JP2004109171A - 光学フィルム、その製造方法及び液晶表示装置 - Google Patents

光学フィルム、その製造方法及び液晶表示装置 Download PDF

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鹿島 啓二
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Abstract

【課題】多様な光学補償の要望に対する好適な位相シフト特性が100°以上の高温環境下でも保持され、又、液晶表示装置の設計、生産の容易化を図ることができる光学フィルム、その製造方法及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第1の透光性基材12と、偏光層14と、第2の透光性基材16と、ネマチック液晶が配向規制された状態で架橋された位相差光学素子18と、をこの順で積層して光学フィルム10を構成した。
【選択図】   図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、偏光層、透光性基材、位相差光学素子を含んでなる光学フィルム、その製造方法及びこの光学フィルムを用いた液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、液晶表示装置には、液晶セル、偏光層と共に様々な目的で位相差層(位相差光学素子)が備えられることがある。
【0003】
例えば、液晶セルは厚さ方向の屈折率と面方向の屈折率とが異なり、法線から傾斜した方向に入射する光は不適切に位相シフトされる。このため、液晶表示装置は、正面から観察される画像に対し、法線から傾斜した方向から観察される画像の表示品位が悪化しやすいという視角依存性の問題を有している。このような液晶表示装置の視角依存性を改善するために、複屈折性を有する位相差層を液晶セルと偏光層との間に配設して光学補償を行い、表示品位を改善した液晶表示装置が知られている。
【0004】
又、透過型の液晶表示装置が一般的に2枚の偏光層を用いるのに対し、偏光層を1枚のみ用いると共に位相差層を組合わせることで画像表示を可能とし、光の使用効率を高めた反射型の液晶表示装置(例えば、特許文献1参照)が知られている。
【0005】
更に、薄型の光源として有機ELを用いると共に有機ELの発光層表面の金属電極による外光の反射を防止するために、偏光層にλ/4位相差層を積層した円偏光板を備えた液晶表示装置(例えば、特許文献2、特許文献3参照)が知られている。
【0006】
尚、種々の光学補償を実現するために上記のような位相差層を複数重ねて使用することがあり、又、位相差層と偏光層との間等には透光性基材が積層されることが多い。
【0007】
位相差層としては、高分子フィルムを所定の方向に延伸することにより高分子の主鎖を一定方向に揃えて、高分子フィルムに屈折率異方性を発生させたものが知られている。
【0008】
この方法によれば、比較的容易に屈折率異方性を高分子フィルムに付与することが可能となり、製造が容易であるという点で優れている。このようにして製造された位相差層は、高分子の主鎖の配向方向が延伸方向に制限されている。
【0009】
しかしながら、近年、例えば分子の長軸の配向方向が表面に対して垂直である位相差層等、多様な配向方向を有する位相差層が要望されるようになってきており、上記高分子フィルムを延伸することにより得られる位相差層では、これらの要望に応じることができないことがあった。
【0010】
これに対して、例えば特開平7−198943号に示されるように、液晶高分子を配向状態で固化することにより、多様な配向方向を有する位相差層を得る方法(例えば、特許文献4参照)が知られている。
【0011】
【特許文献1】
特開2001−066598号公報(第4−5頁、第5―6図)
【0012】
【特許文献2】
特開平8−321381号公報(第2頁、図1)
【0013】
【特許文献3】
特開平9−127885号公報(第3−5頁、図1)
【0014】
【特許文献4】
特開平7−198943号公報(第2−5頁)
【0015】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、液晶高分子はガラス状態と液晶状態とが可逆であり、100°以上の高温環境では所望の液晶状態が保持されないことがあった。又、複数の位相差層を積層すると、高温環境下で各位相差層の成分が混じりあうことがあった。このため、目的とする光学特性が得られないことがあった。
【0016】
又、一般的に透光性基材も複屈折性を有し、位相シフトを生じさせるので、液晶表示装置全体として好適な表示品位を実現するためには、液晶セル、位相差層の位相シフトと共に透光性基材による位相シフトも考慮した、適切な位相差層を液晶表示装置に配設する必要があり、それだけ液晶表示装置の設計、生産に負担がかかっていた。
【0017】
本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであり、多様な光学補償の要望に対する好適な位相シフト特性が100°以上の高温環境下でも保持され、又、液晶表示装置の設計、生産の容易化を図ることができる光学フィルム、その製造方法及び液晶表示装置を提供することを主目的とするものである。
【0018】
【課題を解決するための手段】
本発明は、第1の透光性基材と、偏光層と、第2の透光性基材と、ネマチック液晶、及びカイラル剤をネマチック液晶に配合してなるカイラルネマチック液晶のいずれかの液晶が配向規制された状態で架橋された位相差光学素子と、がこの順で積層された光学フィルムにより、分子の配向方向の自由度が高く、かつ耐熱性に優れた光学フィルムを実現した。即ち、液晶を配向規制することにより、多様な分子配向の位相差光学素子が得られると共に配向規制した液晶を架橋させることにより、高温環境下でも液晶状態を保持することができる耐熱性に優れた位相差光学素子を実現したものである。更に、透光性基材、偏光層、位相差光学素子を一体として提供することにより、透光性基材による位相シフトの影響を加味した適切な位相シフト特性が確実に得られ、液晶表示装置の設計、生産の容易化を図ることができる。
【0019】
更に、複数の位相差層を積層して位相差光学素子を構成する場合も、各位相差層間で成分が混じり合うことがなく、一層多様で安定した光学特性を得ることができる。
【0020】
例えば、前記位相差光学素子が、前記第2の透光性基材から順に積層された第1の位相差層及び第2の位相差層からなり、その一方がλ/2位相差層からなり、他方がλ/4位相差層からなる構成とし、且つ、前記λ/2位相差層の進相軸と、前記λ/4位相差層の進相軸と、が60±10度の角度範囲で交差するようにしてもよい。
【0021】
この場合、前記位相差光学素子は、前記第2の位相差層に更にCプレートが積層された構成としてもよい。
【0022】
又、前記位相差光学素子は、前記第2の透光性基材から順に積層された第1の位相差層及び第2の位相差層からなり、その一方をAプレート、他方をCプレートで各々構成してもよい。
【0023】
又、前記位相差光学素子が位相差層としてCプレートを含む構成としてもよい。
【0024】
又、前記第1の透光性基材の前記偏光層と反対側の面にアンチグレア層を設けてもよい。
【0025】
又、前記位相差光学素子を、複数の位相差層が積層された構成とし、且つ、相隣接する位相差層の平均屈折率の差を0.05以下の範囲に制限してもよい。
【0026】
又、前記位相差光学素子を前記第2の透光性基材にパターン状に形成してもよい。
【0027】
又、前記位相差光学素子を、第1の位相差層と、第2の位相差層とを積層した構成とし、且つ、前記第1の位相差層のネマチック液晶成分と前記第2の位相差層のネマチック液晶成分とを同一としてもよい。
【0028】
又、本発明は、透光性基材の表面に配向膜を形成する配向膜形成工程と、ネマチック液晶、及びカイラル剤をネマチック液晶に配合してなるカイラルネマチック液晶のいずれかの液晶を前記配向膜にコーティングする第1のコーティング工程と、このコーティングした液晶を架橋させる第1の架橋工程と、を有し、第1の位相差層を形成する第1の位相差層形成工程と、ネマチック液晶、及びカイラル剤をネマチック液晶に配合してなるカイラルネマチック液晶のいずれかの他の液晶を前記第1の位相差層にコーティングする第2のコーティング工程と、このコーティングした液晶を架橋させる第2の架橋工程と、を有し、第2の位相差層を形成する第2の位相差層形成工程と、を含んでなることを特徴とする光学フィルムの製造方法により、分子の配向方向の自由度が高く、且つ、耐熱性に優れた光学フィルムの製造を実現したものである。
【0029】
尚、前記第1の架橋工程の後に、前記第1の位相差層に所定の方向でラビング処理をするラビング工程を設け、このラビングによる前記第1の位相差層の配向規制力を用いて前記第2の位相差層の液晶分子の配向を規制してもよい。
【0030】
又、前記第1の位相差層の表面の液晶分子の配向規制力を用いて前記第2の位相差層の液晶分子の配向を規制してもよい。
【0031】
又、前記第1の架橋工程の後に、前記第1の位相差層の前記透光性基材と反対側の面に第2の配向膜を形成する第2の配向膜形成工程を設け、この第2の配向膜の配向規制力を用いて前記第2の位相差層の液晶分子の配向を規制してもよい。
【0032】
又、前記第2の配向膜に、ラビング法により前記配向規制力を付与してもよい。
【0033】
又、前記第2の配向膜に、光配向膜法により前記配向規制力を付与してもよい。
【0034】
又、本発明は、上記のいずれかに記載の光学フィルムを液晶セルの厚さ方向の一方の側に配置したことを特徴とする液晶表示装置により、上記目的を達成したものである。
【0035】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態の例を詳細に説明する。
【0036】
図1に示されるように、本実施の形態の第1例に係る光学フィルム10は、第1の透光性基材12と、偏光層14と、第2の透光性基材16と、ネマチック液晶が配向規制された状態で架橋された位相差光学素子18と、がこの順で積層されたことを特徴としている。
【0037】
第1の透光性基材12、第2の透光性基材16は、例えばトリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート等の透明フィルムで複屈折性を有している。
【0038】
偏光層14は、ヨウ素、二色性染料等を含み、一方向に延伸されたポリビニルアルコール等の透明フィルムである。
【0039】
位相差光学素子18は、具体的には、ネマチック液晶をその光軸が表面に沿うように配向規制した状態で固化されたAプレート、又は表面に垂直となるように配向規制した状態で固化されたCプレートである。
【0040】
このように、液晶を配向規制してから架橋するので、例えば、分子の長手方向が表面に垂直となるように配向された上記Cプレートのように、種々の分子配向の位相差光学素子を実現することができる。
【0041】
又、液晶を架橋するので、100°以上の高温環境でも液晶状態が保持され、位相差光学素子18は耐熱性に優れている。
【0042】
更に、透光性基材、偏光層、位相差光学素子が一体であるので、透光性基材による位相シフトの影響を加味した好適な位相シフト特性を有する光学フィルムを提供することができる。
【0043】
尚、λ/4の位相シフトが生じるような位相差光学素子とすれば、後述するような反射型の液晶表示装置の偏光素子、有機ELを用いた透過型の液晶表示装置の外光反射防止用偏光素子として使用することができる。
【0044】
次に、本発明の実施の形態の第2例について説明する。
【0045】
本実施の形態の第2例に係る光学フィルム20は、図2に示されるように前記光学フィルム10に対し、ネマチック液晶を固化した前記位相差光学素子18に代えて、ネマチック液晶にカイラル剤を配合してなるカイラルネマチック液晶を架橋及び重合のいずれかの態様で固化してなる位相差光学素子22を第2の透光性基材16に積層したものである。カイラルネマチック液晶は、カイラル剤の量を調整することにより、その選択反射波長λ=n・pがUV領域となるようにしている。ここで、nは平均屈折率、pはヘリカルピッチである。このように構成した位相差光学素子22は負のCプレートとして作用する。他の構成については、前記実施の形態の第1例に係る光学フィルム10と同様であるので図1と同一符号を用いることとして説明を適宜省略する。
【0046】
このように、カイラルネマチック規則性(コレステリック規則性)の位相差光学素子22を備えることにより、例えば、垂直配向したネマチック規則性の液晶相を呈する液晶セルからの出射光に対し好適な光学補償を実現することができる。
【0047】
次に、本発明の実施の形態の第3例について説明する。
【0048】
本実施の形態の第3例に係る光学フィルム30は、図3に示されるように前記光学フィルム10(20)に対し、前記位相差光学素子18(22)を第1の位相差層としてこの上に更に第2の位相差層32を積層して2層構造の位相差光学素子34としたものである。他の構成については、前記光学フィルム10、20と同様であるので図1又は図2と同一符号を用いることとして説明を適宜省略する。
【0049】
このように、2層構造の位相差光学素子とすることにより、それぞれのプレートの光学特性が合成され、それだけ多様な光学特性を実現することができる。
【0050】
例えば、AプレートとCプレートとを積層してなる位相差光学素子、ネマチック層とカイラルネマチック層とを積層してなる位相差光学素子等の二層構造の位相差光学素子とすることにより、それだけ多様な光学補償等を実現することができる。
【0051】
更に、3層以上の多層の位相差層を積層した位相差光学素子とすれば、一層多様な光学特性を実現し得ることは言うまでもない。
【0052】
尚、複数の位相差層を積層する場合、相隣接する位相差層の平均屈折率の差を0.05以下の範囲に制限することが好ましい。このようにすることで、複数の位相差層の境界面における屈折が微小な範囲に制限され、良好な光学特性が得られる。更に、複数の位相差層を積層する場合、各位相差層のネマチック液晶成分が同一であるようにするとよい。このようにすることで、境界面における密着強度が増大する。
【0053】
次に、本発明の実施の形態の第4例について説明する。
【0054】
本実施の形態の第4例に係る光学フィルム40は、図4に示されるように、前記光学フィルム10、20、30は、前記位相差光学素子18、22、34が前記第2の透光性基材16の全面に一様に積層されているのに対し、第2の透光性基材16上を複数の領域に分割し、各領域毎に異なる態様で位相差光学素子42をパターン状に積層したものである。具体的には、この実施の形態の例では、碁盤状のパターンとしたが、目的に応じて種々のパターンとすればよく、例えばストライプ状のパターンとしてもよい。他の構成については、前記光学フィルム10、20、30と同様であるので説明を適宜省略する。
【0055】
このように、位相差光学素子を種々のパターンで形成することにより、多様な位相シフトを実現することができる。例えば、マルチドメイン方式の液晶セルに対し、液晶セルの各配向領域に対応したパターンで位相差層を形成すれば、好適な光学補償を実現し得る。
【0056】
次に、本発明の実施の形態の第5例について説明する。
【0057】
本実施の形態の第5例に係る光学フィルム50は、図5に示されるように、前記光学フィルム10、20、30、40に対し、第1の透光性基材12の偏光層14と反対側の面にアンチグレア層52を設けたものである。他の構成については、前記光学フィルム10、20、30、40と同様であるので、図1〜図4と同一符号を付することとして説明を適宜省略する。
【0058】
アンチグレア層は、例えば、シリカ微粒子等を配合した樹脂等が固化され、表面に微細な凹凸が形成された層であり、外光を多方向に散乱することにより偏光板表面への照明等の写り込み、指紋等の付着を防止するものである。
【0059】
このように、アンチグレア層を設けることにより、1枚の光学フィルムで位相シフト効果、偏光抽出効果と共に防眩効果が得られ、液晶表示装置等の生産を一層容易化し、コスト低減等に寄与することができる。
【0060】
次に、前記光学フィルム10(20、30、40、50)を液晶表示装置に適用した実施の形態の例について説明する。
【0061】
図6に示されるように、本発明の実施の形態の第6例は、透過型の液晶表示装置60の液晶セル62の厚さ方向の一方の側(出射側)に、前記光学フィルム10(20、30、40、50)を配設したものである。尚、図中の符号64は、入射側の偏光層である。
【0062】
上述したように、光学フィルム10(20、30、40、50)は液晶セル62からの出射光を高精度で補償することができ、視野依存性の問題を大幅に改善することができる。尚、光学補償の目的に応じて液晶セル62の入射側、又は入射側及び出射側の両側に光学フィルム10(20、30、40、50)を配設してもよい。
【0063】
本発明の実施の形態の第7例は、図7に示されるように液晶表示装置70が有機ELを用いた表示素子72を備え、この表示素子72の出射側に、前記光学フィルム10(20、30、40、50)を配設したものである。尚、図中の符号74は、入射側の偏光層である。この場合、光学フィルムを、λ/4の位相シフトが生じるような構成とすることにより、外光反射防止用偏光素子として使用することができる。
【0064】
本発明の実施の形態の第8例は、図8に示されるように反射型の液晶表示装置80の液晶セル82の表示側に、前記光学フィルム10(20、30、40、50)を配設したものである。尚、図中の符号84は、反射層である。この場合、λ/4の位相シフトが生じるように光学フィルムを構成することにより、光学フィルム10(20、30、40、50)の1枚の偏光層14で任意の画像表示を実現することができ、光の使用効率がよい。又、λ/2位相差層をλ/4位相差層に積層した構成とし、且つ、λ/2位相差層の進相軸と、λ/4位相差層の進相軸と、が60±10度の角度範囲で交差するように構成すれば、例えば特開平10−68816号公報、特開2001−066598号公報に示されるように、このような反射型液晶表示装置における適用波長分散特性を大幅に改善することができる。
【0065】
尚、λ/2位相差層及びλ/4位相差層のいずれかに更にCプレートを積層してもよい。このようにすれば、Cプレートによる視角依存性低減効果も得られる。
【0066】
次に、前記光学フィルム10(20)の製造方法について説明する。
【0067】
まず、図9に示されるように、第1の透光性基材12と、偏光層14と、第2の透光性基材16と、を用意し、この順で接着する。接着剤としては、例えば、アクリル系、シリコン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等の透明な接着剤を用いることが好ましい。
【0068】
次に、第2の透光性基材16に位相差光学素子18(22)を積層する工程について説明する。
【0069】
位相差光学素子18(22)は、材料として液晶性モノマー又は液晶性オリゴマーを用いて3次元架橋することにより形成することができる。
【0070】
ここで、3次元架橋とは、重合性モノマー又はオリゴマー分子が互いに3次元的に重合し網目(ネットワーク)構造になっていることを意味する。このような状態になっていると、ネマチック(又はカイラルネマチック)構造の状態に保持したままで光学的に固定し、常温のみならず100°以上の高温環境下でも安定したフィルム状の光学膜として構成することができるので、取扱性を向上させることができる。
【0071】
所定の重合性モノマー分子(又は重合性オリゴマー分子)を所定の温度で液晶相にするとネマチック液晶になる。尚、これに任意のカイラル剤を添加すれば、カイラルネマチック液晶(コレステリック液晶)となる。
【0072】
尚、重合性モノマー分子(又は重合性オリゴマー分子)は、溶媒に溶かしたコーティング液としてもよいが、この場合は、紫外線や電子線照射を照射して3次元架橋させる前に溶媒を蒸発させるための乾燥工程が必要となる。
【0073】
3次元架橋可能なモノマー分子としては、例えば特開平7−258638号公報や特表平10−508882号公報で開示されているような、液晶性モノマー及びキラル化合物の混合物がある。より具体的な例を示すと、例えば一般化学式(1)〜(11)に示されるような液晶性モノマーを用いることができる。尚、一般化学式(11)で示される液晶性モノマーの場合、Xは2〜5(整数)であることが望ましい。
【0074】
【化1】
Figure 2004109171
【0075】
【化2】
Figure 2004109171
【0076】
【化3】
Figure 2004109171
【0077】
【化4】
Figure 2004109171
【0078】
【化5】
Figure 2004109171
【0079】
【化6】
Figure 2004109171
【0080】
【化7】
Figure 2004109171
【0081】
【化8】
Figure 2004109171
【0082】
【化9】
Figure 2004109171
【0083】
【化10】
Figure 2004109171
【0084】
【化11】
Figure 2004109171
【0085】
又、カイラル剤としては、例えば一般化学式(12)〜(14)に示されるようなカイラル剤を用いることができる。尚、一般化学式(12)、(13)で示されるカイラル剤の場合、Xは2〜12(整数)であることが望ましく、又、一般化学式(14)で示されるカイラル剤の場合、Xが2〜5(整数)であることが望ましい。
【0086】
【化12】
Figure 2004109171
【0087】
【化13】
Figure 2004109171
【0088】
【化14】
Figure 2004109171
【0089】
又、オリゴマー分子を用いる場合は、特開昭57−165480号公報で開示されているようなコレステリック相を有する環式オルガノポリシロキ酸化合物等が望ましい。
【0090】
この実施の形態の例では、重合性モノマー分子又は重合性オリゴマー分子に、カイラル剤を数%〜10%程度入れることによりカイラルネマチック液晶を得る。
【0091】
まず、図10(A)に示されるように、第2の透光性基材16上に配向膜90を、従来知られている方法で形成する。例えば、第2の透光性基材16上にポリイミドを成膜し、ラビングする方法、第2の透光性基材16上に光配向膜となる高分子化合物を成膜し、偏光UV(紫外線)を照射する方法、延伸したPET(ポリエチレンテレフタレート)等のフィルムを用いる方法等がある。
【0092】
このようにして形成した配向膜90に、図10(B)に示されるように、重合性モノマー分子(又は重合性オリゴマー分子)92をコーティングし、配向膜90の配向規制力によって配向(このとき、コーティングされた重合性モノマー分子等はコレステリック液晶層を構成している)させる。
【0093】
尚、ラビング法を用いる場合、配向膜90を用いることなく、第2の透光性基材16の表面を所定の方向に沿って直接ラビング処理し、重合性モノマー分子(又は重合性オリゴマー分子)92の配向を任意に規制することもできる。
【0094】
他の配向規制の方法としては、垂直配向剤を用いて、表面に垂直な配向とすることができ、又、液晶に電界又は磁界を印加する方法等を用いることができる。
【0095】
次に、上記配向状態のままで、図10(C)に示されるように、重合性モノマー分子(又は重合性オリゴマー分子)92を、予め添加しておいた光開始材と外部から照射した紫外線によって重合を開始させるか、又は電子線で直接重合を開始させて、3次元架橋(ポリマー化)させることにより、位相差光学素子18(22)を得る。これにより、光学フィルム10(20)が完成する。
【0096】
尚、配向膜90の配向規制力の方向を同配向膜90の膜上の全範囲で実質的に一致させておけば、これと接触する側の位相差光学素子18(22)における液晶分子のダイレクターの方向を、該面内で実質的に一致させることができる。
【0097】
ここで「実質的に一致」とは、液晶分子の頭と尻が光学的に区別できないので液晶分子の頭同志が同一方向である場合の他、180°ずれている場合、即ち液晶分子の頭又は尻が同一方向である場合も含むことを意味する。
【0098】
又、カイラルネマチック規則性の位相差光学素子22を形成する場合、配向膜90から離間している側の表面における液晶分子のダイレクターを実質的に一致させるためには、均一な膜厚とすればよい。
【0099】
又、カイラルネマチック規則性のヘリカルピッチp×0.5×整数倍の均一な膜厚で位相差光学素子22を形成すれば、重合性モノマー分子(又は重合性オリゴマー分子)92の両面におけるダイレクターの方向を実質的に一致させることができる。
【0100】
このように、位相差層の表面における液晶分子のダイレクターの方向を実質的に一致させることにより、一層表示品位を高めることができる。
【0101】
次に、前記光学フィルム30の製造方法について説明する。
【0102】
前述のように、光学フィルム30は、前記光学フィルム10(20)の前記位相差光学素子18(22)を第1の位相差層として、この上に更に第2の位相差層32を積層して2層構造の位相差光学素子34としたものである。即ち、第1の透光性基材12と、偏光層14と、第2の透光性基材16と、(第1の)位相差光学素子18(22)と、を積層する工程については、図9及び図10に示す工程と同じであるのでこの工程については同一符号を用いることとして説明を省略する。
【0103】
まず、図11(A)に示されるように、所定の温度でネマチック構造又はカイラルネマチック構造の液晶相とした重合性モノマー分子(又は重合性オリゴマー分子)94を別途用意し、これを位相差光学素子(第1の位相差層)18(22)の上に直接コーティングし、該コーティングした液晶の厚さ方向の一方の表面における液晶分子のダイレクターの方向を、前記3次元架橋させた第1の位相差光学素子18(22)の表面の配向規制力によって規制する(このとき、コーティングされた重合性モノマー分子又は重合性オリゴマー分子はネマチック液晶相又はカイラルネマチック液晶相を構成している)。この状態で、図11(B)に示されるように、前述と同様の紫外線照射又は電子線単独照射によって3次元架橋させて固化させ、第2の位相差層32を得る。
【0104】
これにより、光学フィルム30が完成する。
【0105】
このように、位相差光学素子(第1の位相差層)18(22)の表面の配向規制力によって第2の位相差層32の配向を規制することにより、2つの位相差層の境界面における液晶分子のダイレクターの方向を精細に一致させることができ、これにより一層表示品位が高い液晶表示装置を実現することができる。
【0106】
一方、図12(A)に示されるように、位相差光学素子(第1の位相差層)18(22)を固化した後、位相差光学素子(第1の位相差層)18(22)の上に第2の配向膜96を形成し、更に重合性モノマー分子(又は重合性オリゴマー分子)94をコーティングしてこの第2の配向膜96配向規制力により配向を規制してもよい。この場合も2つの位相差層の境界面における液晶分子のダイレクターの方向を一致させることができるが、2つの位相差層の境界面における液晶分子のダイレクターの方向を所定の角度差で交差させることもできる。尚、配向膜96にコーティングした重合性モノマー分子(又は重合性オリゴマー分子)94は、図12に示されるように、前述と同様の紫外線照射又は電子線単独照射によって3次元架橋させて固化させ、第2の位相差層32を得る。
【0107】
これにより、例えば前述のような、λ/2位相差層とλ/4位相差層とを、これらの進相角が相互に60±10°の範囲の角度差で交差するように角度を制限して積層することができる。
【0108】
第2の配向膜96に配向規制力を付与する方法としては、公知の光配向膜法、ラビング法等を用いることができる。
【0109】
尚、ラビング法を用いる場合、第2の配向膜96を用いることなく、位相差光学素子(第1の位相差層)18(22)の表面を所定の方向に沿って直接ラビング処理し、第2の位相差層32の配向を任意に規制することもできる。
【0110】
又、垂直配向剤を用いて液晶分子の長軸方向が表面に垂直な配向規制をすることもできる。
【0111】
最後に、アンチグレア層52の形成方法について簡単に説明しておく。
【0112】
アンチグレア層52は、公知の方法により、第1の透光性基材12にシリカ微粒子等を含む樹脂をコーティングして固化することにより形成することができる。
【0113】
具体的には、シリカ微粒子等を含む紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等を第1の透光性基材12にコーティングし、紫外線、電子線等を照射することにより固化する。又、熱溶融した樹脂を冷却して固化してもよい。
【0114】
【実施例】
実施例1:ネマチック液晶を表面に沿って配向させた状態で固化させ、厚さdが1.2μm、1.6μm、2.0μm、3.0μm、4.0μmの5種類のAプレートを作成した。図13に、厚さdをパラメーターとして波長λ(nm)と位相シフト量R(nm)の関係を示す。
【0115】
実施例2:カイラルネマチック液晶をプレ−ナ配向させた状態で固化させ、厚さdが1.3μm、2.1μm、3.2μmの3種類の負のCプレートを作成した。図14に、厚さdをパラメーターとして視角V(°)と位相シフト量R(nm)の関係を示す。
【0116】
実施例3:、厚さdが0.5μm、1.7μmの2種類のAプレートに直接、負のCプレートを積層した。図15に、Aプレートの厚さdをパラメーターとして視角V(°)と位相シフト量R(nm)の関係を示す
【0117】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、多様な光学補償の要望に対する好適な位相シフト特性が100°以上の高温環境下でも保持される光学フィルムを実現することができ、又、液晶表示装置の設計、生産の容易化を図ることが可能となるという優れた効果がもたらされる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の第1例に係る光学フィルムの構造を模式的に示す側断面図
【図2】本発明の実施の形態の第2例に係る光学フィルムの構造を模式的に示す側断面図
【図3】本発明の実施の形態の第3例に係る光学フィルムの構造を模式的に示す側断面図
【図4】本発明の実施の形態の第4例に係る光学フィルムの位相差層のパターン形状を模式的に示す平面図
【図5】本発明の実施の形態の第5例に係る光学フィルムの構造を模式的に示す側断面図
【図6】本発明の実施の形態の第6例に係る液晶表示装置の構造を模式的に示す側断面図
【図7】本発明の実施の形態の第7例に係る液晶表示装置の構造を模式的に示す側断面図
【図8】本発明の実施の形態の第8例に係る液晶表示装置の構造を模式的に示す側断面図
【図9】本発明の実施の形態の例に係る光学フィルムの製造工程の一部を模式的に示す側断面図
【図10】同光学フィルムの位相差層の形成工程を模式的に示す側断面図
【図11】同光学フィルムの第2の位相差層の形成工程を模式的に示す側断面図
【図12】同第2の位相差層の第2の配向膜を用いた形成工程を模式的に示す側断面図
【図13】本発明の実施例1に係るAプレートにおける波長λ(nm)と位相シフト量R(nm)の関係を、厚さdをパラメーターとして示すグラフ
【図14】本発明の実施例2に係るCプレートにおける視角V(°)と位相シフト量R(nm)の関係を、厚さdをパラメーターとして示すグラフ
【図15】本発明の実施例3に係るAプレート及びCプレートの積層体における視角V(°)と位相シフト量R(nm)の関係を、Aプレートの厚さdをパラメーターとして示すグラフ
【符号の説明】
10、20、30、40、50…光学フィルム
12…第1の透光性基材
14…偏光層
16…第2の透光性基材
18、22、34、42…位相差光学素子
32…第2の位相差層
52…アンチグレア層
60、70、80…液晶表示装置
90…配向膜
96…第2の配向膜

Claims (16)

  1. 第1の透光性基材と、偏光層と、第2の透光性基材と、ネマチック液晶、及びカイラル剤をネマチック液晶に配合してなるカイラルネマチック液晶のいずれかの液晶が配向規制された状態で架橋された位相差光学素子と、がこの順で積層された
    ことを特徴とする光学フィルム。
  2. 請求項1において、
    前記位相差光学素子は、前記第2の透光性基材から順に積層された第1の位相差層及び第2の位相差層からなり、その一方がλ/2位相差層からなり、他方がλ/4位相差層からなる構成であり、且つ、前記λ/2位相差層の進相軸と、前記λ/4位相差層の進相軸と、が60±10度の角度範囲で交差している
    ことを特徴とする光学フィルム。
  3. 請求項2において、
    前記位相差光学素子は、前記第2の位相差層に更にCプレートが積層された構成である
    ことを特徴とする光学フィルム。
  4. 請求項1において、
    前記位相差光学素子は、前記第2の透光性基材から順に積層された第1の位相差層及び第2の位相差層からなり、その一方がAプレート、他方がCプレートで各々構成された
    ことを特徴とする光学フィルム。
  5. 請求項1において、
    前記位相差光学素子は位相差層としてCプレートを含む構成である
    ことを特徴とする光学フィルム。
  6. 請求項1乃至5のいずれかにおいて、
    前記第1の透光性基材の前記偏光層と反対側の面にアンチグレア層が設けられた
    ことを特徴とする光学フィルム。
  7. 請求項1乃至6のいずれかにおいて、
    前記位相差光学素子は、複数の位相差層が積層された構成であり、且つ、相隣接する位相差層の平均屈折率の差が0.05以下の範囲に制限された
    ことを特徴とする光学フィルム。
  8. 請求項1乃至7のいずれかにおいて、
    前記位相差光学素子が前記第2の透光性基材にパターン状に形成されている
    ことを特徴とする光学フィルム。
  9. 請求項1乃至8のいずれかにおいて、
    前記位相差光学素子は、第1の位相差層と、第2の位相差層とが積層された構成であり、且つ、前記第1の位相差層のネマチック液晶成分と前記第2の位相差層のネマチック液晶成分とが同一である
    ことを特徴とする光学フィルム。
  10. 透光性基材の表面に配向膜を形成する配向膜形成工程と、ネマチック液晶、及びカイラル剤をネマチック液晶に配合してなるカイラルネマチック液晶のいずれかの液晶を前記配向膜にコーティングする第1のコーティング工程と、このコーティングした液晶を架橋させる第1の架橋工程と、を有し、第1の位相差層を形成する第1の位相差層形成工程と、
    ネマチック液晶、及びカイラル剤をネマチック液晶に配合してなるカイラルネマチック液晶のいずれかの他の液晶を前記第1の位相差層にコーティングする第2のコーティング工程と、このコーティングした液晶を架橋させる第2の架橋工程と、を有し、第2の位相差層を形成する第2の位相差層形成工程と、を含んでなる
    ことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
  11. 請求項10において
    前記第1の架橋工程の後に、前記第1の位相差層に所定の方向でラビング処理をするラビング工程を設け、このラビングによる前記第1の位相差層の配向規制力を用いて前記第2の位相差層の液晶分子の配向を規制する
    ことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
  12. 請求項10において、
    前記第1の位相差層の表面の液晶分子の配向規制力を用いて前記第2の位相差層の液晶分子の配向を規制する
    ことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
  13. 請求項10において、
    前記第1の架橋工程の後に、前記第1の位相差層の前記透光性基材と反対側の面に第2の配向膜を形成する第2の配向膜形成工程を設け、この第2の配向膜の配向規制力を用いて前記第2の位相差層の液晶分子の配向を規制する
    ことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
  14. 請求項13において、
    前記第2の配向膜は、ラビング法により前記配向規制力が付与された
    ことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
  15. 請求項13において、
    前記第2の配向膜は、光配向膜法により前記配向規制力が付与された
    ことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
  16. 請求項1乃至9のいずれかに記載の光学フィルムが液晶セルの厚さ方向の少なくとも一方の側に配置された
    ことを特徴とする液晶表示装置。
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