JPWO2014064944A1 - 基板位置合わせ装置、基板貼り合わせ装置、基板位置合わせ方法、積層半導体装置の製造方法、及び基板貼り合わせ方法 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 525
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 71
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 27
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 25
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 7
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 claims 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 12
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 12
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 12
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 11
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 9
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 8
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 7
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 1
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67092—Apparatus for mechanical treatment
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B41/00—Arrangements for controlling or monitoring lamination processes; Safety arrangements
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/0046—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by constructional aspects of the apparatus
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
- B32B37/16—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with all layers existing as coherent layers before laminating
- B32B37/18—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with all layers existing as coherent layers before laminating involving the assembly of discrete sheets or panels only
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
- B32B38/18—Handling of layers or the laminate
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
- H01L21/681—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
[特許文献1] 特開2005−251972号公報
また、過去に計測された位置ずれ発生時の波形のデータを記憶しておいてもよい。この場合、判断部314は、検出した波形と、位置ずれが発生するときの波形とを比較することにより、位置ずれが発生するか否かを判断する。
更に、判断部314は、位置ずれの発生を判断する予め定められた閾値を超える大きさの振幅が、予め定められた閾値を超える期間連続して発生している場合に、位置ずれが発生することを判断してもよい。この場合、閾値は、振幅の大きさと、予め定められた大きさの振幅が連続して発生している期間とによって設定される。また、振幅の閾値は、図11および12で示した例における閾値よりも小さくてもよい。この場合も、過去に計測された振幅および期間と位置ずれとの相関関係を記憶しておき、判断部314は、この記憶されたデータと計測した振幅および期間との比較により、位置ずれが発生するか否かを判断する。
Claims (57)
- 第1基板と第2基板とを互いに接合する基板貼り合わせ装置であって、
前記第1基板と前記第2基板とを互いに位置合わせ装置で位置合わせする位置合わせ部と、
位置合わせされた前記第1基板および前記第2基板を位置合わせ部から搬出する搬送部と、
前記搬送部により搬送された前記第1基板と前記第2基板とを互いに貼り合わせる貼り合わせ部と、
前記位置合わせ部での位置合わせ後、前記搬送部により搬出される前に、前記第1基板と前記第2基板との位置ずれの有無を判断する判断部と、
を備えることを特徴とする基板貼り合わせ装置。 - 前記判断部は、前記第1基板および前記第2基板の位置ずれの有無を前記位置合わせ部内の前記第1基板および前記第2基板の情報に基づいて判断する請求項1に記載の基板貼り合わせ装置。
- 前記第1基板および前記第2基板の少なくとも一方に関する位置情報を検出する位置検出部を更に備え、
前記判断部は、前記位置情報に基づいて、前記第1基板および前記第2基板の位置ずれの有無を判断する請求項2に記載の基板貼り合わせ装置。 - 前記判断部は、前記位置情報と、位置ずれの発生を判断する閾値とを比較して、位置ずれの発生の有無を判断する
請求項3に記載の基板貼り合わせ装置。 - 前記閾値は、前記位置情報と位置ずれとの過去の相関関係に基づいて設定される請求項4に記載の基板貼り合わせ装置。
- 前記閾値は、前記位置情報の検出のタイミングに応じて設定されている
請求項4または5に記載の基板貼り合わせ装置。 - 前記第1基板および前記第2基板の少なくとも一方を保持する保持部を更に備え、
前記位置情報は、前記保持部の位置に関する情報を含む
請求項4から6のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ装置。 - 前記位置情報は、前記保持部に固定された反射部材または前記基板から反射された光の干渉による光の強度を示す信号の情報を含む
請求項7に記載の基板貼り合わせ装置。 - 前記位置情報は、前記信号の振幅を含む請求項8に記載の基板貼り合わせ装置。
- 前記判断部は、前記振幅の最大値が前記閾値以上であるか否かを判断し、前記最大値が前記閾値以上である場合に位置ずれが発生することを判断する請求項9に記載の基板貼り合わせ装置。
- 前記閾値は、前記振幅の大きさと、予め定められた大きさの前記振幅が連続して発生している期間とに設定されており、
前記判断部は、前記閾値を超える大きさの振幅が前記閾値を超える期間連続して発生している場合に、位置ずれが発生することを判断する請求項9または10に記載の基板貼り合わせ装置。 - 前記位置情報は、前記信号の波形を含む請求項8から11のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ装置。
- 前記判断部は、前記波形と、位置ずれが発生するときの波形とを比較することにより、位置ずれが発生することを判断する請求項12に記載の基板貼り合わせ装置。
- 前記判断部は、前記位置情報に基づいて、前記第1基板および前記第2基板に位置ずれが前記位置情報の検出後に発生するか否かを推測する請求項3から13のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ装置。
- 前記判断部は、前記位置ずれが発生すると推測した場合、前記位置情報の検出後の工程を制御する制御部による制御を変更するよう出力する請求項14に記載の基板貼り合わせ装置。
- 前記判断部は、前記位置情報に基づいて、前記位置ずれが発生する要因を推定する請求項14または15に記載の基板貼り合わせ装置。
- 前記判断部は、前記位置情報と、過去の位置ずれ発生の要因との相関関係に基づいて前記要因を推定する請求項16に記載の基板貼り合わせ装置。
- 前記位置検出部が検出する前記位置情報は、前記第1基板および前記第2基板の面と平行な方向における前記第1基板および前記第2基板に関する位置情報を含む請求項3から17のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ装置。
- 前記位置検出部が検出する前記位置情報は、前記第1基板および前記第2基板の面と垂直な方向における前記第1基板および前記第2基板に関する位置情報を含む請求項3から18のいずれか1項に記載の基板貼り合わせ装置。
- 前記判断部は、前記位置情報と、位置ずれの発生を判断する閾値とを比較して、位置ずれの発生の有無を判断し、前記閾値は、前記方向ごとに設定される請求項18または19に記載の基板貼り合わせ装置。
- 前記閾値は、位置ずれの発生確率に応じて重み付けされている請求項5に記載の基板貼り合わせ装置。
- 前記判断部は、位置合わせされた前記第1基板および前記第2基板が互いに接触した時の前記位置情報から位置ずれを判断する請求項3から21のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ装置。
- 前記判断部は、前記搬送部が前記第1基板および前記第2基板の少なくも一方に接触した時の前記位置情報から位置ずれを判断する請求項3から22のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ装置。
- 前記第1基板および前記第2基板の少なくとも一方を保持する基板ホルダを備え、
前記基板ホルダには、前記第1基板および前記第2基板を重ね合わされた状態でクランプするクランプ部が設けられており、
前記判断部は、前記クランプ部によるクランプ時の前記位置情報から位置ずれを判断する請求項3から23のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ装置。 - 位置合わせされて重ね合わせされた前記第1基板および前記第2基板をクランプするクランプ部を備え、
前記判断部は、前記クランプ部によるクランプ時の前記位置情報から位置ずれを判断する請求項3から24のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ装置。 - 前記第1基板および前記第2基板の少なくともいずれか一方を移動させる移動部と、
前記移動部を駆動させて前記第1基板および前記第2基板を位置合わせする駆動制御部とを備え、
前記判断部が、前記位置情報に基づいて、位置合わせ後に位置ずれを検出した場合、前記駆動制御部は、再度、前記第1基板および前記第2基板を位置合わせする
請求項3から25のいずれか1項に記載の基板貼り合わせ装置。 - 前記位置合わせ部内の前記第1基板および前記第2基板の情報は、前記第1基板および前記第2基板の位置の時間変化に関する情報を含む請求項2から26のいずれか1項に記載の基板貼り合わせ装置。
- 一対の基板を位置合わせする位置合わせ部と、
前記位置合わせ部によって位置合わせされた前記一対の基板の位置ずれの有無を前記位置合わせ装置内の前記一対の基板の情報で判断する判断部とを備える位置合わせ装置。 - 第1基板と第2基板とを互いに接合する基板貼り合わせ方法であって、
前記第1基板と前記第2基板とを互いに位置合わせ部で位置合わせする位置合わせ工程と、
位置合わせされた前記第1基板および前記第2基板を位置合わせ部から搬出する搬送工程と、
前記搬送工程により搬送された前記第1基板と前記第2基板とを互いに貼り合わせる貼り合わせ工程と、
前記位置合わせ部での位置合わせ後、前記搬送工程により搬出される前に、前記第1基板と前記第2基板との位置ずれの有無を判断する判断工程と、を含むことを特徴とする基板貼り合わせ方法。 - 前記判断工程は、前記第1基板および前記第2基板の位置ずれの有無を前記位置合わせ部内の前記第1基板および前記第2基板の情報に基づいて判断する請求項29に記載の基板貼り合わせ方法。
- 前記第1基板および前記第2基板の少なくとも一方に関する位置情報を検出する位置検出工程を更に備え、
前記判断工程は、前記位置情報に基づいて、前記第1基板および前記第2基板の位置ずれの有無を判断する請求項30に記載の基板貼り合わせ方法。 - 前記判断工程は、前記位置情報と、位置ずれの発生を判断する閾値とを比較して、位置ずれの発生の有無を判断する
請求項31に記載の基板貼り合わせ方法。 - 前記位置情報と位置ずれとの過去の相関関係に基づいて前記閾値を設定する請求項32に記載の基板貼り合わせ方法。
- 前記位置情報の検出のタイミングに応じて前記閾値を設定する請求項32または33に記載の基板貼り合わせ方法。
- 前記位置情報は、前記第1基板および前記第2基板の少なくとも一方を保持する保持部の位置に関する情報を含む
請求項32から34のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ方法。 - 前記位置情報は、前記保持部に固定された反射部材または前記基板から反射された光の干渉による光の強度を示す信号の情報を含む請求項35に記載の基板貼り合わせ方法。
- 前記位置情報は、前記信号の振幅を含む請求項36に記載の基板貼り合わせ方法。
- 前記判断工程は、前記振幅の最大値が前記閾値以上であるか否かを判断し、前記最大値が前記閾値以上である場合に位置ずれが発生することを判断する請求項37に記載の基板貼り合わせ方法。
- 前記閾値は、前記振幅の大きさと、予め定められた大きさの前記振幅が連続して発生している期間とに設定されており、
前記判断工程は、前記閾値を超える大きさの振幅が前記閾値を超える期間連続して発生している場合に、位置ずれが発生することを判断する請求項37または38に記載の基板貼り合わせ方法。 - 前記位置情報は、前記信号の波形を含む請求項36から39のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ方法。
- 前記判断工程は、前記波形と、位置ずれが発生するときの波形とを比較することにより、位置ずれが発生することを判断する請求項40に記載の基板貼り合わせ方法。
- 前記判断工程は、前記位置情報に基づいて、前記位置情報の検出後に前記第1基板および前記第2基板に位置ずれが発生するか否かを推測する請求項35から41のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ方法。
- 前記判断工程は、前記位置ずれが発生すると推測した場合、前記位置情報の検出後の工程を制御する制御部による制御を変更するよう出力する請求項42に記載の基板貼り合わせ方法。
- 前記判断工程は、前記位置情報に基づいて、前記位置ずれが発生する要因を推定する請求項42または43に記載の基板貼り合わせ方法。
- 前記判断工程は、前記位置情報と、過去の位置ずれ発生の要因との相関関係に基づいて前記要因を推定する請求項44に記載の基板貼り合わせ方法。
- 前記位置検出工程が検出する前記位置情報は、前記第1基板および前記第2基板の面と平行な方向における前記第1基板および前記第2基板に関する位置情報を含む請求項31から45のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ方法。
- 前記位置検出工程が検出する前記位置情報は、前記第1基板および前記第2基板の面と垂直な方向における前記第1基板および前記第2基板に関する位置情報を含む請求項31から46のいずれか1項に記載の基板貼り合わせ方法。
- 前記判断工程は、前記位置情報と、位置ずれの発生を判断する閾値とを比較して、位置ずれの発生の有無を判断し、前記閾値は、前記方向ごとに設定される請求項46または47に記載の基板貼り合わせ方法。
- 前記閾値は、位置ずれの発生確率に応じて重み付けされている請求項33に記載の基板貼り合わせ方法。
- 前記判断工程は、位置合わせされた前記第1基板および前記第2基板が互いに接触した時の前記位置情報から位置ずれを判断する
請求項31から49のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ方法。 - 前記判断工程は、前記搬送工程が前記第1基板および前記第2基板の少なくも一方に接触した時の前記位置情報から位置ずれを判断する請求項31から50のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ方法。
- 前記第1基板および前記第2基板の少なくとも一方を保持する基板ホルダを備え、
前記基板ホルダには、前記第1基板および前記第2基板を重ね合わされた状態でクランプするクランプ部が設けられており、
前記判断工程は、前記クランプ部によるクランプ時の前記位置情報から位置ずれを判断する請求項31から51のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ方法。 - 位置合わせされて重ね合わせされた前記第1基板および前記第2基板をクランプするクランプ部を備え、
前記判断工程は、前記クランプ部によるクランプ時の前記位置情報から位置ずれを判断する請求項31から52のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ方法。 - 前記第1基板および前記第2基板の少なくともいずれか一方を移動させる移動部と、
前記移動部を駆動させて前記第1基板および前記第2基板を位置合わせする駆動制御部とを備え、
前記判断工程が、前記位置情報に基づいて、位置合わせ後に位置ずれを検出した場合、前記駆動制御部は、再度、前記第1基板および前記第2基板を位置合わせする
請求項31から53のいずれか1項に記載の基板貼り合わせ方法。 - 前記位置合わせ部内の前記第1基板および前記第2基板の情報は、前記第1基板および前記第2基板の位置の時間変化に関する情報を含む
請求項30から54のいずれか1項に記載の基板貼り合わせ方法。 - 一対の基板を位置合わせ部で位置合わせする位置合わせ段階と、
前記位置合わせ段階で位置合わせされた前記一対の基板の位置ずれの有無を前記位置合わせ部内の前記一対の基板の情報で判断する判断段階と
を備える位置合わせ方法。 - 請求項31から56のいずれか1項に記載の基板貼り合わせ方法を含む積層半導体装置の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012236841 | 2012-10-26 | ||
JP2012236841 | 2012-10-26 | ||
PCT/JP2013/006334 WO2014064944A1 (ja) | 2012-10-26 | 2013-10-25 | 基板貼り合わせ装置、位置合わせ装置、基板貼り合わせ方法、位置合わせ方法、及び、積層半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2014064944A1 true JPWO2014064944A1 (ja) | 2016-09-08 |
JP6344240B2 JP6344240B2 (ja) | 2018-06-20 |
Family
ID=50544328
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014543158A Active JP6344240B2 (ja) | 2012-10-26 | 2013-10-25 | 基板位置合わせ装置、基板貼り合わせ装置、基板位置合わせ方法、及び基板貼り合わせ方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9919508B2 (ja) |
EP (1) | EP2913841B1 (ja) |
JP (1) | JP6344240B2 (ja) |
KR (1) | KR102191735B1 (ja) |
CN (1) | CN104756227B (ja) |
TW (1) | TWI625797B (ja) |
WO (1) | WO2014064944A1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
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US12084824B2 (en) | 2015-03-06 | 2024-09-10 | Walmart Apollo, Llc | Shopping facility assistance systems, devices and methods |
WO2016142794A1 (en) | 2015-03-06 | 2016-09-15 | Wal-Mart Stores, Inc | Item monitoring system and method |
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- 2013-10-25 TW TW102138614A patent/TWI625797B/zh active
- 2013-10-25 CN CN201380056169.2A patent/CN104756227B/zh active Active
- 2013-10-25 EP EP13849822.5A patent/EP2913841B1/en active Active
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KR20150074084A (ko) | 2015-07-01 |
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EP2913841A1 (en) | 2015-09-02 |
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