JPWO2011024289A1 - 光学部品製造方法および光学部品製造装置 - Google Patents

光学部品製造方法および光学部品製造装置 Download PDF

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Abstract

光学部品製造装置10は、露光パターン101とアライメントマーク102を有するガラスマスク100と、ガラスマスク100を用いて現像を行うウエハ121を所定位置に配置し、露光パターン101とアライメントマーク102をウエハ121に露光する。そして、光学部品製造装置10は、ウエハ121上に露光されたアライメントマーク102を現像し、現像されたアライメントマーク102の位置を観測する。そして、光学部品製造装置10は、アライメントマーク102の位置を基にウエハ121を移動し、露光、現像および移動を所定回数、繰り返し、ウエハ121上の全ての露光パターン101を現像し、現像した露光パターン101をエッチングする。

Description

本発明は、ウエハ上に露光された光学部品パターンを現像し、現像された光学部品パターンをエッチングして光学部品を製造する光学部品製造方法および光学部品製造装置に関する。
従来より、光学部品などを製造するため、ウエハ上に光学部品パターンを露光し、露光された光学部品パターンを現像して、光学部品を製造する方法が知られている。例えば、光学部品製造装置は、ステージに設置されたウエハの上部に、露光パターンが形成されたマスクを有し、ガラスマスクの上部から光を照射して、露光パターンをウエハに露光させる。
このような光学部品製造装置では、1ショットで露光できる面積よりも大きい面積の光学部品を製造する場合に、露光パターンをウェア上に順次つなぎ合わせて露光する方法が知られている。また、光学部品製造装置は、ステージの位置がずれた場合には、ウエハに露光されるパターンの位置もずれてしまう場合がある。
このようなパターンの位置のずれを防止する技術として、事前にマスクとステージとのずれ量を検出し、検出されたずれ量を反映してステージを動かして露光パターンをウエハに露光する技術が知られている。具体的には、光学部品製造装置は、露光を行う前に、マスクとステージとのずれ量を検出して記憶する。そして、光学部品製造装置は、記憶されたずれ量を反映してショット露光位置を決定し、ウェア上に順次つなぎ合わせて露光する。
また、パターンの位置のずれを防止する技術として、レジストが塗布されたウエハに位置合わせ用のマークを露光し、露光された位置合わせ用のマークの位置を基に、次回のショット露光位置を決める技術が知られている。
具体的には、光学部品製造装置は、レジストが塗布されたウエハに位置合わせ用のマークを露光する。そして、光学部品製造装置は、位置合わせ用のマークを検知するために、露光光とは異なる波長帯の検出光を用いて、レジストを感光させないように、露光された位置合わせ用のマークの位置を検出する。なお、ここでウエハに塗布されるレジストについて、露光された位置合わせ用のマークを検出するために、検出光と露光光とでは屈折率が明確に変化する感光剤が用いられている。
特開2003−86484号公報 特開平6−204105号公報 特開平10−326742号公報 特開2002−190444号公報 特開2003−305700号公報
ところで、上記した事前にずれ量を検出してパターンの位置ずれを防止する技術では、事前に検出したずれ量を用いてショット露光位置を決定するので、ずれ量検出後に発生する位置ずれを補正することができない。例えば、ずれ量検出後において、機械駆動などに起因してマスクとステージとの位置ずれが発生した場合には、精度良くパターンをつなぎ合わせることができないという課題があった。
また、上記した露光された位置合わせ用のマークを利用した技術では、露光された位置合わせ用のマークを検出するために、ウエハに塗布されるレジストの種類が制限されるという課題があった。例えば、ウエハに塗布されるレジストとして、露光された位置合わせ用のマークを検出するために、屈折率が明確に変化する感光剤を採用しなければならなかった。
そこで、この発明は、上述した従来技術の課題を解決するためになされたものであり、レジストの種類を制限されることなく、精度良くパターンをつなぎ合わせることを目的とする。
本願の開示する光学部品製造方法では、一つの態様において、光学部品パターンとアライメントマークパターンを有するマスクと、マスクを用いて現像を行うウエハを所定位置に配置し、光学部品パターンとアライメントマークパターンをウエハに露光する。そして、光学部品製造方法では、ウエハ上に露光されたアライメントマークパターンを現像し、現像されたアライメントマークパターンの位置を観測し、アライメントマークパターンの位置を基にウエハを移動する。その後、光学部品製造方法では、露光、現像および移動を所定回数、繰り返し、ウエハ上の全ての光学部品パターンを現像し、現像した光学部品パターンをエッチングする。
本願の開示する方法の一つの態様によれば、レジストの種類を制限されることなく、精度良くパターンをつなぎ合わせることが可能である。
図1は、実施例1に係る光学部品製造装置の構成を示す図である。 図2は、ガラスマスク上のパターンおよびアライメントマークの例を示す図である。 図3は、パターンおよびアライメントマークの関係を説明するための図である。 図4は、アライメントマークを用いた位置合わせ処理を説明するための図である。 図5は、局所現像処理を説明するための図である。 図6は、実施例1に係る光学部品製造装置の処理手順を説明するためのフローチャートである。 図7は、パターンおよびアライメントマークの関係を説明するための図である。 図8は、つなぎ合わせ用移動量計測処理を説明するための図である。 図9は、つなぎ合わせ用移動量計測処理を説明するための図である。 図10は、実施例2に係る光学部品製造装置の処理手順を説明するためのフローチャートである。 図11は、実施例2に係る光学部品製造装置の移動量計測処理の手順を説明するためのフローチャートである。
以下に添付図面を参照して、この発明に係る光学部品製造方法および光学部品製造装置の実施例を詳細に説明する。
以下の実施例では、実施例1に係る光学部品製造装置の構成および処理の流れを順に説明し、最後に実施例1による効果を説明する。
[光学部品製造装置の構成]
まず最初に、図1を用いて、光学部品製造装置10の構成を説明する。図1は、実施例1に係る光学部品製造装置10の構成を示すブロック図である。同図に示すように、この光学部品製造装置10は、ヘッド部11およびステージ部20を有する。
ヘッド部11は、ガラスマスク100、露光パターン101、アライメントマーク102、マスクホルダ104、光源105、顕微鏡130、ノズル140を有する。ステージ部20は、ステージ120、ウエハ121、複数の光学干渉計122〜124、レジスト125を有する。以下にこれらの各部の処理を説明する。
ガラスマスク100は、露光パターン101および位置検知用のアライメントマーク102が形成されてあり、マスクホルダ104にセットされる。例えば、ガラスマスク100は、図2に例示するように、露光パターン101および位置検知用のアライメントマーク102が形成されている。図2は、ガラスマスク上の露光パターンおよびアライメントマークの例を示す図である。
マスクホルダ104は、露光パターン101とアライメントマーク102を有するガラスマスク100を把持する。マスクホルダ104は、ガラスマスクを光源105から照射された光が通過する位置に固定する。
露光パターン101は、ガラスマスク100上に形成されたパターンであって、光源105が照射した光によってウエハ121に露光されるパターンである。アライメントマーク102は、ガラスマスク100上に形成されたパターンであって、露光パターン101を位置決めするためにウエハ121に露光されるパターンである。
ここで、図3を用いて、露光パターンおよびアライメントマークの関係を説明する。図3は、パターンおよびアライメントマークの関係を説明するための図である。図3に示すような露光パターン101および位置検出用アライメントマーク102が形成されたガラスマスク100をマスクホルダ104に固定する。
ガラスマスク100は、露光パターンおよびアライメントマークについて、パターンの幅Xとアライメントマークの幅xとが等しく、パターンの高さYとアライメントマークの高さyが等しくなるように形成されている。また、ガラスマスク100は、ステージ移動の軸に対するパターンの成す角度Θとステージ移動の軸に対するアライメントマークの成す角θとが等しく、パターンの形状とアライメントマークの形状が等しくなるように形成されている。
光源105は、露光パターン101および位置検出用アライメントマーク102をウエハ121に露光させる。具体的には、光源105は、ガラスマスク100の上から光を照射して、露光パターン101および位置検出用アライメントマーク102をウエハ121に露光させる。このように照射された光は、ガラスマスク100、縮小投影レンズ110を通り、基板ステージ120上の露光対象物であるウエハ121に塗布されたレジスト125に露光パターン101を投影する。
顕微鏡130は、ガラスマスク100上に現像されたアライメントマーク102の位置が観測できる。ノズル140は、ウエハ121上に露光されたアライメントマーク102を部分的に現像する。ノズル140は、現像液ノズル、リンス液ノズル、吸引ノズルを有し、現像液容器141、リンス液容器142、廃液タンク143とそれぞれ接続されている。
そして、ノズル140は、現像液またはリンス液をウエハ121上に吐出すとともに、廃液タンク143にウエハ121上の液を吸引する。具体的には、ノズル140は、ステージ120を移動させて投影されたパターン上空に配置されると、現像液容器141から現像液を基板上に吐出し、廃液タンク143に液を吸引する。また、ノズル140は、リンス液容器142からも基板上に液を吐出し、廃液タンク143に液を吸引する。
ステージ120は、ガラスマスク100を用いて現像を行うウエハ121を把持し、ガラスマスク100に対して平行な平面上においてウエハ121を移動させる。ステージ120は、光学干渉計122〜124によって上下左右角度の制御を可能とする。
ウエハ121は、ステージ120上の露光対象物である。光学干渉計122〜124は、位置を基にステージ120を制御し、ウエハ121の位置決めを行う。具体的には、光学干渉計122〜124は、ステージ120の上下左右角度を調整制御し、ウエハ121の位置決めを行う。また、レジスト125は、ウエハ121に塗布されている。ウエハ121の表面には、均一にレジスト層が施されている。
ここで、図4を用いて、アライメントマークを用いた位置合わせを行って、露光パターンをつなぎ合わせる処理を説明する。図4は、アライメントマークを用いた位置合わせ処理を説明するための図である。なお、図4の例では、x軸方向に露光パターンをつなぎ合わせる場合について説明する。
図4に示すように、光学部品製造装置10は、ガラスマスク100において、露光パターン101およびアライメントマーク102が形成されている(図4の(1)参照)。そして、光学部品製造装置10は、1回目の露光を行って、露光パターン101およびアライメントマーク102をウエハ121に露光し(図4の(2)参照)、1回目に露光されたアライメントマークを現像する(図4の(3)参照)。
続いて、光学部品製造装置10では、2回目の位置決めをするために、ウエハ121に現像した1回目のアライメントマークの右端とガラスマスクに形成されたアライメントマーク102の左端を重ね合わせるように、ステージ120を移動する(図4の(4)参照)。
そして、光学部品製造装置10は、2ショット目の露光を行って、露光パターン101およびアライメントマーク102をウエハ121に露光し(図4の(5)参照)、2ショット目に露光されたアライメントマークを現像する(図4の(6)参照)。その後、光学部品製造装置10は、3回目の位置決めをするために、ウエハ121に現像した2回目のアライメントマークの右端とガラスマスクに形成されたアライメントマーク102の左端を重ね合わせるように、ステージ120を移動する(図4の(7)参照)。
つまり、光学部品製造装置10は、露光パターン101をつなぎ合わさる場合に、相対的位置関係が一定のアライメントマーク102を現像し、現像されたアライメントマークを基に次回のショット露光位置を決めている。このため、機械駆動により発生するウエハの位置ずれに影響を受けずに、精度良くパターンをつなぎ合わせることが可能である。
ここで、図5を用いて、露光されたアライメントマークを現像する局所現像処理について説明する。図5は、局所現像処理を説明するための図である。図5に示すように、光学部品製造装置10では、第1回目の露光を行う際に、光源105から照射された光はパターン101およびアライメントマーク102を投影し、レンズ110で縮小されてウエハ121上のレジスト膜に焼き付けを行う。ここで、焼き付けられた部位を感光部とする。
そして、光学部品製造装置10では、ステージ120を、露光したアライメントマーク上空に現像用ノズルが配置されるよう移動させる。続いて、現像液容器141から現像液ノズルを通って現像液を供給し、現像液ノズルより現像液を吐出する。
そして、吐出された現像液はアライメントマーク上で基板とノズル先端との間に保持され、広範に広がらないよう吸引ノズルによって吸引され、廃液タンク143に送られる。続いて、光学部品製造装置10は、一定時間の現像液供給・排出によりアライメントマーク上に現像液を維持した後、現像液の供給を止め、続いてリンス液容器142からリンス液ノズルを通ってリンス液を送り出し、アライメントマーク上に吐出する。
吐出されたリンス液は、パターン上で基板とノズル先端との間に保持され、広範に広がらないよう吸引ノズル140によって吸引され、廃液タンク143に送られる。そして、光学部品製造装置10は、一定時間のリンス液供給・排出によってアライメントマーク上にリンス液を維持した後、リンス液の供給を止める。こうして、アライメントマークを現像する局所現像処理が終了し、アライメントマークが形成される。
[光学部品製造装置による処理]
次に、図6を用いて、実施例1に係る光学部品製造装置10による処理を説明する。図6は、実施例1に係る光学部品製造装置10の処理動作を示すフローチャートである。
同図に示すように、光学部品製造装置10では、ステージ120に露光対象物であるウエハ121が入れられると(ステップS101)、ウエハ121がガラスマスク100下へ移動される(ステップS102)。そして、光学部品製造装置10では、一回目の露光を行い(ステップS103)、ウェハをガラスマスク100下から退避させる(ステップS104)。
続いて、ウエハ121がノズル140の下へ移動され(ステップS105)、アライメントマークを現像する(ステップS106)。そして、ウエハをガラスマスク100下へ移動させ(ステップS107)、アライメントマークを観測する(ステップS108)。
ここで、光学部品製造装置10は、x軸方向につなぎ合わせる場合には(ステップS109肯定)、前回現像されたアライメントマーク右端とマスクアライメントマーク左端を重ね合わせる(ステップS110)。また、y軸方向につなぎ合わせる場合には(ステップS109否定)、前回現像されたアライメントマーク下端とマスクアライメントマーク上端を重ね合わせる(ステップS111)。
その後、光学部品製造装置10は、2度目の露光を行い(ステップS112)、ウエハ121をガラスマスク100下から退避させる(ステップS113)。続いて、光学部品製造装置10では、ウエハ121がノズル140の下へ移動され(ステップS114)、アライメントマークを現像する(ステップS115)。
そして、光学部品製造装置10は、ウエハをガラスマスク100下へ移動させ(ステップS116)、全ての露光処理が完了し、つなぎ合わせ連続パターンの生成が終了したか判定する(ステップS117)。この結果、全ての露光処理が完了していない場合には(ステップS117否定)、S108に戻って、アライメントマークを観測し、前回のアライメントマークに重ね合わせて露光する処理を繰り返す(ステップS108〜S117)。
また、光学部品製造装置10は、全ての露光処理が完了し、つなぎ合わせ連続パターンの生成が終了した場合には(ステップS117肯定)、露光パターンを現像し、現像した露光パターンをエッチングする(ステップS118)。なお、エッチング処理は、光学部品製造装置10ではなく、他の装置が行うようにしてもよい。
[実施例1の効果]
上述してきたように、光学部品製造装置10は、露光パターン101とアライメントマーク102を有するガラスマスク100と、ガラスマスク100を用いて現像を行うウエハ121を所定位置に配置し、露光パターン101とアライメントマーク102をウエハ121に露光する。そして、光学部品製造装置10は、ウエハ121上に露光されたアライメントマーク102を現像し、現像されたアライメントマーク102の位置を観測する。そして、光学部品製造装置10は、アライメントマーク102の位置を基にウエハ121を移動し、露光、現像および移動を所定回数、繰り返し、ウエハ121上の全ての露光パターン101を現像し、現像した露光パターン101をエッチングする。
つまり、光学部品製造装置10は、露光パターン101をつなぎ合わさる場合に、相対的位置関係が一定の露光パターン101とアライメントマーク102を露光し、アライメントマーク102のみを現像し、現像されたアライメントマークを基に次回のショット露光位置を決めている。このため、機械駆動により発生するウエハの位置ずれに影響を受けずに、精度良くパターンをつなぎ合わせることが可能である。
ところで、上記の実施例1では、露光パターンの大きさおよび傾きとアライメントマークの大きさおよび傾きとが等しく、露光パターンをつなぎ合わせる処理を説明したが、本実施例はこれに限定されるものではない。つまり、露光パターンとアライメントマークとの大きさおよび傾きが等しくなくても、露光パターンをつなぎ合わせるようにしてもよい。
そこで、以下の実施例2では、露光パターンX、Yとアライメントマーク4点が作るx、yが等しくない場合に、連続パターンを露光する場合として、図7〜図11を用いて、実施例2における光学部品製造装置の処理について説明する。なお、実施例2に係る光学部品製造装置の構成については、実施例1の光学部品製造装置の構成と同様であるので、説明を省略する。
まず最初に、図7を用いて、実施例2における露光パターンおよびアライメントマークの関係を説明する。図7は、パターンおよびアライメントマークの関係を説明するための図である。図7に示すように、実施例2に係るガラスマスクは、露光パターンおよびアライメントマークについて、パターンの幅Xとアライメントマークの幅xとが等しくない、パターンの高さYとアライメントマークの高さyが等しくない。もしくは、実施例2に係るガラスマスク100は、ステージ移動の軸に対するパターンの成す角度Θとステージ移動の軸に対するアライメントマークの成す角θとが等しくない、または、パターンの形状とアライメントマークの形状が等しくない。
つまり、実施例2に係るガラスマスクは、図7に示すように、パターンのX,Yとアライメントマーク4点が作るx,yと等しくない、ステージ移動の軸に対する露光パターンおよびアライメントマークの角度Θおよびθが等しくない、アライメントマークが作る形状と実パターンの形状が異なる、のいずれかに該当する。
このようなガラスマスクを有する光学部品製造装置10aでは、ウエハを所定位置に配置する前に、テスト用ウエハに対して、露光パターンとアライメントマークの露光および現像を行い、テスト用ウエハ上の光学部品パターンとアライメントマークパターンの位置を観測し、露光パターンとアライメントマークとの位置関係を求める。
具体的には、光学部品製造装置10aは、アライメントマークを用いた位置合わせを行って、露光パターンをつなぎ合わせる処理を行う前に、テスト用ウエハに対して、露光パターンとアライメントマークパターンを露光するテストショット露光を行う。
そして、光学部品製造装置10aは、露光パターンおよびアライメントマークを現像する。そして、ステージ120を現像したパターンが顕微鏡130で確認できる位置に移動させ、現像済みの露光パターンとガラスマスク上の露光パターンとを重ね合わせる。このとき、光学部品製造装置10aは、ステージ座標(A1,B1)を記録する。
そして、光学部品製造装置10aは、図8および図9に示すように、現像済みの露光パターン(図8および図9の(1)参照)をガラスマスク上の露光パターン(図8および図9の(2)参照)に隣接させ、つなぎ合わせた状態に見えるように移動させて、ステージ座標(A2,B2)を記録する。図8および図9は、つなぎ合わせ用移動量計測処理を説明するための図である。図8は、右方向(x軸方向)に露光パターンをつなぎ合わせていく例であり、図9は、下方向(y軸方向)に露光パターンをつなぎ合わせていく例である。
そして、光学部品製造装置10aは、これらふたつの座標の値(A1,B1)、(A2,B2)から、つなぎ合わせに必要なステージ移動量αA+γB(もしくはβA+δB)を算出する。具体的には、光学部品製造装置10aは、ステージ移動量αA+γBの算出処理として、「(A2―A1,B2―B1)=(αA,γB)」を算出し、ステージ移動量XA(αA,γB)をもとめる。また、図9に示すように、光学部品製造装置10aは、ステージ移動量βA+δBの算出処理として、「(A2―A1,B2―B1)=(βA,δB)」を算出し、ステージ移動量XA(βA,δB)をもとめる。
また、パターンのサイズがステージ移動精度の影響を受ける程度微小である場合は(αA,γB)または(βA,δB)を求める作業を数回繰り返し、平均値をとることでステージ移動誤差の影響を低減することができる。
その後、光学部品製造装置10aは、ステージ移動量を算出した後、ステージ移動量を含めてウエハの移動を行い、露光パターンをつなぎ合わせる処理を行う。具体的には、光学部品製造装置10aは、実施例1と同様に、1回目の露光を行った後、アライメントマークのみを現像する。
そして、光学部品製造装置10aは、x軸方向につなぎ合わせる場合には、現像されたアライメントとガラスマスク上のアライメントとを重ね合わせ、ステージ移動量XA(αA+γB)分ウエハを移動させる。また、光学部品製造装置10aは、y軸方向につなぎ合わせる場合には、現像されたアライメントとガラスマスク上のアライメントとを重ね合わせ、ステージ移動量XA(βA,δB)分ウエハを移動させる。
その後、光学部品製造装置10aは、移動された位置で2回目のショット露光を行い、アライメントマークのみを現像する。そして、光学部品製造装置10aは、現像されたアライメントとガラスマスク上のアライメントとを重ね合わせ、ステージ移動量XA(αA+γB)分ウエハを移動させる処理を繰り返して、露光パターンをつなぎ合わせる処理を行う。
次に、図10および図11を用いて、実施例2に係る光学部品製造装置10aによる処理を説明する。図10は、実施例2に係る光学部品製造装置10aの処理手順を説明するためのフローチャートである。図11は、実施例2に係る光学部品製造装置10aの移動量計測処理の手順を説明するためのフローチャートである。実施例2に係る光学部品製造装置10aの処理は、図6に示した実施例1に係る光学部品製造装置10の処理と比較して、移動量計測処理を新たに行う点が相違する。
図10に示すように、実施例2に係る光学部品製造装置10aでは、ステージ120にウエハ121が入れられ(ステップS201)、ガラスマスク100下へ移動されると(ステップS202)、露光パターンをつなぎ合わせる処理を行う前に、ステージ移動量を計測する移動量計測処理(後に、図11を用いて詳述する)を行う(ステップS203)。
続いて、学部品製造装置10aは、実施例1と同様に、1回目の露光を行った後、アライメントマークのみを現像した後(ステップS204〜S208)、アライメントマークを観測する(ステップS209)。そして、学部品製造装置10aは、x軸方向につなぎ合わせる場合には(ステップS210肯定)、現像されたアライメントとガラスマスク上のアライメントとを重ね合わせ(ステップS211)、ステージ移動量XA(αA+γB)分ウエハを移動させる(ステップS212)。
また、光学部品製造装置10aは、y軸方向につなぎ合わせる場合には(ステップS210否定)、現像されたアライメントとガラスマスク上のアライメントとを重ね合わせ(ステップS213)、ステージ移動量XA(βA,δB)分ウエハを移動させる(ステップS214)。
その後、光学部品製造装置10aは、移動された位置で2回目のショット露光を行い(ステップS215)、実施例1と同様に、アライメントマークのみを現像する(ステップS216〜S219)。そして、光学部品製造装置10aは、全ての露光処理が完了していない場合には(ステップS220否定)、現像されたアライメントとガラスマスク上のアライメントとを重ね合わせ、ステージ移動量XA(αA+γB)分ウエハを移動させる処理を繰り返し(ステップS209〜S220)、露光パターンをつなぎ合わせる処理を行う。
また、光学部品製造装置10は、全ての露光処理が完了し、つなぎ合わせ連続パターンの生成が終了した場合には(ステップS220肯定)、露光パターンを現像し、現像した露光パターンをエッチングする(ステップS221)。
続いて、実施例2に係る光学部品製造装置10aの移動量計測処理の手順を説明する。光学部品製造装置10aは、テスト用ウエハに対して、露光パターンとアライメントマークパターンを露光するテストショット露光を行い(ステップS301)、ウェハをガラスマスク100下から退避させる(ステップS302)。
そして、光学部品製造装置10aは、ウエハ121がノズル140の下へ移動され(ステップS303)、露光パターンとアライメントマークを現像する(ステップS304)。続いて、光学部品製造装置10aは、ウエハをガラスマスク100下へ移動させ(ステップS305)、現像済みの露光パターンとマスクパターンを重ね合わせて(ステップS306)、ステージ座標(A1,B1)を読み取る(ステップS307)。
続いて、光学部品製造装置10aは、ウエハを移動させて、現像済みの露光パターンとガラスマスク上の露光パターンとを並べて(ステップS308)、ステージ座標(A2,B2)を読み取る(ステップS309)。これらふたつの座標の値より、つなぎ合わせに必要なステージ移動量αA+γB(もしくはβA+δB)を算出する(ステップS310)。
具体的には、光学部品製造装置10aは、ステージ移動量αA+γBの算出処理として、「(A2―A1,B2―B1)=(αA,γB)」を算出し、ステージ移動量XA(αA,γB)をもとめる。また、光学部品製造装置10aは、ステージ移動量βA+δBの算出処理として、「(A2―A1,B2―B1)=(βA,δB)」を算出し、ステージ移動量XA(βA,δB)をもとめる。
このように、上記の実施例2では、光学部品製造装置10aは、ウエハを所定位置に配置する前に、マスクを用いてテスト用ウエハに対して、光学部品パターンとアライメントマークを露光および現像を行い、テスト用ウエハ上の露光パターンとアライメントマークの位置を観測する。そして、露光パターンとアライメントマークとの位置関係を求め、位置関係も含めて、ウエハの移動を行う。
このため、露光パターンとアライメントマークとの大きさおよび傾きが等しくない場合であっても、ステージ移動量を用いて、露光パターンのつなぎ合わせを行うことができる結果、精度良くパターンをつなぎ合わせることが可能である。
なお、上記の実施例1、2において説明した各処理のうち、自動的におこなわれるものとして説明した処理の全部または一部を手動的におこなうこともでき、あるいは、手動的におこなわれるものとして説明した処理の全部または一部を公知の方法で自動的におこなうこともできる。例えば、アライメントマークを観測する処理やステージを移動させる処理は、手動で行ってもよいし、自動で行ってもよい。
10、10a 光学部品製造装置
11 ヘッド部
20 ステージ部
100 ガラスマスク
101 露光パターン
102 アライメントマーク
104 マスクホルダ
105 光源
110 縮小投影レンズ
130 顕微鏡
140 ノズル
141 現像液容器
142 リンス液容器
143 廃液タンク

Claims (4)

  1. 光学部品パターンとアライメントマークパターンを有するマスクと、前記マスクを用いて現像を行うウエハを所定位置に配置し、
    前記光学部品パターンと前記アライメントマークパターンを前記ウエハに露光し、
    前記ウエハ上に露光された前記アライメントマークパターンを現像し、
    現像された前記アライメントマークパターンの位置を観測し、前記位置を基に前記ウエハを移動し、
    前記露光、前記現像および前記移動を所定回数、繰り返し、
    前記ウエハ上の全ての前記光学部品パターンを現像し、
    現像した前記光学部品パターンをエッチングすることを特徴とする光学部品製造方法。
  2. 前記ウエハを所定位置に配置する前に、前記マスクを用いてテスト用ウエハに対して、前記光学部品パターンと前記アライメントマークパターンを露光および現像を行い、
    前記テスト用ウエハ上の前記光学部品パターンと前記アライメントマークパターンの位置を観測し、
    前記光学部品パターンと前記アライメントマークパターンとの位置関係を求め、
    前記位置関係も含めて、前記ウエハの移動を行うことを特徴とする請求項1記載の光学部品製造方法。
  3. 光学部品パターンとアライメントマークパターンを有するマスクを把持するマスク把持部と、
    前記マスクを用いて現像を行うウエハを把持し、前記マスクに対して平行な平面上において前記ウエハを移動させるウエハ把持部と、
    前記光学部品パターンと前記アライメントマークパターンを前記ウエハに露光させる露光部と、
    前記ウエハ上に露光された前記アライメントマークパターンを部分的に現像する現像部と、
    現像された前記アライメントマークパターンの位置を観測する観測部と、
    前記位置を基に前記ウエハ把持部を制御し、前記ウエハの位置決めを行う制御部と、
    を有する光学部品製造装置。
  4. 前記制御部は、さらに前記光学部品パターンと前記アライメントマークパターンを位置関係を基に前記ウエハの位置決めを行うことを特徴とする請求項3記載の光学部品製造装置。
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