JPWO2018101250A1 - 光学積層体、円偏光板、タッチパネル及び画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
Description
すなわち、本発明は、下記のものを含む。
前記基材層の波長390nmにおける光線透過率が、1%以下であり、
前記光学積層体のキセノンランプ暴露前の波長450nmにおける面内レターデーションRe0(450)、前記光学積層体のキセノンランプ暴露前の波長550nmにおける面内レターデーションRe0(550)、前記光学積層体のキセノンランプ300時間暴露後の波長450nmにおける面内レターデーションRe300(450)、及び、前記光学積層体のキセノンランプ300時間暴露後の波長550nmにおける面内レターデーションRe300(550)が、下記式(1)及び式(2):
0.95 ≦ Re300(450)/Re0(450) ≦1.05 (1)
0.95 ≦ Re300(550)/Re0(550) ≦1.05 (2)
を満たす、光学積層体。
〔2〕 前記光学積層体のキセノンランプ暴露前の波長650nmにおける面内レターデーションRe0(650)、及び、前記光学積層体のキセノンランプ300時間暴露後の波長650nmにおける面内レターデーションRe300(650)が、下記式(3):
0.95 ≦ Re300(650)/Re0(650) ≦1.05 (3)
を満たす、〔1〕に記載の光学積層体。
〔3〕 前記基材層の面内レターデーションが、5nm以下であり、
前記基材層の厚み方向のレターデーションが、15nm以下である、〔1〕又は〔2〕に記載の光学積層体。
〔4〕 前記基材層が、第一外側層、紫外線吸収剤を含む中間層、及び、第二外側層を、この順に備える、〔1〕〜〔3〕のいずれか一項に記載の光学積層体。
〔5〕 導電層を備える、〔1〕〜〔4〕のいずれか一項に記載の光学積層体。
〔6〕 前記光学異方性層が、λ/4板として機能する、〔1〕〜〔5〕のいずれか一項に記載の光学積層体。
〔7〕 前記光学異方性層が、λ/2板として機能する、〔1〕〜〔5〕のいずれか一項に記載の光学積層体。
〔8〕 前記光学異方性層が、λ/4板及びλ/2板の一方として機能する前記液晶硬化層と、λ/4板及びλ/2板の他方として機能する層とを含み、広帯域λ/4板として機能する、〔1〕〜〔6〕のいずれか一項に記載の光学積層体。
〔9〕 前記液晶硬化層の波長390nmにおける光線透過率が、70%以上である、〔1〕〜〔8〕のいずれか一項に記載の光学積層体。
〔10〕 〔1〕〜〔9〕のいずれか一項に記載の光学積層体と、直線偏光子とを備える、円偏光板。
〔11〕 〔10〕に記載の円偏光板を備える、タッチパネル。
〔12〕 画像表示素子と、前記画像表示素子の視認側に設けられた〔10〕記載の円偏光板とを備える、画像表示装置。
〔13〕 前記画像表示素子が、液晶セル又は有機エレクトロルミネッセンス素子である、〔12〕記載の画像表示装置。
図1は、本発明の光学積層体の一例を模式的に示す断面図である。
図1に示すように、光学積層体10は、基材層100と、少なくとも1層の液晶硬化層210を含む光学異方性層200とを備える。図1においては、1層の液晶硬化層210のみを含む光学異方性層200を備えた光学積層体10の例を示すが、光学異方性層200の構造は、図1に示す例には限定されない。
基材層は、波長390nmにおける光線透過率が、小さい。基材層の波長390nmにおける具体的な光線透過率は、通常1%以下、好ましくは0.5%以下、より好ましくは0.2%以下であり、理想的には0%である。このように波長390nmにおける光線透過率が小さい基材層は、基材層を透過して液晶硬化層に進入する紫外線を弱めることができるので、紫外線による液晶硬化層の光学特性の変化を抑制できる。したがって、その液晶硬化層を含む光学積層体の紫外線による光学特性の変化を抑制することが可能である。また、この光学積層体を備える円偏光板を製造した場合には、通常、直線偏光子の偏光度の低下を抑制したり、直線偏光子の着色を抑制したりできる。さらに、一般に、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下適宜「有機EL素子」ということがある。)に含まれる有機成分は、長波長の紫外線によって特に劣化しやすい。しかし、波長390nmにおける光線透過率が低い前記の基材層を備える光学積層体は、通常、有機EL素子に含まれる有機成分の紫外線による劣化を特に効果的に抑制できる。そのため、有機エレクトロルミネッセンス表示装置(以下適宜「有機EL表示装置」ということがある。)に前記の円偏光板を設けた場合に、その有機EL表示装置の寿命を長くできる。
中間層130は、通常、紫外線吸収剤を含む樹脂で形成される。よって、前記の樹脂は、通常、重合体及び紫外線吸収剤を含む。
上記の脂環式構造を含有する重合体は、例えば特開2002−321302号公報に開示されている重合体から選ばれる。
第一外側層110は、通常、樹脂で形成される。この樹脂は、中間層130の樹脂よりも紫外線吸収剤の含有率が低いことが好ましく、紫外線吸収剤を含まないことがより好ましい。よって、第一外側層110の樹脂は、重合体を含み、必要に応じて紫外線吸収剤以外の任意の成分を含むことが好ましい。
第二外側層120は、通常、樹脂で形成される。この樹脂としては、第一外側層110の樹脂として説明した樹脂の範囲から選択される任意の樹脂を用いうる。したがって、第二外側層120の樹脂の含有成分及び特性は、第一外側層110の樹脂の含有成分及び特性として説明した範囲から選択して適用しうる。これにより、第一外側層110の樹脂の説明に記載したのと同様の利点を得ることができる。
第一外側層110、中間層130及び第二外側層120を備える基材層100は、必要に応じて、上述した第一外側層110、中間層130及び第二外側層120以外の任意の層を備えうる。ただし、光学積層体を薄くする観点から、基材層100は任意の層を備えない3層構造の層であることが好ましい。
基材層は、390nmの波長の紫外線のみでなく、390nm以外の波長の紫外線についても透過率が低いことが好ましい。例えば、基材層の波長380nmにおける光線透過率は、好ましくは1.5%以下、より好ましくは1%以下である。これにより、基材層の紫外線を遮断する能力を、更に高めることができる。
基材層を50℃で24時間乾燥し、デシケータ中で放冷する。次いで、乾燥した基材層の重量(M1)を測定する。
この基材層を、温度23℃、相対湿度50%の室内で24時間水に浸漬し基材層を水で飽和させる。その後、水から基材層を取り出し、24時間浸漬後の基材層の重量(M2)を測定する。
これらの重量の測定値から、次式により、基材層の飽和吸水率を求めうる。
飽和吸水率(%)=[(M2−M1)/M1]×100(%)
基材層の製造方法に制限は無い。例えば、図2に示したような第一外側層110、中間層130及び第二外側層120を備える基材層100は、各層を形成するための樹脂をフィルム状に成形する工程を含む製造方法により、製造しうる。樹脂の成形方法としては、例えば、共押出法及び共流延法などが挙げられる。これらの成形方法の中でも、共押出法は、製造効率に優れ、フィルム中に揮発性成分を残留させ難いので、好ましい。
光学異方性層は、少なくとも1層の液晶硬化層を有する層である。光学異方性層は、2層以上の液晶硬化層を有していてもよい。また、光学異方性層は、液晶硬化層に組み合わせて、任意の層を有していてもよい。通常、液晶硬化層が光学異方性を有するので、光学異方性層も光学異方性を有する。
液晶硬化層は、液晶化合物を含む材料の硬化物で形成された層である。以下の説明において、液晶化合物を含む前記の材料を、「液晶組成物」ということがある。ただし、この用語「液晶組成物」は、2種類以上の成分を含む材料だけでなく、1種類の液晶化合物のみを含む材料を包含する。
前記式(I)において、A2及びA3は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数3〜30の二価の脂環式炭化水素基を表す。
前記式(I)において、A4及びA5は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数6〜30の二価の芳香族基を表す。
前記式(I)において、Q1は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
前記式(I)において、mは、それぞれ独立に、0又は1を表す。
R3x−C3x−D3x−C5x−Mx−C6x−D4x−C4x−R4x 式(II)
光学異方性層は、液晶硬化層に組み合わせて、任意の層を含んでいてもよい。
例えば、光学異方性層は、任意の層として、位相差フィルム層を含んでいてもよい。位相差フィルム層は、液晶硬化物以外の材料で形成された光学異方性を有する層であり、通常は所定の面内レターデーションを有する。位相差フィルム層を液晶硬化層と組み合わせて用いることにより、光学異方性層の光学特性を広範な範囲で調製することができる。
光学異方性層は、光学積層体の用途に応じた光学特性を有する層である。よって、光学異方性層は、光学積層体の用途に応じた任意の光学特性を有しうる。
光学異方性層の製造方法は、任意である。例えば、1層の液晶硬化層のみからなる光学異方性層は、上述した方法で液晶組成物を用いて塗工基材上に液晶硬化層を製造した後、必要に応じて塗工基材を剥離して、製造することができる。また、例えば、液晶硬化層と任意の層とを含む光学異方性層は、液晶硬化層及び任意の層を用意した後で、必要に応じて粘着剤又は接着剤を用いて液晶硬化層及び任意の層を貼合して、製造することができる。
光学積層体は、上述した基材層及び光学異方性層に組み合わせて、更に任意の層を含みうる。
任意の層としては、導電層が挙げられる。このように導電層を備える光学積層体は、フィルムセンサ部材として用いることができる。光学積層体をフィルムセンサ部材としてタッチパネル又は画像表示装置に設けた場合に、導電層は、タッチパネルの電極、配線等の回路部材として機能しうる。
また、前記の導電性ポリマーは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
光学積層体が、紫外線の透過を妨げる基材層を備えているので、当該光学積層体は、紫外線に対して高い耐性を有する。そのため、光学積層体は、紫外線を含む光の照射を受けても、その面内レターデーションの変化が小さい。特に、上述した光学積層体は、可視波長領域の広い波長範囲において、その面内レターデーションの変化を小さくすることが可能である。したがって、この光学積層体を備える画像表示装置の表示性能が紫外線によって低下することを抑制でき、例えば、紫外線での劣化によって画像が意図しない色付きを生じることを抑制することが可能である。
0.95 ≦ Re300(450)/Re0(450) ≦1.05 (1)
0.95 ≦ Re300(550)/Re0(550) ≦1.05 (2)
0.95 ≦ Re300(650)/Re0(650) ≦1.05 (3)
光学積層体の製造方法は、任意である。例えば、光学積層体は、基材層及び光学異方性層を用意した後で、必要に応じて粘着剤又は接着剤を用いて基材層及び光学異方性層を貼合して製造することができる。このような貼合は、長尺の基材層及び長尺の光学異方性層を用いて、ロール・トゥ・ロール法によって行うことが好ましい。
上述した光学積層体を、直線偏光子と組み合わせることにより、円偏光板を得ることができる。このような円偏光板は、光学積層体及び直線偏光子を備え、更に必要に応じて任意の層を備えうる。この際、円偏光板は、直線偏光子、基材層及び光学異方性層をこの順に備えていてもよく、また、直線偏光子、光学異方性層及び基材層をこの順に備えていてもよい。
また、円偏光板は、更に、光学積層体と直線偏光子とを貼り合わせるための接着層又は粘着層を備えうる。
上述した円偏光板を用いて、タッチパネルを得ることができる。この場合、円偏光板として、通常は、導電層を含むものを用いる。これにより、導電層を含む円偏光板を備えたタッチパネルを得ることができる。
画像表示装置は、画像表示素子と、前記の画像表示素子の視認側に設けられた前記円偏光板とを備える。また、前記の画像表示装置において、円偏光板は、当該円偏光板が含む光学異方性層及び基材層が、画像表示素子側からこの順に位置するように設けられる。このような画像表示装置では、基材層によって光学異方性層が紫外線を含む外光から保護されるので、光学異方性層の外光による光学特性の変化を抑制でき、その結果、光学積層体自体の光学特性の変化も抑制することができる。さらに、基材層が紫外線の透過を抑制するので、通常は、画像表示素子に含まれる成分の紫外線による劣化を抑制することができ、その結果、画像表示装置の長寿命化を実現することができる。
図3に示すように、液晶表示装置20は、光源310;光源側直線偏光子320;画像表示素子としての液晶セル330;並びに、円偏光板340を、この順に備える。また、円偏光板340は、直線偏光子350;並びに、光学異方性層200、基材層100及び導電層360を備える光学積層体370;を液晶セル330側からこの順に備えている。
図4に示すように、有機EL表示装置30は、画像表示素子としての有機EL素子410及び円偏光板420を備える。また、円偏光板420は、光学異方性層200、基材層100及び導電層430を備える光学積層体440;並びに、直線偏光子450;を有機EL素子410側からこの順に備えている。
〔レターデーションの測定方法〕
フィルムの面内レターデーション及び厚み方向のレターデーションは、位相差計(Axometrics社製「AXO SCAN」)を用いて測定した。
塗工基材及び液晶硬化層を備える複層フィルムの光線透過率を、波長380nm及び390nmにおいて、紫外可視近赤外分光光度計(日本分光社製「V−7200」)を用いて測定した。後述する実施例及び比較例で用いた塗工基材は、波長380nm及び390nmに吸収を有さない。よって、前記の複層フィルムの波長380nm及び390nmにおける光線透過率を、それぞれ、その複層フィルムに含まれる液晶硬化層の波長380nm及び390nmにおける光線透過率として採用した。
導電層を備える光学積層体を、縦5cm×横5cmの矩形に切り出して、試験片を得た。平らなステージ上に、導電層側を下にして試験片を置いた。ステージから浮き上がった試験片の4隅の角の、ステージからの高さを定規にて測定した。測定された高さの測定値の平均を、カール量とした。
光学積層体の光学異方性層側の面を、粘着剤(日東電工社製「CS9621T」)を介して、ガラス板(厚み0.7mm)に貼合して、サンプルを得た。
得られたサンプルを用いて、キセノンランプ暴露前の光学積層体の波長450nm、550nm及び650nmにおける面内レターデーションRe0(450)、Re0(550)及びRe0(650)を測定した。
その後、前記のサンプルを用いて、キセノンランプ暴露後の光学積層体の波長450nm、550nm及び650nmにおける面内レターデーションRe300(450)、Re300(550)及びRe300(650)を測定した。
(熱可塑性樹脂の調製)
非晶性のノルボルネン系重合体COPのペレット(日本ゼオン社製、ガラス転移温度Tg=126℃)を、100℃で5時間乾燥させた。乾燥させたペレット89.0部と、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(ADEKA社製「LA−31」)11.0部とを、二軸押出機により混合した。得られた混合物を、単軸押出機に接続されたホッパーへ投入し、単軸押出機から溶融押し出して、熱可塑性樹脂(J1)を得た。この熱可塑性樹脂(J1)における紫外線吸収剤の含有量は、11.0重量%であった。
目開き3μmのリーフディスク形状のポリマーフィルターを備える、ダブルフライト型単軸押出機(スクリューの直径D=50mm、スクリューの有効長さLとスクリューの直径Dとの比L/D=28)を用意した。この単軸押出機に、中間層形成用の樹脂として、熱可塑性樹脂(J1)を導入し、溶融させて、押出機出口温度260℃、押出機のギヤポンプの回転数10rpmの条件で、フィードブロックを介して、ダイスリップの表面粗さRaが0.1μmの単層ダイに供給した。
中間層形成用の熱可塑性樹脂の調製において、非晶性のノルボルネン系重合体COPのペレットとベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤との混合比を、乾燥させたペレット100.0部、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤5.5部に変更した。以上の事項以外は、製造例1と同じ操作により、基材層を製造した。得られた基材層の中間層における紫外線吸収剤の含有量は、5.2重量%であった。また、基材層の面内レターデーションは5nm、厚み方向のレターデーションは14nmであった。
下記式(A1)で表される重合性液晶化合物を用意した。この重合性液晶化合物は、逆波長分散性液晶化合物である。この式(A1)で表される重合性液晶化合物21.25部、界面活性剤(AGCセイミケミカル社製「サーフロンS420」)0.11部、重合開始剤(BASF社製「IRGACURE379」)0.64部、及び溶媒(シクロペンタノン、日本ゼオン社製)78.00部を混合し、液晶組成物Aを調製した。
下記式(B1)で表される重合性液晶化合物を用意した。この重合性液晶化合物は、順波長分散性液晶化合物である。この式(B1)で表される重合性液晶化合物22.00部、界面活性剤(ネオス社製「フタージェントFTX−209F」)0.12部、重合開始剤(BASF社製「IRGACURE379」)0.77重量部、及び溶媒(メチルエチルケトン)77.11部を混合し、液晶組成物Bを調製した。
下記式(C1)で表される重合性液晶化合物(BASF社製「LC242」)を用意した。この重合性液晶化合物は、順波長分散性液晶化合物である。この式(C1)で表される重合性液晶化合物24.15部、界面活性剤(ネオス社製「フタージェントFTX−209F」)0.12部、重合開始剤(BASF社製「IRGACURE379」)0.73重量部、及び溶媒(メチルエチルケトン)75.00部を混合し、液晶組成物Cを調製した。
2−ヒドロキシブチルアクリレート(共栄社化学社製「ライトアクリレートHOB−A」)70部、イソボルニルアクリレート(大阪有機化学工業社製「IBXA」)22部、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル(共栄社化学社製「エポライト100MF」)5部、及び、光重合開始剤(BASF社製「Irgacure2959」)3部を混合し、十分に撹拌を行い、十分に脱泡を行って、紫外線硬化性の接着剤Dを得た。
(光学異方性層の形成)
塗工基材として、ノルボルネン系重合体COP(日本ゼオン社製)からなる長尺の斜め延伸フィルムを用意した。この塗工基材は、ノルボルネン系重合体COPのフィルムをその斜め方向に延伸して得られたフィルムであり、フィルム幅方向に対して45°の角度をなす遅相軸を有していた。また、この塗工基材の厚みは60μm、面内レターデーションは141nmであった。前記の塗工基材は、当該塗工基材の片面にマスキングフィルムを貼り合わせた状態で巻き取ったロールとして、用意した。
こうして得られた複層フィルムを用いて、上述した方法により、液晶硬化層の光線透過率を測定したところ、380nmでの光線透過率は4.4%、390nmでの光線透過率は16.4%であった。
製造例1で製造した基材層と、前記の複層フィルムの光学異方性層とを、製造例6で製造した接着剤Dを介して貼合し、光学異方性層側から紫外線を照射した。その後、塗工基材を剥離して、基材層、接着層、及び、液晶硬化層からなる光学異方性層をこの順で備える光学積層体を製造した。
得られた光学積層体を、上述した方法によって評価した。
液晶組成物Aの代わりに、製造例4で製造した液晶組成物Bを用いた。また、液晶組成物Bの塗工厚みを、厚み1.2μmの液晶硬化層が得られるように変更した。以上の事項以外は実施例1と同じ操作により、液晶硬化層の形成及び評価、並びに、光学積層体の製造及び評価を行った。
液晶組成物Aの代わりに、製造例5で製造した液晶組成物Cを用いた。また、液晶組成物Cの塗工厚みを、厚み1.0μmの液晶硬化層が得られるように変更した。以上の事項以外は実施例1と同じ操作により、液晶硬化層の形成及び評価、並びに、光学積層体の製造及び評価を行った。
実施例1で用いた塗工基材の代わりに、ノルボルネン系重合体COP(日本ゼオン社製)からなる別の長尺の斜め延伸フィルム(フィルム幅方向に対して遅相軸がなす角度が15°、厚み55μm、面内レターデーション145nm)を塗工基材として用いた。また、液晶組成物Aの代わりに、製造例5で製造した液晶組成物Cを用いた。さらに、液晶組成物Cの塗工厚みを、乾燥厚み1.1μmの液晶硬化層が得られるように変更した。以上の事項以外は実施例1の工程(光学異方性層の形成)と同じ操作により、塗工基材、及び、液晶組成物Cの硬化物で形成された液晶硬化層を備える複層フィルムを得た。得られた液晶硬化層は、ホモジニアス配向しており、その遅相軸方向と塗工基材の遅相軸方向とのズレは1°、380nmでの光線透過率は81.2%、390nmでの光線透過率は85.3%であった。得られた液晶硬化層は、λ/4板として機能するものである。
得られた光学積層体を、上述した方法によって評価した。
実施例1で用いた塗工基材の代わりに、ノルボルネン系重合体COP(日本ゼオン社製)からなる別の長尺の斜め延伸フィルム(フィルム幅方向に対して遅相軸がなす角度が75°、厚み25μm、面内レターデーション145nm)を塗工基材として用いた。また、液晶組成物Aの代わりに、製造例5で製造した液晶組成物Cを用いた。さらに、液晶組成物Cの塗工厚みを、乾燥厚み2.1μmの液晶硬化層が得られるように変更した。以上の事項以外は実施例1の工程(光学異方性層の形成)と同じ操作により、塗工基材、及び、液晶組成物Cの硬化物で形成された液晶硬化層を備える複層フィルムを得た。得られた液晶硬化層は、ホモジニアス配向しており、その遅相軸方向と塗工基材の遅相軸方向とのズレは0.8°、380nmでの光線透過率は80.3%、390nmでの光線透過率は84.6%であった。得られた液晶硬化層は、λ/2板として機能するものである。
得られた光学積層体を、上述した方法によって評価した。
実施例1で用いた塗工基材の代わりに、実施例5で用いた塗工基材(フィルム幅方向に対して遅相軸がなす角度が75°)を用いた。また、液晶組成物Aの塗工厚みを、乾燥厚み4.4μmの液晶硬化層が得られるように変更した。以上の事項以外は実施例1の工程(光学異方性層の形成)と同じ操作により、塗工基材、及び、液晶組成物Aの硬化物で形成されたλ/2板として機能する液晶硬化層を備える第一の複層フィルムを得た。得られた液晶硬化層は、ホモジニアス配向しており、その遅相軸方向と塗工基材の遅相軸方向とのズレは1.0°、380nmでの光線透過率は3.8%、390nmでの光線透過率は15.8%であった。
得られた光学積層体を、上述した方法によって評価した。
製造例1で製造した基材層の代わりに、製造例2で製造した基材層を用いた。以上の事項以外は実施例1と同じ操作により、光学積層体の製造及び評価を行った。
製造例1で製造した基材層の代わりに、製造例2で製造した基材層を用いた。以上の事項以外は実施例2と同じ操作により、光学積層体の製造及び評価を行った。
製造例1で製造した基材層の代わりに、製造例2で製造した基材層を用いた。以上の事項以外は実施例3と同じ操作により、光学積層体の製造及び評価を行った。
上述した実施例及び比較例の結果を、下記の表に示す。下記の表において、略称の意味は、以下の通りである。
Re:面内レターデーション。
Rth:厚み方向のレターデーション。
T380:波長380nmにおける光線透過率。
T390:波長390nmにおける光線透過率。
A1:式(A1)で表される重合性液晶化合物を含む液晶組成物A。
B1:式(B1)で表される重合性液晶化合物を含む液晶組成物B。
C1:式(C1)で表される重合性液晶化合物を含む液晶組成物C。
COP:ノルボルネン系重合体。
塗工基材の遅相軸方向:塗工基材として用いた斜め延伸フィルムの遅相軸がフィルム幅方向に対してなす角度。
(円偏光板の製造)
実施例4において製造した光学積層体を用いて、キセノンランプ暴露試験用のサンプルを、キセノンランプ暴露前のサンプル、及び、キセノンランプ暴露後のサンプルの両方、用意した。これらのサンプルのガラス板の表面にコロナ処理を施した。コロナ処理を施したガラス板の表面と、直線偏光子としての偏光フィルム(サンリッツ社製「HLC2−5618S」、厚み180μm、長手方向に対して平行な偏光吸収軸、及び、幅方向に対して平行な偏光透過軸を有する)の片面とを、紫外線硬化型の接着剤(日立化成社製「LE−3000シリーズ」)を介して貼り合わせた。前記の貼り合わせは、光学異方性層においてλ/2板として機能する位相差フィルムの遅相軸と、偏光フィルムの偏光吸収軸との交差角が15°となるように行った。その後、偏光フィルム側から紫外線を照射することによって接着剤を硬化させて、基材層;接着層;液晶硬化層、粘着層及び位相差フィルムを備える光学異方性層;粘着層;ガラス板;接着層;並びに直線偏光子;をこの順に備える円偏光板をそれぞれ得た。
光源、光源側直線偏光板、液晶セル及び視認側直線偏光板をこの順に備える市販の液晶表示装置(Apple社製「iPad」(登録商標))を2つ用意した。この液晶表示装置の表示面部分を分解し、液晶表示装置の視認側直線偏光板を剥離し、代わりに、前記の各円偏光板を取り付けた。これにより、視認側から、基材層;接着層;液晶硬化層、粘着層及び位相差フィルムを備える光学異方性層;粘着層;ガラス板;接着層;直線偏光子;並びに、画像表示素子としての液晶セル;をこの順に備える各画像表示装置(液晶表示装置)を得た。
その結果、偏光サングラスを着用している場合及び着用していない場合のいずれにおいても、キセノンランプ暴露前のサンプルを用いて製造された画像表示装置(液晶表示装置)とキセノンランプ暴露後のサンプルを用いて製造された画像表示装置(液晶表示装置)との間で、色味、当該色味のバラツキ、輝度、及び当該輝度のバラツキの差はほとんど無かった。
表示面に円偏光板を備える市販の有機EL表示装置(LGエレクトロニクス社製のスマートフォン「G FlexLGL23」)を2つ用意した。この有機EL表示装置の円偏光板を取り外し、代わりに、実施例7の工程(円偏光板の製造)で製造した各円偏光板を、当該円偏光板の偏光フィルムが視認側に向くように取り付けた。こうして得られた有機EL表示装置の黒表示時及び白表示時の輝度を測定した。キセノンランプ暴露前のサンプルを用いて製造された有機EL表示装置は、黒表示時の輝度は6.2cd/m2、白表示時の輝度は305cd/m2であった。また、キセノンランプ暴露後のサンプルを用いて製造された有機EL表示装置は、黒表示時の輝度は6.4cd/m2、白表示時の輝度は310cd/m2であった。
実施例4において製造した光学積層体の代わりに、比較例1において製造した光学積層体を用いた。以上の事項以外は実施例7と同じ操作により、液晶表示装置を得た。
その結果、偏光サングラスを着用している場合及び着用していない場合のいずれにおいても、キセノンランプ暴露前のサンプルを用いて製造された液晶表示装置とキセノンランプ暴露後のサンプルを用いて製造された液晶表示装置との間で、色味、当該色味のバラツキ、輝度、及び当該輝度のバラツキの差は明確であった。さらに、キセノンランプ暴露後のサンプルを用いて製造された液晶表示装置の表示性能の方が劣っていた。
実施例1で製造した光学積層体の基材層側の面にスパッタ法で導電層を形成しうる成膜装置を用意した。この成膜装置は、当該装置内を連続的に搬送される長尺のキャリアフィルム上に固定された光学積層体の基材層側の表面に、所望の導電層を形成しうるフィルム巻き取り式のマグネトロンスパッタリング装置である。また、キャリアフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。
実施例1で製造した光学積層体の代わりに実施例4で製造した光学積層体を用いた以外は、実施例9と同じ操作により、導電層の形成及びカール量の測定を行った。その結果、カール量は3mmであった。
20 液晶表示装置
30 有機EL表示装置
100 基材層
110 第一外側層
120 第二外側層
130 中間層
200 光学異方性層
210 液晶硬化層
310 光源
320 光源側直線偏光子
330 液晶セル
340 円偏光板
350 直線偏光子
360 導電層
370 光学積層体
410 有機EL素子
420 円偏光板
430 導電層
440 光学積層体
450 直線偏光子
Claims (13)
- 基材層と、少なくとも1層の液晶硬化層を含む光学異方性層とを備える光学積層体であって、
前記基材層の波長390nmにおける光線透過率が、1%以下であり、
前記光学積層体のキセノンランプ暴露前の波長450nmにおける面内レターデーションRe0(450)、前記光学積層体のキセノンランプ暴露前の波長550nmにおける面内レターデーションRe0(550)、前記光学積層体のキセノンランプ300時間暴露後の波長450nmにおける面内レターデーションRe300(450)、及び、前記光学積層体のキセノンランプ300時間暴露後の波長550nmにおける面内レターデーションRe300(550)が、下記式(1)及び式(2):
0.95 ≦ Re300(450)/Re0(450) ≦1.05 (1)
0.95 ≦ Re300(550)/Re0(550) ≦1.05 (2)
を満たす、光学積層体。 - 前記光学積層体のキセノンランプ暴露前の波長650nmにおける面内レターデーションRe0(650)、及び、前記光学積層体のキセノンランプ300時間暴露後の波長650nmにおける面内レターデーションRe300(650)が、下記式(3):
0.95 ≦ Re300(650)/Re0(650) ≦1.05 (3)
を満たす、請求項1に記載の光学積層体。 - 前記基材層の面内レターデーションが、5nm以下であり、
前記基材層の厚み方向のレターデーションが、15nm以下である、請求項1又は2に記載の光学積層体。 - 前記基材層が、第一外側層、紫外線吸収剤を含む中間層、及び、第二外側層を、この順に備える、請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学積層体。
- 導電層を備える、請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学積層体。
- 前記光学異方性層が、λ/4板として機能する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学積層体。
- 前記光学異方性層が、λ/2板として機能する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学積層体。
- 前記光学異方性層が、λ/4板及びλ/2板の一方として機能する前記液晶硬化層と、λ/4板及びλ/2板の他方として機能する層とを含み、広帯域λ/4板として機能する、請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学積層体。
- 前記液晶硬化層の波長390nmにおける光線透過率が、70%以上である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の光学積層体。
- 請求項1〜9のいずれか一項に記載の光学積層体と、直線偏光子とを備える、円偏光板。
- 請求項10に記載の円偏光板を備える、タッチパネル。
- 画像表示素子と、前記画像表示素子の視認側に設けられた請求項10記載の円偏光板とを備える、画像表示装置。
- 前記画像表示素子が、液晶セル又は有機エレクトロルミネッセンス素子である、請求項12記載の画像表示装置。
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