JP5560729B2 - 吸着検出方法、積層半導体製造方法、吸着装置および積層半導体製造装置 - Google Patents
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- 半導体基板を静電吸着力により保持した状態で搬送される基板ホルダへの前記半導体基板の載置状態を検出する吸着検出方法であって、
前記基板ホルダに前記半導体基板を載置する載置ステップと、
前記基板ホルダに第1電圧を印加する電圧印加ステップと、
前記第1電圧を印加したときの電流値を計測する計測ステップと、
前記計測ステップで計測された電流値に基づいて、前記基板ホルダへの前記半導体基板の載置状態を検出する検出ステップと、
前記検出ステップにおける前記検出に用いる閾値が、閾値設定部により設定される閾値設定ステップと、
前記半導体基板が前記基板ホルダ上に吸着されたか否かが、外観観察部により外観観察される外観観察ステップと、
を含み、
前記閾値設定ステップでは、前記外観観察ステップで前記外観観察部により前記半導体基板が前記基板ホルダ上に吸着されたことが観察されたときの電流値と、前記外観観察ステップで前記外観観察部により前記半導体基板が前記基板ホルダ上に吸着されていないことが観察されたときの電流値とに基づいて、前記閾値設定部が前記閾値を設定する吸着検出方法。 - 前記検出ステップでは、前記半導体基板が前記基板ホルダに吸着されていないときの電流値に対する電流値の差を検出し、前記差に基づいて前記載置状態を検出する請求項1に記載の吸着検出方法。
- 前記検出ステップでは、前記基板ホルダに前記半導体基板が吸着されたか否かを検出する請求項1または2に記載の吸着検出方法。
- 前記検出ステップにより前記基板ホルダに前記半導体基板が吸着されたことが検出された場合に、前記第1電圧よりも小さい第2電圧を前記基板ホルダに印加する吸着電圧ステップを含む請求項3に記載の吸着検出方法。
- 前記吸着電圧ステップの後に、前記電圧印加ステップ、前記検出ステップおよび前記吸着電圧ステップをこの順で繰り返す請求項4に記載の吸着検出方法。
- 前記外観観察ステップでは、前記半導体基板が前記基板ホルダ上に載置されたことが観察された場合に、前記半導体基板が前記基板ホルダに吸着されているとする請求項1から5の何れか1項に記載の吸着検出方法。
- 前記閾値設定ステップは、ロット毎に前記閾値を設定する請求項1から6のいずれか一項に記載の吸着検出方法。
- 前記閾値設定ステップは、前記基板ホルダ毎に前記閾値を設定する請求項1から7のいずれか一項に記載の吸着検出方法。
- 前記閾値設定ステップは、前記半導体基板の種類および状態の少なくとも一方に応じて前記閾値を設定する請求項1から8のいずれか一項に記載の吸着検出方法。
- 前記半導体基板が、複数の半導体基板が積層された積層基板であるか否かを検出する積層基板検出ステップをさらに含み、
前記電圧印加ステップにおいて、前記積層基板検出ステップで前記半導体基板が積層基板であることが検出された場合に、前記半導体基板が積層基板でないと検出された場合よりも低い電圧を印加する請求項1から9のいずれか一項に記載の吸着検出方法。 - 前記検出ステップで前記半導体基板が前記基板ホルダに吸着されていないと検出された場合に警告する警告ステップを有する請求項1から10のいずれか一項に記載の吸着検出方法。
- 前記警告ステップでは、警告をモニタに表示する請求項11に記載の吸着検出方法。
- 前記検出ステップでは、前記電圧を印加したときの漏れ電流を計測する請求項1から12のいずれか一項に記載の吸着検出方法。
- 請求項1から13のいずれか一項に記載の吸着検出方法を用いて前記基板ホルダに吸着されたと検出された前記半導体基板と、他の半導体基板とを互いに位置合わせする位置合わせステップと、
位置合わせされた前記半導体基板同士を貼り合わせる貼り合わせステップと、
を含む積層半導体製造方法。 - 前記半導体基板を吸着した状態で前記基板ホルダを搬送する搬送ステップを含み、
前記搬送ステップでの搬送中に、請求項1から13のいずれか一項に記載の吸着検出方法を用いて前記吸着が検出される請求項14に記載の積層半導体製造方法。 - 前記検出ステップで前記半導体基板が前記基板ホルダに吸着されていないと検出された場合に、前記位置合わせステップ、前記貼り合わせステップおよび前記搬送ステップのすくなくとも一つの動作を停止する請求項15に記載の積層半導体製造方法。
- 半導体基板を静電吸着力により保持した状態で搬送される基板ホルダに前記半導体基板を吸着させる吸着装置であって、
前記基板ホルダに第1電圧を印加する電圧源と、
前記基板ホルダに第1電圧を印加した状態で電流値を計測する電流計と、
前記電流計の電流値に基づいて前記基板ホルダへの前記半導体基板の載置状態を検出する検出部と、
前記検出部による前記検出に用いる閾値を設定する閾値設定部と、
前記半導体基板が前記基板ホルダ上に吸着されたか否かを外観観察する外観観察部と、
を備え、
前記閾値設定部は、前記外観観察部で前記半導体基板が前記基板ホルダ上に吸着されたことが観察されたときの電流値と、前記半導体基板が前記基板ホルダ上に吸着されていないことが観察されたときの電流値との差に基づいて前記閾値を設定する吸着装置。 - 前記検出部は、前記半導体基板が前記基板ホルダに吸着されていないときの電流値に対する電流値の差を検出し、前記差に基づいて前記載置状態を検出する請求項17に記載の吸着装置。
- 前記検出部は、前記基板ホルダに前記半導体基板が吸着されたか否かを検出する請求項17または18に記載の吸着装置。
- 前記電圧源は、前記検出部が前記基板ホルダに前記半導体基板が吸着されたことを検出した場合に、前記電圧よりも低い吸着電圧を前記基板ホルダに印加する請求項19に記載の吸着装置。
- 前記外観観察部は、前記半導体基板が前記基板ホルダ上に載置されたことが観察された場合に、前記半導体基板が前記基板ホルダに吸着されているとする請求項17から20の何れか1項に記載の吸着装置。
- 前記閾値設定部は、ロット毎に前記閾値を設定する請求項17から21のいずれか一項に記載の吸着装置。
- 前記閾値設定部は、前記基板ホルダ毎に前記閾値を設定する請求項17から22のいずれか一項に記載の吸着装置。
- 前記閾値設定部は、前記半導体基板の種類および状態の少なくとも一方に応じて前記閾値を設定する請求項17から23のいずれか一項に記載の吸着装置。
- 前記半導体基板が、複数の半導体基板が積層された積層基板であるか否かを検出する積層基板検出部をさらに含み、
前記電圧源は、前記積層基板検出部で前記半導体基板が積層基板であることが検出された場合に、前記半導体基板が積層基板でないと検出された場合よりも低い電圧を印加する請求項17から24のいずれか一項に記載の吸着装置。 - 前記検出部で前記半導体基板が前記基板ホルダに吸着されていないと検出された場合に警告する警告部を備える請求項17から25のいずれか一項に記載の吸着装置。
- 前記警告部は、警告を表示するモニタを有する請求項26に記載の吸着装置。
- 前記検出部は、前記電圧を印加したときの漏れ電流を計測する請求項17から27のいずれか一項に記載の吸着装置。
- 請求項17から28のいずれか一項に記載の吸着装置を用いて前記基板ホルダに吸着されたと検出された前記半導体基板と、他の半導体基板とを互いに位置合わせする位置合わせ部と、
位置合わせされた前記半導体基板同士を貼り合わせる貼り合わせ部とを備える積層半導体製造装置。 - 前記半導体基板を吸着した状態で前記基板ホルダを搬送する搬送部を備え、
前記搬送部により搬送中に、請求項17から28のいずれか一項に記載の吸着装置を用いて前記吸着が検出される請求項29に記載の積層半導体製造装置。 - 前記検出部で前記半導体基板が前記基板ホルダに吸着されていないと検出された場合に、前記位置合わせ部、前記貼り合わせ部および前記搬送部のすくなくとも一つの動作を停止する請求項30に記載の積層半導体製造装置。
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