JPWO2018168939A1 - 蛍光x線分析方法、蛍光x線分析プログラムおよび蛍光x線分析装置 - Google Patents
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- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 title claims description 22
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 title claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 73
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims abstract description 54
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims abstract description 37
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 33
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims abstract description 21
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 31
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 16
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 8
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 8
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 4
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 3
- 229910002552 Fe K Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018493 Ni—K Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000441 X-ray spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
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- G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
- G01N2223/076—X-ray fluorescence
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
Description
3 1次X線
5 蛍光X線
13A,13B 蛍光X線分析プログラム
14 標準試料
S1 標準試料測定ステップ
S2A,S2B 標準試料理論強度計算ステップ
S3 感度定数計算ステップ
S4 未知試料測定ステップ
S5 換算ステップ
S6 初期値仮定ステップ
S7A,S7B 未知試料理論強度計算ステップ
S8 更新ステップ
S9 収束判定ステップ
S10 結果出力ステップ
Claims (5)
- 元素または化合物を成分とする試料であって組成が既知である標準試料に1次X線を照射して、標準試料中の成分から発生する蛍光X線の強度を測定する標準試料測定ステップと、
標準試料中の成分の濃度比に基づいて標準試料中の成分から発生する蛍光X線の理論強度を所定の理論強度式で計算する標準試料理論強度計算ステップと、
前記標準試料測定ステップで測定した強度および前記標準試料理論強度計算ステップで計算した理論強度に基づいて感度定数を計算する感度定数計算ステップと、
元素または化合物を成分とする試料であって組成が未知である未知試料に1次X線を照射して、未知試料中の成分から発生する蛍光X線の強度を測定する未知試料測定ステップと、
その未知試料測定ステップで測定した強度を、前記感度定数を用いて理論強度スケールに換算して換算測定強度とする換算ステップと、
未知試料中の成分について推定した濃度比の初期値を仮定する初期値仮定ステップと、
最新の推定した濃度比に基づいて未知試料中の成分から発生する蛍光X線の理論強度を前記所定の理論強度式で計算する未知試料理論強度計算ステップと、
その未知試料理論強度計算ステップで計算した理論強度および前記換算ステップで換算した換算測定強度に基づいて前記推定した濃度比を更新する更新ステップと、
その更新ステップにおける更新前後の推定した濃度比および所定の収束条件に基づいて収束判定を行う収束判定ステップと、
求めるべき未知試料中の成分の濃度比として最新の推定した濃度比を出力する結果出力ステップとを備え、
前記収束判定ステップにおいて、未収束の判定である場合には手順を前記未知試料理論強度計算ステップへ戻し、収束の判定である場合には手順を前記結果出力ステップへ進める蛍光X線分析方法であって、
前記標準試料理論強度計算ステップおよび前記未知試料理論強度計算ステップで用いる前記所定の理論強度式において、X線の吸収に関する吸収項についてのみ、各成分の濃度比を全成分の濃度比の合計が1になるように規格化する蛍光X線分析方法。 - 請求項1に記載の蛍光X線分析方法において、
前記標準試料理論強度計算ステップおよび前記未知試料理論強度計算ステップで用いる前記所定の理論強度式において、X線の吸収に関する吸収項についてのみ、各成分の濃度比を全成分の濃度比の合計で除することにより規格化する蛍光X線分析方法。 - 請求項1に記載の蛍光X線分析方法において、
前記標準試料理論強度計算ステップおよび前記未知試料理論強度計算ステップで用いる前記所定の理論強度式において、X線の吸収に関する吸収項についてのみ、成分ごとに指定したベース成分の濃度比を、1からベース成分以外の成分の濃度比の合計を差し引いた値とすることにより、各成分の濃度比を規格化する蛍光X線分析方法。 - 請求項1から3のいずれか一項に記載の蛍光X線分析方法を蛍光X線分析装置に実施させるための蛍光X線分析プログラム。
- 請求項4に記載の蛍光X線分析プログラムを備えた蛍光X線分析装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017049447 | 2017-03-15 | ||
JP2017049447 | 2017-03-15 | ||
PCT/JP2018/010004 WO2018168939A1 (ja) | 2017-03-15 | 2018-03-14 | 蛍光x線分析方法、蛍光x線分析プログラムおよび蛍光x線分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018168939A1 true JPWO2018168939A1 (ja) | 2019-11-14 |
JP6614740B2 JP6614740B2 (ja) | 2019-12-04 |
Family
ID=63523109
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019506226A Active JP6614740B2 (ja) | 2017-03-15 | 2018-03-14 | 蛍光x線分析方法、蛍光x線分析プログラムおよび蛍光x線分析装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10921267B2 (ja) |
EP (1) | EP3598116B1 (ja) |
JP (1) | JP6614740B2 (ja) |
CN (1) | CN110312928B (ja) |
WO (1) | WO2018168939A1 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10295485B2 (en) | 2013-12-05 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray transmission spectrometer system |
USRE48612E1 (en) | 2013-10-31 | 2021-06-29 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
US10989822B2 (en) | 2018-06-04 | 2021-04-27 | Sigray, Inc. | Wavelength dispersive x-ray spectrometer |
WO2020023408A1 (en) | 2018-07-26 | 2020-01-30 | Sigray, Inc. | High brightness x-ray reflection source |
US10656105B2 (en) | 2018-08-06 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | Talbot-lau x-ray source and interferometric system |
DE112019004433T5 (de) | 2018-09-04 | 2021-05-20 | Sigray, Inc. | System und verfahren für röntgenstrahlfluoreszenz mit filterung |
WO2020051221A2 (en) | 2018-09-07 | 2020-03-12 | Sigray, Inc. | System and method for depth-selectable x-ray analysis |
US11143605B2 (en) | 2019-09-03 | 2021-10-12 | Sigray, Inc. | System and method for computed laminography x-ray fluorescence imaging |
JP6838754B1 (ja) * | 2019-09-26 | 2021-03-03 | 株式会社リガク | 蛍光x線分析装置 |
US11175243B1 (en) | 2020-02-06 | 2021-11-16 | Sigray, Inc. | X-ray dark-field in-line inspection for semiconductor samples |
DE112021002841T5 (de) | 2020-05-18 | 2023-03-23 | Sigray, Inc. | System und Verfahren für Röntgenabsorptionsspektroskopie unter Verwendung eines Kristallanalysators und mehrerer Detektorelemente |
JP7190749B2 (ja) | 2020-05-18 | 2022-12-16 | 株式会社リガク | 蛍光x線分析装置 |
JP2023542674A (ja) | 2020-09-17 | 2023-10-11 | シグレイ、インコーポレイテッド | X線を用いた深さ分解計測および分析のためのシステムおよび方法 |
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Family Cites Families (13)
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JP3921872B2 (ja) * | 1999-05-20 | 2007-05-30 | 株式会社島津製作所 | 蛍光x線分析用データ処理装置 |
FI20011362A (fi) * | 2001-06-26 | 2002-12-27 | Bs Instr Technology Oy | Röntgenfluoresenssianalysaattori ja menetelmä röntgenfluoresenssianalysaattorin käyttämiseksi |
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JP6266914B2 (ja) * | 2013-08-01 | 2018-01-24 | 田中貴金属工業株式会社 | 蛍光x線分析装置を用いた貴金属製品の分析方法、及び、貴金属製品分析用のコンピュータプログラム |
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US9784699B2 (en) * | 2015-03-03 | 2017-10-10 | Panalytical B.V. | Quantitative X-ray analysis—matrix thickness correction |
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-
2018
- 2018-03-14 JP JP2019506226A patent/JP6614740B2/ja active Active
- 2018-03-14 CN CN201880012059.9A patent/CN110312928B/zh active Active
- 2018-03-14 EP EP18767402.3A patent/EP3598116B1/en active Active
- 2018-03-14 WO PCT/JP2018/010004 patent/WO2018168939A1/ja unknown
-
2019
- 2019-09-03 US US16/559,063 patent/US10921267B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110312928B (zh) | 2021-03-26 |
WO2018168939A8 (ja) | 2019-08-15 |
EP3598116A1 (en) | 2020-01-22 |
EP3598116A4 (en) | 2020-04-29 |
JP6614740B2 (ja) | 2019-12-04 |
EP3598116B1 (en) | 2021-07-21 |
WO2018168939A1 (ja) | 2018-09-20 |
CN110312928A (zh) | 2019-10-08 |
US10921267B2 (en) | 2021-02-16 |
US20200003712A1 (en) | 2020-01-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190826 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
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|
SG99 | Written request for registration of restore |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316G99 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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SG99 | Written request for registration of restore |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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S803 | Written request for registration of cancellation of provisional registration |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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S803 | Written request for registration of cancellation of provisional registration |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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