JP5440106B2 - 基板貼り合せ装置および積層半導体装置の製造方法 - Google Patents
基板貼り合せ装置および積層半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5440106B2 JP5440106B2 JP2009255522A JP2009255522A JP5440106B2 JP 5440106 B2 JP5440106 B2 JP 5440106B2 JP 2009255522 A JP2009255522 A JP 2009255522A JP 2009255522 A JP2009255522 A JP 2009255522A JP 5440106 B2 JP5440106 B2 JP 5440106B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- substrate holder
- holder
- separation
- laminated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 572
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 73
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 claims description 17
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 15
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 6
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 4
- 238000013459 approach Methods 0.000 claims 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 29
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 231100000989 no adverse effect Toxicity 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
Images
Description
Claims (20)
- 第1の基板ホルダに保持された第1の半導体ウエハと、第2の基板ホルダに保持された第2の半導体ウエハとを、互いに位置合わせして重ね合せる位置合わせ部と、
前記位置合わせされた前記第1の半導体ウエハと前記第2の半導体ウエハとを接合することにより積層基板を形成する接合部と、
前記積層基板に当接して、前記積層基板を前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの少なくとも一方から分離する分離部を有する分離装置と、
前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの前記一方と前記積層基板との間を通過した光を受光する光センサを有して、前記積層基板が前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの少なくとも前記一方から分離したことを検知する分離検知部と
を備える基板貼り合せ装置。 - 前記光センサは、前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの前記一方において前記積層基板を保持する保持面と平行に配されたラインセンサを含む請求項1に記載の基板貼り合せ装置。
- 前記光センサは、前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの前記一方において前記積層基板を保持する保持面に対して傾斜して配されたラインセンサを含む請求項1に記載の基板貼り合せ装置。
- 前記光センサは、前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの前記一方から前記積層基板が引き離される場合の移動方向と平行に配されたラインセンサを含む請求項1に記載の基板貼り合せ装置。
- 前記ラインセンサは、分離された前記積層基板が前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの前記一方から最も遠ざかった場合に、前記積層基板の位置に一端を、前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの前記一方の位置に他端がそれぞれ位置する傾きを有する請求項3または請求項4に記載の基板貼り合せ装置。
- 前記分離検知部は、前記ラインセンサにおいて前記光を受光した位置に基づいて、前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの前記一方および前記積層基板の分離状態を検知する請求項3から請求項5までのいずれか一項に記載の基板貼り合せ装置。
- 第1の基板ホルダに保持された第1の半導体ウエハと、第2の基板ホルダに保持された第2の半導体ウエハとを、互いに位置合わせして重ね合せる位置合わせ部と、
前記位置合わせされた前記第1の半導体ウエハと前記第2の半導体ウエハとを接合することにより積層基板を形成する接合部と、
前記積層基板に当接して、前記積層基板を前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの少なくとも一方から分離する分離部を有する分離装置と、
前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの前記一方を吸着する真空吸着系統の真空度の変化に基づいて前記積層基板が前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの少なくとも前記一方から分離したことを検知する分離検知部と
を備える基板貼り合せ装置。 - 第1の基板ホルダに保持された第1の半導体ウエハと、第2の基板ホルダに保持された第2の半導体ウエハとを、互いに位置合わせして重ね合せる位置合わせ部と、
前記位置合わせされた前記第1の半導体ウエハと前記第2の半導体ウエハとを接合することにより積層基板を形成する接合部と、
前記積層基板に当接して、前記積層基板を前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの少なくとも一方から分離する分離部を有する分離装置と、
互いに分離された前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの前記一方と前記積層基板との少なくとも一方による荷重の変化に基づいて前記積層基板が前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの少なくとも前記一方から分離したことを検知する分離検知部と
を備える基板貼り合せ装置。 - 第1の基板ホルダに保持された第1の半導体ウエハと、第2の基板ホルダに保持された第2の半導体ウエハとを、互いに位置合わせして重ね合せる位置合わせ部と、
前記位置合わせされた前記第1の半導体ウエハと前記第2の半導体ウエハとを接合することにより積層基板を形成する接合部と、
前記積層基板に当接して、前記積層基板を前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの少なくとも一方から分離する分離部を有する分離装置と、
前記積層基板を吸着する静電吸着電圧の変化に基づいて前記積層基板が前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの少なくとも前記一方から分離したことを検知する分離検知部と
を備える基板貼り合せ装置。 - 前記分離部は、前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの前記一方において前記積層基板を保持する保持面と反対側に位置する面を保持するホルダステージを更に備える請求項1から請求項9までのいずれか一項に記載の基板貼り合せ装置。
- 前記分離部は、前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの前記一方を貫通して前記積層基板を押し上げるリフトピンを有する請求項1から請求項10までのいずれか一項に記載の基板貼り合せ装置。
- 前記分離部は、前記積層基板において、前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの前記一方と反対側に位置する他の面に当接する当接部材を更に有する請求項11に記載の基板貼り合せ装置。
- 前記分離部は、前記積層基板において、前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの前記一方と反対側に位置する他の面を負圧により吸着する吸盤および多孔質パッドのいずれかを有する請求項10または請求項11に記載の基板貼り合せ装置。
- 前記分離部は、前記積層基板の側面に当接する爪を有する請求項10または請求項11に記載の基板貼り合せ装置。
- 前記爪は、前記積層基板の前記側面に近接及び離間する方向に移動する請求項14に記載の基板貼り合せ装置。
- 前記分離部は、前記積層基板において前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの前記一方と反対側に位置する他の面を保持する保持面を有する前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの他方を、前記保持面と反対側に位置する他の面において保持するホルダステージを有する請求項1から請求項9までのいずれか一項に記載の基板貼り合せ装置。
- 前記分離部は、前記第1の基板ホルダおよび前記第2の基板ホルダの前記一方を吸着して移動する昇降ステージを有する請求項16に記載の基板貼り合せ装置。
- 前記分離装置は、前記第1の半導体ウエハを前記第1の基板ホルダに保持させ、前記第2の半導体ウエハを前記第2の基板ホルダに保持させるプリアライナを兼ねる請求項1から請求項17までのいずれか一項に記載の基板貼り合せ装置。
- 積層半導体装置の製造方法であって、
回路が形成された複数の基板を貼り合せて積層基板にする貼り合せステップと、
前記積層基板の一面を保持する基板ホルダをホルダステージに固定する固定ステップと、
前記積層基板に分離部を当接させて前記積層基板を前記基板ホルダから分離する分離ステップと、
前記基板ホルダと前記積層基板との間を通過した光を受光する光センサにより前記積層基板が前記基板ホルダから分離されたことを検知する検知ステップと、
前記基板ホルダから分離された前記積層基板を複数の積層半導体装置に個片化する個片化ステップと
を備える積層半導体装置の製造方法。 - 前記分離ステップにおいて、前記積層基板および前記基板ホルダに与える力が前記複数の基板を貼り合わせる接合力よりも大きくなる場合に、前記分離ステップを中止する中止ステップを更に備える請求項19に記載の積層半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009255522A JP5440106B2 (ja) | 2009-11-06 | 2009-11-06 | 基板貼り合せ装置および積層半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009255522A JP5440106B2 (ja) | 2009-11-06 | 2009-11-06 | 基板貼り合せ装置および積層半導体装置の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011100902A JP2011100902A (ja) | 2011-05-19 |
JP2011100902A5 JP2011100902A5 (ja) | 2013-04-04 |
JP5440106B2 true JP5440106B2 (ja) | 2014-03-12 |
Family
ID=44191851
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009255522A Active JP5440106B2 (ja) | 2009-11-06 | 2009-11-06 | 基板貼り合せ装置および積層半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5440106B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8852391B2 (en) * | 2010-06-21 | 2014-10-07 | Brewer Science Inc. | Method and apparatus for removing a reversibly mounted device wafer from a carrier substrate |
KR20160008382A (ko) | 2014-07-14 | 2016-01-22 | 서울대학교산학협력단 | 반도체 적층 구조, 이를 이용한 질화물 반도체층 분리방법 및 장치 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000091304A (ja) * | 1998-09-09 | 2000-03-31 | Canon Inc | 試料の分離装置及び分離方法及び分離の監視装置並びに基板の製造方法 |
JP2005351961A (ja) * | 2004-06-08 | 2005-12-22 | Shin-Etsu Engineering Co Ltd | 真空貼り合わせ装置 |
JP2009111406A (ja) * | 2008-12-16 | 2009-05-21 | Canon Inc | 試料の処理システム |
-
2009
- 2009-11-06 JP JP2009255522A patent/JP5440106B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011100902A (ja) | 2011-05-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6344240B2 (ja) | 基板位置合わせ装置、基板貼り合わせ装置、基板位置合わせ方法、及び基板貼り合わせ方法 | |
JP5733300B2 (ja) | 基板分離方法、半導体装置の製造方法、基板分離装置、ロードロック装置、及び、基板貼り合わせ装置 | |
JP6051523B2 (ja) | 基板ホルダ対、基板接合装置およびデバイスの製造方法 | |
WO2012147343A1 (ja) | 基板貼り合わせ装置、基板保持装置、基板貼り合わせ方法、基盤保持方法、積層半導体装置および重ね合わせ基板 | |
JP5428638B2 (ja) | ステージ装置、基板貼り合わせ装置、基板貼り合わせ方法、半導体製造方法および基板ホルダ | |
JP5440106B2 (ja) | 基板貼り合せ装置および積層半導体装置の製造方法 | |
JP5707793B2 (ja) | 基板貼り合せ装置、基板貼り合せ方法および積層半導体装置製造方法 | |
JP6135113B2 (ja) | 基板貼合装置、基板貼合方法および基板貼合プログラム | |
JP5630020B2 (ja) | 基板重ね合わせ装置および重ね合わせ方法 | |
JP5493713B2 (ja) | 基板ホルダ、基板貼り合わせ装置、基板ホルダ対および搬送装置 | |
JP5476705B2 (ja) | 積層半導体製造装置、積層半導体製造方法および基板ホルダラック | |
JP2011222632A (ja) | 基板貼り合せ装置、積層半導体装置製造方法及び積層半導体装置 | |
JP5560729B2 (ja) | 吸着検出方法、積層半導体製造方法、吸着装置および積層半導体製造装置 | |
JP5560590B2 (ja) | 基板貼り合わせ装置 | |
JP5593748B2 (ja) | 位置合わせ装置、基板貼り合わせ装置および基板貼り合わせ方法 | |
JP5487740B2 (ja) | 重ね合わせ装置、位置合わせ装置、基板貼り合わせ装置および重ね合わせ方法 | |
JP5481950B2 (ja) | 重ね合わせ方法、重ね合わせ装置、位置合わせ装置および貼り合わせ装置 | |
JP5569192B2 (ja) | 基板重ね合わせ装置およびデバイスの製造方法 | |
JP5487738B2 (ja) | プッシュアップピンおよび基板貼り合わせ装置 | |
JP2021077687A (ja) | ピックアップ装置 | |
JP2014222778A (ja) | ステージ装置、基板貼り合わせ装置 | |
JP2011129777A (ja) | 基板重ね合わせ装置及びデバイスの製造方法 | |
JP2011192750A (ja) | 基板ホルダ、基板貼り合せ装置、積層半導体装置製造方法及び積層半導体装置 | |
JP2012253273A (ja) | 基板貼り合わせ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121105 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130910 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131028 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131119 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131202 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5440106 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |