JPWO2007129733A1 - 撮像位置補正方法、撮像方法、及び基板撮像装置 - Google Patents
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Abstract
Description
電極パッドを撮像し、得られた画像の針痕のパターンから試験が正常に行われたか否かを判断する技術が、特許文献1に開示されている。
被写体とカメラとを相対的に移動させる工程と、
撮像トリガに応答して、前記カメラにより被写体の図像を撮像する撮像工程と、
前記撮像工程において前記基板上の図像を撮像するときに、前記基板と前記カメラとの相対移動速度に基づいて、撮像トリガを発生させるべき位置と前記基板の撮像位置とのずれ量を予測するずれ量予測工程と、
前記ずれ量予測工程で予測したずれ量に基づいて、前記撮像トリガの発生タイミングを、前記カメラが前記基板の撮像位置より補正量だけずらした位置に対向しているタイミングに補正する補正工程と、
を備える。
ずれ量予測工程は、前記基板と前記カメラとの相対移動速度と移動距離とに基づいて、ずれ量を予測してもよい。
被写体とカメラとを相対的に移動させる工程と、
撮像トリガに応答して、前記カメラにより被写体の図像を撮像する撮像工程と、
前記基板と前記カメラとの相対移動速度に基づいて補正したタイミングで、撮像トリガを発生する撮像トリガ発生工程と、
を備える。
前記撮像トリガ発生工程は、例えば、前記基板と前記カメラとの相対移動速度と移動距離とに基づいて、撮像トリガの発生タイミングを補正する。
基板上の図像を撮像する撮像手段と、
前記基板上の図像を撮像するときに、前記基板と前記撮像手段とを相対的に移動させる移動手段と、
前記基板上の図像を撮像するときの前記基板と前記撮像手段との相対移動速度に基づいて、前記撮像手段で撮像を起動する撮像トリガと前記基板の撮像位置とのずれ量を予測するずれ量予測手段と、
前記ずれ量予測手段で予測したずれ量だけ前記撮像トリガの発生位置を、撮像手段が基板の被撮影対象エリアに対向している位置からずらす撮像トリガ補正手段と、
を備えることを特徴とする。
前記ずれ量予測手段は、例えば、前記基板と前記撮像手段との相対移動速度と相対移動距離とに応じたずれ量を予測する。
撮像トリガに応答して、被写体を撮像する撮像手段と、
前記被写体と前記撮像手段とを相対的に移動させる移動手段と、
被写体と前記撮像手段との相対移動速度に基づいて、撮像トリガを発生したときに撮像手段が対向している位置と実際に撮像される位置とのずれ量を予測するずれ量予測手段と、
撮像手段が基板の被撮影対象エリアよりも予測したずれ量だけ移動経路上で手前に位置しているときに、撮像トリガを発生する手段と、
を備えることを特徴とする。
ずれ量予測手段は、被写体と前記撮像手段との相対移動速度と移動距離とに基づいてずれ量を予測してもよい。
コンピュータに、
被写体とカメラとを相対的に移動させる工程と、
撮像トリガに応答して、前記カメラにより被写体の図像を撮像する撮像工程と、
前記撮像工程において前記基板上の図像を撮像するときに、前記基板と前記撮像手段との相対移動速度(と移動距離と)に基づいて、撮像トリガを発生させるべき位置と前記基板の撮像位置とのずれ量を予測するずれ量予測工程と、
前記ずれ量予測工程で予測したずれ量に基づいて、前記撮像トリガの発生タイミングを、撮像手段が前記基板の撮像位置より補正量だけずらした位置に対向しているタイミングに補正する補正工程と、
を実行させるコンピュータプログラム。
として機能させることを特徴とする。
2 検査制御部
3 カメラ
4 プローブカード
4a プローブ
5 ステージ駆動部
6 ステージ位置検出部
7 位置検出センサ
8 ウエハ(半導体基板)
8a 電極パッド
9 基板撮像装置
10 ステージ制御装置
12 ローダ部
13 プローブ制御部
14 ステージ
15 プローバ部
16 チップ
20 内部バス
21 制御部
22 主記憶部
23 外部記憶部
24 操作部
25 入出力部
26 表示部
ステージ駆動部(ドライバ)5は、ローダ部12のアクチュエータを駆動する駆動回路である。ステージ駆動部5は、検査制御部2の設定データに基づいたステージ制御部10aの指令に従って、ローダ部12を各軸方向に駆動する。
ステージ位置検出部6は、ステージ14の位置を検出する位置検出センサ7の信号を入力し、ステージの位置のデータをステージ制御部10aを介して検査制御部2に出力する。ステージ位置検出部6は、少なくとも、ステージ14のX軸及びY軸方向の位置を検出する。
ステージ制御装置10は、プローバ15の一部であり、プローバ15と撮像装置9で共通に使用される。
このように、オプションの違いや各構成要素の個体差があるので、基板撮像装置9ごとにローダ部12及びステージ14の被駆動特性が異なっている。そのため、ずれ量は、ステージ駆動速度の一次関数で一律に求めることができない。
このずれ量は、ステージ14の駆動速度に影響され、さらに、移動開始点から撮像位置までの駆動軸方向の距離にも影響される。結果としてずれ量はステージ駆動速度項、ステージ駆動始点からの距離項、及び定数項からなる一次関数により近似して求めることができる。
D = b0 + b1・V + b2・L ・・・(1)
ここで、b0は定数項、b1は速度項の係数、b2は距離項の係数である。
基板撮像装置9は、求めた予測式(1)を用いて、検査対象のウエハ8のチップ16を撮像する際のずれ量D(撮像予定位置と撮像トリガの発生タイミングを補正することなく撮像動作を行った場合に撮像される位置とのずれ量)を予測する。予測したずれ量Dに相当する時間だけ、撮像トリガの発生タイミングを補正する(早める)ことにより、高速で移動するステージ14上のウエハ8の予定位置を撮像することが可能となる。
操作者は、基準位置を決定するために、図5に示すように、矩形の繰り返しパターン(チップ16)を全面に有するウエハ8を用意する。操作者は、このウエハ8を基板撮像装置9のステージ14上に固定する。操作者は、ローダ部12による位置合わせを行って、ステージ14のXY軸の方向とチップ16の配列方向が平行になるように調整する。この状態で、操作者は、基板撮像装置9の表示部26にカメラ3が撮像したウエハ8の像を表示させる。操作者は、カメラ3の撮像した画像を確認し、各チップ16の任意の点を基準位置として特定する。基準位置としては、チップ16内の位置を一意に特定できるユニークなパターンが形成されている位置を選ぶ。制御部21は、チップ16内の基準位置の位置座標を記憶する。
次に、制御部21は、ステージ制御装置10を制御して、ステージウエハ8の中心を含むチップ(センターチップ)を基準として、そのX方向及びY方向に配列されている各チップ16の基準位置の座標値を求める。次に、制御部21は、求めた各座標値に基づいて、各チップ16の基準位置にカメラ3が対向するように、ステージ14を順に移動及び静止する。制御部21は、撮像対象のチップ16が静止した状態でカメラ3に入出力部25を介して撮像トリガを供給し、基準位置を撮像させる。なお、基準位置を画像の中心(光軸上の位置)とすることが望ましい。制御部21は、カメラ3が撮像した画像を取得し、基準画像とし、主記憶部22又は外部記憶部23に格納する。制御部21は、ステージ14の移動とカメラ3による撮像を繰り返して、各撮像対象チップ16の基準位置の画像群(基準画像群)を得る。
図6の上段は、基準画像群の例を示す。各基準画像を撮像する位置は、位置検出センサ7及びステージ位置検出部6で検出した位置を、ステージ14及びウエハ8の温度などによる伸縮の誤差を考慮して補正した位置であり、各チップの正確な基準位置である。換言すれば、基準画像は、撮像トリガが発生したタイミングでカメラ3が対向していた位置の画像である。
次に、基板撮像装置9は、基準画像を取得したときと同じ撮像対象チップ16上の基準位置の列(直線上に並んでいる)について、ステージ14をカメラ3に対して一定速度で移動させながら各チップの基準位置を撮像(スキャン撮像)する。より詳細には、制御部21は、ステージ制御装置10を制御して、ステージ14を所定の駆動速度で移動させる。さらに、制御部21は、ステージ位置検出部6で検出した位置に基づいて、カメラ3がウエハ8の各チップ16の基準位置に対向している(対向していると想定される)タイミングで撮像トリガを発生する。この撮像トリガに応答して、カメラ3はチップ16の対向する位置の画像を撮像する。制御部21は、カメラ3が撮像した画像を取り込む。
次に、制御部21は、採取した各評価画像において、画像中心にあるべき基準位置が、採取した対応する基準画像中の基準位置に対して、移動方向にどれだけずれているかを計測する。図6に示すように、上段の基準画像に対して下段のスキャン撮像された評価画像は、それぞれD1〜Dnだけ遅れている。換言すれば、カメラ3の撮像位置が、撮影トリガが発生したタイミングでカメラ3の光軸が対向していた位置に対して進んでいる。制御部21は、例えば、対応する基準画像上の基準位置と評価画像上の基準位置をとのずれをパターンマッチングにより求め、ずれ量を画素数で特定する。制御部21は、求めた画素数と一画素当たりの距離を乗算することにより、ずれ量Dを求める。
制御部21は、求めたずれ量D1〜Dnをその値が得られたときの駆動速度Vと、駆動開始位置から対応する基準位置までの距離Lとに対応付けて、主記憶部22又は外部記憶部23に格納する。記憶データにステージ14の温度などの情報を付加してもよい。
図7に示すように、ステージ14の移動速度が速いほど、また、移動距離が長くなるほど、撮像位置の遅れ量が大きくなっている。
また、制御部21は、Y軸方向に配列されたチップ列について、移動速度Vを変えてY軸の正方向と負方向のそれぞれについて、各チップ16の基準位置の駆動始点からの距離Lと駆動速度Vに対するずれ量Dを計測する。そして、各チップの基準位置の駆動始点からの距離Lと駆動速度Vを独立変数、計測されたずれ量Dを従属変数として、回帰分析を実施することにより、X軸正方向及びX軸負方向、Y軸正方向及びY軸負方向それぞれについてずれ量予測式の駆動速度係数b1、距離係数b2、及び定数項b0を決定する。制御部21は、これらの係数を置固有のパラメータとして、外部記憶部23に保存する。
次に、制御部21は、ステップA2で静止した状態で撮像した基準画像と、ステップS3で、相対移動させながら撮像した評価画像(スキャン画像)を比較して、各駆動速度と移動距離での遅れ量を計測する。
次に、駆動速度及び駆動距離に対する遅れ量から、回帰分析により、ずれ量予測式(1)の各係数b0〜b2を算出する(ステップA4)。X軸、Y軸それぞれのずれ量予測式を求めて、基板撮像装置9固有のパラメータとして外部記憶部23に格納する(ステップA5)。
まず、判定に先立って、図9の処理を行う等して、制御部21は、ずれ量予測式(1)を決定し、主記憶部22又は外部記憶部23に格納する。一方、操作者(検査者)は、検査対象のウエハ8をステージ14に固定し、チップ列の方向とステージ14の移動方向を合わせる。図10では、X軸方向の列ごとに移動させながら撮像する場合を想定している。
また、ステージが移動するタイプに限らず、カメラが移動するタイプでもよい。
また、予測式(1)を可変パラメータ(例えば、ステージ14の温度)毎に用意して外部記憶部23等に記憶しておき、撮影段階で温度計などにより可変パラメータを求め、求めたパラメータに応じて、予測式を修正して遅れ量を求め、撮像トリガの発生タイミングを補正してもよい。
なお、予測式(1)で、距離項を無視して(b2=0)して、速度項だけで遅れ量を予測することも可能である。
本願は、平成18年5月9日に日本国特許庁に出願された特願2006−129778の優先権を主張しており、日本出願の特許請求の範囲、明細書、図面、要約書の内容をこの明細書に取り込む。
Claims (18)
- 被写体とカメラとを相対的に移動させる工程と、
撮像トリガに応答して、前記カメラにより被写体の図像を撮像する撮像工程と、
前記撮像工程において前記基板上の図像を撮像するときに、前記基板と前記撮像カメラとの相対移動速度に基づいて、撮像トリガを発生させるべき位置と前記基板の撮像位置とのずれ量を予測するずれ量予測工程と、
前記ずれ量予測工程で予測したずれ量に基づいて、前記撮像トリガの発生タイミングを、前記カメラが前記基板の撮像位置より補正量だけずらした位置に対向しているタイミングに補正する補正工程と、
を備える撮像位置補正方法。 - 前記ずれ量予測工程は、前記基板と前記カメラとの相対移動速度と移動距離とに基づいて、ずれ量を予測する、ことを特徴とする請求項1に記載の撮像位置補正方法。
- 基準となる基板と前記カメラとを相対的に移動させながら、前記基準となる基板上の図像を撮像する基準基板撮像工程と、
前記基準基板撮像工程で撮像した画像から撮像トリガと前記基準となる基板の撮像位置とのずれ量を計測する計測工程と、
を備え、
前記ずれ量予測工程は、前記計測工程で計測したずれ量に基づいて、前記基板と前記カメラとの相対移動速度に応じた撮像トリガと前記基板の撮像位置とのずれ量を予測することを特徴とする請求項1に記載の撮像位置補正方法。 - 前記基準基板撮像工程は、複数の異なる速度で前記基準となる基板と前記カメラとを相対的に移動しながら、前記基準となる基板上の図像を撮像することを特徴とする請求項3に記載の撮像位置補正方法。
- 前記複数の異なる速度は、前記基準となる基板の平面内で直交する2方向のそれぞれについて、複数の異なる速さを含むことを特徴とする請求項4に記載の撮像位置補正方法。
- 前記ずれ量予測工程で予測するずれ量は、前記基板と前記カメラとの基準の位置からの相対変位に基づくずれ量を含むことを特徴とする請求項1に記載の撮像位置補正方法。
- 被写体とカメラとを相対的に移動させる工程と、
撮像トリガに応答して、前記カメラにより被写体の図像を撮像する撮像工程と、
前記基板と前記カメラとの相対移動速度に基づいて補正したタイミングで、撮像トリガを発生する撮像トリガ発生工程と、
を備える撮像方法。 - 前記撮像トリガ発生工程は、前記基板と前記カメラとの相対移動速度と移動距離とに基づいて、撮像トリガの発生タイミングを補正する、
ことを特徴とする請求項7に記載の撮像方法。 - 前記基板と前記カメラとの相対移動速度と移動距離とに基づいて、撮像トリガを発生させるべき位置と前記基板の撮像位置とのずれ量を予測するずれ量予測工程をさらに備え、
前記撮影トリガ発生工程は、前記ずれ量予測工程で予測したずれ量だけ前記基板の撮像位置より手前にカメラが対向しているタイミングに撮像トリガを発生する、
ことを特徴とする請求項7に記載の撮像方法。 - 基板上の図像を撮像する撮像手段と、
前記基板上の図像を撮像するときに、前記基板と前記撮像手段とを相対的に移動させる移動手段と、
前記基板上の図像を撮像するときの前記基板と前記撮像手段との相対移動速度に基づいて、前記撮像手段で撮像を起動する撮像トリガと前記基板の撮像位置とのずれ量を予測するずれ量予測手段と、
前記ずれ量予測手段で予測したずれ量だけ前記撮像トリガの発生位置を、撮像手段が基板の被撮影対象エリアに対向している位置からずらす撮像トリガ補正手段と、
を備えることを特徴とする基板撮像装置。 - 前記ずれ量予測手段は、前記基板と前記撮像手段との相対移動速度と相対移動距離とに応じたずれ量を予測する、ことを特徴とする請求項10に記載の基板撮像装置。
- 基準となる基板と前記撮像手段とを相対的に移動させながら、前記基準となる基板上の図像を撮像する基準基板撮像手段と、
前記基準基板撮像手段で撮像した画像から前記撮像トリガと前記基準となる基板の撮像位置とのずれ量を計測する計測手段と、
を備え、
前記ずれ量予測手段は、前記計測手段で計測したずれ量に基づいて、前記基板と前記撮像手段との相対移動速度に応じた撮像トリガと前記基板の撮像位置とのずれ量を予測することを特徴とする請求項10に記載の基板撮像装置。 - 前記基準基板撮像手段は、複数の異なる速度で前記基準となる基板と前記撮像手段とを相対的に移動しながら、前記基準となる基板上の図像を撮像することを特徴とする請求項12に記載の基板撮像装置。
- 前記複数の異なる速度は、前記基準となる基板の平面内で直交する2方向のそれぞれについて、複数の異なる速さを含むことを特徴とする請求項13に記載の基板撮像装置。
- 前記ずれ量予測手段で予測するずれ量は、前記基板と前記撮像手段との基準の位置からの相対変位に基づくずれ量を含むことを特徴とする請求項10に記載の基板撮像装置。
- 撮像トリガに応答して、被写体を撮像する撮像手段と、
前記被写体と前記撮像手段とを相対的に移動させる移動手段と、
被写体と前記撮像手段との相対移動速度に基づいて、撮像トリガを発生したときに撮像手段が対向している位置と実際に撮像される位置とのずれ量を予測するずれ量予測手段と、
撮像手段が基板の被撮影対象エリアよりも予測したずれ量だけ移動経路上で手前に位置しているときに、撮像トリガを発生する手段と、
を備えることを特徴とする基板撮像装置。 - 前記ずれ量予測手段は、被写体と前記撮像手段との相対移動速度と移動距離とに基づいてずれ量を予測する、ことを特徴とする請求項16に記載の基板撮像装置。
- コンピュータに、
被写体とカメラとを相対的に移動させる工程と、
撮像トリガに応答して、前記カメラにより被写体の図像を撮像する撮像工程と、
前記撮像工程において前記基板上の図像を撮像するときに、前記基板と前記撮像手段との相対移動速度に基づいて、撮像トリガを発生させるべき位置と前記基板の撮像位置とのずれ量を予測するずれ量予測工程と、
前記ずれ量予測工程で予測したずれ量に基づいて、前記撮像トリガの発生タイミングを、撮像手段が前記基板の撮像位置より補正量だけずらした位置に対向しているタイミングに補正する補正工程と、
を実行させるコンピュータプログラム。
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Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4510403B2 (ja) * | 2003-05-08 | 2010-07-21 | 富士フイルム株式会社 | カメラモジュール及びカメラモジュールの製造方法 |
EP2379981B1 (en) * | 2009-01-17 | 2017-11-01 | Luna Innovations Incorporated | Optical imaging for optical device inspection |
JP5418490B2 (ja) * | 2010-12-27 | 2014-02-19 | 三菱電機株式会社 | 位置決め制御装置およびこれを備えた位置決め装置 |
JP2012164812A (ja) * | 2011-02-07 | 2012-08-30 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造システム及び製造方法 |
EP2770339B1 (de) | 2013-02-26 | 2019-11-27 | Hexagon Technology Center GmbH | Sensorsynchronisationsverfahren und ebensolches Sensormesssystem |
CN103200364B (zh) * | 2013-03-11 | 2016-03-23 | 太仓中科信息技术研究院 | 基于标记特征的摄像机升降格特效拍摄方法 |
KR102026357B1 (ko) * | 2013-04-17 | 2019-11-04 | (주)테크윙 | 반도체소자 테스트용 핸들러 |
KR101511241B1 (ko) * | 2013-07-26 | 2015-04-13 | (주)하드램 | 기판 얼라인 인식 시스템 및 그 제어 방법 |
JP6305013B2 (ja) * | 2013-10-28 | 2018-04-04 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
JP6438209B2 (ja) * | 2014-04-07 | 2018-12-12 | 株式会社荏原製作所 | 検査装置において撮像装置用のタイミング信号を生成するための制御装置、撮像装置にタイミング信号を送出する方法 |
KR101610148B1 (ko) * | 2014-11-17 | 2016-04-08 | 현대자동차 주식회사 | 차체 검사 시스템 및 방법 |
KR102045328B1 (ko) * | 2015-03-20 | 2019-11-15 | 한화정밀기계 주식회사 | 데이터 관리 장치 및 방법 |
US10288409B2 (en) * | 2015-04-01 | 2019-05-14 | Applied Materials Israel Ltd. | Temperature sensitive location error compensation |
JP2017129395A (ja) * | 2016-01-19 | 2017-07-27 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置の検査装置および半導体装置の検査方法 |
JP2017135132A (ja) * | 2016-01-25 | 2017-08-03 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
US10794679B2 (en) * | 2016-06-29 | 2020-10-06 | Corning Incorporated | Method and system for measuring geometric parameters of through holes |
US11078112B2 (en) | 2017-05-25 | 2021-08-03 | Corning Incorporated | Silica-containing substrates with vias having an axially variable sidewall taper and methods for forming the same |
JP6862302B2 (ja) * | 2017-06-30 | 2021-04-21 | 日置電機株式会社 | 処理装置、基板検査装置、処理方法および基板検査方法 |
JP2019015527A (ja) * | 2017-07-04 | 2019-01-31 | 株式会社ミツトヨ | 画像測定装置及びプログラム |
CN111025853A (zh) * | 2019-10-23 | 2020-04-17 | 苏州源卓光电科技有限公司 | 一种对位方法及应用其的直写光刻设备 |
JP7357549B2 (ja) * | 2020-01-07 | 2023-10-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の位置ずれ検出方法、基板位置の異常判定方法、基板搬送制御方法、及び基板の位置ずれ検出装置 |
WO2022162796A1 (ja) * | 2021-01-27 | 2022-08-04 | 株式会社日立ハイテク | 光学式異物検査装置およびコンピュータシステム |
CN112565615B (zh) * | 2021-02-24 | 2021-06-01 | 常州微亿智造科技有限公司 | 飞拍拍摄触发点的确定方法和装置 |
CN112734759B (zh) * | 2021-03-30 | 2021-06-29 | 常州微亿智造科技有限公司 | 飞拍拍摄触发点的确定方法和装置 |
WO2022244074A1 (ja) * | 2021-05-17 | 2022-11-24 | 三菱電機株式会社 | 基板計測装置及び基板計測方法 |
US11566887B1 (en) | 2021-09-03 | 2023-01-31 | Kla Corporation | Differential height measurement using interstitial mirror plate |
JP2023039754A (ja) * | 2021-09-09 | 2023-03-22 | Towa株式会社 | メンテナンス方法、及び電子部品の製造方法 |
CN117123433B (zh) * | 2023-10-26 | 2024-02-20 | 常州铭赛机器人科技股份有限公司 | 点胶阀变速胶量的控制逻辑分析方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001242092A (ja) * | 2000-03-02 | 2001-09-07 | Mitsubishi Electric Corp | 評価装置 |
JP2002181733A (ja) * | 2000-12-15 | 2002-06-26 | Hitachi Via Mechanics Ltd | プリント基板検査装置 |
JP2003208605A (ja) * | 2002-01-15 | 2003-07-25 | Lemcos:Kk | 画像処理装置用撮像対象物送り装置とその方法 |
JP2004342665A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Shimadzu Corp | Tftアレイ検査装置 |
JP2005045194A (ja) * | 2002-10-28 | 2005-02-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 針痕読取装置および針痕読取方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06258394A (ja) | 1993-03-04 | 1994-09-16 | Yokogawa Electric Corp | 可動型プローブを持ったボードテスタの座標補正方法 |
US6445813B1 (en) * | 1994-08-24 | 2002-09-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | System for inspecting an apparatus of a printed circuit board |
JP3202577B2 (ja) | 1996-01-18 | 2001-08-27 | 東京エレクトロン株式会社 | プローブ方法 |
US6246788B1 (en) * | 1997-05-30 | 2001-06-12 | Isoa, Inc. | System and method of optically inspecting manufactured devices |
JPH1131228A (ja) | 1997-07-14 | 1999-02-02 | Seiko Seiki Co Ltd | 表示パネル検査装置 |
US6107637A (en) * | 1997-08-11 | 2000-08-22 | Hitachi, Ltd. | Electron beam exposure or system inspection or measurement apparatus and its method and height detection apparatus |
US6324298B1 (en) * | 1998-07-15 | 2001-11-27 | August Technology Corp. | Automated wafer defect inspection system and a process of performing such inspection |
JP2000260699A (ja) * | 1999-03-09 | 2000-09-22 | Canon Inc | 位置検出装置及び該位置検出装置を用いた半導体露光装置 |
JP2000329521A (ja) | 1999-05-18 | 2000-11-30 | Nikon Corp | パターン測定方法および位置合わせ方法 |
JP3248136B1 (ja) | 2000-08-07 | 2002-01-21 | 株式会社プラムファイブ | プローブ方法及びプローブ装置 |
JP4616514B2 (ja) * | 2001-06-07 | 2011-01-19 | 富士機械製造株式会社 | 電気部品装着システムおよびそれにおける位置誤差検出方法 |
US20020196336A1 (en) * | 2001-06-19 | 2002-12-26 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for substrate imaging |
US7545949B2 (en) * | 2004-06-09 | 2009-06-09 | Cognex Technology And Investment Corporation | Method for setting parameters of a vision detector using production line information |
US7155052B2 (en) * | 2002-06-10 | 2006-12-26 | Tokyo Seimitsu (Israel) Ltd | Method for pattern inspection |
CN100587933C (zh) * | 2002-10-28 | 2010-02-03 | 东京毅力科创株式会社 | 探针痕迹读取装置和探针痕迹读取方法 |
US7026832B2 (en) * | 2002-10-28 | 2006-04-11 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Probe mark reading device and probe mark reading method |
US7282180B2 (en) * | 2003-07-02 | 2007-10-16 | Immunivest Corporation | Devices and methods to image objects |
JP4516536B2 (ja) * | 2005-03-09 | 2010-08-04 | 富士フイルム株式会社 | 動画生成装置、動画生成方法、及びプログラム |
-
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001242092A (ja) * | 2000-03-02 | 2001-09-07 | Mitsubishi Electric Corp | 評価装置 |
JP2002181733A (ja) * | 2000-12-15 | 2002-06-26 | Hitachi Via Mechanics Ltd | プリント基板検査装置 |
JP2003208605A (ja) * | 2002-01-15 | 2003-07-25 | Lemcos:Kk | 画像処理装置用撮像対象物送り装置とその方法 |
JP2005045194A (ja) * | 2002-10-28 | 2005-02-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 針痕読取装置および針痕読取方法 |
JP2004342665A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Shimadzu Corp | Tftアレイ検査装置 |
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