JPWO2009131178A1 - 引け巣が抑制された鉛フリーはんだ合金 - Google Patents

引け巣が抑制された鉛フリーはんだ合金 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2009131178A1
JPWO2009131178A1 JP2010509218A JP2010509218A JPWO2009131178A1 JP WO2009131178 A1 JPWO2009131178 A1 JP WO2009131178A1 JP 2010509218 A JP2010509218 A JP 2010509218A JP 2010509218 A JP2010509218 A JP 2010509218A JP WO2009131178 A1 JPWO2009131178 A1 JP WO2009131178A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solder
lead
solder alloy
shrinkage
free solder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010509218A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5287852B2 (ja
Inventor
勇司 川又
勇司 川又
上島 稔
稔 上島
みん 姜
みん 姜
佳弥子 中川
佳弥子 中川
康朗 國分
康朗 國分
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Senju Metal Industry Co Ltd
Original Assignee
Senju Metal Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Senju Metal Industry Co Ltd filed Critical Senju Metal Industry Co Ltd
Priority to JP2010509218A priority Critical patent/JP5287852B2/ja
Publication of JPWO2009131178A1 publication Critical patent/JPWO2009131178A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5287852B2 publication Critical patent/JP5287852B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
    • B23K1/0008Soldering, e.g. brazing, or unsoldering specially adapted for particular articles or work
    • B23K1/0016Brazing of electronic components
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
    • B23K1/20Preliminary treatment of work or areas to be soldered, e.g. in respect of a galvanic coating
    • B23K1/203Fluxing, i.e. applying flux onto surfaces
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/02Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape
    • B23K35/0222Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape for use in soldering, brazing
    • B23K35/0244Powders, particles or spheres; Preforms made therefrom
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/24Selection of soldering or welding materials proper
    • B23K35/26Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 400 degrees C
    • B23K35/262Sn as the principal constituent
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/36Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
    • B23K35/362Selection of compositions of fluxes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C13/00Alloys based on tin
    • C22C13/02Alloys based on tin with antimony or bismuth as the next major constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3457Solder materials or compositions; Methods of application thereof
    • H05K3/3485Applying solder paste, slurry or powder
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2101/00Articles made by soldering, welding or cutting
    • B23K2101/36Electric or electronic devices
    • B23K2101/42Printed circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49811Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
    • H01L23/49816Spherical bumps on the substrate for external connection, e.g. ball grid arrays [BGA]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

微細凹凸や引け巣が抑制された、改善された表面性状を有する鉛フリーはんだ合金は、Ag:0.1〜1.5%、Bi:2.5〜5.0%、Cu:0.5〜1.0%、場合によりNi:0.015〜0.035%並びに/又はGeおよびはGaの1種もしくは2種:0.0005〜0.01%、残部がSnおよび不可避不純物よりなる組成を有する。

Description

本発明は、引け巣が抑制された鉛フリーはんだ合金と、このはんだ合金を用いたソルダペーストおよびはんだ付け方法に関する。
現在用いられている鉛フリーはんだの主流はSn−Ag−Cu系はんだ合金である。Sn−Ag−Cu系鉛フリーはんだは、温度サイクル特性に優れている上、鉛フリーはんだの中ではぬれ性が良く、また従来のSn−Pb系はんだと同様にどのような形態にも加工が可能である。しかし、Sn−Ag−Cu系鉛フリーはんだは、Sn−Ag系鉛フリーはんだと同様に、凝固の不均一性からはんだ表面が肌荒れ(微細凹凸)を生じてほとんど光沢を示さず、更に引け巣と呼ばれる亀裂のようにみえる凝固欠陥を発生することがある。これらの現象は、Sn−Agの過共晶に起因する樹枝状結晶(デンドライト)の成長に原因がある。
Sn−Ag系またはSn−Ag−Cu系の鉛フリーはんだでは、溶融したはんだが凝固するときに、まずSnのデンドライトが初晶として析出し、次いでSn−AgまたはSn−Ag−Cu共晶組織が凝固するが、この時の体積収縮によって、はんだ表面に微細な凹凸や引け巣が発生する。詳しく観察すると、引け巣は、デンドライトに沿って発生することがわかる。
このように引け巣はデンドライトの結晶粒界に沿って発生する凝固割れであって、はんだの表面だけにとどまる。そのため、引け巣は、クラックの起点となってクラックを誘発することはなく、はんだ付けの信頼性を損なうものではないとされてきた。しかし、外観上は引け巣とクラックとの違いが容易に識別できず、引け巣の大きさによっては、はんだ付けの信頼性に影響する可能性が排除できないことから、次に述べるように、引け巣の発生が問題視されるようになってきている。
即ち、はんだ付け間隔はますます微細化しているため、検査員による目視外観検査において引け巣とクラックの間の区別がより難しくなっており、場合によっては電子顕微鏡などの非常に高価な装置で確認しなければ判断できない。しかし、電子顕微鏡で観察できる試料の大きさは限定され、また観察するための時間は通常の外観検査装置の数百倍以上かかるため、全数検査に用いることは不可能である。
ソルダペーストを用いたリフロー法によるはんだ付けの場合、はんだ付け間隔の微細化に伴い、ソルダペーストの印刷厚さも50μm程度まで薄くなることがある。その場合、リフロー後に生成したはんだ接合部(はんだフィレット)の厚さは25μm程度になり、はんだ量が少なくなる。このような薄いはんだ接合部に10μm程度の引け巣が発生すると、局所的にはんだ接合部の厚さが10μm程度となり、はんだ付けの信頼性に悪影響を及ぼすことが懸念される。
リフロー法での代表的なはんだ供給方法であるソルダペーストを使用したプリント基板の実装では、所定部位にソルダペーストを印刷により塗布し、リフローによりはんだ付け部を形成した基板を、画像認識などの光学的な方法で検査して、ハンダ付け状態を確認する。現在販売されている光学的な検査機器は、鉛フリーはんだ用として、光沢度が低いはんだを認識できるように設計されている。しかし、Sn−Ag系鉛フリーはんだやSn−Ag−Cu系鉛フリーはんだで発生する、はんだ表面の微細な凹凸や引け巣は、はんだ組成だけの要因で発生する訳でなく、はんだ付け条件や冷却条件などの外部因子によって変動するため、光度の平均値を捕捉しにくいため、検査不具合をおこし易い。
本出願人は、Sn−4.0〜6.0質量%Ag−1.0〜2.0質量%Cuの組成を有する、ボール表面状態が良好で、はんだ表面の微細な凹凸や引け巣が抑制された、鉛フリーはんだボールを先に開示した(下記特許文献1)。また、フローソルダリングのはんだ付方法に関して、Sn−Ag−Cu系の鉛フリーSn基はんだ合金を用いてフロー法ではんだ付けをする際に、はんだ浴のAg濃度を3.8質量%超4.2質量%以下、Cu濃度を0.8〜1.2質量%に管理しながらはんだ付けを行うことによりはんだ付け部の引け巣を防止する方法も開示した(下記特許文献2)。
これらの特許文献は、現在鉛フリーはんだ合金として広く使用されているSn−3.5Ag−0.7CuおよびSn−3.0Ag−0.5Cuの組成に比べて、AgおよびCuをより多量に添加することによって、はんだ表面の微細な凹凸や引け巣を低減することを意図している。即ち、AgやCuの含有量を増加させ、相対的にSn含有量を減少させることで、Snのデンドライトの発生が低減し、表面凹凸や引け巣の発生が抑制される。しかし、特に高価なAgをより多量に含有するため、材料コストが高くなる。また、AgおよびCuの含有量の増大によって、はんだの溶融温度(特に液相線温度)が高くなり、リフロー法には使いにくくなる。
特許文献1:特開2003−1481号公報
特許文献2:特開2005−186160号公報
本発明の1目的は、Sn−Ag−Cu系鉛フリーはんだの耐温度サイクル特性を損ねず、はんだ表面の微細な凹凸や引け巣が抑制された鉛フリーはんだ合金を提供することである。
本発明の別の目的は、高価なAgの含有量を増大させず、かつはんだの液相線温度が従来のSn−Ag−Cu系はんだと同程度の鉛フリーはんだ合金により、鉛フリーはんだ表面の微細凹凸や引け巣の発生を抑制することである。
本発明者は、Sn−Ag−Cu系鉛フリーはんだのAgを減らすことによって、はんだ表面の微細な凹凸や引け巣が低減されること、減らしたAgの代わりにBiを添加することによって耐温度サイクル特性を損ねずにはんだ表面の微細な凹凸や引け巣が低減され、上記目的を達成できることを見いだした。
即ち、前述した特許文献1および2におけるようなSn含有量の低減によるデンドライト生成の低減ではなく、Sn−Ag−Cu共晶組織の生成量を大幅に抑制することによっても引け巣を抑制でき、この目的にとってAg含有量を1.5質量%以下にすることが有効である。しかし、Ag含有量が低下すると、はんだの強度も低下し、はんだ接合部の耐熱疲労特性(耐温度サイクル特性)が低下する。そのため、引け巣が抑制できても、はんだ接合部の信頼性が低下する。ところが、一般的には脆く、はんだの信頼性を低下させると考えられているBiを敢えて添加することにより、Sn−3Ag−0.5Cuと同等以上耐熱疲労特性を有する鉛フリーはんだ合金が得られる。Biの添加は、引け巣発生に影響を及ぼさず、はんだ接合部のボイド発生も低減できる。
本発明は、質量%でAg:0.1〜1.5%、Bi:2.5〜5.0%、Cu:0.5〜1.0%、Ni:0〜0.035%、GeおよびはGaの1種もしくは2種:0〜0.01%、残部がSnおよび不可避不純物よりなる組成を有する、鉛フリーはんだ合金である。
Ni、GeおよびGaは任意添加合金元素である。Niは、後述するその添加目的を達成するには、0.015〜0.035質量%の量で含有させることが好ましい。同様に、GeおよびはGaの1種または2種を添加する場合は、その含有量を0.0005〜0.01質量%の範囲内とすることが好ましい。
本発明によれば、上記はんだ合金の粉末とフラックスとの混合物からなる、鉛フリーソルダペースト、およびこのソルダペーストを用いることを特徴とする、リフロー法によるプリント基板のはんだ付け方法も提供される。
本発明はまた、上記鉛フリーはんだ合金からなるはんだ接合部、および上記鉛フリーはんだ合金からなるはんだボールも提供する。
本発明の鉛フリーはんだ合金では、典型的なSn−Ag−Cu系鉛フリーはんだよりAg含有量を低減させ、デンドライトを生成するSn量を増加させることで、引け巣の発生が抑制される。これは、Snデンドライト同士の結合が促進され、凝固割れが発生しにくくなるためではないかと推測される。しかし、Ag量の低減により、Sn−Ag−Cu系鉛フリーはんだの持つ優れた耐温度サイクル特性が悪影響を受ける。
そこで、Sn−Ag−Cu系鉛フリーはんだに添加する強度添加元素として見いだしたのがBiである。Biは、InやZnとともに、鉛フリーはんだの溶融温度を低下させる添加元素としてよく知られている金属元素である。Biは金属単体としては硬く、脆い金属で、鉛フリーはんだにBiを添加すると硬く、はんだの伸びが減少する傾向にある。しかし、Sn−Ag−Cu系鉛フリーはんだへのBiの添加量が2.5〜5.0質量%の範囲内では、はんだ合金の伸びはいくらか低下しても、強度が増加するため、耐熱疲労特性は向上することが判明した。Biの添加により、Ag量を1.5質量%以下まで低減させても、耐温度サイクル性がSn−3.5Ag−0.7CuやSn−3.0Ag−0.5Cuのそれに近い水準まで改善される。
本発明に係るSn−Bi−Ag−Cu系鉛フリーはんだは、耐温度サイクル特性が優れているとともに、従来のSn−Ag−Cu鉛フリーはんだの欠点である、はんだ表面の微細な凹凸や引け巣の発生が著しく抑制される。また、Biの添加により、ボイド発生を抑制し、安定した品質を持つ信頼性の高いはんだ接合部を形成することが可能となる。
本発明に係るはんだ合金は、公知のはんだの使用形態のいずれにおいても使用できる。例えば、プリント基板の実装に多用されている、はんだ合金粉末をフラックスと混合したソルダペーストの形態でリフローはんだ付け法により使用するのに適している。また、はんだボールの形態でリフローはんだ付け法により使用することもできる。
本発明に係るはんだ合金は、一般的なSn−3Ag−0.5CuおよびSn−3.5Ag−0.75Cuはんだ合金と比較して、液相線がやや高いことがあるが、それでも差は数℃以内であるので、フローソルダリングへの利用も十分に可能である。さらに、はんだ合金として十分な延性を有しているので、一般的なBi入りはんだでは不可能であった伸線が可能であり、棒はんだ、線はんだ、および脂入りはんだの形態でも使用可能である。また、はんだプリフォームの形態でも使用できる。
実施例において引け巣長さが0.5mm以下であるはんだ表面を示す顕微鏡写真。右側の定規の1目盛りは0.5mmである。 引け巣長さが0.5mmを超えたはんだ表面を示す顕微鏡写真。定規の目盛りは図1と同様である。
本発明を以下により詳しく説明する。以下の説明において、はんだ合金組成に関する%は、特に指定しない限り質量%である。
本発明に係るSn−Bi−Ag−Cu系はんだ合金は、Agを低減させ、Snを増加させることで、Snデンドライト同士の結合を促進させ、はんだ表面の微細な凹凸や引け巣の発生を少なくする。それによるはんだ接合部の耐熱疲労特性の低下を、特定量のBiの添加により防ぐ。SnにBiのみを添加しても、はんだの耐熱疲労特性を維持することは難しい。Snと金属間化合物を形成する金属元素であるAgおよびCuを添加しないと、はんだの耐熱疲労特性(耐熱サイクル特性)が悪くなる。
Agの含有量は0.1〜1.5%である。Agの含有量が1.5%を超えると、はんだ表面の微細な凹凸や引け巣の発生が多くなる。Agが0.1%を下回ると、Biを添加してもはんだの耐熱サイクル特性を改善することができなくなる。Agの好ましい含有量は0.3〜1.0%である。
Cuの含有量は0.5〜1.0%である。Cuは、はんだの耐温度サイクル特性を維持するために0.5%以上添加する。本発明では、引け巣発生の抑制のためにAg含有量を1.5%以下に制限しているため、Cu含有量が0.5%未満では、Biを2.5%以上添加しても、耐温度サイクル特性が劣化してしまう。Cu含有量が1.0%を超えると、はんだ合金の液相線温度が上昇し、通常のリフロー温度でははんだが完全に溶融せず、ボイドが多くなり、結局、耐温度サイクル特性が悪くなる。好ましいCu含有量は0.6〜0.9%である。
Bi含有量は2.5〜5.0%の範囲内である。Ag含有量を1.5%以下に制限した本発明に係る鉛フリーはんだ合金では、Bi含有量が2.5%より少ないと耐温度サイクル特性が低下する。Bi含有量が5.0%を超えると、接合部でのBi晶出が増加し、耐温度サイクル特性が再び低下する。Bi含有量は好ましくは3〜4.5%である。
本発明のSn−Bi−Ag−Cu系はんだ合金は、CuやNi電極の溶解を防止するために、Niを0.015〜0.035%の量で含有していてもよい。このようなNiの微量添加では、はんだ合金の溶融温度もほとんど上昇せず、はんだ付け後にボイドが増加するなどの不具合も発生しない。
本発明のSn−Bi−Ag−Cu系はんだ合金に、濡れ性改善の目的で、Geおよび/またはGaを0.0005〜0.01%(2種の場合は合計量とする)添加してもよい。それにより、はんだ付け後のボイド発生が抑制される。この量が0.01%を超えると、溶融はんだの表面張力が増加し、接合部のボイド発生が増加する。
本発明に係るSn−Bi−Ag−Cu系はんだ合金は、合計で0.05%以下、好ましくは0.01%以下、さらに好ましくは0.005%以下の微量であれば、上記以外の1種または2種以上の合金元素をさらに含有しうる。この鉛フリーはんだの残部はSnおよび不可避不純物である。Snの含有量は好ましくは93%以上96.5%以下であり、より好ましくは94%以上96%以下である。
前述したように、本発明に係る鉛フリーはんだ合金は、はんだボール、ソルダペーストをはじめとする各種の形態で使用することができる。
ソルダペーストは、はんだ粉末を少量のフラックスと混合してペースト状にしたものであり、リフローはんだ付け法によるプリント基板への電子部品の実装に広く利用されている。ソルダペーストに用いるフラックスは、水溶性フラックスと非水溶性フラックスのいずれでもよいが、典型的には、適当な活性剤、溶剤、チキソ剤を含有するロジンベースの非水溶性フラックスであるロジン系フラックスである。
はんだボールは、典型的には直径0.05〜1.0mm程度の球形のはんだであり、BGA(ボールグリッドアレイ)などの半導体パッケージの電極や基板のバンプ形成に用いられる。前記特許文献1に記載されているように、油中造球法をはじめとする各種のはんだボールの製造法が知られている。はんだボールは、ウェハーや基板への搭載時にパレット上に転がされてパレットの穴に入れて整列させるという操作を受けることがあるため、完全な球状とする必要がある。ウェハーや基板に搭載されたはんだボールは画像認識により検査されるので、その表面に傷や変色があってはならない。本発明に係る鉛フリーはんだ合金から形成されたはんだボールは、表面の微細凹凸や引け巣の発生が抑制されており、表面性状に優れている。
本発明に係る鉛フリーはんだ合金を用いたプリント基板のはんだ付けは、フロー法とリフロー法のいずれの方法を用いて実施することもできる。いずれも、常法に従って実施すればよい。はんだ付けは一般にはんだ合金の固相線温度より数℃〜20℃高い温度で実施される。本発明に係るはんだ合金は、典型的には固相線温度が188〜203℃、液相線温度は219〜223℃の範囲内であり、一般的なSn−3Ag−0.5Cu鉛フリーはんだと同じはんだ付け条件を用いて同様にはんだ付けを実施することができる。
こうして形成されたはんだ接合部は、表面の微細凹凸が少なく、特に引け巣の発生が著しく抑制されている。そのため、目視検査によるクラックの識別が容易となり、また画像認識を利用した光学的な検査装置による検査もより円滑に実施することができる。
表1に示した組成を有するはんだ合金を作製し、以下に述べるようにして試験を行った。測定結果も表1に併せて示す。
[試験方法]
1)DSCによる融点の測定
試料を10〜40mg採取し、示差走査熱量測定装置(DSC)により、昇温速度5℃/minで、固相線温度と液相線温度を測定した。
2)温度サイクル後の接合強度
厚さ1.6mmの6層プリント基板に所定パターンで配置された各はんだ付け部(1.6×1.2mm)に3.2×1.6×0.6mmのチップ抵抗をはんだ付けした。はんだ付けは、各はんだ合金の粉末とロジン系フラックスとから作製したソルダペーストをはんだ付け部に150μmの厚さで印刷塗布し、ピーク温度が245℃のリフロー炉で加熱するリフロー法により行った。
こうして各はんだ付け部に同じチップ抵抗が実装されたプリント基板を、−55℃と+125℃にそれぞれ30分ずつの温度サイクルに1000サイクル曝して試験試料(温度サイクルにさらしたチップ抵抗)を得た。この試験試料を、接合強度試験機で横方向に力をかけることによって剥がし取り、そのときの強度(N:ニュートン)を測定して、接合強度とした。測定したチップ抵抗(試験試料)の数は各はんだ合金について20個ずつとし、得られた接合強度の平均値および最小値を表1に示す。
3)ボイド発生
上記温度サイクル試験を行った基板において、残留するチップ抵抗のはんだフィレット部10個所を、透過X線装置により倍率15倍で観察して、径が300μm以上のボイドの総数を数えた。但し、部品下のボイドは考慮しなかった。
4)引け巣
14×18×0.3mmの銅板を、中央の直径10mmのCu露出部を除いてソルダーレジストで被覆した。この銅板のCu露出部に、はんだ合金1gを載せ、更にロジン系フラックスを塗布した。この銅板を270℃に保持されているはんだ槽に浮かべた20×20×0.3mmの銅基板の上に載せて、30秒間放置し、はんだ合金を溶融させた。その後、銅板を取り出して、空冷した。
凝固したはんだ中央部の表面を、50倍の実体顕微鏡で25mm2の範囲を観察し、幅20μm×長さ200μm以上の引け巣の総延長距離を各3回測定し、その平均値を引け巣長さとした。本試験により求めた引け巣長さが1mm以下で有れば、実使用上問題ない。
[測定結果]
1)融点
本発明に係るはんだ合金の液相線温度はすべて230℃以下であり、固相線温度は170℃以上であった。電子部品やプリント基板への熱影響を考慮すると、液相線温度は230℃以下が好ましい。また高温時における接合強度を弱めないためには、固相線温度は170℃以上が好ましい。従って、本発明に係るはんだ合金は、電子部品のプリント基板へのはんだ付けに適した溶融特性を有する。
2)温度サイクル後の接合強度
本発明に係る鉛フリーはんだ合金は、温度サイクル(ヒートサイクル)試験後の接合強度が平均で30N以上、最小値が20N以上であった。
温度サイクル試験では主にクラックの発生により接合強度は低下し、クラック進展が激しいほど接合強度は低くなる。この温度サイクル試験ではクラックが完全に貫通すると、接合強度は10N以下となる。つまり、1000サイクル後に平均で20N以上、且つ最小値で15N以上であれば、十分な接合状態を維持していると考えられる。しかし、一般の実装基板には更に耐熱疲労特性が要求させるものもある。Sn−3Ag−0.5Cu合金における1000サイクルの温度サイクル試験後の接合強度の平均値と最小値が各々27N,18N(表1の比較例10)であることを考慮して、それと同等以上の耐熱疲労性を有するように、温度サイクル後の接合強度は、平均で30N、且つ最小値が20N以上を合格とする。実施例のはんだ合金はすべて合格であった。
3)ボイド発生
Sn−3Ag−0.5Cu合金ではボイドが45個である。ボイド低減を目的として開発されたSn−1Ag−0.7Cu合金やSn−0.3Ag−0.7Cu合金ではボイドが30前後である。従って、ボイドが25個以内であれば、ボイド低減効果は十分である。本発明に係る鉛フリーはんだ合金はボイド発生に関しても十分に満足できる結果を示した。
4)引け巣試験
図1は、引け巣試験における本発明に係るはんだ合金の表面を、図2は、引け巣長さが大きかった比較例のはんだ合金の表面を示す。図1のはんだ合金では、表面がほぼなだらかで、引け巣もごく幅が小さい。一方、図2の比較例のはんだ合金では、表面がより荒く、大きな割れ目にみえる窪みが発生している。これが引け巣である。上述したように、引け巣長さが1mm以下であれば、実使用上問題なく、本発明に係るはんだ合金はいずれもこの条件を満足した。即ち、引け巣や表面の微細凹凸に関して、従来のSn−Sg−Cuはんだに比べて著しい改善が達成された。
本発明のSn−Bi−Ag−Cu系鉛フリーはんだは、固相線温度と液相線温度の差が少なく、現在一般的に使用されているSn−3.0%Ag−0.5%Cuのリフロー条件(ピーク温度218℃)を用いても、220℃での溶解量が50%を超えることから、代用が可能である。現在の鉛フリー用の電子部品は、Sn−3.0%Ag−0.5%Cuを基に耐熱性が設計されているので、本発明のはんだ合金は、現在使用されている電子部品を、設計変更をせずにそのままはんだ付けに使用できる。
さらに、引け巣、耐温度サイクルおよびボイド発生の結果も良好で、本発明の鉛フリーはんだ合金は高い信頼性を有していることが分かる。

Claims (7)

  1. 質量%で、Ag:0.1〜1.5%、Bi:2.5〜5.0%、Cu:0.5〜1.0%、Ni:0〜0.035%、GeおよびはGaの1種もしくは2種:0〜0.01%、残部がSnおよび不可避不純物よりなる組成を有する、鉛フリーはんだ合金。
  2. Niを0.015〜0.035%含有する、請求項1に記載のはんだ合金。
  3. GeよびはGaの1種または2種を合計で0.0005〜0.01%含有する請求項1または2に記載のはんだ合金。
  4. 請求項1〜3のいずれかに記載のはんだ合金の粉末とフラックスとの混合物からなる、鉛フリーソルダペースト。
  5. 請求項4に記載のソルダペーストを用いることを特徴とするプリント基板のはんだ付け方法。
  6. 請求項1〜3のいずれかに記載の鉛フリーはんだ合金からなるはんだ接合部。
  7. 請求項1〜3のいずれかに記載の鉛フリーはんだ合金からなるはんだボール。
JP2010509218A 2008-04-23 2009-04-23 引け巣が抑制された鉛フリーはんだ合金 Active JP5287852B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010509218A JP5287852B2 (ja) 2008-04-23 2009-04-23 引け巣が抑制された鉛フリーはんだ合金

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008112282 2008-04-23
JP2008112282 2008-04-23
PCT/JP2009/058077 WO2009131178A1 (ja) 2008-04-23 2009-04-23 引け巣が抑制された鉛フリーはんだ合金
JP2010509218A JP5287852B2 (ja) 2008-04-23 2009-04-23 引け巣が抑制された鉛フリーはんだ合金

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2009131178A1 true JPWO2009131178A1 (ja) 2011-08-18
JP5287852B2 JP5287852B2 (ja) 2013-09-11

Family

ID=41216907

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010509218A Active JP5287852B2 (ja) 2008-04-23 2009-04-23 引け巣が抑制された鉛フリーはんだ合金

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9227258B2 (ja)
EP (1) EP2275224B1 (ja)
JP (1) JP5287852B2 (ja)
KR (1) KR101318454B1 (ja)
CN (1) CN102066043B (ja)
MY (1) MY153585A (ja)
WO (1) WO2009131178A1 (ja)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011183430A (ja) * 2010-03-08 2011-09-22 Nippon Genma:Kk はんだ
CN101862925A (zh) * 2010-05-17 2010-10-20 天津大学 锡铋银系无铅焊料及制备方法
CN103476539B (zh) 2011-02-04 2016-08-17 安塔亚技术公司 无铅焊料组合物
US9339893B2 (en) * 2011-04-15 2016-05-17 Nihon Superior Co., Ltd. Lead-free solder alloy
JP6008945B2 (ja) * 2011-05-03 2016-10-19 ピルキントン グループ リミテッド はんだ付けされたコネクタを備えるグレイジング
JP5839892B2 (ja) * 2011-08-30 2016-01-06 三菱電機株式会社 半田材および半導体装置
CN102642097A (zh) * 2012-04-09 2012-08-22 华南理工大学 一种低银无铅钎料合金
WO2014013632A1 (ja) * 2012-07-19 2014-01-23 ハリマ化成株式会社 はんだ合金、ソルダペーストおよび電子回路基板
CN110900036B (zh) * 2012-10-09 2022-10-28 阿尔法组装解决方案公司 高温可靠的无铅并且无锑的锡焊料
CN102962599B (zh) * 2012-11-20 2015-06-03 哈尔滨理工大学 电子封装用无铅钎料
CN103008904B (zh) * 2012-11-28 2015-04-08 一远电子科技有限公司 一种SnCuNiGaGeIn系无银无铅焊料合金
MY181753A (en) 2013-05-03 2021-01-06 Honeywell Int Inc Lead frame construct for lead-free solder connections
CN105189027B (zh) * 2013-09-11 2018-06-29 千住金属工业株式会社 无铅软钎料、无铅焊料球、使用了该无铅软钎料的焊料接头和具有该焊料接头的半导体电路
JP2017509489A (ja) 2014-02-20 2017-04-06 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド 鉛フリーはんだ組成物
CA2946994C (en) * 2014-04-30 2020-04-14 Nihon Superior Co., Ltd. Lead-free solder alloy
CN104741820A (zh) * 2015-03-24 2015-07-01 东莞市成飞焊接材料有限公司 无铅钎料
CN105945447A (zh) * 2016-06-28 2016-09-21 江苏阳明船舶装备制造技术有限公司 一种SnAgCu系无铅钎料及制备方法
DE102016112390B4 (de) 2016-07-06 2021-08-12 Infineon Technologies Ag Lötpad und Verfahren zum Verbessern der Lötpadoberfläche
JP6969070B2 (ja) * 2017-02-28 2021-11-24 千住金属工業株式会社 はんだ材料、はんだペースト、フォームはんだ及びはんだ継手
JP2018140427A (ja) * 2017-02-28 2018-09-13 千住金属工業株式会社 はんだ材料、はんだペースト、フォームはんだ及びはんだ継手
US11398447B2 (en) 2017-12-13 2022-07-26 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor device and method for producing semiconductor device
KR101959076B1 (ko) 2018-12-27 2019-03-15 배영재 철근 커플러
CA3198256A1 (en) * 2020-11-19 2022-05-27 Yuki Iijima Solder alloy, solder ball and solder joint
JP6936926B1 (ja) * 2021-03-10 2021-09-22 千住金属工業株式会社 はんだ合金、はんだ粉末、はんだペースト、およびはんだ継手
CN114559178A (zh) * 2021-12-21 2022-05-31 西安理工大学 Sn-Bi-Ag系无铅焊料及其制备方法
CN115156755A (zh) * 2022-08-12 2022-10-11 云南锡业集团(控股)有限责任公司研发中心 一种含Bi、Ni、Ga的Sn-Ag-Cu无铅钎料及其制备方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8807730D0 (en) 1988-03-31 1988-05-05 Cookson Group Plc Low toxicity soldering compositions
US4879096A (en) * 1989-04-19 1989-11-07 Oatey Company Lead- and antimony-free solder composition
JPH08132277A (ja) * 1994-11-01 1996-05-28 Ishikawa Kinzoku Kk 無鉛はんだ
US6649127B2 (en) * 1996-12-17 2003-11-18 Sony Chemicals Corp Lead-free solder material having good wettability
JP3601278B2 (ja) 1996-12-17 2004-12-15 ソニー株式会社 はんだ材料
US6179935B1 (en) * 1997-04-16 2001-01-30 Fuji Electric Co., Ltd. Solder alloys
JP3622462B2 (ja) 1997-12-16 2005-02-23 株式会社日立製作所 半導体装置
JP2000015476A (ja) * 1998-06-29 2000-01-18 Ishikawa Kinzoku Kk 無鉛はんだ
JP2000153388A (ja) 1998-09-14 2000-06-06 Murata Mfg Co Ltd はんだ付け物品
US6365097B1 (en) * 1999-01-29 2002-04-02 Fuji Electric Co., Ltd. Solder alloy
JP2001025891A (ja) 1999-07-14 2001-01-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd 鉛フリーはんだ
JP3649384B2 (ja) * 2000-07-03 2005-05-18 日立金属株式会社 はんだボールおよびその製造方法
JP2002011593A (ja) * 2000-04-27 2002-01-15 Mitsubishi Electric Corp 無鉛はんだ、電子基板、家電装置、冷蔵庫、電子部品の接合方法、配管の接合方法、はんだ付け装置
JP2001334385A (ja) * 2000-05-22 2001-12-04 Hitachi Ltd 電子機器用Sn−Ag−Cu−Bi−In系はんだ
JP2002096191A (ja) * 2000-09-18 2002-04-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd はんだ材料およびこれを利用する電気・電子機器
JP3772697B2 (ja) 2001-06-15 2006-05-10 千住金属工業株式会社 鉛フリーはんだボールおよびその製造方法
CN1201896C (zh) 2003-06-09 2005-05-18 广州市特铜电子材料有限公司 一种无铅焊料
JP4407385B2 (ja) 2003-12-01 2010-02-03 千住金属工業株式会社 はんだ付け部の引け巣防止方法とはんだ合金と電子機器用モジュール部品
CN1570166A (zh) * 2004-05-09 2005-01-26 邓和升 无铅焊料合金及其制备方法
GB2421030B (en) * 2004-12-01 2008-03-19 Alpha Fry Ltd Solder alloy

Also Published As

Publication number Publication date
EP2275224A1 (en) 2011-01-19
WO2009131178A1 (ja) 2009-10-29
US9227258B2 (en) 2016-01-05
EP2275224A4 (en) 2011-11-09
JP5287852B2 (ja) 2013-09-11
MY153585A (en) 2015-02-27
KR20110038615A (ko) 2011-04-14
EP2275224B1 (en) 2014-01-22
KR101318454B1 (ko) 2013-10-16
CN102066043A (zh) 2011-05-18
US20110204121A1 (en) 2011-08-25
CN102066043B (zh) 2014-05-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5287852B2 (ja) 引け巣が抑制された鉛フリーはんだ合金
JP4613823B2 (ja) ソルダペーストおよびプリント基板
JP5924852B2 (ja) はんだ継手
JP4770733B2 (ja) はんだ及びそれを使用した実装品
JP5115915B2 (ja) 鉛フリーはんだ、そのはんだ加工物、ソルダーペースト及び電子部品はんだ付け基板
TWI357368B (en) Lead-free solder ball
EP1971699A2 (en) Lead-free solder with low copper dissolution
US11607752B2 (en) Solder alloy, solder joint material, and electronic circuit board
TWI695893B (zh) 銲錫膏
WO2014170963A1 (ja) 鉛フリーはんだボール及び鉛フリーはんだボールの検査方法
JP2017051984A (ja) はんだ合金及びはんだ組成物
JP2004148372A (ja) 鉛フリーはんだおよびはんだ付け物品
JPH10166178A (ja) Pbフリーはんだ材料及びそれを用いた電子機器
JP3719627B2 (ja) はんだ合金
JP5051633B2 (ja) はんだ合金
JP2006061914A (ja) 半田合金
JP4407385B2 (ja) はんだ付け部の引け巣防止方法とはんだ合金と電子機器用モジュール部品
JP5182258B2 (ja) はんだ合金と電子機器用モジュール部品
JP2007111715A (ja) はんだ合金
JP2003200288A (ja) Pbフリーはんだ材料及びそれを用いた電子機器
JPH1133774A (ja) はんだ合金、ソルダーペースト及びやに入りはんだ
JP2002126895A (ja) はんだおよびこれを用いてはんだ付した配線基板

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121106

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130212

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130221

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130507

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130520

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5287852

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250