WO2011081150A1 - 感光性組成物、隔壁、カラーフィルタおよび有機ｅｌ素子 - Google Patents

感光性組成物、隔壁、カラーフィルタおよび有機ｅｌ素子 Download PDF

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WO2011081150A1
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polymer
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partition
mass
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正行 川島
秀幸 高橋
健二 石関
光太郎 山田
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旭硝子株式会社
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    • H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
    • H10K59/173—Passive-matrix OLED displays comprising banks or shadow masks

Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive composition, a partition using the same, a color filter having the partition, and an organic EL device.
  • partition walls between pixels of a color filter partition walls between pixels of an organic EL (Electro-Luminescence) display element, partition walls partitioning each TFT of an organic TFT (Thin Film Transistor) array, partition walls of an ITO electrode of a liquid crystal display element
  • a photosensitive composition has attracted attention.
  • a barrier rib pattern (which may also serve as a black matrix) is formed using photolithography, and then R (red), G (green), and B (blue) ink is applied to the openings between the partition walls to form pixels.
  • an organic EL element after forming a partition pattern using photolithography, a solution such as a hole transport material and a light emitting material is applied to the opening between the partitions using an inkjet method, A pixel having a hole transport layer, a light emitting layer, and the like is formed.
  • the upper surface of the partition wall needs to have a property of repelling ink, so-called liquid repellency.
  • the opening between the partition walls needs to have a property of getting wet with ink, so-called lyophilic property.
  • Patent Document 1 describes a partition wall composition (alkali development type photosensitive resist) containing a vinyl polymer having an ethylenically unsaturated double bond and a fluoroalkyl group.
  • a partition wall composition alkali development type photosensitive resist
  • the liquid repellency of the surface is so high that bubbles generated in the development process are adsorbed on the surface, hindering the development of the unexposed area and finally remaining as development defects I found out that there was a case.
  • Patent Document 2 describes a negative photosensitive composition containing a fluorinated polymer in which a polyoxyalkylene chain is introduced to improve hydrophilicity in order to increase compatibility with a developer. .
  • a polyoxyalkylene chain is introduced to improve hydrophilicity in order to increase compatibility with a developer.
  • the compatibility of the developer is increased, so the liquid repellent part on the partition wall surface is easy. It has been found that there is a problem that the liquid repellency is deteriorated.
  • Patent Document 3 describes a partition wall composition (alkali development type photosensitive resist) containing a vinyl polymer having a fluoroalkyl group in which an ethylenically unsaturated double bond is introduced at the end of a polyoxyalkylene chain.
  • a partition wall composition alkali development type photosensitive resist
  • a vinyl polymer having a fluoroalkyl group in which an ethylenically unsaturated double bond is introduced at the end of a polyoxyalkylene chain.
  • Patent Document 4 describes a vinyl polymer having an ethylenically unsaturated double bond site, a fluoroalkyl group and an oxyalkylene group. However, these are aimed at improving the ink deposition property on the plate in the planographic printing field, and the exemplified compounds were not sufficiently effective for developing defects.
  • the present invention has been made to solve the above-described problems of the prior art, can form a partition wall having a top surface that has no development defects, has good liquid repellency even after the development process, and is provided on the side surface of the partition wall. It is an object of the present invention to provide a photosensitive composition having good lyophilicity and capable of forming an opening that easily spreads ink. Moreover, an object of this invention is to provide the partition which has the favorable performance formed by hardening
  • the present invention provides a photosensitive composition, a partition, a color filter, and an organic EL device having the following constitution.
  • a photosensitive composition have the following meanings.
  • X a hydrogen atom, a fluorine atom or a trifluoromethyl group
  • R f a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have an etheric oxygen atom or a fluorine atom
  • R 11 an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms
  • R 12 an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms
  • n An integer from 6 to 30.
  • a color filter having a plurality of pixels and a partition located between adjacent pixels on the substrate, wherein the partition is formed by the partition described in [9].
  • An organic EL element having a plurality of pixels and a partition located between adjacent pixels on the substrate, wherein the partition is formed by the partition described in [9]. element.
  • the photosensitive composition of the present invention it is possible to form a partition wall that has no development defects during development, has an upper surface with good liquid repellency and a side surface with good lyophilicity, and an opening that easily spreads ink. It is. Moreover, according to this invention, the color filter and organic EL element which have the partition which has the favorable performance formed by hardening
  • the (meth) acryloyl group is used as a general term meaning both an acryloyl group and a methacryloyl group.
  • (Meth) acrylate is used as a generic term for both acrylate and methacrylate.
  • (Meth) acrylic acid is used as a generic term for both acrylic acid and methacrylic acid.
  • (Meth) acrylamide is used as a general term for both acrylamide and methacrylamide.
  • (Meth) allyl is used as a generic term for both allyl and methallyl.
  • the group represented by the general formula (1) is also referred to as a group (1). The same applies to other groups.
  • Photosensitive composition of the present invention includes at least a side chain having a group represented by the following general formula (1), a side chain having a group represented by the following general formula (2), And a polymer (A) having a side chain having an ethylenic double bond, a photopolymerization initiator (B), and a photosensitive resin (C) having an acidic group and an ethylenic double bond.
  • X is a hydrogen atom, a fluorine atom or a trifluoromethyl group
  • R f is a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have an etheric oxygen atom, or It is a fluorine atom.
  • R 11 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms
  • R 12 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms
  • n is an integer of 6 to 30.
  • Polymer (A) Since the polymer (A) contained in the photosensitive composition of the present invention has a side chain having the group (1), a coating formed by applying the photosensitive composition of the present invention on a substrate. When the film is dried, it tends to move to the vicinity of the surface of the coating film. Moreover, since a polymer (A) has a side chain which has an ethylenic double bond, hardening progresses at the time of exposure and it is easy to be fix
  • the partition formed by developing the coated film after exposure has no development defect and exhibits liquid repellency only on the upper surface of the partition. For this reason, when ink is applied to the opening surrounded by the partition wall using the ink jet method, it is possible to suppress the occurrence of color mixing between adjacent openings.
  • the side wall of the partition wall and the opening have good lyophilicity, the ink wets and spreads at the opening and the occurrence of white spots can be suppressed.
  • the mass average molecular weight (Mw) of the polymer (A) is preferably 1.2 ⁇ 10 4 to 15 ⁇ 10 4 , more preferably 3.0 ⁇ 10 4 to 12 ⁇ 10 4. 5 ⁇ 10 4 to 11 ⁇ 10 4 is particularly preferable.
  • the number average molecular weight (Mn) of the polymer (A) is preferably 1.0 ⁇ 10 4 to 7.0 ⁇ 10 4, more preferably 2.5 ⁇ 10 4 to 6.0 ⁇ 10 4 .
  • a mass average molecular weight (Mw) and a number average molecular weight (Mn) mean the value which measured polystyrene as a standard substance by the gel permeation chromatography method.
  • the mass average molecular weight of the polymer (A) is less than 1.2 ⁇ 10 4 , the lyophilicity of the opening between the partition walls may be insufficient, and the ink is applied when the ink is applied using an ink jet method. May not wet and spread sufficiently. If the mass average molecular weight exceeds 15 ⁇ 10 4 , alkali solubility and developability may be insufficient. Further, when the number average molecular weight of the polymer (A) is less than 1.0 ⁇ 10 4 , the lyophilic property of the opening between the partition walls may be insufficient, and when the ink is applied using an ink jet method There is a possibility that the ink does not spread sufficiently.
  • the mass average molecular weight (Mw) is 3.0 ⁇ 10 4 to 12 ⁇ 10 4 , the liquid repellency is easily maintained regardless of the type and concentration of alkali and the condition of jet rinsing, and the manufacturing margin Is wide and preferable. Moreover, it is preferable also from the ease of manufacture of a polymer (A).
  • the molecular weight distribution (mass average molecular weight / number average molecular weight) of the polymer (A) is preferably 8 or less, more preferably 4 or less. Within this range, developability is good.
  • the lower limit of the molecular weight distribution is not particularly limited, but is preferably 1.5 or more from the viewpoint of easy synthesis and affinity with a developer.
  • adjustment of the molecular weight of a polymer (A) is demonstrated in the manufacturing method of the below-mentioned polymer (A).
  • the content of fluorine atoms in the polymer (A) is 5 to 35% by mass, and more preferably 10 to 30% by mass.
  • the fluorine atom content is less than 5% by mass, the liquid repellency of the upper surface of the partition wall may be insufficient, and when it exceeds 35% by mass, the adhesion between the partition wall and the substrate may be lowered.
  • content of the fluorine atom in a polymer (A) can be adjusted with the introduction amount of the side chain which has group (1) mainly demonstrated below to a polymer (A).
  • the polymer (A) used for this invention has group (1) containing the fluorine atom shown by the said General formula (1) in a side chain.
  • R f when R f is a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have an etheric oxygen atom, R f may have a halogen atom excluding a fluorine atom. Good. As such a halogen atom, a chlorine atom is preferable.
  • the structure of the fluoroalkyl group is not particularly limited, and examples thereof include a linear structure, a branched structure, a ring structure, a structure having a partial ring, and the like, and a linear structure is preferable.
  • R f is a fluoroalkyl group having an etheric oxygen atom
  • the etheric oxygen atom may be present between the carbon-carbon bonds of the fluoroalkyl group or at the end of the fluoroalkyl group. May be.
  • R f in the group (1) is preferably a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have the etheric oxygen atom.
  • X is particularly preferably a fluorine atom.
  • R f is a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have an etheric oxygen atom
  • R f is particularly limited as long as it has such a configuration.
  • R f specifically, —CF 3 , —CF 2 CF 3 , —CF 2 CHF 2 , — (CF 2 ) 2 CF 3 , — (CF 2 ) 3 CF 3 , — (CF 2 ) 4 CF 3 , — (CF 2 ) 5 CF 3 , — (CF 2 ) 6 CF 3 , — (CF 2 ) 7 CF 3 , — (CF 2 ) 8 CF 3 , — (CF 2 ) 9 CF 3 , — ( CF 2 ) 11 CF 3 , — (CF 2 ) 15 CF 3 , —CF (CF 3 ) O (CF 2 ) 5 CF 3 , —CF 2 O (CF 2 CF 2 O) p
  • R f is carbon atoms, which may have an etheric oxygen atom is 1 to 20 fluoroalkyl group, the R f, a perfluoroalkyl group and an etheric oxygen atom having no etheric oxygen atom A perfluoroalkyl group having an etheric oxygen atom is more preferable.
  • the number of carbon atoms is preferably 1 to 11 and particularly preferably 3 to 5.
  • a perfluoroalkyl group or a polyfluoroalkyl group having one hydrogen atom is preferable, and a perfluoroalkyl group is particularly preferable.
  • the perfluoroalkyl group and the polyfluoroalkyl group include those having an etheric oxygen atom.
  • the compound whose X is a hydrogen atom is preferable.
  • the group (1) preferably has 4 to 6 carbon atoms.
  • Specific examples of such a group (1) include — (CF 2 ) 3 CF 3 , — (CF 2 ) 4 CF 3 , — (CF 2 ) 5 CF 3 , —CF 2 O (CF 2 ) 2 OCF 3 , -CF 2 O (CF 2 ) 2 O (CF 2 ) 2 OCF 3 and the like.
  • the number of introduced groups (1) in the side chain having the group (1) is 1.
  • the group (1) may be the same or different. That is, the group (1) that the polymer (A) has in the side chain may be only one type or a combination of two or more types.
  • the group (1) may be introduced into all side chains, but preferably the polymer (A) so as to have the above-mentioned fluorine atom content. The ratio of the side chain into which the group (1) is introduced relative to the whole is appropriately adjusted.
  • the blending amount of the monomer having the group (1) with respect to the entire raw material monomer is adjusted.
  • the side chain having the group (1) may be formed directly by a polymerization reaction or may be formed by chemical conversion after the polymerization reaction.
  • the polymer (A) used for this invention has group (2) containing the polyoxyalkylene chain shown by the said General formula (2) in a side chain.
  • the polyoxyalkylene chain refers to a moiety represented by — (R 11 —O) n —.
  • This polyoxyalkylene chain is preferably a hydrophilic chain, and in particular 50 to 100% of the n oxyalkylene groups are preferably oxyethylene groups.
  • a polyoxyalkylene chain having an oxyethylene group can exhibit good hydrophilicity.
  • the ratio of the polymer unit containing the group represented by the general formula (2) is preferably 5 to 50% by mass, and preferably 10 to 40% by mass. Is more preferably 15 to 35% by mass.
  • the ratio of the polymer unit containing the group represented by the general formula (2) in the polymer (A) is less than 5% by mass, adsorption of bubbles generated during development to the coating film surface is sufficiently suppressed. Therefore, many development defects may occur in the finally obtained partition walls and partition wall opening portions.
  • the proportion of the above polymerized units exceeds 50% by mass, the liquid repellency may be lowered.
  • the ratio of the polymer units containing the group represented by the general formula (2) is within this range, the portion where the group (2) (group having a polyoxyalkylene chain) per polymer (A) is present is uniform. The distribution is stable and the performance is stable.
  • R 11 is preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and 50 to 100% of the number of R 11 present is preferably an ethylene group.
  • R 11 other than the ethylene group is preferably an alkylene group having 3 to 5 carbon atoms, and particularly preferably a propylene group.
  • the structure of the alkylene group having 3 to 5 carbon atoms may be a linear structure or a branched structure.
  • n 11 R 11 is ethylene group, and particularly 100% is particularly preferably ethylene group. That is, the polyoxyalkylene chain is particularly preferably a polyoxyethylene chain.
  • n — contains an oxyethylene group and an oxyalkylene group other than the oxyethylene group
  • the group (2) is a block copolymer chain of the oxyethylene group and another oxyalkylene group. Is preferred.
  • n which represents the number of repeating oxyalkylene groups represented by —R 11 —O—, is 6 to 30, preferably 8 to 25.
  • n 6 or more, there is a hydrophilic effect, so that the wettability of the developer can be improved and the adsorption and stabilization of bubbles can be suppressed.
  • n 30 or less, the group (2), that is, the portion where the polyoxyalkylene chain is present in the film surface has a uniform distribution.
  • n in the group (2) is a value used as an average value between the polymerization units including the group (2) in the polymer (A).
  • the terminal group R 12 bonded to the polyoxyalkylene chain: — (R 11 —O) n — is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a methyl group. If the terminal group bonded to the polyoxyalkylene chain is a reactive site such as a hydroxyl group, it reacts simultaneously when other reactive groups are modified, reducing the effect of introducing the polyoxyalkylene chain. there is a possibility. Moreover, since the hydrophobicity will increase if the carbon number of the terminal group: R 12 is 5 or more, the effect of introducing a hydrophilic alkyloxylene chain will be reduced.
  • Addition polymerizable groups such as a (meth) acryloyl group, an allyl group, a vinyl group, a vinyloxy group, are mentioned. .
  • the content of the ethylenic double bond in the polymer (A) is preferably 1.0 to 5.0 mmol / g, and more preferably 1.2 to 2.5 mmol / g. Within this range, the immobilization of the polymer (A) to the partition walls and the developability will be good.
  • the polymer (A) may further have a side chain having an acidic group as necessary.
  • the polymer (A) which has not been cured at the time of exposure is easily removed from the upper surface of the partition wall at the time of development. Therefore, it can suppress that the polymer (A) which was not hardened
  • the acidic group which a polymer (A) has in a side chain may be 1 type, or may be 2 or more types.
  • the polymer (A) preferably has an acid value of 100 mgKOH / g or less, more preferably 10 to 50 mgKOH / g. Within this range, the polymer (A) that has not been fixed during exposure is easily removed from the upper surface of the partition wall during development.
  • the acid value is the mass [mg] of potassium hydroxide necessary to neutralize 1 g of the sample, and the unit is described as mgKOH / g in this specification.
  • the side chain having an acidic group may be formed directly by a polymerization reaction or may be formed by chemical conversion after the polymerization reaction.
  • the polymer (A) includes a monomer having a group (1), a monomer having a group (2), a monomer having a reactive group, and an acidic group as necessary. It is bonded to a copolymer (a precursor of the polymer (A)) obtained by copolymerizing a monomer having a monomer and / or another monomer and a reactive group of the copolymer. It can be synthesized by reacting the resulting functional group with a compound having an ethylenic double bond.
  • a monomer which has the said group (1) used for manufacture of a polymer (A) it is preferable that it is a compound represented by following General formula (3). These may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
  • CH 2 CR 4 —COO—Y—CFXR f (3)
  • R 4 is a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group, and Y has a single bond or a fluorine atom having 1 to 6 carbon atoms.
  • -CFXR f is a group corresponding to the group (1), that is, X is a hydrogen atom, a fluorine atom or a trifluoromethyl group, and R f is an etheric group. (It is a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have an oxygen atom, or a fluorine atom.)
  • the preferred embodiment of —CFXR f in the compound (3) is the same as described for the group (1).
  • Y which is a divalent organic group having no fluorine atom having 1 to 6 carbon atoms, represents —R 5 —, —R 5 —NR 6.
  • R 5 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms
  • R 6 is a hydrogen atom or R 7 is a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, provided that when R 6 is a methyl group, R 5 bonded to NR 6 has 1 to 5 carbon atoms. Etc.).
  • R 5 specifically, -CH 2 -, - CH 2 CH 2 -, - CH (CH 3) -, - CH 2 CH 2 CH 2 -, - C (CH 3) 2 -, - CH ( CH 2 CH 3 ) —, —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —, —CH (CH 2 CH 2 CH 3 ) —, —CH 2 (CH 2 ) 3 CH 2 —, —CH (CH 2 CH (CH 3 ) 2 )-and the like.
  • R 7 specifically, -CH 2 -, - CH 2 CH 2 -, - CH (CH 3) -, - CH 2 CH 2 CH 2 -, - C (CH 3) 2 -, - CH ( CH 2 CH 3 ) —, —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —, —CH (CH 2 CH 2 CH 3 ) — and the like.
  • Y in the compound (3) is preferably an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms from the viewpoint of availability.
  • R 4 in the compound (3) a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group is preferable, and a hydrogen atom or a methyl group is particularly preferable. That is, the compound (3) is particularly preferably (meth) acrylate.
  • the compound represented by the general formula (3) is particularly preferably (meth) acrylate in which —CFXR f is a perfluoroalkyl group having 4 to 6 carbon atoms and Y is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms.
  • Specific examples include 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate and 2- (perfluorobutyl) ethyl (meth) acrylate.
  • the monomer having the group (2) used for the production of the polymer (A) is preferably a compound represented by the following general formula (4a) or (4b). These may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
  • CH 2 CR 10 —COO— (W—O) q — (R 11 —O) n —R 12 (4a)
  • CH 2 CR 10 —O— (W—O) q — (R 11 —O) n —R 12 (4b)
  • R 10 is substituted with a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 7 to 20 carbon atoms.
  • Q is 0 or 1.
  • R 11 —O) n —R 12 is a group corresponding to the above group (2).
  • — (W—O) q — represents a single bond when q is 0.
  • — (W—O) q — is an organic group having an oxygen atom on the R 11 side.
  • W is preferably a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, such as an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, a cycloalkylene group having 5 or 6 carbon atoms, or a cycloalkylene having 5 or 6 carbon atoms.
  • a cycloalkylene group-containing alkylene group having 6 to 10 carbon atoms in total and having an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms on both sides or one side of the group is preferable.
  • q is regarded as 0 when W is the same alkylene group as R 11 .
  • R 10 in the compounds (4a) and (4b) is preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group, and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • the monomer which has a hydroxyl group, the acid anhydride which has an ethylenic double bond, and the monomer which has a carboxy group And monomers having an epoxy group may be used alone or in combination of two or more.
  • the monomer which has a reactive group does not have group (1) substantially.
  • Examples of the monomer having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 5-hydroxypentyl ( (Meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxycyclohexyl (meth) acrylate, neopentyl glycol mono (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerin mono (meth) acrylate 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, cyclohexanediol monovinyl ether, 2-hydroxyethyl allyl ether, N-hydroxymethyl (meth) acrylate Amide, N, N-bis (hydroxymethyl) (meth) acrylamide.
  • C 6 H 10 is a cyclohexylene group
  • C 4 H 8 is an n-butylene group
  • C 3 H 6 is a propylene group.
  • k is preferably an integer of 1 to 30
  • m is preferably an integer of 0 to 30
  • j is preferably an integer of 1 to 30
  • m + j is preferably 1 to 30.
  • Examples of the acid anhydride having an ethylenic double bond include maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthal And acid anhydride, cis-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, 2-buten-1-ylsuccinic anhydride, and the like.
  • Examples of the monomer having a carboxy group include acrylic acid, methacrylic acid, vinyl acetic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, cinnamic acid, and salts thereof.
  • Examples of the monomer having an epoxy group include glycidyl (meth) acrylate and 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate.
  • the monomer having an acidic group used as necessary for the production of the polymer (A) includes a monomer having a carboxy group, a monomer having a phenolic hydroxyl group, and a monomer having a sulfonic acid group. Etc. These may be used alone or in combination of two or more.
  • a monomer having a carboxy group is used as a monomer having an acidic group and a monomer having a carboxy group is used as a monomer having a reactive group, the ethylenic double Any bond that is not introduced and remains as a carboxy group is regarded as a monomer.
  • Examples of the monomer having a phenolic hydroxyl group include o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, and one or more hydrogen atoms of these benzene rings, such as a methyl group, an ethyl group, and an n-butyl group. And an alkyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-butoxy group or the like, a halogen atom, a haloalkyl group having one or more halogen atoms, a nitro group, a cyano group, a compound substituted with an amide group, etc. .
  • Examples of the monomer having a sulfonic acid group include vinyl sulfonic acid, styrene sulfonic acid, (meth) allyl sulfonic acid, 2-hydroxy-3- (meth) allyloxypropane sulfonic acid, 2-methacrylic acid 2-sulfoethyl, Examples include 2-sulfopropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropane sulfonic acid, 2- (meth) acrylamide-2-methylpropane sulfonic acid, and the like.
  • Monomers other than those that can be optionally used for the production of the polymer (A) include hydrocarbon olefins, vinyl ethers, isopropenyl ethers, allyl ethers, vinyl esters, allyl esters. , (Meth) acrylic acid esters, (meth) acrylamides, aromatic vinyl compounds, chloroolefins, conjugated dienes, linear organopolysiloxane compounds modified at one end with a (meth) acryloyl group, etc. Considering the heat resistance of the partition walls, (meth) acrylic acid esters and (meth) acrylamides are preferable. Note that these compounds may have a functional group such as a carbonyl group or an alkoxy group.
  • monomers used for polymerization are appropriately selected from the monomers described above and copolymerized at an appropriate ratio.
  • the preferable compounding ratio of the various monomers used when manufacturing a polymer (A) is as follows.
  • the ratio of the mass of the monomer having the group (1) to the total mass of the monomer to be copolymerized is the ratio in the polymer (A) in which an ethylenic double bond is introduced via a reactive group described later. In terms of conversion, it is preferably 5 to 80% by mass, and more preferably 25 to 60% by mass. If this ratio is too low, the polymer (A) will not easily migrate to the vicinity of the upper surface of the partition formed using the photosensitive composition of the present invention, and the liquid repellency of the upper surface of the partition will be insufficient. There is. If this ratio is too high, the adhesion between the partition walls and the substrate may be reduced.
  • the ratio of the mass of the monomer having the group (2) to the total mass of the monomer to be copolymerized is the ratio in the polymer (A) in which an ethylenic double bond is introduced via a reactive group described later. In terms of conversion, it is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 40% by mass, and particularly preferably 15 to 35% by mass. Within this range, the wettability of the developer can be improved and the adsorption and stabilization of bubbles can be suppressed. Further, the group (2), that is, the location where the polyoxyalkylene chain exists in the film surface has a uniform distribution.
  • the ratio of the mass of the monomer having a reactive group to the total mass of the monomer to be copolymerized is converted to the ratio in the polymer (A) in which an ethylenic double bond is introduced through the reactive group described later.
  • the content is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 35% by mass.
  • the ethylenic double bond introduced by the method described later via this reactive group is in a suitable amount in the polymer (A), specifically 1.0 to 5.0 mmol / g, more preferably in an amount of 1.2 to 2.5 mmol / g, and the immobilization of the polymer (A) on the partition walls and the developability are good.
  • the ratio of the mass of the monomer having an acidic group to the total mass of the monomer to be copolymerized is determined by the polymer ( It is preferable that the acid value of A) be in the above-mentioned preferable range, specifically 100 mgKOH / g or less, more preferably 10 to 50 mgKOH / g. Such a ratio depends on the type of monomer having an acidic group, but is specifically preferably 2 to 20% by mass, more preferably 4 to 12% by mass. Within this range, the polymer (A) that has not been cured at the time of exposure tends to be washed away from the partition walls at the time of development.
  • the ratio of the mass of the other monomers to the total mass of the monomers to be copolymerized is ethylene via a reactive group described later. It is preferably 50% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, in terms of the ratio in the polymer (A) into which the ionic double bond is introduced. When the mass ratio exceeds 50% by mass, the alkali developability may be deteriorated.
  • the copolymer comprises a monomer having a group (1), a monomer having a group (2), a monomer having a reactive group, and if necessary, a monomer having an acidic group and / or Or it can synthesize
  • a chain transfer agent it is preferable to add a chain transfer agent as needed.
  • Examples of the solvent used for the copolymerization include alcohols such as ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, and ethylene glycol; ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; 2-methoxyethanol, 2- Cellsorbs such as ethoxyethanol and 2-butoxyethanol; carbitols such as 2- (2-methoxyethoxy) ethanol, 2- (2-ethoxyethoxy) ethanol and 2- (2-butoxyethoxy) ethanol; methyl acetate; Ethyl acetate, n-butyl acetate, ethyl lactate, n-butyl lactate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol diacetate, glycerin Esters such as triacetate; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether.
  • ketones
  • polymerization initiator examples include known organic peroxides, inorganic peroxides, azo compounds and the like. Organic peroxides and inorganic peroxides can also be used as redox catalysts in combination with a reducing agent. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
  • organic peroxide examples include benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, isobutyryl peroxide, t-butyl hydroperoxide, t-butyl- ⁇ -cumyl peroxide and the like.
  • inorganic peroxides include ammonium persulfate, sodium persulfate, potassium persulfate, hydrogen peroxide, percarbonate and the like.
  • Examples of the azo compound include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2, 2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), dimethyl 2,2′-azobisisobutyrate, 2,2′-azobis (2 -Amidinopropane) dihydrochloride and the like.
  • chain transfer agents examples include mercaptans such as n-butyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, t-butyl mercaptan, ethyl thioglycolate, 2-ethylhexyl thioglycolate, and 2-mercaptoethanol; chloroform, carbon tetrachloride, tetraodor And alkyl halides such as carbon halides.
  • mercaptans such as n-butyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, t-butyl mercaptan, ethyl thioglycolate, 2-ethylhexyl thioglycolate, and 2-mercaptoethanol
  • chloroform carbon tetrachloride
  • tetraodor And alkyl halides such as carbon halides.
  • the polymer (A) includes a copolymer that is a precursor of the polymer (A) thus obtained, a functional group that can be bonded to the reactive group of the copolymer, and an ethylenic duplex. It can be synthesized by reacting a compound having a bond. Examples of the combination of the functional group capable of binding to the reactive group and the compound having an ethylenic double bond with respect to the reactive group of the copolymer include the following combinations.
  • A an acid anhydride having an ethylenic double bond with respect to the hydroxyl group;
  • B a compound having an isocyanate group and an ethylenic double bond with respect to the hydroxyl group,
  • C a compound having an acyl chloride group and an ethylenic double bond with respect to the hydroxyl group,
  • D a compound having a hydroxyl group and an ethylenic double bond with respect to the acid anhydride,
  • E a compound having an epoxy group and an ethylenic double bond with respect to the carboxy group,
  • F A compound having a carboxy group and an ethylenic double bond with respect to the epoxy group.
  • the acid anhydride having an ethylenic double bond in the above combination (a) those exemplified for the monomer having a reactive group described above can be used.
  • the compound having an isocyanate group and an ethylenic double bond in the combination (b) include 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate and 1,1-bis ((meth) acryloyloxymethyl) ethyl isocyanate.
  • Examples of the compound having an acyl chloride group and an ethylenic double bond in the combination (c) include (meth) acryloyl chloride.
  • the compound having a hydroxyl group and an ethylenic double bond in the combination (d) those exemplified for the monomer having a hydroxyl group described above can be used.
  • the compound having an epoxy group and an ethylenic double bond in the combination (e) those exemplified for the monomer having an epoxy group can be used.
  • the compound having a carboxy group and an ethylenic double bond in the combination of (f) those exemplified for the monomer having a carboxy group can be used.
  • a reactive group such as a hydroxyl group generated after the reaction and further react with an acid anhydride, if necessary.
  • the side chain which has group (1), the side chain which has group (2), the side chain which has a reactive group, and the copolymer which has a side chain which has an acidic group as needed reaction When reacting a compound having a functional group capable of binding to a reactive group and an ethylenic double bond, a functional group capable of binding to the reactive group with respect to the reactive group of the copolymer;
  • the functional group equivalent ratio of the compound having an ethylenic double bond is preferably 0.5 to 2.0, more preferably 0.8 to 1.5.
  • the content of the ethylenic double bond in the polymer (A) is preferably within the above preferred range, specifically 1.0 to 5.0 mmol / g, more preferably 1.
  • the amount can be 2 to 2.5 mmol / g.
  • the equivalent ratio is less than 0.5, the content of the ethylenic double bond in the polymer (A) is not a suitable amount, and the polymer (A) is hardly fixed near the upper surface of the partition wall.
  • the lyophilicity of the opening surrounded by the partition wall may be insufficient, and if it exceeds 2.0, the amount of unreacted compounds may increase and the appearance of the partition wall may be deteriorated.
  • the polymer (A) is a co-polymer having a side chain having a group (1), a side chain having a group (2), a side chain having a reactive group, and a side chain having an acidic group, if necessary. And a compound having a functional group capable of bonding to the reactive group of the copolymer and an ethylenic double bond is dissolved in a solvent corresponding to the combination of (a) to (f) above. And can be synthesized by reacting under known reaction conditions according to each combination.
  • the content of the polymer (A) in the total solid content of the photosensitive composition of the present invention is preferably 0.07 to 1% by mass, more preferably 0.1 to 0.5% by mass.
  • the content of the polymer (A) is less than 0.07% by mass, the liquid repellency of the upper surface of the partition formed using the photosensitive composition of the present invention may be insufficient, When the content exceeds 1% by mass, the adhesion between the partition walls and the substrate may be lowered.
  • Photopolymerization initiator (B) As a photoinitiator (B) which the photosensitive composition of this invention contains, the photoinitiator used for a normal radical curing type photosensitive composition can be especially used without a restriction
  • ⁇ -diketones such as benzyl, diacetyl, methylphenylglyoxylate, and 9,10-phenanthrenequinone
  • acyloins such as benzoin
  • acylo such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether
  • Inethers thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, thioxanthone-4 Thioxanthones such as sulfonic acids; benzophenones such as benzophenone, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis
  • the photopolymerization initiator (B) used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (5).
  • R 21 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, or an alkyl group.
  • R 22 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, A cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms that is substituted or substituted with an alkyl group, an alkanoyl group having 2 to 20 carbon atoms, and a 7 to 20 carbon atom that is substituted or unsubstituted with an alkyl group a benzoyl group, a phenoxycarbonyl group alkoxycarbonyl group or an alkyl group substituted or unsubstituted 7 to 20 carbon atoms having a carbon number of 2 ⁇ 12, R 23 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms There, R 24, R 25, R 26 and R 27 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12
  • R 21 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a phenyl group having 6 to 12 carbon atoms substituted or unsubstituted with an alkyl group, such as a methyl group
  • an alkyl group such as a methyl group
  • Examples include an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, and a phenyl group.
  • an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms is more preferable, and a methyl group is particularly preferable.
  • R 22 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxycarbonyl group having 2 to 5 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, or a propyl group.
  • R 22 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxycarbonyl group having 2 to 5 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, or a propyl group.
  • an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is more preferable, and a methyl group is particularly preferable.
  • examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 23 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and a heptyl group.
  • an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms is more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.
  • R 24 , R 26 and R 27 are preferably hydrogen atoms.
  • R 25 is a benzoyl group having 7 to 20 carbon atoms substituted or unsubstituted with an alkyl group or a carbon number having 7 to 20 carbon atoms substituted or unsubstituted with an alkyl group.
  • a benzylcarbonyl group is preferable, and a 2-methylbenzoyl group, a benzylcarbonyl group, or a 1,3,5-trimethylbenzylcarbonyl group is particularly preferable.
  • the compound represented by the general formula (5) (O-acyloxime compound) is not particularly limited, but in the general formula (5), R 21 is a phenyl group, R 22 is an octyl group, and R 23 is an ethyl group.
  • R 24 , R 26 and R 27 are hydrogen atoms, R 25 is a benzoyl group;
  • R 21 is a methyl group,
  • R 22 is a butyl group, heptyl group or octyl group,
  • R 23 is an ethyl group,
  • R 24 , R 26 and R 27 are hydrogen atoms and
  • R 25 is a benzoyl group;
  • R 21 is a phenyl group, R 22 is an octyl group, R 23 is an ethyl group, R 24 , R 26 and R 27 are hydrogen atoms, and
  • R 25 is compound 2-methylbenzoyl group;
  • R 21 is a methyl group,
  • R 22 is a methyl group or an octyl group,
  • R 23 is ethyl,
  • R 24, R 26 and R 27 are hydrogen atoms,
  • R 5 is a 2-methylbenzoyl group compound;
  • R 21 and R 22 is
  • a commercial item can be used as a photoinitiator (B).
  • Examples of commercially available products include OXE02 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Etanone 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazoyl-3-yl] -1- (O-acetyl) Oxime): a compound in which, in the above general formula (5), R 21 and R 22 are methyl groups, R 23 is an ethyl group, R 24 , R 26 and R 27 are hydrogen atoms, and R 25 is a 2-methylbenzoyl group) Is mentioned.
  • the content of the photopolymerization initiator (B) in the total solid content of the photosensitive composition of the present invention is preferably 1 to 10% by mass, and more preferably 2 to 5% by mass. Within this range, curability is good, and a pattern or line width close to a mask pattern can be formed by exposure and development.
  • Photosensitive resin (C) The photosensitive resin (C) contained in the photosensitive composition of the present invention is polymerized and cured by the radical generated by the photopolymerization initiator (B) to form a cured coating film, and the cured coating film. Is a photosensitive resin having an acidic group and an ethylenic double bond that enables alkali development. Since the photosensitive resin (C) has an acidic group and an ethylenic double bond in one molecule, the unexposed portion of the uncured photosensitive composition is selectively removed using an alkali developer. As a result, a partition wall can be formed. In addition, it is preferable that photosensitive resin (C) is compounds other than a polymer (A), and does not have group (1) substantially.
  • a carboxy group, a phenolic hydroxyl group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group etc. are mentioned, You may use 2 or more types together.
  • the ethylenic double bond that the photosensitive resin (C) has is not particularly limited, and examples thereof include a double bond possessed by an addition polymerizable group such as a (meth) acryloyl group, an allyl group, a vinyl group, or a vinyloxy group. Two or more kinds may be used in combination. In addition, some or all of the hydrogen atoms of these addition polymerizable groups may be substituted with a hydrocarbon group, preferably a methyl group.
  • the photosensitive resin (C) is not particularly limited, but is a resin (C-1) having a side chain having an acidic group and a side chain having an ethylenic double bond, and an epoxy resin having an ethylenic double bond and an acidic group. And a resin (C-2) into which a group is introduced. These may be used alone or in combination of two or more.
  • Resin (C-1) can be synthesized in the same manner as polymer (A) except that a monomer having a monomer having group (1) is not used.
  • the monomer having a phosphoric acid group is not particularly limited, and examples thereof include 2- (meth) acryloyloxyethane phosphoric acid.
  • Resin (C-2) can be synthesized by reacting an epoxy resin with a compound having a carboxy group and an ethylenic double bond and then reacting with a polybasic carboxylic acid or an anhydride thereof. . Specifically, by reacting an epoxy resin with a compound having a carboxy group and an ethylenic double bond, the carboxyl group and the epoxy group of the epoxy resin react to introduce an ethylenic double bond. Next, a carboxy group can be introduced by reacting a polybasic carboxylic acid or its anhydride with a hydroxyl group of a resin into which an ethylenic double bond has been introduced.
  • the epoxy resin is not particularly limited, but is bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, trisphenolmethane type epoxy resin, epoxy resin having naphthalene skeleton, Examples include an epoxy resin having a biphenyl skeleton represented by the formula (6), an epoxy resin represented by the following general formula (7), an epoxy resin represented by the following general formula (8), and the like.
  • s is 1 to 50, preferably 2 to 10.
  • R 31 , R 32 , R 33 and R 34 are each independently a hydrogen atom, a chlorine atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and t is 0 to 10).
  • each hydrogen atom of the benzene ring may be independently substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen atom, or an optionally substituted phenyl group. 0 to 10)
  • C-2 Commercially available resins (C-2) in which an acidic group and an ethylenic double bond are introduced into an epoxy resin include KAYARAD PCR-1069, K-48C, CCR-1105, CCR-1115, CCR-1163H, CCR- 1166H, CCR-1159H, TCR-1025, TCR-1064H, TCR-1286H, ZAR-1535H, ZFR-1122H, ZFR-1124H, ZFR-1185H, ZFR-1492H, ZCR-1571H, ZCR-1569H, ZCR-1580H, ZCR-1581H, ZCR-1588H, ZCR-1629H (Nippon Kayaku Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
  • the photosensitive resin (C) used in the present invention preferably has a mass average molecular weight of 1.5 ⁇ 10 3 to 20 ⁇ 10 3 , more preferably 2.0 ⁇ 10 3 to 15 ⁇ 10 3 .
  • mass average molecular weight is less than 1.5 ⁇ 10 3 , curing during exposure may be insufficient, and when it exceeds 20 ⁇ 10 3 , developability may be deteriorated.
  • the number of ethylenic double bonds that the photosensitive resin (C) has is preferably 3 or more, more preferably 6 or more in one molecule on average.
  • the number of ethylenic double bonds is 3 or more, the difference in alkali solubility between the exposed portion and the unexposed portion is likely to be different, and a fine pattern can be formed with a smaller exposure amount.
  • the photosensitive resin (C) preferably has an acid value of 10 to 300 mgKOH / g, more preferably 30 to 150 mgKOH / g. When the acid value is within this range, the developability of the photosensitive composition is good.
  • the content of the photosensitive resin (C) in the total solid content of the photosensitive composition of the present invention is preferably 5 to 80% by mass, and more preferably 10 to 60% by mass. When the content of the photosensitive resin (C) is within this range, the developability of the photosensitive composition is good.
  • the photosensitive composition of the present invention essentially comprises the polymer (A), the photopolymerization initiator (B), and a photosensitive resin (C) having an acidic group and an ethylenic double bond. Although it contains as a component, in the range which does not impair the effect of this invention, it is possible to contain the arbitrary components demonstrated below for the purpose of the improvement of various functions, etc. (Crosslinking agent (D))
  • the photosensitive composition of this invention contains the crosslinking agent (D) which has 2 or more of ethylenic double bonds as needed. Thereby, the sclerosis
  • the crosslinking agent (D) is not particularly limited, but a compound having 2 to 10 (meth) acryloyloxy groups is preferable. Specifically, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate , Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ethoxylated isocyanuric acid triacrylate , Urethane acrylate and the like, and two or more of them may be
  • crosslinking agent (D) examples include KAYARAD DPHA (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate), NK ester A-9300 (trade name, Shin-Nakamura) Chemical industry, ethoxylated isocyanuric acid triacrylate), NK ester A-9300-1CL (trade name, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., ⁇ -caprolactone-modified tris- (2-acryloxyethyl) isocyanurate), BANI- M (trade name, manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd., bis ⁇ 4- (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide) phenyl ⁇ methane), BANI-X (trade name) Manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd., N, N′
  • urethane acrylate examples include KAYARAD UX series manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., and specific product names include UX-3204, UX-6101, UX-0937, DPHA-40H, UXE-3501, UX-5000. UX-5002D-P20 and the like.
  • the content of the crosslinking agent (D) in the total solid content of the photosensitive composition of the present invention is preferably 5 to 50% by mass, and more preferably 10 to 30% by mass. When the content of the crosslinking agent (D) is within this range, the pattern shape of the photosensitive composition becomes good.
  • a coloring agent (E) may be added to the photosensitive composition of this invention as needed.
  • a black colorant (E) is used according to the required optical density of the partition walls. Can do.
  • the black colorant (E) is not particularly limited, and examples thereof include carbon black, aniline black, anthraquinone black pigment, and perylene black pigment. Specifically, C.I. I. Pigment black 1, 6, 7, 12, 20, 31 etc. are mentioned.
  • the black colorant (E) may be a mixture of organic pigments and inorganic pigments such as red pigments, blue pigments, and green pigments.
  • carbon black is preferable in consideration of the light shielding property.
  • Carbon black may be surface-treated with a resin or the like.
  • carbon black in order to adjust the color tone of the black colorant (E), carbon black can be used in combination with a blue pigment or a purple pigment.
  • the carbon black used as the colorant (E) preferably has a specific surface area of 50 to 200 m 2 / g by the BET method. If the specific surface area is too small, the shape of the partition wall may be deteriorated. If the specific surface area is too large, the dispersion aid is excessively adsorbed on the colorant (E), and a large amount of dispersion aid is added. May need to be done.
  • the carbon black used as the colorant (E) preferably has an oil absorption of dibutyl phthalate of 120 cc / 100 g or less, and more preferably less.
  • the carbon black used as the colorant (E) preferably has an average primary particle size of 20 to 50 nm. If this average primary particle size is too small, it becomes difficult to disperse at a high concentration, it may be difficult to obtain a photosensitive composition with good stability over time, and if the average primary particle size is too large, It may cause deterioration of the shape of the partition wall.
  • the carbon black preferably has an average secondary particle size of 80 to 200 nm. The particle size of carbon black can be measured using a transmission electron microscope.
  • the content of the colorant (E) in the total solid content of the composition in the photosensitive composition of the present invention is appropriately selected depending on the function required of the colorant (E) within a range not impairing the effects of the present invention. .
  • the black colorant (E) is blended in order to impart light-shielding properties such as a black matrix to the cured film formed from the photosensitive composition of the present invention
  • the colorant (E) is contained.
  • the amount is preferably 15 to 60% by mass, more preferably 20 to 50% by mass, and more preferably 25 to 40% by mass with respect to the total solid content of the composition, although it depends on the required light shielding properties and optical density. Particularly preferred.
  • the optical density of the partition may be insufficient, and if the content is too large, the curability of the photosensitive composition is lowered and the appearance of the partition May decrease and liquid repellency may decrease.
  • the photosensitive composition of the present invention preferably contains a polymer dispersant in order to improve the dispersibility of the colorant (E) such as the black colorant.
  • the polymer dispersant is not particularly limited, and is urethane type, polyimide type, alkyd type, epoxy type, polyester type, melamine type, phenol type, acrylic type, polyether type, vinyl chloride type, vinyl chloride vinyl acetate type. Examples thereof include a polymer system, a polyamide system, and a polycarbonate system. Among these, urethane type and polyester type are preferable.
  • the polymer dispersant may have an oxyethylene group and / or an oxypropylene group.
  • the polymer dispersant preferably has a basic group in consideration of the affinity for the colorant (E) such as the black colorant. Although it does not specifically limit as a basic group, A primary, secondary, or tertiary amino group is mentioned.
  • Disparon DA-7301 manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.
  • BYK161, BYK162, BYK163, BYK182 above, manufactured by BYK-Chemie
  • Solspurs 5000 Solspurs 17000 (above, manufactured by Geneca) Etc.
  • the addition amount of the polymer dispersant is preferably 5 to 30% by mass and more preferably 10 to 25% by mass with respect to the colorant (E) such as the black colorant. If the amount added is too small, the effect of improving dispersibility may be insufficient, and if the amount added is too large, developability may be lowered.
  • the photosensitive composition of the present invention may contain a phthalocyanine pigment derivative or a metal phthalocyanine sulfonamide compound as a dispersion aid.
  • the dispersion aid is considered to have a function of improving dispersion stability by adsorbing to the colorant (E) such as the black colorant and the polymer dispersant.
  • the photosensitive composition of the present invention may contain fine particles as necessary. Thereby, it can suppress that the shape of a partition changes at the time of the post-baking mentioned later.
  • the fine particles are not particularly limited, and include inorganic fine particles such as silica, zirconia, magnesium fluoride, ITO and ATO; organic fine particles such as polyethylene and PMMA.
  • inorganic fine particles are preferable in consideration of heat resistance, and silica and zirconia are preferable in consideration of availability and dispersion stability.
  • the photosensitive composition contains a colorant (E) such as the black colorant and a polymer dispersant for improving the dispersibility thereof, the adsorption ability of the polymer dispersant is taken into consideration.
  • the fine particles are preferably negatively charged.
  • the fine particles do not absorb light irradiated at the time of exposure, i-line (365 nm), h-line (405 nm), which is the main emission wavelength of an ultra-high pressure mercury lamp, It is particularly preferable not to absorb g-line (436 nm).
  • the fine particles preferably have an average particle size of 1 ⁇ m or less, more preferably 200 nm or less, because the surface smoothness of the partition walls is good.
  • the content of fine particles in the total solid content of the photosensitive composition of the present invention is preferably 3 to 20% by mass, more preferably 5 to 15% by mass. If the content is too small, the shape of the partition wall may change during post-baking, and if the content is too large, the dispersion stability of the photosensitive composition may decrease.
  • the photosensitive composition of this invention may contain the silane coupling agent as needed. Thereby, the adhesiveness of a partition and a board
  • the silane coupling agent is not particularly limited. Specifically, tetraethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyl Examples include trimethoxysilane, heptadecafluorooctylethyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, polyoxyalkylene having a triethoxysilyl group, and imidazolesilane. Good.
  • the photosensitive composition of this invention may contain the phosphorus compound as needed. Thereby, the adhesiveness of a partition and a board
  • the phosphoric acid compound is not particularly limited, and examples thereof include mono (meth) acryloyloxyethyl phosphate, di (meth) acryloyloxyethyl phosphate, and tris (meth) acryloyloxyethyl phosphate.
  • the photosensitive composition of this invention may contain the thermosetting agent as needed. Thereby, the heat resistance of a partition and water permeability resistance can be improved.
  • thermosetting agent Amino resin, a compound having two or more epoxy groups, a compound having two or more hydrazino groups, a polycarbodiimide compound, a compound having two or more oxazoline groups, two aziridine groups
  • examples thereof include compounds having the above, polyvalent metals, compounds having two or more mercapto groups, polyisocyanate compounds, and the like.
  • amino resins, compounds having two or more epoxy groups or compounds having two or more oxazoline groups are preferable.
  • the photosensitive composition of the present invention contains, in addition to various components other than those described above, a curing accelerator, a thickener, a plasticizer, an antifoaming agent, a leveling agent, a repellency inhibitor, an ultraviolet absorber, and the like. May be included.
  • the photosensitive composition of the present invention can be prepared by uniformly mixing the above-described various essential components and optional components added as necessary according to the above-mentioned blending amount by a usual method. .
  • a coating film (wet film) is formed using a diluted solution obtained by diluting the photosensitive composition with a solvent, and then the solvent is volatilized and removed. It is preferable to form a coating film of the adhesive composition.
  • the solvent for diluting the photosensitive composition is not particularly limited. Specifically, alcohols such as ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol and ethylene glycol; ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2- Cellsorbs such as butoxyethanol; carbitols such as 2- (2-methoxyethoxy) ethanol, 2- (2-ethoxyethoxy) ethanol, 2- (2-butoxyethoxy) ethanol; methyl acetate, ethyl acetate, n- Butyl acetate, ethyl lactate, n-butyl lactate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol Methyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate,
  • the diluted solution obtained by diluting the photosensitive composition with a solvent is preferably prepared so that the concentration of the photosensitive composition, that is, the solid content concentration is 5 to 40% by mass, and is 10 to 25% by mass. It is more preferable to prepare.
  • the partition wall of the present invention is a partition wall formed by partitioning the substrate into a plurality of pixel forming sections by using the cured film of the photosensitive composition of the present invention. It can be applied to a black matrix of an organic EL element.
  • a diluted solution of the photosensitive composition of the present invention is applied to a substrate.
  • the substrate is not particularly limited, and various glass plates; SiC substrate, inorganic substrate such as silicon; inorganic oxide substrate such as ITO; polyester (polyethylene terephthalate, etc.), polyolefin (polyethylene, polypropylene, etc.), polycarbonate, polymethyl methacrylate And thermoplastic resin sheets such as polysulfone, polyimide, and poly (meth) acrylic resin; and cured sheets of thermosetting resin such as epoxy resin and unsaturated polyester.
  • the substrate is preferably a heat resistant resin such as a glass plate and polyimide.
  • the substrate is preferably transparent.
  • the substrate is a substrate in which an organic film or an inorganic oxide film such as TFT, ITO, SiO 2 or the like is formed on a transparent substrate such as a glass substrate, or a laminated substrate in which these substrates are laminated. It may be.
  • the coating method is not particularly limited, and examples thereof include spin coating, spraying, slit coating, roll coating, spin coating, and bar coating.
  • the coating film formed on the substrate is dried. Thereby, since a solvent volatilizes, the coating film of the photosensitive composition without stickiness is obtained. It does not specifically limit as a drying method, Vacuum drying and heat drying are mentioned. In order to efficiently dry the coating film without causing uneven appearance, it is preferable to use vacuum drying and heat drying in combination.
  • the drying conditions vary depending on the type and composition of the components contained in the photosensitive composition, but the vacuum drying is preferably 10 to 500 Pa (absolute pressure) for 10 to 300 seconds, and the heat drying is 50 to 120. It is preferable that the temperature is 10 to 2000 seconds at ° C.
  • the coating film is exposed through a mask having a predetermined pattern.
  • the light irradiated at the time of exposure is not particularly limited, and visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, KrF excimer laser, ArF excimer laser, F 2 excimer laser, Kr 2 excimer laser, KrAr excimer laser, Ar 2 excimer laser, etc.
  • Excimer laser, X-ray, electron beam and the like can be mentioned.
  • Light having a wavelength of 100 to 600 nm is preferable, light having a wavelength of 300 to 500 nm is more preferable, and i-line (365 nm), h-line (405 nm), and g-line (436 nm) are particularly preferable.
  • a well-known super high pressure mercury lamp etc. can be used as a light source.
  • Exposure is usually 5 ⁇ 1000mJ / cm 2 at i-line standard, preferably 10 ⁇ 400mJ / cm 2, more preferably 20 ⁇ 200mJ / cm 2, particularly preferably 50 ⁇ 100mJ / cm 2.
  • the exposure amount is less than 5 mJ / cm 2 , the coating film may be insufficiently cured and the developability may be deteriorated.
  • it exceeds 1000 mJ / cm 2 high resolution may not be obtained.
  • the developer is not particularly limited, and examples thereof include aqueous alkali solutions such as inorganic alkalis, amines, alkanolamines, and quaternary ammonium salts.
  • the development time that is, the time for contact with the developer is preferably 5 to 180 seconds.
  • the developing method is not particularly limited, and examples thereof include a liquid filling method, a dipping method, and a shower method.
  • water on the substrate can be removed by washing with running water and air-drying with compressed air or compressed nitrogen.
  • post-exposure may be performed on the developed partition wall.
  • the exposure may be performed from either the surface on which the partition is formed or the surface on which the partition is not formed, or may be performed from both surfaces.
  • the light irradiated during exposure is preferably ultraviolet light.
  • the light source a known ultra-high pressure mercury lamp, high-pressure mercury lamp, or the like can be used. These light sources emit light having a wavelength of 600 nm or less that contributes to hardening of the partition walls, and emit less light having a wavelength of 200 nm or less that causes oxidative decomposition of the partition walls. Furthermore, it is preferable that the quartz tube glass used for the light source has a function of an optical filter that cuts light having a wavelength of 200 nm or less.
  • Exposure is usually at 50 mJ / cm 2 or more, preferably 200 mJ / cm 2 or more, more preferably 1000 mJ / cm 2 or more, 2000 mJ / cm 2 or more is particularly preferable.
  • a low-pressure mercury lamp may be used as the light source.
  • the exposure amount is preferably 500 mJ / cm 2 or less, and 300 mJ / cm 2 or less. Is more preferable.
  • the heating condition is preferably 150 to 250 ° C. for 5 to 90 minutes, and the heating temperature is more preferably 180 ° C. or higher. If the heating temperature is too low, chemical resistance may be insufficient, and when ink is applied to the partition walls, the partition walls may swell or the ink may ooze. On the other hand, if the heating temperature is too high, the partition walls may be thermally decomposed.
  • a hot plate, an oven or the like can be used as the heating device.
  • the partition wall of the present invention is formed by curing the photosensitive composition of the present invention through the photolithography process as described above. If necessary, the partition wall of the present invention can constitute a black matrix exhibiting black color by blending a black colorant (E) into the photosensitive composition used for its production. In this case, a black matrix will be formed by forming a partition using a photosensitive composition.
  • the partition wall of the present invention preferably has a width (average value) of 100 ⁇ m or less, more preferably 20 ⁇ m or less. Further, the distance between adjacent partition walls, that is, the width (average value) of the openings is preferably 300 ⁇ m or less, and more preferably 100 ⁇ m or less. Further, the height (average value) of the partition walls is preferably 0.05 to 50 ⁇ m, more preferably 0.2 to 10 ⁇ m.
  • the liquid repellency (ink repellency) of the partition walls made of a cured film of the photosensitive composition includes water repellency and oil repellency, and water and PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate: as a solvent for the ink, respectively) It can be evaluated by the contact angle of a commonly used organic solvent).
  • the upper surface of the partition wall of the present invention preferably has a water contact angle of 90 ° to 150 °, more preferably 95 ° to 120 °. Further, the upper surface of the partition wall preferably has a PGMEA contact angle of 35 ° to 55 °, more preferably 40 ° to 50 °.
  • the color filter of the present invention is a color filter having a plurality of pixels and a partition located between adjacent pixels on the substrate, and the partition is formed of the partition of the present invention. It is characterized by.
  • the partition walls are preferably a black matrix having an optical density of about 2 to 7.
  • a partition for example, a black matrix, is formed on a substrate, and then ink is applied to the opening of the partition using, for example, an ink jet method to form a pixel. Can be manufactured.
  • the inkjet method is not particularly limited, but is a method in which charged ink is continuously ejected and controlled by a magnetic field, a method in which ink is intermittently ejected using a piezoelectric element, and ink is heated and foamed. The method etc. which inject intermittently are mentioned.
  • the arrangement of the pixels is not particularly limited, and examples thereof include known arrangements such as a stripe type, a mosaic type, a triangle type, and a four-pixel arrangement type.
  • the ink mainly contains a coloring component, a binder resin component, and a solvent, and may be either water-based ink or oil-based ink.
  • a coloring component pigments and / or dyes excellent in heat resistance, light resistance and the like are preferable.
  • the binder resin component a resin that is transparent and excellent in heat resistance is preferable, and examples thereof include an acrylic resin, a melamine resin, and a urethane resin.
  • the water-based ink contains water as a solvent and, if necessary, a water-soluble organic solvent, and contains a water-soluble resin and / or a water-dispersible resin as a binder resin component.
  • the oil-based ink contains an organic solvent as a solvent, and a resin soluble in the organic solvent as a binder resin component.
  • an ink to a partition for example, an opening of a black matrix
  • using an inkjet method drying, heat curing, ultraviolet curing, or the like can be performed as necessary.
  • a protective film can be formed as necessary. Thereby, the surface smoothness of the color filter can be improved, and the elution from the partition walls (black matrix) and pixels can be blocked from reaching the liquid crystal layer adjacent to the protective film.
  • a method for removing the liquid repellency on the upper surface of the partition wall (black matrix) is not particularly limited, and examples thereof include plasma ashing treatment and optical ashing treatment.
  • a photo spacer may be formed on a partition wall, for example, a black matrix, if necessary.
  • Organic EL Element is an organic EL element having a plurality of pixels and a partition located between adjacent pixels on a substrate, and the partition is formed of the partition of the present invention. It is characterized by that.
  • the organic EL device of the present invention can be produced as follows. First, using a sputtering method or the like, a transparent electrode such as ITO is formed on a transparent substrate such as a glass substrate, and the transparent electrode is etched into a desired pattern as necessary.
  • a partition wall for example, a black matrix is formed on the substrate, and then, for example, an inkjet method is used to form holes in the openings of the partition wall (black matrix) as ink.
  • a hole transport layer and a light emitting layer are formed by sequentially applying and drying a solution of a transport material and a solution of a light emitting material.
  • an organic EL element is obtained by forming an electrode, such as aluminum, using a vapor deposition method or the like to form a pixel.
  • a part means a mass part.
  • PME-400 Bremer PME-400 (manufactured by NOF Corporation: ⁇ -methyl- ⁇ -methacryloyloxypoly (oxyethylene): CH 2 ⁇ C (CH 3 ) COO (CH 2 CH 2 O) k CH 3 : K of k indicates an average value between molecules, and the value of k is about 9.)
  • PE-350 Bremer PE-350 (manufactured by NOF Corporation: ⁇ -hydro- ⁇ -methacryloyloxypoly (oxyethylene): CH 2 ⁇ C (CH 3 ) COO (CH 2 CH 2 O) k H :: K represents an average value between molecules, and the value
  • Photosensitive composition component OXE02 OXE02 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Etanone 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazoyl-3-yl] -1- (O-acetyl) Oxime) (in the general formula (5), R 21 and R 22 are methyl groups, R 23 is an ethyl group, R 24 , R 26 and R 27 are hydrogen atoms, and R 25 is a 2-methylbenzoyl group) ZCR1569H: ZCR-1569H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., a solution of a resin in which an ethylenic double bond and an acidic group are introduced into an epoxy resin having a biphenyl skeleton represented by the general formula (6); solid content: 70% by mass; (Mass average molecular weight 4710) DPHA: KAYARAD DPHA (Nippon Kayaku Co., Ltd., mixture
  • the polymer (A-1) has a number average molecular weight of 34,900, a weight average molecular weight of 69,300, an F atom content of 21.1% by mass, and an ethylenic double bond content of 1.26 ⁇ 10. -3 mol / g, acid value was 26.8 mgKOH / g.
  • the number average molecular weight and the mass average molecular weight were measured by gel permeation chromatography using polystyrene as a standard substance.
  • gel permeation chromatography HPLC-8220GPC (manufactured by Tosoh Corporation) was used.
  • column a column in which three shodex LF-604 were connected was used.
  • An RI detector was used as the detector.
  • EasiCal PS1 manufactured by Polymer Laboratories
  • the column is maintained at 37 ° C., tetrahydrofuran is used as the eluent, the flow rate is 0.2 mL / min, and a 0.5% tetrahydrofuran solution of the measurement sample is used. 40 ⁇ L was injected.
  • the acid value is a theoretical value calculated from the blending ratio of monomers as raw materials.
  • Example 1 Polymer (A-1) (0.06 parts), OXE02 (1.3 parts) as photopolymerization initiator (B), ZCR1569H (12.9 parts) as a dispersion of photosensitive resin (C), DPHA as a crosslinking agent (D) (3.9 parts) CB (38.6 parts) as a dispersion of black colorant (E), silica (15.0 parts) as a silica dispersion, and PGMEA as a solvent (28.24 parts) was mixed to obtain a diluted solution of the photosensitive composition.
  • the content of the polymer (A-1) in the total solid content of the diluted liquid of the photosensitive composition was 0.20% by mass.
  • a diluted solution of the photosensitive composition is applied on a glass substrate, and then dried on a hot plate at 100 ° C. for 2 minutes to form a coating film of the photosensitive composition having a thickness of 2.0 ⁇ m. did.
  • the coating film was irradiated with light having an exposure amount of 100 mJ / cm 2 on the basis of i-line (365 nm) through a mask to be exposed.
  • the mask has a lattice pattern with a light shielding portion of 150 ⁇ m ⁇ 400 ⁇ m and a light transmitting portion of 20 ⁇ m, and the volume of the formed opening is 40 pL.
  • the area of the pattern was 10 cm 2.
  • the developer used was a 10-fold diluted aqueous solution of an inorganic alkali type developer semi-clean DL-A4 (trade name, manufactured by Yokohama Oils and Fats Industries Co., Ltd.), and the nozzle had an irradiation angle on the substrate reduced to 8 degrees or less.
  • bubbles were generated by applying a pressure of 0.15 MPa to the substrate to generate bubbles, and spin development was performed. Thereafter, the unexposed portion was washed away with water and dried to obtain a glass substrate sample (1) of Example 1 in which partition walls were formed.
  • Example 1 A glass substrate sample (2) of Example 1 in which a cured product of the coating film of the photosensitive composition after development was formed was obtained.
  • Examples 2 to 5, Comparative Examples 1 to 5 The polymers (A-2) to (A-5) obtained in the above synthesis examples and the comparative example polymers (A) were prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of each component was changed as shown in Table 3.
  • a glass substrate sample (3) on which a cured product of the film was formed was obtained.
  • the number of development defects per area of less than 30 is ⁇
  • the number of development defects is 30 or more and less than 50
  • the number of development defects is 50 or more is ⁇
  • This evaluation method is a method for intentionally generating a large amount of bubbles, and in this evaluation, if it is less than 30, it means that there is almost no development defect in the actual production line.
  • the water repellency was evaluated by measuring the contact angle of water on the surface of the cured film of the glass substrate (2).
  • the contact angle is an angle formed by a solid surface and a tangent to the liquid surface at a point where the solid and the liquid come into contact, and is defined as an angle on the side including the liquid. For this reason, the larger the contact angle, the better the water repellency of the cured film.
  • a water contact angle of 95 ° or more was evaluated as “ ⁇ ”
  • a water contact angle of 90 ° or more and less than 95 ° was evaluated as “ ⁇ ”
  • a water contact angle of less than 90 ° was determined as “X”.
  • Oil repellency was evaluated by measuring the contact angle of PGMEA on the surface of the cured film of the glass substrate (3).
  • the definition of the contact angle is the same as that of water repellency, and the larger the contact angle, the better the oil repellency of the cured film.
  • the PGMEA contact angle of 40 ° or more and 50 ° or less was evaluated as “ ⁇ ”, that of 35 ° or more and less than 40 ° as “ ⁇ ”, and that of less than 35 ° as “x”.
  • Liquid epoxy ME-562 (Nihon Pernox) (6.25 g), curing agent HV-562 (Nihon Pernox) (6.25 g), diethyl adipate (12.5 g) and diethyl malonate (25.0 g) ) was stirred and mixed using a stirrer for 1 hour to prepare an ink.
  • Comparative Example 3 with a short polyoxyalkylene chain, many development defects were generated and there was no effect.
  • Comparative Example 4 having a long polyoxyalkylene chain development defects increased as compared with the case of the polyoxyalkylene chain having a length in the range used in Examples 1 to 5.
  • Comparative Example 5 although the liquid repellency was good, there was a double bond at the end of the polyoxyalkylene chain and it was fixed by photocuring, so it had no effect on development defects.
  • the photosensitive composition of the present invention has sufficient liquid repellency, has no development defects, and can form a partition having a top surface with good liquid repellency and a side surface with good lyophilicity even after the development process. In addition, it is possible to form an opening that allows ink to easily spread.
  • a photosensitive composition of the present invention is suitably used for forming barrier ribs, for example, for manufacturing color filters using an inkjet recording technique and for manufacturing organic EL display elements.
  • it is suitably used as a material for forming a permanent film such as a partition for partitioning each TFT of an organic TFT (Thin Film Transistor) array, a partition for an ITO electrode of a liquid crystal display element, a partition for a circuit wiring board.

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Abstract

　十分な撥液性を有しながら、現像欠陥がなく現像工程を経ても撥液性が良好な上面を有する隔壁を形成できかつ隔壁側面の親液性が良好でありインクが濡れ拡がりやすい開口部を形成することが可能な感光性組成物を提供する。　少なくとも、式（１）：－ＣＦＸＲｆ…(１)（Ｘ：水素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基、Ｒｆ：エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数１～２０のフルオロアルキル基またはフッ素原子）で表される基を有する側鎖、式（２）：－（Ｒ１１－Ｏ）ｎ－Ｒ１２…（２）（Ｒ１１：炭素数１～５のアルキレン基、Ｒ１２：炭素数１～４のアルキル基、ｎ：６～３０の整数）で表される基を有する側鎖、およびエチレン性二重結合を有する側鎖、を有する重合体、光重合開始剤、および酸性基とエチレン性二重結合とを有する感光性樹脂を含むことを特徴とする感光性組成物。

Description

感光性組成物、隔壁、カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子
　本発明は、感光性組成物、それを用いた隔壁、ならびにその隔壁を有するカラーフィルタおよび有機ＥＬ素子に関する。
　近年、カラーフィルタの画素間の隔壁、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ－Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示素子の画素間の隔壁、有機ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：薄膜トランジスタ）アレイの各ＴＦＴを仕切る隔壁、液晶表示素子のＩＴＯ電極の隔壁、回路配線基板の隔壁等の永久膜を形成する材料として、感光性組成物が注目されている。例えば、カラーフィルタを製造する際に、フォトリソグラフィを用いて、隔壁パターン（ブラックマトリックスの役割を果たすこともある）を形成した後に、インクジェット法を用いて、Ｒ（レッド）、Ｇ（グリーン）およびＢ（ブルー）のインクを隔壁間の開口部に塗布し、画素を形成する。また、有機ＥＬ素子を製造する際に、フォトリソグラフィを用いて、隔壁パターンを形成した後に、インクジェット法を用いて、正孔輸送材料、発光材料等の溶液を隔壁間の開口部に塗布し、正孔輸送層、発光層等を有する画素を形成する。
　このようなカラーフィルタや有機ＥＬ素子の隣接する画素間における混色の発生を防ぐために、隔壁の上面は、インクをはじく性質、いわゆる撥液性を有する必要がある。また、カラーフィルタや有機ＥＬ素子の白抜けを防ぐために、隔壁間の開口部は、インクに対して濡れる性質、いわゆる親液性を有する必要がある。
　このような隔壁に求められる特性を得るためにフルオロアルキル鎖を系内に導入した共重合体を含む感光性樹脂組成物が提案されている。
　特許文献１には、エチレン性不飽和二重結合およびフルオロアルキル基を有するビニル重合体を含む隔壁用組成物（アルカリ現像型感光性レジスト）が記載されている。しかしながら、隔壁用組成物の組成によっては、表面の撥液性が非常に高いため現像工程で生じる気泡が表面に吸着し、未露光部の現像を阻害し、最終的に現像欠陥として残ってしまう場合があることが分かった。
　一方、特許文献２には、現像液とのなじみやすさを上げるため、ポリオキシアルキレン鎖を導入して親水性を向上させた含フッ素重合体を含むネガ型感光性組成物が記載されている。ここで例示されているポリオキシアルキレン鎖の長さによっては、現像欠陥に対して全く効果がないこと、一方現像液のなじみやすさを増加させているため、隔壁表面にある撥液部分が容易に削られやすく、撥液性が低下するといった問題点が生じてしまうことが分かった。
　次に特許文献３には、エチレン性不飽和二重結合をポリオキシアルキレン鎖の末端に導入し、フルオロアルキル基を有するビニル重合体を含む隔壁用組成物（アルカリ現像型感光性レジスト）が記載されている。しかしながら末端に２重結合部位を含むポリオキシアルキレン鎖は、露光および硬化によって隔壁の表面に固定されやすくなるため側鎖の挙動が制限され、十分な親水性の効果が発現しないことが分かった。
　特許文献４には、エチレン性不飽和二重結合部位、フルオロアルキル基およびオキシアルキレン基を有するビニル重合体が記載されている。しかしながら、これらは、平版印刷分野において、版へのインキ着肉性の向上を目指したものであり、例示の化合物では、現像欠陥に十分な効果のある構成ではなかった。
国際公開第２００７／６９７０３号 特開２００９－１６８９４８号公報 国際公開第２００７／１１１３５６号 特開２００１－３１２０５３号公報
　本発明は、上記の従来技術が有する問題を解決するためになされたものであり、現像欠陥がなく、現像工程を経ても撥液性が良好な上面を有する隔壁を形成でき、かつ隔壁側面の親液性が良好であり、インクが濡れ拡がりやすい開口部を形成することが可能な感光性組成物を提供することを目的とする。また、本発明は、該感光性組成物を硬化することにより形成される良好な性能を有する隔壁並びに該隔壁を有するカラーフィルタおよび有機ＥＬ素子を提供することを目的とする。
　本発明は、以下の構成を有する感光性組成物、隔壁、カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子を提供する。
［１］少なくとも、下記一般式（１）で表される基を有する側鎖、
　－ＣＦＸＲｆ　…(１)
　下記一般式（２）で表される基を有する側鎖、
　－（Ｒ１１－Ｏ）ｎ－Ｒ１２　…（２）
　およびエチレン性二重結合を有する側鎖、を有する重合体（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、および酸性基とエチレン性二重結合とを有する感光性樹脂（Ｃ）を含むことを特徴とする感光性組成物。
　ただし、式中の記号は以下の意味を示す。
　Ｘ：水素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基、
　Ｒｆ：エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数が１以上２０以下のフルオロアルキル基またはフッ素原子、
　Ｒ１１：炭素数１～５のアルキレン基、
　Ｒ１２：炭素数１～４のアルキル基、
　ｎ：６～３０の整数。
［２］前記重合体（Ａ）の質量平均分子量が、１．２×１０4以上１５×１０４以下である［１］に記載の感光性組成物。
［３］前記重合体（Ａ）におけるフッ素原子の含有量が、５質量％以上３５質量％以下である［１］または［２］に記載の感光性組成物。
［４］前記重合体（Ａ）における前記一般式（２）で表される基を含む重合単位の割合が、５質量％以上５０質量％以下である［１］～［３］のいずれかに記載の感光性組成物。
［５］前記重合体（Ａ）が酸性基を有する側鎖をさらに有する［１］～［４］のいずれかに記載の感光性組成物。
［６］エチレン性二重結合を２個以上有する架橋剤（Ｄ）をさらに含む［１］～［５］のいずれかに記載の感光性組成物。
［７］着色剤（Ｅ）をさらに含む［１］～［６］のいずれかに記載の感光性組成物。
［８］前記感光性組成物の全固形分に対する重合体（Ａ）の含有量が、０．０７質量％以上１質量％以下である［１］～［７］のいずれかに記載の感光性組成物。
［９］基板上を画素形成用の複数の区画に仕切るかたちに形成された隔壁であって、［１］～［８］のいずれかに記載の感光性組成物の塗膜硬化物からなることを特徴とする隔壁。
［１０］基板上に複数の画素と隣接する画素間に位置する隔壁とを有するカラーフィルタであって、前記隔壁が［９］に記載の隔壁で形成されていることを特徴とするカラーフィルタ。
［１１］基板上に複数の画素と隣接する画素間に位置する隔壁とを有する有機ＥＬ素子であって、前記隔壁が［９］に記載の隔壁で形成されていることを特徴とする有機ＥＬ素子。
　本発明の感光性組成物によれば、現像時に現像欠陥が無く、撥液性が良好な上面と親液性が良好な側面を有する隔壁およびインクが濡れ拡がりやすい開口部を形成することが可能である。また、本発明によれば、該感光性組成物を硬化することにより形成される良好な性能を有する隔壁並びに該隔壁を有するカラーフィルタおよび有機ＥＬ素子を提供することができる。
　本発明を実施するための形態を以下に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、特に説明のない場合、％は、質量％を表す。（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基とメタクリロイル基の両者を意味する総称として使用する。（メタ）アクリレートは、アクリレートとメタクリレートの両者を意味する総称として使用する。（メタ）アクリル酸は、アクリル酸とメタクリル酸の両者を意味する総称として使用する。（メタ）アクリルアミドは、アクリルアミドとメタクリルアミドの両者を意味する総称として使用する。（メタ）アリルは、アリルとメタリルの両者を意味する総称として使用する。一般式（１）で表される基を、基（１）ともいう。他の基も同様である。
＜１＞感光性組成物
　本発明の感光性組成物は、少なくとも、下記一般式（１）で表される基を有する側鎖、下記一般式（２）で表される基を有する側鎖、およびエチレン性二重結合を有する側鎖、を有する重合体（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、および酸性基とエチレン性二重結合とを有する感光性樹脂（Ｃ）を含むことを特徴とする。
　－ＣＦＸＲｆ　…(１)
（式（１）中、Ｘは、水素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基であり、Ｒｆは、エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数が１以上２０以下のフルオロアルキル基またはフッ素原子である。）
下記一般式（２）で表される基を有する側鎖、
　－（Ｒ１１－Ｏ）ｎ－Ｒ１２　…（２）
（式（２）中、Ｒ１１は、炭素数１～５のアルキレン基であり、Ｒ１２は、炭素数１～４のアルキル基であり、ｎは６～３０の整数である。）
（１）重合体（Ａ）
　本発明の感光性組成物が含有する重合体（Ａ）は、上記基（１）を有する側鎖を有するため、基板上に、本発明の感光性組成物を塗布することにより形成される塗膜を乾燥する際に、塗膜の表面近傍に移行しやすい。また、重合体（Ａ）は、エチレン性二重結合を有する側鎖を有するため、露光時に硬化が進行し、塗膜の表面近傍に固定化されやすい。また、上記基（２）を有する側鎖を有するため、現像時に発生する気泡の塗膜表面への吸着を抑制し、気泡の吸着起因と考えられる現像欠陥を防止することができる。したがって、露光後の塗膜を現像することにより形成される隔壁は、現像欠陥がなく、かつ隔壁上面にのみ撥液性を発現する。このため、インクジェット法を用いて、隔壁で囲まれた開口部にインクを塗布する際に、隣接する開口部間における混色の発生を抑制することができる。また、これにより隔壁側面および開口部は良好な親液性が確保されることから、開口部でのインクの濡れ拡がり性がよく白抜けの発生も抑制することができる。
　ここで、重合体（Ａ）の質量平均分子量（Ｍｗ）は、１．２×１０４～１５×１０４であることが好ましく、３．０×１０４～１２×１０４がより好ましく、５．５×１０４～１１×１０４が特に好ましい。重合体（Ａ）の数平均分子量（Ｍｎ）は、１．０×１０４～７．０×１０４が好ましく、２．５×１０４～６．０×１０４がより好ましい。
　なお、本明細書において、質量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により、ポリスチレンを標準物質として測定した値をいう。
　重合体（Ａ）の質量平均分子量が１．２×１０４未満であると、隔壁間開口部の親液性が不十分となる場合があり、インクジェット法を用いてインクを塗布したとき、インクが十分に濡れ拡がらないおそれがある。質量平均分子量が１５×１０４を超えると、アルカリ溶解性、現像性が不十分となるおそれがある。また、重合体（Ａ）の数平均分子量が１．０×１０４未満であると、隔壁間開口部の親液性が不十分となる場合があり、インクジェット法を用いてインクを塗布したときインクが十分に濡れ拡がらないおそれがある。また、質量平均分子量（Ｍｗ）が３．０×１０４～１２×１０４であると、アルカリの種類や濃度、ジェットリンスの条件に因らず、撥液性が高く保たれやすく、製造マージンが広くなり好ましい。また、重合体（Ａ）の製造のしやすさからも好ましい。
　重合体（Ａ）の分子量分布（質量平均分子量／数平均分子量）は、８以下であることが好ましく、４以下がより好ましい。この範囲であると、現像性が良好である。分子量分布の下限については、特に制限されないが、合成が容易である点、現像液との親和性の観点、から１．５以上であることが好ましい。
　なお、重合体（Ａ）の分子量の調整については、後述の重合体（Ａ）の製造方法において説明する。
　重合体（Ａ）中のフッ素原子の含有量は、５～３５質量％であり、更に１０～３０質量％がより好ましい。フッ素原子の含有量が５質量％未満であると、隔壁の上面の撥液性が不十分となることがあり、３５質量％を超えると、隔壁と基板の密着性が低下することがある。なお、重合体（Ａ）中のフッ素原子の含有量は、重合体（Ａ）への主に以下に説明する基（１）を有する側鎖の導入量により調整することができる。
　本発明に用いる重合体（Ａ）は、側鎖に上記一般式（１）で示されるフッ素原子を含有する基（１）を有する。基（１）において、Ｒｆがエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数が１～２０のフルオロアルキル基である場合、Ｒｆは、フッ素原子を除くハロゲン原子を有していてもよい。このようなハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
　また、このフルオロアルキル基の構造としては、特に限定されず、直鎖構造、分岐構造、環構造、部分的に環を有する構造等が挙げられるが、直鎖構造が好ましい。さらに、Ｒｆがエーテル性酸素原子を有するフルオロアルキル基である場合、エーテル性酸素原子は、フルオロアルキル基の炭素－炭素結合間に存在してもよいし、フルオロアルキル基の末端に存在していてもよい。
　基（１）におけるＲｆとしては、上記エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数が１～２０のフルオロアルキル基が好ましい。また、Ｘは、フッ素原子であることが特に好ましい。
　上記基（１）中、Ｒｆがエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数が１以上２０以下のフルオロアルキル基である場合、Ｒｆとしては該構成を有していれば特に限定されない。Ｒｆとしては、具体的には、－ＣＦ３、－ＣＦ２ＣＦ３、－ＣＦ２ＣＨＦ２、－（ＣＦ２）２ＣＦ３、－（ＣＦ２）３ＣＦ３、－（ＣＦ２）４ＣＦ３、－（ＣＦ２）５ＣＦ３、－（ＣＦ２）６ＣＦ３、－（ＣＦ２）７ＣＦ３、－（ＣＦ２）８ＣＦ３、－（ＣＦ２）９ＣＦ３、－（ＣＦ２）１１ＣＦ３、－（ＣＦ２）１５ＣＦ３、－ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）５ＣＦ３、－ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ３（ｐは、１～８の整数である。）、－ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｑＣ６Ｆ１３（ｑは、１～４の整数である。）、－ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｒＣ３Ｆ７（ｒは、１～５の整数である。）等が挙げられる。
　Ｒｆがエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数が１以上２０以下のフルオロアルキル基の場合、Ｒｆとしては、エーテル性酸素原子を有しないパーフルオロアルキル基とエーテル性酸素原子を有するパーフルオロアルキル基が好ましく、エーテル性酸素原子を有しないパーフルオロアルキル基がより好ましい。その炭素数は１～１１が好ましく、３～５が特に好ましい。
　このような基（１）のなかでも、本発明においては、パーフルオロアルキル基または水素原子を１個有するポリフルオロアルキル基が好ましく、パーフルオロアルキル基が特に好ましい。なお、パーフルオロアルキル基およびポリフルオロアルキル基は、エーテル性酸素原子を有するものを含む。また、上記の水素原子を１個有するポリフルオロアルキル基としては、Ｘが水素原子である化合物が好ましい。これにより、本発明の感光性組成物を用いて形成される隔壁は、上面の撥液性が良好となる。
　また、基（１）は、炭素数が４～６であることが好ましい。このような基（１）として具体的には、－（ＣＦ２）３ＣＦ３、－（ＣＦ２）４ＣＦ３、－（ＣＦ２）５ＣＦ３、－ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２）２ＯＣＦ３、－ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２）２Ｏ（ＣＦ２）２ＯＣＦ３等が挙げられる。重合体（Ａ）が側鎖に有する基（１）の炭素数を４～６とすれば、重合体（Ａ）と、感光性組成物を構成する他の成分との相溶性を向上させることができるため、感光性組成物を塗布することにより形成される塗膜中における重合体（Ａ）の凝集を抑制することができ、その結果、外観が良好な隔壁を形成することができる。
　なお、重合体（Ａ）において、基（１）を有する側鎖における基（１）の導入数は１である。重合体（Ａ）の基（１）を有する各側鎖において、基（１）は同一であってもよく、異なっていてもよい。つまり、重合体（Ａ）が側鎖に有する基（１）は、１種のみでもよく、２種以上の組合せであってもよい。なお、本発明に用いる重合体（Ａ）においては、全ての側鎖に基（１）が導入されていてもよいが、好ましくは上記のフッ素原子含有量となるように、重合体（Ａ）全体に対して基（１）が導入される側鎖の割合が適宜調整される。具体的には、後述する通り原料単量体の重合により重合体（Ａ）を製造する際に、基（１）を有する単量体の原料単量体全体に対する配合量を調整する。また、基（１）を有する側鎖は、重合反応によって直接形成しても、重合反応後の化学変換によって形成してもよい。
　また、本発明に用いる重合体（Ａ）は、側鎖に上記一般式（２）で示されるポリオキシアルキレン鎖を含有する基（２）を有する。ポリオキシアルキレン鎖とは－（Ｒ１１－Ｏ）ｎ－で表わされる部分をいう。このポリオキシアルキレン鎖は親水性を有する鎖であることが好ましく、特にｎ個存在するオキシアルキレン基の数にして５０～１００％はオキシエチレン基であることが好ましい。オキシエチレン基を有するポリオキシアルキレン鎖は良好な親水性を発揮しうる。
　なお、本発明で用いる重合体（Ａ）における上記一般式（２）で表される基を含む重合単位の割合は、５～５０質量％であることが好ましく、１０～４０質量％であることがより好ましく、１５～３５質量％であることが特に好ましい。重合体（Ａ）における上記一般式（２）で表される基を含む重合単位の割合が、５質量％未満であると、現像時に発生する気泡の塗膜表面への吸着を十分に抑制することができず、最終的に得られる隔壁や隔壁開口部に多くの現像欠陥が発生することがある。また、上記重合単位の割合が５０質量％を超えると、撥液性が低下するおそれがある。上記一般式（２）で表される基を含む重合単位の割合がこの範囲であると、重合体（Ａ）あたりの基（２）（ポリオキシアルキレン鎖を有する基）が存在する箇所が均一な分布になり、性能が安定する。
　上記基（２）において、Ｒ１１は、炭素数１～５のアルキレン基であり、かつｎ個存在するＲ１１の数にして５０～１００％はエチレン基であることが好ましい。エチレン基以外のＲ１１は、炭素数３～５のアルキレン基が好ましく、プロピレン基であることが特に好ましい。なお、炭素数３～５のアルキレン基の構造は、直鎖構造であっても分岐構造であってもよい。ｎ個のＲ１１うちエチレン基以外のアルキレン基の数の割合が多いと親水基としての効果が減少し、現像時の気泡の吸着のしにくさの効果が低下してしまい、現像欠陥が増加する。ｎ個存在するＲ１１の数にして８０～１００％がエチレン基であることがより好ましく、特に実質上１００％がエチレン基であることが特に好ましい。すなわち、ポリオキシアルキレン鎖はポリオキシエチレン鎖であることが特に好ましい。
　－（Ｒ１１－Ｏ）ｎ－がオキシエチレン基とオキシエチレン基以外のオキシアルキレン基とを含む場合、基（２）はオキシエチレン基と他のオキシアルキレン基とのブロック共重合鎖であることが好ましい。
　また、基（２）において、－Ｒ１１－Ｏ－で示されるオキシアルキレン基の繰り返し数を示すｎは６～３０であり、好ましくは、８～２５である。ｎが６以上であると、親水性の効果があるため、現像液の濡れ性を改善でき、かつ気泡の吸着および安定化を抑制できる。ｎが３０以下であると、膜表面内で基（２）、すなわちポリオキシアルキレン鎖が存在する箇所が均一な分布になる。
　ここで、基（２）におけるｎは、重合体（Ａ）における基（２）を含む重合単位間の平均値として用いる値である。
　また基（２）において、ポリオキシアルキレン鎖：－（Ｒ１１－Ｏ）ｎ－に結合する末端基：Ｒ１２は、炭素数１～４のアルキル基であり、好ましくはメチル基である。ポリオキシアルキレン鎖に結合する末端基が水酸基のような反応性部位であると、他の反応性基を変性する際に同時に反応してしまい、ポリオキシアルキレン鎖を導入した効果が減少してしまう可能性がある。また、末端基：Ｒ１２の炭素数が５以上であると、疎水性が増してしまうため、親水基のアルキルオキシレン鎖を導入した効果が減少してしまう。
　本発明に用いる重合体（Ａ）が側鎖に有するエチレン性二重結合としては、特に限定されないが、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基等の付加重合性基が挙げられる。
　重合体（Ａ）中のエチレン性二重結合の含有量は、１．０～５．０ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましく、１．２～２．５ｍｍｏｌ／ｇがより好ましい。この範囲であると、重合体（Ａ）の隔壁への固定化および現像性が良好となる。
　重合体（Ａ）は、必要に応じて酸性基を有する側鎖をさらに有してもよい。これにより、露光時に硬化されなかった重合体（Ａ）が現像時に、隔壁上面から除去されやすくなる。したがって、硬化されなかった重合体（Ａ）がポストベーク時に開口部へ流出することを抑制することができ、開口部の親液性を向上させることができる。なお、重合体（Ａ）が、側鎖に有する酸性基は、１種であっても、２種以上であってもよい。
　重合体（Ａ）に導入する酸性基としては、特に限定されないが、カルボキシ基、フェノール性水酸基、スルホン酸基等が挙げられる。なお、本発明に用いる重合体（Ａ）においては、後述する通り、原料単量体の重合により重合体（Ａ）を製造する際に、酸性基を有する単量体の原料単量体全体に対する配合量を、得られる重合体（Ａ）が以下の好ましい酸価となるように、適宜調整することで行われる。
　重合体（Ａ）は、酸価が１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、１０～５０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。この範囲であると、露光時に固定化されなかった重合体（Ａ）が現像時に隔壁上面から除去されやすくなる。なお、酸価は、試料１ｇを中和するのに必要な水酸化カリウムの質量［ｍｇ］であり、本明細書においては、単位をｍｇＫＯＨ／ｇと記載する。
　なお、酸性基を有する側鎖は、重合反応によって直接形成しても、重合反応後の化学変換によって形成してもよい。
（重合体（Ａ）の製造）
　本発明において、重合体（Ａ）は、基（１）を有する単量体と、基（２）を有する単量体と、反応性基を有する単量体と、必要に応じて、酸性基を有する単量体および／またはその他の単量体を共重合することにより得られる共重合体（重合体（Ａ）の前駆体）と、この共重合体が有する反応性基に対して結合し得る官能基とエチレン性二重結合とを有する化合物とを反応させることにより合成することができる。
　重合体（Ａ）の製造に用いる上記基（１）を有する単量体としては、下記一般式（３）で表される化合物であることが好ましい。これらは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
　ＣＨ２＝ＣＲ４－ＣＯＯ－Ｙ－ＣＦＸＲｆ　　…（３）
（式中、Ｒ４は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基であり、Ｙは、単結合または炭素数が１～６のフッ素原子を有さない２価の有機基である。－ＣＦＸＲｆは上記基（１）に相当する基である。すなわち、Ｘは、水素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基である。Ｒｆは、エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数が１～２０のフルオロアルキル基、またはフッ素原子である。）
　なお、上記化合物（３）における－ＣＦＸＲｆの好ましい態様は、上記基（１）に関して説明したのと同様である。
　上記式（３）において、Ｙが示す基のうちでも、炭素数が１～６のフッ素原子を有さない２価の有機基であるＹとしては、－Ｒ５－、－Ｒ５－ＮＲ６－ＳＯ２－、－Ｒ５－ＮＲ６－ＣＯ－、－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）－Ｒ７－（Ｒ５は、炭素数が１～６のアルキレン基であり、Ｒ６は、水素原子またはメチル基であり、Ｒ７は、単結合または炭素数が１～４のアルキレン基である。ただし、Ｒ６がメチル基の場合、ＮＲ６に結合するＲ５の炭素数は１～５である。）等が挙げられる。
　Ｒ５として、具体的には、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、－ＣＨ２（ＣＨ２）３ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）－等が挙げられる。Ｒ７として、具体的には、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－等が挙げられる。
　これらのうちでも、化合物（３）におけるＹとしては、入手の容易さから、炭素数が２～４のアルキレン基が好ましい。
　また、化合物（３）におけるＲ４としては、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基が好ましく、水素原子またはメチル基が特に好ましい。すなわち、化合物（３）は（メタ）アクリレートであることが特に好ましい。
　一般式（３）で表される化合物としては、－ＣＦＸＲｆが炭素数４～６のパーフルオロアルキル基でＹが炭素数２～４のアルキレン基である（メタ）アクリレートが特に好ましい。具体的には、２－（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　重合体（Ａ）の製造に用いる上記基（２）を有する単量体としては、下記一般式（４ａ）または（４ｂ）で表される化合物であることが好ましい。これらは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
　ＣＨ２＝ＣＲ１０－ＣＯＯ－（Ｗ－Ｏ）ｑ－（Ｒ１１－Ｏ）ｎ－Ｒ１２　　…（４ａ）
　ＣＨ２＝ＣＲ１０－Ｏ－（Ｗ－Ｏ）ｑ－（Ｒ１１－Ｏ）ｎ－Ｒ１２　　　…（４ｂ）
（式（４ａ）および（４ｂ）中、Ｒ１０は、水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数７～２０のアリール基で置換されたアルキル基、炭素数６～２０のアリール基、または炭素数３～２０のシクロアルキル基、である。Ｗは、炭素数が１～１０のフッ素原子を有さない２価の有機基である。ｑは０または１である。（Ｒ１１－Ｏ）ｎ－Ｒ１２は上記基（２）に相当する基である。）
　上記化合物（４ａ）および（４ｂ）における（Ｒ１１－Ｏ）ｎ－Ｒ１２の好ましい態様は、上記基（２）に関して説明したのと同様である。
　化合物（４ａ）および（４ｂ）における－（Ｗ－Ｏ）ｑ－は、ｑが０の場合は単結合を表す。ｑが１の場合、－（Ｗ－Ｏ）ｑ－はＲ１１側に酸素原子を有する有機基である。ｑが１の場合、Ｗは炭素数２～１０の２価の炭化水素基が好ましく、炭素数２～６のアルキレン基、炭素数５または６のシクロアルキレン基、炭素数５または６のシクロアルキレン基の両側または片側に炭素数１～２のアルキレン基を有する合計炭素数６～１０のシクロアルキレン基含有アルキレン基であることが好ましい。ただし、ＷがＲ１１と同一のアルキレン基である場合はｑが０とみなす。
　また、化合物（４ａ）および（４ｂ）におけるＲ１０としては、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基が好ましく、水素原子またはメチル基が特に好ましい。
　なお、重合体（Ａ）の製造において、基（２）を側鎖に導入する目的で用いる上記化合物（４ａ）および（４ｂ）としては、市販品を用いることが可能である。このような、市販品として、例えば、ブレンマーＰＭＥ－４００（商品名、日本油脂社製、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＣＨ３：式中のｎは分子間の平均値を示し、ｎの値は約９である。）、ＮＫエステルＭ－２３０Ｇ：（商品名、新中村化学社製、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＣＨ３：式中のｎは分子間の平均値を示し、ｎの値は約２３である。）などが挙げられる。
　重合体（Ａ）の製造に用いる反応性基を有する単量体としては、特に限定されないが、水酸基を有する単量体、エチレン性二重結合を有する酸無水物、カルボキシ基を有する単量体、エポキシ基を有する単量体等が挙げられる。これらは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。なお、反応性基を有する単量体は、基（１）を実質的に有さないことが好ましい。
　水酸基を有する単量体としては、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５－ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６－ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３－クロロ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、２－ヒドロキシエチルアリルエーテル、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ビス（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
　さらに、水酸基を有する単量体は、末端が水酸基であるポリオキシアルキレン鎖を有してもよく、ＣＨ２＝ＣＨＯＣＨ２Ｃ６Ｈ１０ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｋＨ、ＣＨ２＝ＣＨＯＣ４Ｈ８Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｋＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｋＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｋＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｊＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｊＨ（ｋは、１～１００の整数であり、ｍは、０～１００の整数であり、ｊは、１～１００の整数であり、ｍ＋ｊは、１～１００である。）等が挙げられる。なお、上記Ｃ６Ｈ１０は、シクロヘキシレン基であり、Ｃ４Ｈ８は、ｎ－ブチレン基であり、Ｃ３Ｈ６は、プロピレン基である。
　ｋは１～３０の整数であることが好ましく、ｍは０～３０の整数であることが好ましく、ｊは１～３０の整数であることが好ましく、ｍ＋ｊは１～３０であることが好ましい。
　エチレン性二重結合を有する酸無水物としては、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、メチル－５－ノルボルネン－２，３－ジカルボン酸無水物、３，４，５，６－テトラヒドロフタル酸無水物、ｃｉｓ－１，２，３，６－テトラヒドロフタル酸無水物、２－ブテン－１－イルサクシニックアンハイドライド等が挙げられる。
　カルボキシ基を有する単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸およびこれらの塩等が挙げられる。
　エポキシ基を有する単量体としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート等が挙げられる。
　重合体（Ａ）の製造に、必要に応じて用いる上記酸性基を有する単量体としては、カルボキシ基を有する単量体、フェノール性水酸基を有する単量体、スルホン酸基を有する単量体等が挙げられる。これらは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。なお、酸性基を有する単量体として、カルボキシ基を有する単量体を用い、反応性基を有する単量体としてもカルボキシ基を有する単量体を用いるときは、最終的にエチレン性二重結合が導入されず、カルボキシ基として残るものを単量体とみなすこととする。
　フェノール性水酸基を有する単量体としては、ｏ－ヒドロキシスチレン、ｍ－ヒドロキシスチレン、ｐ－ヒドロキシスチレンおよびこれらのベンゼン環の１個以上の水素原子が、メチル基、エチル基、ｎ－ブチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基等のアルコキシ基、ハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子を有するハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基、アミド基に置換された化合物等が挙げられる。
　スルホン酸基を有する単量体としては、ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、（メタ）アリルスルホン酸、２－ヒドロキシ－３－（メタ）アリルオキシプロパンスルホン酸、（メタ）アクリル酸２－スルホエチル、（メタ）アクリル酸２－スルホプロピル、２－ヒドロキシ－３－（メタ）アクリロイルオキシプロパンスルホン酸、２－（メタ）アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸等が挙げられる。
　重合体（Ａ）の製造に任意に用いることが可能な、上記以外の単量体としては、炭化水素系オレフィン類、ビニルエーテル類、イソプロペニルエーテル類、アリルエーテル類、ビニルエステル類、アリルエステル類、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、芳香族ビニル化合物、クロロオレフィン類、共役ジエン類、（メタ）アクリロイル基で片末端を変性した線状オルガノポリシロキサン化合物等が挙げられ、隔壁の耐熱性を考慮すると、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類が好ましい。なお、これらの化合物は、カルボニル基、アルコキシ基等の官能基を有していてもよい。
　本発明に用いる重合体（Ａ）を製造するには、上記説明した単量体から重合に供する単量体を適宜選択し適当な割合で共重合させる。なお、重合体（Ａ）を製造する際に用いる各種単量体の好ましい配合割合は以下の通りである。
　共重合させる単量体の総質量に対する基（１）を有する単量体の質量の割合は、後述の反応性基を介してエチレン性二重結合が導入された重合体（Ａ）における割合に換算して、５～８０質量％であることが好ましく、２５～６０質量％であることがより好ましい。この割合が低すぎると、本発明の感光性組成物を用いて形成される隔壁の上面近傍に重合体（Ａ）が移行しにくくなって、隔壁の上面の撥液性が不十分となることがある。この割合が高すぎると、隔壁と基板の密着性が低下することがある。
　共重合させる単量体の総質量に対する基（２）を有する単量体の質量の割合は、後述の反応性基を介してエチレン性二重結合が導入された重合体（Ａ）における割合に換算して、５～５０質量％であることが好ましく、１０～４０質量％であることがより好ましく、１５～３５質量％であることが特に好ましい。この範囲であると、現像液の濡れ性を改善できかつ、気泡の吸着および安定化を抑制できる。また、膜表面内で基（２）、すなわちポリオキシアルキレン鎖が存在する箇所が均一な分布になる。
　共重合させる単量体の総質量に対する反応性基を有する単量体の質量の割合は、後述の反応性基を介してエチレン性二重結合が導入された重合体（Ａ）における割合に換算して、５～５０質量％であることが好ましく、１０～３５質量％がより好ましい。この範囲であると、この反応性基を介して後述する方法で導入されるエチレン性二重結合が重合体（Ａ）中に好適な量、具体的には、１．０～５．０ｍｍｏｌ／ｇ、より好ましくは、１．２～２．５ｍｍｏｌ／ｇの量で存在することになり、重合体（Ａ）の隔壁への固定化および現像性が良好となる。
　共重合に際して、必要に応じて酸性基を有する単量体を用いる場合、共重合させる単量体の全質量に対する酸性基を有する単量体の質量の割合は、最終的に得られる重合体（Ａ）の酸価が上記好ましい範囲、具体的には、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは１０～５０ｍｇＫＯＨ／ｇとなるような割合とすることが好ましい。このような割合として、酸性基を有する単量体の種類にもよるが、具体的には、２～２０質量％であることが好ましく、４～１２質量％がより好ましい。この範囲であると露光時に硬化されなかった重合体（Ａ）が現像時に隔壁から洗い流されやすい。
　共重合に際して、必要に応じて上記以外のその他の単量体を用いる場合、共重合させる単量体の総質量に対するその他の単量体の質量の割合は、後述の反応性基を介してエチレン性二重結合が導入された重合体（Ａ）における割合に換算して、５０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下がより好ましい。この質量の比が５０質量％を超えると、アルカリ現像性が低下することがある。
　基（１）を有する側鎖と、基（２）を有する側鎖と、反応性基を有する側鎖を有し、必要に応じて酸性基を有する側鎖および／またはその他の側鎖を有する共重合体は、基（１）を有する単量体と、基（２）を有する単量体と、反応性基を有する単量体、必要に応じて、酸性基を有する単量体および／またはその他の単量体を溶媒に溶解させて加熱し、重合開始剤を加えて共重合させることにより合成することができる。なお、共重合させる際には、必要に応じて、連鎖移動剤を添加することが好ましい。また、単量体、重合開始剤、溶媒および連鎖移動剤を連続して添加してもよい。
　上記共重合に用いる溶媒としては、例えばエタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、エチレングリコール等のアルコール類；アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；２－メトキシエタノール、２－エトキシエタノール、２－ブトキシエタノール等のセルソルブ類；２－（２－メトキシエトキシ）エタノール、２－（２－エトキシエトキシ）エタノール、２－（２－ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類；メチルアセテート、エチルアセテート、ｎ－ブチルアセテート、エチルラクテート、ｎ－ブチルラクテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテート、グリセリントリアセテート等のエステル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等が挙げられる。
　重合開始剤としては、公知の有機過酸化物、無機過酸化物、アゾ化合物等が挙げられる。有機過酸化物、無機過酸化物は、還元剤と組み合わせて、レドックス系触媒として使用することもできる。これらの重合開始剤は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　有機過酸化物としては、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、イソブチリルパーオキシド、ｔ－ブチルヒドロパーオキシド、ｔ－ブチル－α－クミルパーオキシド等が挙げられる。無機過酸化物としては、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過酸化水素、過炭酸塩等が挙げられる。アゾ化合物としては、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、２，２’－アゾビス（４－メトキシ－２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビスイソ酪酸ジメチル、２，２’－アゾビス（２－アミジノプロパン）二塩酸塩等が挙げられる。
　連鎖移動剤としては、ｎ－ブチルメルカプタン、ｎ－ドデシルメルカプタン、ｔ－ブチルメルカプタン、チオグリコール酸エチル、チオグリコール酸２－エチルヘキシル、２－メルカプトエタノール等のメルカプタン類；クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素等のハロゲン化アルキルが挙げられる。
　重合体（Ａ）は、このようにして得られる重合体（Ａ）の前駆体となる共重合体と、この共重合体が有する反応性基に対して結合し得る官能基とエチレン性二重結合とを有する化合物とを反応させることにより合成することができる。
　上記共重合体が有する反応性基に対する、当該反応性基と結合し得る官能基とエチレン性二重結合とを有する化合物との組合せとして、例えば以下の組み合わせが挙げられる。
（ａ）水酸基に対し、エチレン性二重結合を有する酸無水物、
（ｂ）水酸基に対し、イソシアネート基とエチレン性二重結合を有する化合物、
（ｃ）水酸基に対し、塩化アシル基とエチレン性二重結合を有する化合物、
（ｄ）酸無水物に対し、水酸基とエチレン性二重結合を有する化合物、
（ｅ）カルボキシ基に対し、エポキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物、
（ｆ）エポキシ基に対し、カルボキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物。
　上記（ａ）の組合せにおけるエチレン性二重結合を有する酸無水物としては、前述の反応性基を有する単量体で例示したものを用いることができる。上記（ｂ）の組合せにおけるイソシアネート基とエチレン性二重結合を有する化合物としては、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、１，１－ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート等が挙げられる。上記（ｃ）の組合せにおける塩化アシル基とエチレン性二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリロイルクロライド等が挙げられる。
　上記（ｄ）の組合せにおける水酸基とエチレン性二重結合を有する化合物としては、前述の水酸基を有する単量体で例示したものを用いることができる。上記（ｅ）の組合せにおけるエポキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物としては、前述のエポキシ基を有する単量体で例示したものを用いることができる。上記（ｆ）の組合せにおけるカルボキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物としては、前述のカルボキシ基を有する単量体で例示したものを用いることができる。また、上記（ｆ）の反応等のように、反応後生じた水酸基等の反応性基を利用して、必要に応じて更に酸無水物などで反応したものも用いることが出来る。
　なお、基（１）を有する側鎖と、基（２）を有する側鎖と、反応性基を有する側鎖と、必要に応じて、酸性基を有する側鎖を有する共重合体と、反応性基に対して結合し得る官能基とエチレン性二重結合とを有する化合物を反応させる際には、上記共重合体の反応性基に対する、上記反応性基に対して結合し得る官能基とエチレン性二重結合とを有する化合物の官能基の当量比が、０．５～２．０であることが好ましく、０．８～１．５であることがより好ましい。該当量比が、この範囲であれば重合体（Ａ）におけるエチレン性二重結合の含有量を上記好ましい範囲、具体的には、１．０～５．０ｍｍｏｌ／ｇ、より好ましくは、１．２～２．５ｍｍｏｌ／ｇの量とすることが可能である。この当量比が０．５未満であると、重合体（Ａ）におけるエチレン性二重結合の含有量が好適な量にならず、隔壁の上面近傍に重合体（Ａ）が固定化されにくくなって、隔壁で囲まれた開口部の親液性が不十分となることがあり、２．０を超えると、未反応の化合物が多くなり、隔壁の外観が低下することがある。
　重合体（Ａ）は、基（１）を有する側鎖、基（２）を有する側鎖、および反応性基を有する側鎖と、必要に応じて、酸性基を有する側鎖を有する共重合体と、この共重合体が有する反応性基に対して結合し得る官能基とエチレン性二重結合とを有する化合物を、上記（ａ）～（ｆ）の組合せに応じた溶媒に溶解させて、各組合せに応じた従来公知の反応条件で反応させることにより合成することができる。
　本発明の感光性組成物の全固形分中の重合体（Ａ）の含有量は、好ましくは０．０７～１質量％であり、より好ましくは０．１～０．５質量％である。重合体（Ａ）の含有量が０．０７質量％未満であると、本発明の感光性組成物を用いて形成される隔壁の上面の撥液性が不十分となることがあり、含有量が１質量％を超えると、隔壁と基板の密着性が低下することがある。
（２）光重合開始剤（Ｂ）
　本発明の感光性組成物が含有する光重合開始剤（Ｂ）としては、通常のラジカル硬化型感光性組成物に用いる光重合開始剤を特に制限なく用いることができる。
　光重合開始剤（Ｂ）としては、光の照射によりラジカルを発生する化合物であれば、特に限定されない。具体的には、ベンジル、ジアセチル、メチルフェニルグリオキシレート、９，１０－フェナンスレンキノン等のα－ジケトン類；ベンゾイン等のアシロイン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類；チオキサントン、２－クロロチオキサントン、２－メチルチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン、２，４－ジイソプロピルチオキサントン、チオキサントン－４－スルホン酸等のチオキサントン類；ベンゾフェノン、４，４'－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４'－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；アセトフェノン、２－（４－トルエンスルホニルオキシ）－２－フェニルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノアセトフェノン、２，２'－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、ｐ－メトキシアセトフェノン、２－メチル－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノ－１－プロパノン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オン等のアセトフェノン類；アントラキノン、２－エチルアントラキノン、カンファーキノン、１，４－ナフトキノン等のキノン類；２－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸（ｎ－ブトキシ）エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４－ジメチルアミノ安息香酸２－エチルヘキシル等のアミノ安息香酸類；フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン等のハロゲン化合物；アシルホスフィンオキシド類；ジ－ｔ－ブチルパーオキサイド等の過酸化物；１，２－オクタンジオン、１－［４－（フェニルチオ）－，２－（O－ベンゾイルオキシム）］、エタノン　１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾイル－３－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）等のオキシムエステル類等が挙げられ、２種以上を併用してもよい。
　これらのうちでも、本発明に用いる光重合開始剤（Ｂ）としては、下記一般式（５）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
（式中、Ｒ２１は、水素原子、炭素数が１～１２のアルキル基、炭素数が３～８のシクロアルキル基、炭素数が２～５のアルケニル基、アルキル基で置換もしくは非置換の炭素数が６～２０のフェニル基またはアルキル基で置換もしくは非置換の炭素数が６～２０のフェノキシ基であり、Ｒ２２は、水素原子、炭素数が１～２０のアルキル基、炭素数が３～８のシクロアルキル基、アルキル基で置換もしくは置換の炭素数が６～２０のフェニル基、炭素数が２～２０のアルカノイル基、アルキル基で置換もしくは非置換の炭素数が７～２０のベンゾイル基、炭素数が２～１２のアルコキシカルボニル基またはアルキル基で置換もしくは非置換の炭素数が７～２０のフェノキシカルボニル基であり、Ｒ２３は、炭素数が１～１２のアルキル基であり、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６およびＲ２７は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数が１～１２のアルキル基、アルキル基で置換もしくは非置換の炭素数が３～８のシクロヘキシル基、アルキル基で置換もしくは非置換の炭素数が６～２０のフェニル基、炭素数が２～２０のアルカノイル基、アルキル基で置換もしくは非置換の炭素数が７～２０のベンゾイル基、アルキル基で置換もしくは非置換の炭素数が７～２０のベンジルカルボニル基、炭素数が２～１２のアルコキシカルボニル基、アルキル基で置換もしくは非置換の炭素数が７～２０のフェノキシカルボニル基、炭素数が１～２０のアミド基またはニトロ基である。）
　一般式（５）で表される化合物において、Ｒ２１としては、炭素数が１～１０のアルキル基またはアルキル基で置換もしくは非置換の炭素数が６～１２のフェニル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、フェニル基等が挙げられる。これらのなかでも、炭素数が１～４のアルキル基が好ましく、炭素数が１または２のアルキル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
　一般式（５）で表される化合物において、Ｒ２２としては、炭素数が１～１０のアルキル基または炭素数が２～５のアルコキシカルボニル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等が挙げられる。中でも、炭素数が１～６のアルキル基が好ましく、炭素数が１～３のアルキル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
　一般式（５）で表される化合物において、Ｒ２３が示す炭素数が１～１２のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が挙げられる。これらのなかでも、炭素数が１～８のアルキル基が好ましく、炭素数が２～６のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。
　一般式（５）で表される化合物において、Ｒ２４、Ｒ２６およびＲ２７としては、水素原子が好ましい。
　一般式（５）で表される化合物において、Ｒ２５としては、アルキル基で置換もしくは非置換の炭素数が７～２０のベンゾイル基またはアルキル基で置換もしくは非置換の炭素数が７～２０のベンジルカルボニル基が好ましく、２－メチルベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、または１，３，５－トリメチルベンジルカルボニル基が特に好ましい。
　一般式（５）で表される化合物（Ｏ－アシルオキシム系化合物）としては、特に限定されないが、一般式（５）において、Ｒ２１がフェニル基、Ｒ２２がオクチル基、Ｒ２３がエチル基、Ｒ２４、Ｒ２６およびＲ２７が水素原子、Ｒ２５がベンゾイル基である化合物；Ｒ２１がメチル基、Ｒ２２がブチル基、ヘプチル基またはオクチル基、Ｒ２３がエチル基、Ｒ２４、Ｒ２６およびＲ２７が水素原子、Ｒ２５がベンゾイル基である化合物；Ｒ２１がフェニル基、Ｒ２２がオクチル基、Ｒ２３がエチル基、Ｒ２４、Ｒ２６およびＲ２７が水素原子、Ｒ２５が２－メチルベンゾイル基である化合物；Ｒ２１がメチル基、Ｒ２２がメチル基またはオクチル基、Ｒ２３がエチル基、Ｒ２４、Ｒ２６およびＲ２７が水素原子、Ｒ２５が２－メチルベンゾイル基である化合物；Ｒ２１およびＲ２２がメチル基、Ｒ２３がエチル基、Ｒ２４、Ｒ２６およびＲ２７が水素原子、Ｒ２５が２－メチル－５－テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル基、２－メチル－４－テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル基または２－メチル－５－テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル基である化合物等が挙げられる。
　光重合開始剤（Ｂ）としては、市販品を用いることが可能である。市販品としては、例えば、ＯＸＥ０２（商品名、チバスペシャルティケミカルズ社製、エタノン　１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾイル－３－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）：上記一般式（５）において、Ｒ２１およびＲ２２がメチル基、Ｒ２３がエチル基、Ｒ２４、Ｒ２６およびＲ２７が水素原子、Ｒ２５が２－メチルベンゾイル基である化合物）が挙げられる。
　本発明の感光性組成物の全固形分中の光重合開始剤（Ｂ）の含有量は、１～１０質量％であることが好ましく、２～５質量％がより好ましい。この範囲であると、硬化性が良好で、露光、現像によってマスクパターンに近いパターンや線幅を形成することができる。
　なお、光重合開始剤（Ｂ）と共に、２－メルカプトベンズイミダゾール、２－メルカプトベンゾオキサゾール、２－メルカプトベンゾチアゾー２ル、１，４－ブタノールビス（３－メルカプトブチレート）、トリス（２－メルカプトプロパノイルオキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）等のチオール化合物を用いると、増感効果を発現することがある。
（３）感光性樹脂（Ｃ）
　本発明の感光性組成物が含有する感光性樹脂（Ｃ）は、上記光重合開始剤（Ｂ）が発生したラジカルにより重合・硬化して、塗膜硬化物を形成し、その塗膜硬化物がアルカリ現像可能となるような、酸性基およびエチレン性二重結合を有する感光性樹脂である。
　感光性樹脂（Ｃ）は、１分子内に酸性基およびエチレン性二重結合を有するため、アルカリ現像液を用いて、硬化されていない感光性組成物の未露光部を選択的に除去することができ、その結果、隔壁を形成することができる。なお、感光性樹脂（Ｃ）は、重合体（Ａ）以外の化合物であり、基（１）を実質的に有さないことが好ましい。
　感光性樹脂（Ｃ）が有する酸性基としては、特に限定されないが、カルボキシ基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、リン酸基等が挙げられ、２種以上を併用してもよい。
　感光性樹脂（Ｃ）が有するエチレン性二重結合としては、特に限定されないが、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基等の付加重合性基が有する二重結合が挙げられ、２種以上を併用してもよい。なお、これらの付加重合性基が有する水素原子の一部または全てが、炭化水素基、好ましくはメチル基で置換されていてもよい。
　感光性樹脂（Ｃ）としては、特に限定されないが、酸性基を有する側鎖とエチレン性二重結合を有する側鎖とを有する樹脂（Ｃ－１）、エポキシ樹脂にエチレン性二重結合と酸性基とを導入した樹脂（Ｃ－２）等が挙げられる。これらは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
　樹脂（Ｃ－１）は、基（１）を有する単量体を有する単量体を使用しない以外は、重合体（Ａ）と同様にして、合成することができる。なお、リン酸基を有する単量体としては、特に限定されないが、２－（メタ）アクリロイルオキシエタンリン酸等が挙げられる。
　樹脂（Ｃ－２）は、エポキシ樹脂と、カルボキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物とを反応させた後に、多塩基性カルボン酸またはその無水物とを反応させることにより合成することができる。具体的には、エポキシ樹脂と、カルボキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物とを反応させることにより、カルボキシル基とエポキシ樹脂のエポキシ基とが反応してエチレン性二重結合が導入される。次に、エチレン性二重結合が導入された樹脂の水酸基に多塩基性カルボン酸またはその無水物を反応させることにより、カルボキシ基を導入することができる。
　エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂、下記一般式（６）で表されるビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂、下記一般式（７）で表されるエポキシ樹脂、下記一般式（８）で表されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 （式中、ｓは、１～５０であり、２～１０が好ましい。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 （式中、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３およびＲ３４は、それぞれ独立に、水素原子、塩素原子または炭素数が１～５のアルキル基であり、ｔは、０～１０である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 （式（８）中、ベンゼン環の水素原子はそれぞれ独立に炭素数１～１２のアルキル基、ハロゲン原子、または、置換基を有してもよいフェニル基で置換されていてもよい。ｕは、０～１０である。）
　なお、一般式（６）、一般式（７）または一般式（８）で表されるエポキシ樹脂と、カルボキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物とを反応させた後に、多塩基性カルボン酸無水物を反応させる場合、多塩基性カルボン酸無水物として、ジカルボン酸無水物およびテトラカルボン酸二無水物の混合物を用いることが好ましい。このとき、ジカルボン酸無水物とテトラカルボン酸二無水物の比率を変化させることにより、分子量を制御することができる。
　エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂（Ｃ－２）の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＰＣＲ－１０６９、Ｋ－４８Ｃ、ＣＣＲ－１１０５、ＣＣＲ－１１１５、ＣＣＲ－１１６３Ｈ、ＣＣＲ－１１６６Ｈ、ＣＣＲ－１１５９Ｈ、ＴＣＲ－１０２５、ＴＣＲ－１０６４Ｈ、ＴＣＲ－１２８６Ｈ、ＺＡＲ－１５３５Ｈ、ＺＦＲ－１１２２Ｈ、ＺＦＲ－１１２４Ｈ、ＺＦＲ－１１８５Ｈ、ＺＦＲ－１４９２Ｈ、ＺＣＲ－１５７１Ｈ、ＺＣＲ－１５６９Ｈ、ＺＣＲ－１５８０Ｈ、ＺＣＲ－１５８１Ｈ、ＺＣＲ－１５８８Ｈ、ＺＣＲ－１６２９Ｈ（以上、日本化薬社製）等が挙げられる。
　本発明に用いる上記感光性樹脂（Ｃ）は、質量平均分子量が１．５×１０３～２０×１０３であることが好ましく、２．０×１０３～１５×１０３がより好ましい。この質量平均分子量が１．５×１０３未満であると、露光時の硬化が不十分となることがあり、２０×１０３を超えると、現像性が低下することがある。
　感光性樹脂（Ｃ）が有するエチレン性二重結合の数は、平均して１分子内に３個以上であることが好ましく、６個以上がより好ましい。このエチレン性二重結合の数が３個以上であると、露光部分と未露光部分とのアルカリ溶解度に差がつきやすく、より少ない露光量での微細なパターン形成が可能となる。
　感光性樹脂（Ｃ）は、酸価が１０～３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、３０～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。酸価がこの範囲であると、感光性組成物の現像性が良好である。
　本発明の感光性組成物の全固形分中の感光性樹脂（Ｃ）の含有量は、５～８０質量％であることが好ましく、１０～６０質量％がより好ましい。感光性樹脂（Ｃ）の含有量がこの範囲であると、感光性組成物の現像性が良好である。
（４）任意成分
　本発明の感光性組成物は、上記重合体（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、および、酸性基とエチレン性二重結合とを有する感光性樹脂（Ｃ）を必須成分として含有するが、本発明の効果を損なわない範囲において、各種機能の向上等を目的として以下に説明する任意成分を含有することが可能である。
（架橋剤（Ｄ））
　本発明の感光性組成物は、必要に応じて、エチレン性二重結合を２個以上有する架橋剤（Ｄ）を含む。これにより、感光性組成物の硬化性が向上し、隔壁を形成する際の露光量を低減することができる。
　架橋剤（Ｄ）としては、特に限定されないが、（メタ）アクリロイルオキシ基を２～１０個有する化合物が好ましい。具体的には、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート、ウレタンアクリレート等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
　上記架橋剤（Ｄ）の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ（商品名、日本化薬社製、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物）、ＮＫエステル　Ａ－９３００（商品名、新中村化学工業社製、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート）、ＮＫエステル　Ａ－９３００－１ＣＬ（商品名、新中村化学工業社製、ε－カプロラクトン変性トリス－（２－アクリロキシエチル）イソシアヌレート）、ＢＡＮＩ－Ｍ（商品名、丸善石油化学社製、ビス｛４－（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト－５－エン－２，３－ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン）、ＢＡＮＩ－Ｘ（商品名、丸善石油化学社製、Ｎ，Ｎ’－ｍ－キシリレン－ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト－５－エン－２，３－ジカルボキシイミド））等が挙げられる。
　また、ウレタンアクリレートとしては、日本化薬社製のＫＡＹＡＲＡＤ　ＵＸシリーズが挙げられ、具体的商品名としては、ＵＸ－３２０４、ＵＸ－６１０１、ＵＸ－０９３７、ＤＰＨＡ－４０Ｈ、ＵＸＥ－３５０１、ＵＸ－５０００、ＵＸ－５００２Ｄ－Ｐ２０などが挙げられる。
　本発明の感光性組成物の全固形分中の架橋剤（Ｄ）の含有量は、５～５０質量％であることが好ましく、１０～３０質量％がより好ましい。架橋剤（Ｄ）の含有量がこの範囲であると、感光性組成物のパターン形状が良好となる。
（着色剤（Ｅ））
　また、本発明の感光性組成物には、必要に応じて着色剤（Ｅ）を添加してもよい。例えば、本発明の感光性組成物の硬化物がブラックマトリックスのように遮光性を求められる用途に用いられる場合には、求められる隔壁の光学濃度に応じて黒色の着色剤（Ｅ）を用いることができる。黒色の着色剤（Ｅ）としては、特に限定されないが、カーボンブラック、アニリンブラック、アントラキノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料等が挙げられる。具体的には、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、６、７、１２、２０、３１等が挙げられる。また、黒色の着色剤（Ｅ）は、赤色顔料、青色顔料、緑色顔料等の有機顔料や無機顔料の混合物であってもよい。中でも、遮光性の大きさを考慮すると、カーボンブラックが好ましい。なお、カーボンブラックは、樹脂等で表面処理されていてもよい。また、黒色の着色剤（Ｅ）の色調を調整するために、カーボンブラックを、青色顔料や紫色顔料と併用することができる。
　また、着色剤（Ｅ）として使用するカーボンブラックは、ＢＥＴ法による比表面積が５０～２００ｍ２／ｇであることが好ましい。この比表面積が小さすぎると、隔壁の形状の劣化を引き起こすことがあり、比表面積が大きすぎると、分散助剤が着色剤（Ｅ）に過度に吸着してしまい、多量の分散助剤を添加する必要が生じることがある。
　さらに、感光性組成物の露光感度を考慮すると、着色剤（Ｅ）として使用するカーボンブラックは、フタル酸ジブチルの吸油量が１２０ｃｃ／１００ｇ以下であることが好ましく、少ないものほどより好ましい。
　また、着色剤（Ｅ）として使用するカーボンブラックは、平均一次粒子径が２０～５０ｎｍであることが好ましい。この平均一次粒子径が小さすぎると、高濃度で分散させることが困難になって、経時安定性が良好な感光性組成物が得られにくくなることがあり、平均一次粒子径が大きすぎると、隔壁の形状の劣化を引き起こすことがある。また、このカーボンブラックは、平均二次粒子径が８０～２００ｎｍであることが好ましい。なお、カーボンブラックの粒子径は、透過型電子顕微鏡を用いて測定することができる。
　本発明の感光性組成物における組成物全固形分中の着色剤（Ｅ）の含有量は、本発明の効果を損なわない範囲で、着色剤（Ｅ）に求められる機能によって、適宜選択される。例えば、本発明の感光性組成物から形成される塗膜硬化物にブラックマトリックスのような遮光性を付与するために黒色の着色剤（Ｅ）を配合する場合の、着色剤（Ｅ）の含有量は、求められる遮光性、光学濃度にもよるが、組成物の全固形分に対して１５～６０質量％であることが好ましく、２０～５０質量％がより好ましく、２５～４０質量％が特に好ましい。この場合、黒色の着色剤（Ｅ）の含有量が少なすぎると、隔壁の光学濃度が不足することがあり、含有量が多すぎると、感光性組成物の硬化性が低下し、隔壁の外観が低下し、撥液性が低下することがある。
（高分子分散剤・分散助剤）
　本発明の感光性組成物は、上記黒色着色剤等の着色剤（Ｅ）の分散性を向上させるために、高分子分散剤を含有することが好ましい。高分子分散剤としては、特に限定されず、ウレタン系、ポリイミド系、アルキッド系、エポキシ系、ポリエステル系、メラミン系、フェノール系、アクリル系、ポリエーテル系、塩化ビニル系、塩化ビニル酢酸ビニル系共重合体系、ポリアミド系、ポリカーボネート系等が挙げられる。その中でも、ウレタン系、ポリエステル系が好ましい。また、高分子分散剤は、オキシエチレン基および／またはオキシプロピレン基を有していてもよい。
　高分子分散剤は、上記黒色着色剤等の着色剤（Ｅ）に対する親和性を考慮すると、塩基性基を有することが好ましい。塩基性基としては、特に限定されないが、１級、２級または３級のアミノ基が挙げられる。
　高分子分散剤の市販品としては、ディスパロンＤＡ－７３０１（楠本化成社製）、ＢＹＫ１６１、ＢＹＫ１６２、ＢＹＫ１６３、ＢＹＫ１８２（以上、ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製）、ソルスパーズ５０００、ソルスパーズ１７０００（以上、ゼネカ社製）等が挙げられる。
　高分子分散剤の添加量は、上記黒色着色剤等の着色剤（Ｅ）に対して、５～３０質量％であることが好ましく、１０～２５質量％がより好ましい。この添加量が少なすぎると、分散性を向上させる効果が不十分となることがあり、添加量が多すぎると、現像性が低下することがある。
　また、本発明の感光性組成物は、分散助剤として、フタロシアニン系顔料誘導体や金属フタロシアニンスルホンアミド化合物を含有してもよい。分散助剤は、上記黒色着色剤等の着色剤（Ｅ）と高分子分散剤に吸着して、分散安定性を向上させる機能を有すると考えられる。
（微粒子）
　本発明の感光性組成物は、必要に応じて、微粒子を含んでいてもよい。これにより、後述するポストベーク時に隔壁の形状が変化することを抑制することができる。
　微粒子としては、特に限定されず、シリカ、ジルコニア、フッ化マグネシウム、ＩＴＯ、ＡＴＯ等の無機系微粒子；ポリエチレン、ＰＭＭＡ等の有機系微粒子が挙げられる。微粒子としては、耐熱性を考慮すると、無機系微粒子が好ましく、入手の容易性や分散安定性を考慮すると、シリカ、ジルコニアが好ましい。また、感光性組成物が、上記黒色着色剤等の着色剤（Ｅ）およびその分散性を向上させるために高分子分散剤を含有する場合には、この高分子分散剤の吸着能を考慮すると、微粒子は、負に帯電していることが好ましい。さらに、感光性組成物の露光感度を考慮すると、微粒子は、露光時に照射される光を吸収しないことが好ましく、超高圧水銀灯の主発光波長であるｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）を吸収しないことが特に好ましい。
　微粒子は、隔壁の表面平滑性が良好となることから、平均粒子径が１μｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下がより好ましい。
　本発明の感光性組成物の全固形分中の微粒子の含有量は、３～２０質量％であることが好ましく、５～１５質量％がより好ましい。この含有量が少なすぎると、ポストベーク時に隔壁の形状が変化することがあり、含有量が多すぎると、感光性組成物の分散安定性が低下することがある。
（シランカップリング剤）
　本発明の感光性組成物は、必要に応じて、シランカップリング剤を含んでいてもよい。これにより、隔壁と基板との密着性を向上させることができる。
　シランカップリング剤としては、特に限定されない。具体的には、テトラエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３－メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、トリエトキシシリル基を有するポリオキシアルキレン、イミダゾールシラン等が挙げられ、２種以上を併用してもよい。
（リン酸化合物）
　本発明の感光性組成物は、必要に応じて、リン化合物を含んでいてもよい。これにより、隔壁と基板との密着性を向上させることができる。
　リン酸化合物しては、特に限定されないが、モノ（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート、ジ（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェートなどが挙げられる。
（熱硬化剤）
　本発明の感光性組成物は、必要に応じて、熱硬化剤を含んでいてもよい。これにより、隔壁の耐熱性、耐透水性を向上させることができる。
　熱硬化剤としては、特に限定されないが、アミノ樹脂、エポキシ基を２個以上有する化合物、ヒドラジノ基を２個以上有する化合物、ポリカルボジイミド化合物、オキサゾリン基を２個以上有する化合物、アジリジン基を２個以上有する化合物、多価金属類、メルカプト基を２個以上有する化合物、ポリイソシアネート化合物等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、隔壁の耐薬品性を考慮すると、アミノ樹脂、エポキシ基を２個以上有する化合物またはオキサゾリン基を２個以上有する化合物が好ましい。
（その他任意成分）
　本発明の感光性組成物は、上記以外の各種成分に加えて、必要に応じて、硬化促進剤、増粘剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤、ハジキ防止剤、紫外線吸収剤等を含んでいてもよい。
　本発明の感光性組成物は、上記説明した各種必須成分と、必要に応じて添加される任意成分を、上記配合量に合わせて、通常の方法で均一に混合することにより調製することができる。
（希釈用溶媒）
　本発明の感光性組成物を用いて隔壁を形成する際には、感光性組成物を溶媒で希釈した希釈液を用いて塗膜（湿潤膜）を形成した後に、溶媒を揮発除去し、感光性組成物の塗膜を形成することが好ましい。
　感光性組成物を希釈する溶媒としては、特に限定されない。具体的には、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、エチレングリコール等のアルコール類；アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；２－メトキシエタノール、２－エトキシエタノール、２－ブトキシエタノール等のセルソルブ類；２－（２－メトキシエトキシ）エタノール、２－（２－エトキシエトキシ）エタノール、２－（２－ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類；メチルアセテート、エチルアセテート、ｎ－ブチルアセテート、エチルラクテート、ｎ－ブチルラクテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテート、３－エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノールアセテート、乳酸エチル、乳酸ｎ－ブチル、γ－ブチロラクトン、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、グリセリントリアセテート等のエステル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等が挙げられ、２種以上を併用してもよい。
　なお、上記感光性組成物を溶媒で希釈した希釈液は、感光性組成物濃度すなわち固形分濃度が５～４０質量％となるように調製することが好ましく、１０～２５質量％となるように調製することがより好ましい。
＜２＞隔壁
　本発明の隔壁は、上記本発明の感光性組成物の塗膜硬化物により、基板上を画素形成用の複数の区画に仕切るかたちに形成された隔壁であって、カラーフィルタや有機ＥＬ素子のブラックマトリックス等に適用することができる。
　以下、本発明の隔壁を製造する方法の一例として、本発明の感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィ工程により隔壁を製造する方法について説明する。
（塗布工程）
　まず、本発明の感光性組成物の希釈液を基板に塗布する。基板としては、特に限定されず、各種ガラス板；ＳｉＣ基板、シリコン等の無機基板；ＩＴＯ等の無機酸化物基板；ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート等）、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスルホン、ポリイミド、ポリ（メタ）アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂シート；エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル等の熱硬化性樹脂の硬化シート等が挙げられる。耐熱性を考慮すると、基板としては、ガラス板とポリイミド等の耐熱性樹脂が好ましい。また、基板の隔壁が形成されていない側の面からの露光が可能であることから、基板は、透明であることが好ましい。さらに、基板は、ガラス基板等の透明基板上に、有機膜またはＴＦＴ、ＩＴＯ、ＳｉＯ２等の無機酸化物膜が形成された基板またはパターニングされた基板、これらの基板が積層されている積層基板であってもよい。
　塗布方法としては、特に限定されないが、スピンコート法、スプレー法、スリットコート法、ロールコート法、回転塗布法、バー塗布法等が挙げられる。
（乾燥工程）
　次に、基板に形成された塗膜を乾燥する。これにより、溶媒が揮発するため、粘着性の無い感光性組成物の塗膜が得られる。乾燥方法としては、特に限定されず、真空乾燥、加熱乾燥が挙げられる。塗膜の外観のムラを発生させず、効率よく乾燥させるために、真空乾燥と加熱乾燥を併用することが好ましい。乾燥条件は、感光性組成物に含まれる成分の種類、組成等により異なるが、真空乾燥は、１０～５００Ｐａ（絶対圧）で１０～３００秒間であることが好ましく、加熱乾燥は、５０～１２０℃で１０～２０００秒間であることが好ましい。
（露光工程）
　次に、所定パターンのマスクを介して、塗膜を露光する。露光時に照射される光としては、特に限定されず、可視光、紫外線、遠紫外線、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ２エキシマレーザー、Ｋｒ２エキシマレーザー、ＫｒＡｒエキシマレーザー、Ａｒ２エキシマレーザー等のエキシマレーザー、Ｘ線、電子線等が挙げられる。波長が１００～６００ｎｍの光が好ましく、波長が３００～５００ｎｍの光がより好ましく、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）が特に好ましい。なお、光源としては、公知の超高圧水銀灯等を用いることができる。
　露光量は、通常、ｉ線基準で５～１０００ｍＪ／ｃｍ２であり、１０～４００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、２０～２００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましく、５０～１００ｍＪ／ｃｍ２が特に好ましい。露光量が５ｍＪ／ｃｍ２未満であると、塗膜の硬化が不十分となって、現像性が低下することがあり、１０００ｍＪ／ｃｍ２を超えると、高い解像度が得られないことがある。
（現像工程）
　次に、現像液を用いて、塗膜の未露光部を除去し、現像する。現像液としては、特に限定されないが、無機アルカリ類、アミン類、アルカノールアミン類、第４級アンモニウム塩等のアルカリの水溶液が挙げられる。現像時間、即ち、現像液に接触させる時間は、５～１８０秒間であることが好ましい。現像方法としては、特に限定されないが、液盛り法、ディッピング法、シャワー法等が挙げられる。
　なお、現像後に、流水洗浄を行い、圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることにより、基板上の水分を除去することができる。
（ポスト露光工程）
　次に、現像された隔壁に対してポスト露光を行ってもよい。このとき、隔壁が形成されている側の面および隔壁が形成されていない側の面のいずれから露光してもよいし、両面から露光してもよい。露光時に照射される光は、紫外線であることが好ましい。
　光源としては、公知の超高圧水銀灯、高圧水銀灯等を用いることができる。これらの光源は、隔壁の硬化に寄与する波長６００ｎｍ以下の光を発光し、隔壁の酸化分解の原因となる波長が２００ｎｍ以下の光の発光が少ない。さらに、光源に用いられている石英管ガラスが、波長が２００ｎｍ以下の光をカットする光学フィルターの機能を有することが好ましい。
　露光量は、通常、５０ｍＪ／ｃｍ２以上であり、２００ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、１０００ｍＪ／ｃｍ２以上がより好ましく、２０００ｍＪ／ｃｍ２以上が特に好ましい。
　また、光源として、低圧水銀灯を用いてもよいが、低圧水銀灯は、波長が２００ｎｍ以下の光の発光が多いため、露光量は、５００ｍＪ／ｃｍ２以下であることが好ましく、３００ｍＪ／ｃｍ２以下がより好ましい。
（ポストベーク工程）
　現像後（ポスト露光を行う際は、ポスト露光後）に、隔壁を加熱することが好ましい。加熱条件は、１５０～２５０℃で５～９０分間であることが好ましく、加熱温度は、１８０℃以上がより好ましい。加熱温度が低すぎると、耐薬品性が不十分となることがあり、隔壁にインクを塗布した場合に、隔壁が膨潤したり、インクが滲んだりすることがある。一方、加熱温度が高すぎると、隔壁が熱分解することがある。
　加熱装置としては、ホットプレート、オーブン等を用いることができる。
　以上のようなフォトリソグラフィ工程を経て、本発明の感光性組成物を硬化することにより、本発明の隔壁が形成される。本発明の隔壁は、必要に応じて、その作製に用いる感光性組成物に黒色の着色剤（Ｅ）を配合することにより、黒色を呈するブラックマトリックスを構成することができる。この場合、感光性組成物を用いて隔壁を形成することにより、ブラックマトリックスが形成されることとなる。
　本発明の隔壁は、幅（平均値）が１００μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下がより好ましい。また、隣接する隔壁間の距離、即ち、開口部の幅（平均値）が３００μｍ以下であることが好ましく、１００μｍ以下がより好ましい。さらに、隔壁は、高さ（平均値）が０．０５～５０μｍであることが好ましく、０．２～１０μｍがより好ましい。
　一般に、感光性組成物の塗膜硬化物からなる隔壁の撥液性（撥インク性）としては、撥水性および撥油性が挙げられ、それぞれ水およびＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：インクの溶媒として多く使用されている有機溶媒）の接触角で評価することができる。本発明の隔壁の上面は、水の接触角が９０°～１５０°であることが好ましく、９５°～１２０°であることがより好ましい。また、隔壁の上面は、ＰＧＭＥＡの接触角が３５°～５５°であることが好ましく、４０°～５０°であることがより好ましい。
＜３＞カラーフィルタ
　本発明のカラーフィルタは、基板上に複数の画素と隣接する画素間に位置する隔壁とを有するカラーフィルタであって、前記隔壁が上記本発明の隔壁で形成されていることを特徴とする。なお、本発明のカラーフィルタにおいて、隔壁は光学濃度が２～７程度のブラックマトリックスであることが好ましい。
　本発明のカラーフィルタは、前述のように、基板上に、隔壁、例えば、ブラックマトリックスを形成した後、例えば、インクジェット法を用いて、隔壁の開口部にインクを塗布して画素を形成することにより製造することができる。
　インクジェット法としては、特に限定されないが、帯電したインクを連続的に噴射し磁場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱し、その発泡を利用して間欠的に噴射する方法等が挙げられる。
　画素の配列としては、特に限定されないが、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知の配列が挙げられる。
　インクは、主に着色成分とバインダー樹脂成分と溶剤とを含み、水性インクおよび油性インクのいずれであってもよい。着色成分としては、耐熱性、耐光性等に優れた顔料および／または染料が好ましい。バインダー樹脂成分としては、透明で耐熱性に優れた樹脂が好ましく、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。水性インクは、溶剤として、水、必要に応じて、水溶性有機溶媒を含み、バインダー樹脂成分として、水溶性樹脂および／または水分散性樹脂を含む。また、油性インクは、溶剤として、有機溶剤を含み、バインダー樹脂成分として、有機溶剤に可溶な樹脂を含む。
　なお、インクジェット法を用いて、隔壁、例えば、ブラックマトリックスの開口部にインクを塗布した後、必要に応じて、乾燥、加熱硬化、紫外線硬化等を行うことができる。
　また、隔壁（ブラックマトリックス）の開口部に画素を形成した後、必要に応じて、保護膜を形成することができる。これにより、カラーフィルタの表面平滑性を向上させると共に、隔壁（ブラックマトリックス）や画素からの溶出物が保護膜に隣接する液晶層に到達するのを遮断することができる。
　このとき、保護膜を形成する前に、隔壁（ブラックマトリックス）の上面の撥液性を除去することが好ましい。これにより、隔壁（ブラックマトリックス）の上面が保護膜用の塗布液をはじくことを抑制することができる。隔壁（ブラックマトリックス）の上面の撥液性を除去する方法としては、特に限定されないが、プラズマアッシング処理、光アッシング処理等が挙げられる。
　さらに、本発明のカラーフィルタを用いて製造される液晶パネルを高品位化するために、必要に応じて、隔壁、例えば、ブラックマトリックス上にフォトスペーサーを形成してもよい。
＜４＞有機ＥＬ素子
　本発明の有機ＥＬ素子は、基板上に複数の画素と隣接する画素間に位置する隔壁とを有する有機ＥＬ素子であって、前記隔壁が上記本発明の隔壁で形成されたものであることを特徴とする。
　本発明の有機ＥＬ素子は、以下のようにして、製造することができる。まず、スパッタ法等を用いて、ガラス基板等の透明基板にＩＴＯ等の透明電極を形成し、必要に応じて、透明電極を所望のパターンにエッチングする。次に、カラーフィルタの場合と同様にして、基板上に、隔壁、例えば、ブラックマトリックスを形成した後、例えば、インクジェット法を用いて、隔壁（ブラックマトリックス）の開口部に、インクとして、正孔輸送材料の溶液および発光材料の溶液を順次塗布、乾燥して、正孔輸送層および発光層を形成する。さらに、蒸着法等を用いて、アルミニウム等の電極を形成して画素を形成することにより、有機ＥＬ素子が得られる。
　以下に、実施例に基づいて、本発明について説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。なお、部は、質量部を意味する。
　以下の各例において用いた化合物の略号を以下に示す。
［１］重合体（Ａ）および重合体（Ｒ）の製造に用いた化合物
　Ｃ６ＦＭＡ：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ
　ＭＡＡ：メタクリル酸
　ＭＭＡ：メタクリル酸メチル
　２－ＨＥＭＡ：２－ヒドロキシエチルメタクリレート
　ＰＭＥ－２００：ブレンマーＰＭＥ－２００（日本油脂社製：α-メチル-ω-メタクリロイルオキシポリ（オキシエチレン）：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｋＣＨ３：式中のｋは分子間の平均値を示し、ｋの値は４である。）
　ＰＭＥ－４００：ブレンマーＰＭＥ－４００（日本油脂社製：α-メチル-ω-メタクリロイルオキシポリ（オキシエチレン）：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｋＣＨ３：式中のｋは分子間の平均値を示し、ｋの値は約９である。）
　ＰＭＥ－４０００：ブレンマーＰＭＥ－４０００（日本油脂社製：α-メチル-ω-メタクリロイルオキシポリ（オキシエチレン）：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｋＣＨ３：式中のｋは分子間の平均値を示し、ｋの値は９０である。）
　ＰＥ－３５０：ブレンマーＰＥ－３５０（日本油脂社製：α-ヒドロ-ω-メタクリロイルオキシポリ（オキシエチレン）：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｋＨ：：式中のｋは分子間の平均値を示し、ｋの値は８である。）
　Ｖ－６５：（和光純薬社製、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル））
　ＡＯＩ：カレンズＡＯＩ（昭和電工社製、２－アクリロイルオキシエチルイソシアネート）
　ＤＢＴＤＬ：ジブチル錫ジラウレート
　ＴＢＱ：t－ブチル－ｐ－ベンゾキノン
　ＭＥＫ：２－ブタノン
［２］感光性組成物成分
　ＯＸＥ０２：ＯＸＥ０２（チバスペシャルティケミカルズ社製、エタノン　１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾイル－３－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）（一般式（５）において、Ｒ２１およびＲ２２がメチル基、Ｒ２３がエチル基、Ｒ２４、Ｒ２６およびＲ２７が水素原子、Ｒ２５が２－メチルベンゾイル基である化合物）
　ＺＣＲ１５６９Ｈ：ＺＣＲ－１５６９Ｈ（日本化薬社製、一般式（６）で表されるビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂にエチレン性二重結合と酸性基とを導入した樹脂の溶液；固形分７０質量％、質量平均分子量４７１０）
　ＤＰＨＡ：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ（日本化薬社製、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物）
　ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　ＣＢ：カーボンブラック分散液（平均二次粒径１２０ｎｍ、分散媒ＰＧＭＥＡ、カーボンブラック２０質量％、アミン価が１８ｍｇＫＯＨ／ｇのポリウレタン系高分子分散剤５質量％）
　シリカ：シリカ分散液（平均粒径２０ｎｍ、分散媒ＰＧＭＥＡ、固形分３０質量％）
＜重合体（Ａ）の合成＞
［重合体（Ａ－１）の合成］
　撹拌機を備えた内容積１Ｌのオートクレーブに、ＭＥＫ（４２０．０ｇ）、Ｃ６ＦＭＡ（８１．０ｇ）、２－ＨＥＭＡ（３６．０ｇ）、ＰＭＥ－４００（５４．０ｇ）、ＭＡＡ（９．０ｇ）および重合開始剤Ｖ－６５（１．１ｇ）を仕込み、窒素雰囲気下で撹拌しながら、５０℃で２４時間重合させ、共重合体１の溶液を得た。共重合体１は、数平均分子量が３４,２００、質量平均分子量が６３,９００であった。
　撹拌機を備えた内容積１Ｌのオートクレーブに上記共重合体１の溶液（５００．０ｇ）、ＡＯＩ（３２．６ｇ）、ＤＢＴＤＬ（０．１３ｇ）、ＴＢＱ（１．６ｇ）およびＭＥＫ（１７．１ｇ）を仕込み、撹拌しながら、４０℃で２４時間反応させ、粗重合体を合成した。得られた粗重合体の溶液にヘキサンを加えて再沈精製した後、真空乾燥し、重合体（Ａ）に相当する重合体（Ａ－１）（１６５．０ｇ）を得た。重合体（Ａ－１）は、数平均分子量が３４，９００、質量平均分子量が６９,３００、Ｆ原子含有量が２１．１質量％、エチレン性二重結合の含有量が１．２６×１０－３ｍｏｌ／ｇ、酸価が２６．８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
［重合体（Ａ－２）～（Ａ－５）の合成］
　重合体（Ａ－１）の合成において、原料の配合を表１のように変更した他は同様の反応により、共重合体２～５を合成した。得られた共重合体２～５を用いて表２の原料配合により、上記同様にして重合体（Ａ）に相当する重合体（Ａ－２）～（Ａ－５）を得た。
＜重合体（Ａ）に適合しない比較例重合体（Ｒ）の合成＞
［重合体（Ｒ－１）、（Ｒ－３）～（Ｒ－５）の合成］
　重合体（Ａ－１）の合成において、原料の配合を表１のように変更した他は同様の反応により、共重合体６、８～１０合成した。得られた共重合体６、８～１０を用いて表２の原料配合により、上記同様にして、本発明における重合体（Ａ）に適合しない重合体（Ｒ－１）、（Ｒ－３）～（Ｒ－５）を得た。
［重合体（Ｒ－２）の合成］
　撹拌機を備えた内容積１Ｌのオートクレーブに、ＭＥＫ（４２０．０ｇ）、Ｃ６ＦＭＡ（９９．０ｇ）、２－ＨＥＭＡ（１８．０ｇ）、ＰＭＥ－４００（２７．０ｇ）、ＭＡＡ（１８．０ｇ）、ＭＭＡ（１８．０ｇ）および重合開始剤Ｖ－６５（１．１ｇ）を仕込み、窒素雰囲気下で撹拌しながら、５０℃で２４時間重合させ、共重合体７の溶液を得た。
得られた溶液にヘキサンを加えて再沈精製した後、真空乾燥し、本発明における重合体（Ａ）に適合しない重合体（Ｒ－２）（１７０．０ｇ）を得た。重合体（Ｒ－２）は、数平均分子量が２６，６００、質量平均分子量が５７，６００、Ｆ原子含有量が３１．４質量％、酸価が６５．２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
　上記で得られた各重合体（Ａ）および比較例重合体（Ｒ）の収量、重合体中の基（２）を有する重合単位の割合、および以下の方法で測定した、数平均分子量（Ｍｎ）、質量平均分子量（Ｍｗ）、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）、フッ素原子（Ｆ）の含有量、エチレン性二重結合（Ｃ＝Ｃ）の含有量、酸価を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
＜分子量＞
　数平均分子量および質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により、ポリスチレンを標準物質として測定した。ゲルパーミエーションクロマトグラフィーとしては、ＨＰＬＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー社製）を使用した。カラムとしては、ｓｈｏｄｅｘ　ＬＦ－６０４を３本接続したものを使用した。検出器としては、ＲＩ検出器を使用した。標準物質としては、ＥａｓｉＣａｌ　ＰＳ１（Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社製）を使用した。さらに、数平均分子量および質量平均分子量を測定する際は、カラムを３７℃で保持し、溶離液としては、テトラヒドロフランを用い、流速を０．２ｍＬ／分とし、測定サンプルの０．５％テトラヒドロフラン溶液４０μＬを注入した。
＜フッ素原子含有量＞
　重合体中のフッ素原子の含有量は、１，４－ジトリフルオロメチルベンゼンを標準物質として、１９Ｆ　ＮＭＲ測定により算出した。
＜エチレン性二重結合の含有量＞
　重合体中のエチレン性二重結合の含有量は、１，４－ジトリフルオロメチルベンゼンを標準物質として、１Ｈ　ＮＭＲ測定により算出した。
＜酸価＞
　酸価は、原料である単量体の配合割合から算出した理論値である。
［実施例１］
　重合体（Ａ－１）（０．０６部）、光重合開始剤（Ｂ）としてのＯＸＥ０２（１．３部）、感光性樹脂（Ｃ）の分散液としてのＺＣＲ１５６９Ｈ（１２．９部）、架橋剤（Ｄ）としてのＤＰＨＡ（３．９部）黒色着色剤（Ｅ）の分散液としてのＣＢ（３８．６部）、シリカ分散液としてのシリカ（１５．０部）および溶媒としてのＰＧＭＥＡ（２８．２４部）を混合して、感光性組成物の希釈液を得た。感光性組成物の希釈液の全固形分中の重合体（Ａ－１）の含有量は、０．２０質量％であった。
　スピンナーを用いて、ガラス基板上に感光性組成物の希釈液を塗布した後、ホットプレート上で、１００℃で２分間乾燥させ、膜厚が２．０μｍの感光性組成物の塗膜を形成した。次に、超高圧水銀灯を用いて、露光量がｉ線（３６５ｎｍ）基準で１００ｍＪ／ｃｍ２の光を、マスクを通して、塗膜に照射し、露光した。なお、マスクは、遮光部が１５０μｍ×４００μｍ、光透過部２０μｍの格子状パターンであり、形成される開口部の容積は４０ｐＬである。またパターンの面積は１０ｃｍ２であった。次に、現像機を用いて現像を行った。この時、現像液は無機アルカリタイプ現像液セミクリーンＤＬ－Ａ４（商品名、横浜油脂工業社製）の１０倍希釈水溶液を用い、ノズルは基板への照射角を８度以下に絞ったものを用いて、０．１５ＭＰaの圧力をかけて基板に吐出することで気泡を発生させスピン現像を行った。その後未露光部を水により洗い流し、乾燥させ、隔壁が形成された実施例１のガラス基板サンプル（１）を得た。
　また、マスクを用いずに露光した以外は、上記と同様にして露光まで行い、次いで、無機アルカリタイプ現像液セミクリーンＤＬ－Ａ４の１０倍希釈水溶液にガラス基板を浸漬して現像し、乾燥させた。現像後の感光性組成物の塗膜の硬化物が形成された実施例１のガラス基板サンプル（２）を得た。
　また、上記ガラス基板サンプル（２）と同様に作製し、更にホットプレート上で、２２０℃で３０分間、ガラス板を加熱することにより、実施例１のガラス基板サンプル（３）を得た。
［実施例２～５、比較例１～５］
　各成分の配合を表３に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして、上記合成例で得られた重合体（Ａ－２）～（Ａ－５）、比較例重合体（Ｒ－１）～（Ｒ－５）をそれぞれ含有する感光性組成物の塗膜硬化物からなる隔壁が形成された実施例２～５、比較例１～５のガラス基板サンプル（１）、および、現像後の感光性組成物の塗膜の硬化物が形成されたガラス基板サンプル（２）、ガラス基板サンプル（２）と同様の工程を行い、最後に熱処理を行った感光性組成物の塗膜の硬化物が形成されたガラス基板サンプル（３）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
［評価方法および評価結果］
　実施例１～５および比較例１～５のガラス基板サンプル（１）、（２）および（３）を用いて、現像性、撥水撥油性、開口部内のインクの濡れ拡がり性を以下に示す方法で評価した。評価結果を感光性組成物の全固形成分における各成分の含有質量％とともに表４に示す。
　表中、◎は最良、○は良、△は可、×は不可を示す。本発明は、全ての評価が◎または○であるものが良い。
［現像性］
　ガラス基板（１）において、面積あたりの現像欠陥数が３０個未満のものを○、現像欠陥数が３０個以上５０個未満のものを△、現像欠陥数が５０個以上のものを×として、判定した。なおこの評価方法は故意に気泡を大量に発生させる方法であり、この評価において３０個未満であると実際の製造ラインにおいて、ほぼ現像欠陥が無いことを意味する。
［撥水性］
　ガラス基板（２）の塗膜硬化物の表面の水の接触角を測定することにより、撥水性を評価した。接触角とは、固体と液体が接触する点における液体表面に対する接線と固体表面がなす角であり、液体を含む側の角度で定義する。このため、接触角が大きい程、塗膜硬化物の撥水性が優れることを意味する。
　なお、水の接触角が９５°以上であるものを○、９０°以上９５°未満であるものを△、９０°未満であるものを×と判定した。
［撥油性］
　ガラス基板（３）の塗膜硬化物の表面のＰＧＭＥＡの接触角を測定することにより、撥油性を評価した。接触角の定義は、撥水性と同様であり、接触角が大きい程、塗膜硬化物の撥油性が優れることを意味する。
　なお、ＰＧＭＥＡの接触角が４０°以上５０°以下のものを○、３５°以上４０°未満のものを△、３５°未満のものを×として、判定した。
［隔壁間開口部内のインクの濡れ拡がり性］
　液状エポキシＭＥ－５６２（日本ペルノックス社製）（６．２５ｇ）、硬化剤ＨＶ－５６２（日本ペルノックス社製）（６．２５ｇ）、アジピン酸ジエチル（１２．５ｇ）およびマロン酸ジエチル（２５．０ｇ）を、スターラーを用いて、１時間攪拌混合し、インクを調製した。
　インクジェット法を用いて、ガラス基板（１）の開口部に上記で調整したインク約１０ｐＬまたは、約２０ｐＬを塗布し、超深度形状測定顕微鏡ＶＫ－８５００（キーエンス社製）を用いて撮影した写真を観察することにより、開口部内のインクの濡れ拡がり性を評価した。
　上記得られた写真において隔壁間開口部１０か所につき、インクがはじかれている部分が０か所だったものを◎、１～２か所だったものを○、３～５か所だったものを△、５～１０か所だったものを×として判定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
　表４に示したように、実施例１～５の感光性樹脂組成物を用いた場合、現像欠陥が少なく、また撥水性、撥油性、隔壁への液の濡れ広がりも十分な特性を示した。一方、基（２）、すなわちポリオキシアルキレン鎖が導入されていない比較例１については、撥水性、撥油性、濡れ拡がり方に関しては非常に良好な結果を示した。しかし、現像欠陥が多く発生した。また、重合体（Ａ）にエチレン性二重結合の側鎖が導入されていない比較例２については、現像欠陥は良化するものの、現像後の撥水性および撥油性が大きく低下した。ポリオキシアルキレン鎖が短い比較例３に関しては、現像欠陥が多く発生し効果が無かった。一方ポリオキシアルキレン鎖が長い比較例４に関しても、実施例１～５で使用している範囲の長さのポリオキシアルキレン鎖の場合よりも現像欠陥が増加した。比較例５に関しては、撥液性は良いものの、ポリオキシアルキレン鎖の末端に２重結合が有り、光硬化によって固定されるため現像欠陥に対する効果が無かった。
　本発明の感光性組成物は、十分な撥液性を有しながら、現像欠陥がなく、現像工程を経ても撥液性が良好な上面、親液性が良好な側面を有する隔壁を形成でき、かつインクが濡れ拡がりやすい開口部を形成することが可能である。このような本発明の感光性組成物は、例えば、インクジェット記録技術法を利用したカラーフィルタ製造用、有機ＥＬ表示素子製造用として隔壁の形成に好適に用いられる。さらには、有機ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：薄膜トランジスタ）アレイの各ＴＦＴを仕切る隔壁、液晶表示素子のＩＴＯ電極の隔壁、回路配線基板の隔壁等の永久膜を形成する材料として好適に用いられる。
　なお、２００９年１２月２８日に出願された日本特許出願２００９－２９８９６０号の明細書、特許請求の範囲及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (11)

  1. 　少なくとも、
    　下記一般式（１）で表される基を有する側鎖、
    　－ＣＦＸＲｆ　…(１)
    　下記一般式（２）で表される基を有する側鎖、
    　－（Ｒ１１－Ｏ）ｎ－Ｒ１２　…（２）
    　およびエチレン性二重結合を有する側鎖、を有する重合体（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、および酸性基とエチレン性二重結合とを有する感光性樹脂（Ｃ）を含むことを特徴とする感光性組成物。
    　ただし、式中の記号は以下の意味を示す。
    　Ｘ：水素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基。
    　Ｒｆ：エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数が１以上２０以下のフルオロアルキル基またはフッ素原子。
    　Ｒ１１：炭素数１～５のアルキレン基。
    　Ｒ１２：炭素数１～４のアルキル基。
    　ｎ：６～３０の整数。
  2. 　前記重合体（Ａ）の質量平均分子量が、１．２×１０4以上１５×１０４以下である請求項１に記載の感光性組成物。
  3. 　前記重合体（Ａ）におけるフッ素原子の含有量が、５質量％以上３５質量％以下である請求項１または２に記載の感光性組成物。
  4. 　前記重合体（Ａ）における前記一般式（２）で表される基を含む重合単位の割合が、５質量％以上５０質量％以下である請求項１～３のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  5. 　前記重合体（Ａ）が酸性基を有する側鎖をさらに有する請求項１～４のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  6. 　エチレン性二重結合を２個以上有する架橋剤（Ｄ）をさらに含む請求項１～５のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  7. 　着色剤（Ｅ）をさらに含む請求項１～６のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  8. 　前記感光性組成物の全固形分に対する重合体（Ａ）の含有量が、０．０７質量％以上１質量％以下である請求項１～７のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  9. 　基板上を画素形成用の複数の区画に仕切るかたちに形成された隔壁であって、請求項１～８のいずれか１項に記載の感光性組成物の塗膜硬化物からなることを特徴とする隔壁。
  10. 　基板上に複数の画素と隣接する画素間に位置する隔壁とを有するカラーフィルタであって、前記隔壁が請求項９に記載の隔壁で形成されていることを特徴とするカラーフィルタ。
  11. 　基板上に複数の画素と隣接する画素間に位置する隔壁とを有する有機ＥＬ素子であって、前記隔壁が請求項９に記載の隔壁で形成されていることを特徴とする有機ＥＬ素子。
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