモル分率を示す。n1>0、n2≧0、n3≧0、n1+n2+n3=1である。
各成分のモル比は、各成分の効果のバランスから設計される。
n1は、撥インク剤(E1)におけるフッ素原子の含有率が上記好ましい範囲となる量において、0.02〜0.4が好ましい。n2は0〜0.98が好ましく、0.05〜0.6が特に好ましい。n3は0〜0.8が好ましく、0.2〜0.5が特に好ましい。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物が任意に含有するチオール化合物(C)は、1分子中にメルカプト基を2個以上有する化合物である。本発明のネガ型感光性樹脂組成物がチオール化合物(C)を含有すれば、露光時に光重合開始剤(B)から生成したラジカルによりチオール化合物(C)のラジカルが生成してアルカリ可溶性樹脂(A)、化合物(I)等のエチレン性二重結合に作用する、いわゆるエン−チオール反応が生起する。このエン−チオール反応は、通常のエチレン性二重結合がラジカル重合するのと異なり、酸素による反応阻害を受けないため、高い連鎖移動性を有し、さらに重合と同時に架橋も行うため、硬化物となる際の収縮率も低く、均一なネットワークが得られやすい等の利点を有する。
また、チオール化合物(C)を含有する場合、特に酸素による反応阻害を受け易い隔壁上面を含む上層部においても光硬化が十分に行われる。したがって、ネガ型感光性樹脂組成物がさらに、撥インク剤を含有する場合には、チオール化合物(C)は、隔壁上面への良好な撥インク性の付与にも寄与できる。
チオール化合物(C)の分子量は特に制限されない。チオール化合物(C)における、[分子量/メルカプト基数]で示されるメルカプト基当量(以下、SH当量ともいう。)は、低露光量での硬化性の観点から、40〜1,000が好ましく、40〜500がより好ましく、40〜250が特に好ましい。
チオール化合物(C)は、2種以上を併用してもよい。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物が任意に含有する架橋剤(D)は、アルカリ可溶性樹脂(A)、撥インク剤(E)、化合物(I)以外の1分子中に2個以上のエチレン性二重結合を有する化合物である。ネガ型感光性樹脂組成物は、化合物(I)に加えて架橋剤(D)を含むことにより、露光時におけるネガ型感光性樹脂組成物の硬化性がさらに向上し、効率的に硬化膜を形成することができる。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、溶媒を含有することで粘度が低減され、ネガ型感光性樹脂組成物の基材表面への塗布がしやすくなる。その結果、均一な膜厚のネガ型感光性樹脂組成物の塗膜が形成できる。溶媒としては公知の溶媒が用いられる。溶媒は、2種以上を併用してもよい。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、用途に応じて、硬化膜、特には隔壁に遮光性を付与する場合に、着色剤を含有する。本発明における着色剤としては、カーボンブラック、アニリンブラック、アントラキノン系黒色顔料、インドール系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料などが挙げられる、具体的には、C.I.ピグメントブラック1、6、7、12、20、31等が挙げられる。赤色顔料、青色顔料および緑色顔料等の有機顔料および/または無機顔料の混合物を用いることもできる。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、波長200〜400nmの紫外線領域に吸収を有する紫外線吸収剤、特には、反応性を有する紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤は、2種以上を併用してもよい。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物が紫外線吸収剤を含有すると、露光時に照射される光を紫外線吸収剤が適度に吸収することで、基板界面付近における硬化が抑制され、開口部の現像残渣の減少にも寄与できる。
紫外線吸収剤は、ベンゾフェノン骨格、ベンゾトリアゾール骨格、シアノアクリレート骨格またはトリアジン骨格を有する化合物が好ましく、反応性基としては、エチレン性二重結合を有する基、例えば、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
本発明におけるネガ型感光性樹脂組成物はさらに、必要に応じて、高分子分散剤、分散助剤、シランカップリング剤、微粒子、硬化促進剤、増粘剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤およびハジキ防止剤等の他の添加剤を、それぞれ、2種以上含有してもよい。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物を用いて樹脂硬化膜を得るには、例えば、基板等の基材の表面に本発明のネガ型感光性樹脂組成物を塗布し、必要に応じて乾燥して溶媒等を除去した後、露光することで硬化して得られる。得られる樹脂硬化膜は、光学素子、特には、量子ドットディスプレイ、TFTアレイ、薄膜太陽電池に用いられる場合に特に顕著な効果が発揮される。
露光量は、上記いずれの露光方式においても、例えば、5〜1,000mJ/cm2が好ましく、5〜500mJ/cm2がより好ましく、5〜300mJ/cm2がさらに好ましく、5〜200mJ/cm2が特に好ましく、5〜50mJ/cm2が最も好ましい。なお、露光量は、照射する光の波長、ネガ型感光性樹脂組成物の組成および塗膜の厚さ等により、適宜好適化される。
なお、開口部の親インク性を確実に得ることを目的として、上記加熱後、開口部に存在する可能性があるネガ型感光性樹脂組成物の現像残渣等を除去するために、隔壁付きの基板に対して紫外線/オゾン処理を施してもよい。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成された隔壁を有する光学素子、特には、量子ドットディスプレイ、TFTアレイまたは薄膜太陽電池は、上記のとおり隔壁で仕切られた開口部において残渣が低減されていることから、インクがムラなく均一に濡れ広がることが可能である。さらに、隔壁は基材密着性に優れる。隔壁と基材の密着が不十分な場合、例えば、インクが開口部以外に拡散することにより問題となる。
ガラス等の透光性基板にITO等の透光性電極をスパッタ法等によって成膜する。この透光性電極は必要に応じてパターニングされる。
次に、本発明のネガ型感光性樹脂組成物を用い、塗布、露光および現像を含むフォトリソグラフィ法により、各ドットの輪郭に沿って、平面視格子状に隔壁を形成する。
次に、ドット内に、IJ法により必要に応じて電荷注入材料溶液および/または電荷輸送材料溶液を塗布、乾燥した後、電気的に発光するナノ粒子溶液を塗布、乾燥してモジュールを作製する。これにより色再現性の優れた量子ドットディスプレイが得られる。
TFTアレイは、例えば、以下のように製造できるがこれに限定されない。
ガラス等の透光性基板にアルミニウムやその合金等のゲート電極をスパッタ法等によって成膜する。このゲート電極は必要に応じてパターニングされる。
次にドット内に半導体溶液をIJ法によって塗布し、溶液を乾燥させることによって半導体層を形成する。この半導体溶液としては有機半導体溶液、無機の塗布型酸化物半導体溶液も用いることができる。ソース電極、ドレイン電極は、この半導体層形成後にインクジェットなどの手法を用いて形成されてもよい。
最後にITO等の透光性電極をスパッタ法等によって成膜し、窒化ケイ素等の保護膜を成膜することで形成する。
[数平均分子量(Mn)、質量平均分子量(Mw)]
ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により、ポリスチレンを標準物質として測定した。ゲルパーミエーションクロマトグラフィとしては、HPLC−8220GPC(東ソー社製)を使用した。カラムとしては、shodex LF−604を3本、接続したものを使用した。検出器としては、RI検出器を使用した。標準物質としては、EasiCal PS1(Polymer Laboratories社製)を使用した。さらに、測定する際は、カラムを37℃で保持し、溶離液としては、テトラヒドロフランを用い、流速を0.2mL/分とし、測定サンプルの0.5%テトラヒドロフラン溶液40μLを注入した。
1,4−ジトリフルオロメチルベンゼンを標準物質として、19F NMR測定により算出した。
[酸価]
酸価は、原料の配合割合から理論的に算出した。
(アルカリ可溶性樹脂(A))
A1;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂にアクリル酸、次いで1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸を反応させて、アクリロイル基とカルボキシ基とを導入した樹脂をヘキサンで精製した樹脂(アルカリ可溶性樹脂(A1)、酸価80mgKOH/g)。ネガ型感光性樹脂組成物の製造においてはアルカリ可溶性樹脂(A1)の組成物(固形分70%、PGMEA30%)を使用した。
I−11;トリアリルイソシアヌレート(上記式(I−1)中、RがH、Qが−CH2−の化合物)
I−21;3,9−ジビニル−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン(上記式(I−2)中、RがH、Qが単結合の化合物)
I−31;1,3,4−トリビニルシクロヘキサン(上記式(I−3)中、1,3,4位に、RがH、Qが単結合の化合物)
I−41;ペンタエリスリトールトリアリルエーテル(上記式(I−4)中、YがH、RがH、Qが−CH2−の化合物)
I−42;ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル(上記式(I−4)中、YがCH2=CR−Q−基、RがH、Qが単結合の化合物)
B−1;2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン
EAB;4,4'−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
C−1;1,3,5−トリス(3−メルカプトブチリルオキシエチル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン
(架橋剤(D))
DPHA;ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
以下の原料化合物を用いて、以下のようにして合成した。
MEK;2−ブタノン
X−8201;ジメチルシリコーン鎖含有メタクリレート(信越化学工業社製、X−24−8201)
C6FMA;CH2=C(CH3)COOCH2CH2(CF2)6F
MAA;メタクリル酸
2−HEMA;2−ヒドロキシエチルメタクリレート
AOI;2−アクリロイルオキシエチルイソシアネート
DBTDL;ジブチル錫ジラウレート
BHT;2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール
化合物(s1)に相当する化合物(s1−1);F(CF2)6CH2CH2Si(OCH3)3(公知の方法で製造した。)
化合物(s2)に相当する化合物(s2−1);Si(OC2H5)4
化合物(s3)に相当する化合物(s3−1);CH2=CHCOO(CH2)3Si(OCH3)3
撹拌機を備えた内容積1Lのオートクレーブに、MEK(420.0g)、X−8201(27.0g)、C6FMA(66.6g)、MAA(14.4g)、2−HEMA(72.0g)および2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)(1.4g)を仕込み、窒素雰囲気下に撹拌しながら、30℃で24時間重合させ、共重合体1の溶液を得た。得られた共重合体1のMEK溶液にヘプタンを加え再沈精製し、真空乾燥し、共重合体1の148.7gを得た。Mnは17320、Mwは51200であった。
撹拌機を備えた内容積1Lのオートクレーブに、MEK(420.0g)、C6FMA(93.6g)、MAA(14.4g)、2−HEMA(72.0g)および2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)(2.9g)を仕込み、窒素雰囲気下に撹拌しながら、30℃で24時間重合させ、共重合体2の溶液を得た。得られた共重合体2のMEK溶液にヘプタンを加え再沈精製し、真空乾燥し、共重合体2の150.3gを得た。Mnは12370、Mwは37660であった。
撹拌機を備えた1,000cm3の三口フラスコに、化合物(s1−1)の15.0g、化合物(s2−1)の20.0g、化合物(s3−1)の27.0gを入れて、加水分解性シラン化合物混合物を得た。次いで、この混合物にIPA(2−プロパノール)の284.3gを入れて、原料溶液とした。
UVA−1;2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン
UVA−2;2−(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロイルオキシエチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール
界面活性剤;BYK302(ビックケミー社製)
(溶媒)
PGME;プロピレングリコールモノメチルエーテル
EDM;ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
PGMEA;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
(ネガ型感光性樹脂組成物の製造)
表1に示す、アルカリ可溶性樹脂(A)、化合物(I)、光重合開始剤(B)、チオール化合物(C)、架橋剤(D)、反応性紫外線吸収剤、界面活性剤、および溶媒を表1の組成になるように、200cm3の撹拌用容器に入れ、3時間撹拌してネガ型感光性樹脂組成物1を製造した。
10cm四方のガラス基板をエタノールで30秒間超音波洗浄し、次いで、5分間のUV/O3処理を行った。UV/O3処理には、UV/O3発生装置としてPL2001N−58(センエンジニアリング社製)を使用した。254nm換算の光パワー(光出力)は10mW/cm2であった。
ガラス基板上にCu層を有する基板を用い、そのCu層上に、スピンナを用いて、上記ネガ型感光性樹脂組成物1を塗布した後、100℃で2分間、ホットプレート上で乾燥させ、膜厚2.4μmの乾燥膜を形成した。得られた乾燥膜に対して、フォトマスクを介して、365nm換算の露光パワー(露光出力)が300mW/cm2である超高圧水銀ランプのUV光を全面一括で照射した(露光量は50mJ/cm2)。露光の際に、330nm以下の光はカットした。また、乾燥膜とフォトマスクとの離間距離は50μmとした。フォトマスクは、ライン/スペースが20μm/50μm、10μm/50μm、8μm/50μm、6μm/50μm、4μm/50μmの設計のものを使用した。
ガラス基板上にDL−1000(東レ社製、ポジ型ポリイミド感光性レジスト)を、スピンナを用いて塗布した後、110℃で2分間、ホットプレート上で乾燥させ、膜厚2.0μmの乾燥膜を形成した。2.38%テトラメチル水酸化アンモニウム水溶液に40秒間浸漬して現像し、乾燥させた。次いで、これをホットプレート上、220℃で60分間加熱することにより、有機膜が全面に付いたガラス基板を得た。
ガラス基板上にITO層を有する基板を用い、そのITO層上に、スピンナを用いて、上記ネガ型感光性樹脂組成物1を塗布した後、100℃で2分間、ホットプレート上で乾燥させ、膜厚2.4μmの乾燥膜を形成した。得られた乾燥膜に対して、開口パターンを有するフォトマスク(遮光部が100μm×200μm、光透過部が20μmの格子状パターン)を介して、365nm換算の露光パワー(露光出力)が300mW/cm2である超高圧水銀ランプのUV光を全面一括照射した(露光量は50mJ/cm2)。露光の際に、330nm以下の光はカットした。また、乾燥膜とフォトマスクとの離間距離は50μmとした。
得られたネガ型感光性樹脂組成物1および硬化膜、パターン膜1〜3について、以下の評価を実施した。評価結果をネガ型感光性樹脂組成物1の組成とともに表1に示す。
<硬化膜の膜厚>
レーザ顕微鏡(キーエンス社製、装置名;VK−8500)を用いて測定した。
上記で得られた硬化膜上面の水接触角およびPGMEA接触角を下記の方法で測定し、撥インク性の評価とした。
パターン膜1およびパターン膜2を用いて以下の(1)、(2)の密着性を試験した。
(1)銅
<現像時間(60秒)残し解像度>
パターン膜1に関し、下記の基準で長時間現像に対する耐剥離性を評価した。
◎;少なくとも10μmの線幅のラインが残っている。
○;少なくとも20μmの線幅のラインが残っている。
×;すべてのライン/スペースサンプルにおいてライン部分が剥離した。
<現像時間(60秒)残し解像度>
パターン膜2に関し、下記の基準で長時間現像に対する耐剥離性を評価した。
◎;少なくとも10μmの線幅のラインが残っている。
○;少なくとも20μmの線幅のラインが残っている。
×;すべてのライン/スペースサンプルにおいてライン部分が剥離した。
パターン膜3付きのITO基板における開口部の中央部分について以下の条件でX線光電子分光法(XPS)により表面解析を行った。XPSにより測定された開口部表面のC/In値(炭素原子濃度に対するインジウム原子濃度の比の値)が5.0未満のものを「◎」、5.0〜8.0のものを「○」、8.0以上のものを「×」とした。
装置;アルバックファイ社製Quantera‐SXM、
X線源;Al Kα、X線のビームサイズ;約20μmφ、測定エリア;約20μmφ、
検出角;試料面から45°、測定ピーク;F1s、
測定時間(Acquired Timeとして);5分以内、
解析ソフト;MultiPak
例1において、ネガ型感光性樹脂組成物を表1または表2に示す組成に変更した以外は、同様の方法で、ネガ型感光性樹脂組成物、隔壁、および硬化膜を製造し、例1と同様の評価を行った。各例の評価結果をそれぞれネガ型感光性樹脂組成物の組成とともに表1および表2に示す。なお、表1および表2において空欄は配合量「0」を意味する。
Claims (15)
- 前記化合物(I)が、環状化合物である請求項1に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記化合物(I)が、脂肪族ヘテロ環状化合物である請求項1に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記アルカリ可溶性樹脂を、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中、5〜80質量%含有する請求項1〜3のいずれか1項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記光ラジカル重合開始剤を、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中、0.1〜50質量%含有する請求項1〜4のいずれか1項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記式(I)で示される化合物(I)を、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中、1〜50質量%含有する請求項1〜5のいずれか1項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- さらに、1分子中にメルカプト基を2個以上有するチオール化合物を含有する請求項1〜6のいずれか1項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記チオール化合物を、ネガ型感光性樹脂組成物中の全固形分が有するエチレン性二重結合の1モルに対してメルカプト基が0.0001〜1モルとなる量含有する請求項7に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- さらに、撥インク剤を含有する請求項1〜8のいずれか1項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記撥インク剤は、エチレン性二重結合を有する請求項9に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記撥インク剤は、1〜40質量%のフッ素含有率を有する請求項9または10に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記撥インク剤を、ネガ型感光性樹脂組成物中の全固形分中、0.01〜15質量含有する請求項9〜11のいずれか1項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- さらに、溶媒を含有する請求項1〜12のいずれか1項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記ネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成される樹脂硬化膜の表面における水接触角が60度以上である請求項1〜13いずれか1項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記ネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成される樹脂硬化膜の表面におけるプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート接触角が30度以上である請求項1〜13のいずれか1項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017236753 | 2017-12-11 | ||
JP2017236753 | 2017-12-11 | ||
PCT/JP2018/044977 WO2019117018A1 (ja) | 2017-12-11 | 2018-12-06 | ネガ型感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019117018A1 true JPWO2019117018A1 (ja) | 2020-12-24 |
JP7375546B2 JP7375546B2 (ja) | 2023-11-08 |
Family
ID=66819240
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019559594A Active JP7375546B2 (ja) | 2017-12-11 | 2018-12-06 | ネガ型感光性樹脂組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7375546B2 (ja) |
KR (1) | KR102668383B1 (ja) |
CN (1) | CN111480114B (ja) |
TW (1) | TWI821223B (ja) |
WO (1) | WO2019117018A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113448164A (zh) * | 2020-03-26 | 2021-09-28 | 台湾永光化学工业股份有限公司 | 负型感旋光性树脂组成物及其用途 |
TW202205014A (zh) * | 2020-05-22 | 2022-02-01 | 日商中央硝子股份有限公司 | 發光元件之製造方法 |
KR20220095288A (ko) | 2020-12-29 | 2022-07-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 이를 포함하는 타일형 표시 장치 |
WO2024005195A1 (ja) * | 2022-07-01 | 2024-01-04 | 大阪有機化学工業株式会社 | 硬化性樹脂組成物、当該組成物を硬化させた絶縁性硬化膜及びタッチパネル用絶縁性硬化膜、並びに、タッチパネル |
WO2024162218A1 (ja) * | 2023-02-01 | 2024-08-08 | セントラル硝子株式会社 | 感光性組成物、樹脂硬化膜の製造方法、隔壁、発光素子および表示装置 |
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WO2017159543A1 (ja) * | 2016-03-15 | 2017-09-21 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層体、タッチパネル用部材及び硬化膜の製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1560068B1 (en) * | 2002-11-06 | 2008-01-23 | Asahi Glass Company Ltd. | Barrier rib and its method of preparation |
JP4683182B2 (ja) * | 2004-09-28 | 2011-05-11 | 山栄化学株式会社 | 感光性熱硬化性樹脂組成物、並びにレジスト被覆プリント配線板及びその製造法 |
JP2010039481A (ja) | 2008-07-11 | 2010-02-18 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
WO2010058662A1 (ja) | 2008-11-19 | 2010-05-27 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 有機薄膜トランジスタの製造方法、及び有機薄膜トランジスタ |
TW201329635A (zh) * | 2011-11-11 | 2013-07-16 | Asahi Glass Co Ltd | 負型感光性樹脂組成物、隔壁、黑色矩陣及光學元件 |
JP6350287B2 (ja) * | 2012-11-28 | 2018-07-04 | 旭硝子株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、樹脂硬化膜、隔壁及び光学素子 |
JP6398774B2 (ja) | 2014-02-18 | 2018-10-03 | Agc株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、樹脂硬化膜、隔壁および光学素子 |
-
2018
- 2018-12-06 JP JP2019559594A patent/JP7375546B2/ja active Active
- 2018-12-06 CN CN201880080113.3A patent/CN111480114B/zh active Active
- 2018-12-06 WO PCT/JP2018/044977 patent/WO2019117018A1/ja active Application Filing
- 2018-12-06 KR KR1020207004577A patent/KR102668383B1/ko active IP Right Grant
- 2018-12-10 TW TW107144333A patent/TWI821223B/zh active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2009157235A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
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WO2017159543A1 (ja) * | 2016-03-15 | 2017-09-21 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層体、タッチパネル用部材及び硬化膜の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI821223B (zh) | 2023-11-11 |
KR102668383B1 (ko) | 2024-05-22 |
WO2019117018A1 (ja) | 2019-06-20 |
CN111480114A (zh) | 2020-07-31 |
KR20200088797A (ko) | 2020-07-23 |
JP7375546B2 (ja) | 2023-11-08 |
CN111480114B (zh) | 2023-12-05 |
TW201928523A (zh) | 2019-07-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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