JPS6381628A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関する。
さらに詳しくは、磁性粉とバインダーとを含有する磁性
層を有するディスク状の磁気記録媒体の製造方法に関す
る。
層を有するディスク状の磁気記録媒体の製造方法に関す
る。
先行技術とその問題点
ディスク状の磁気記録媒体は、一般に長尺の非磁性支持
体上に磁性塗料を塗布し、その後、熱風等で強制乾燥さ
れた後、所望の磁性層厚さとしてディスク状に打ち抜い
て製造される。
体上に磁性塗料を塗布し、その後、熱風等で強制乾燥さ
れた後、所望の磁性層厚さとしてディスク状に打ち抜い
て製造される。
このようにして製造されたディスク状の磁気記録媒体に
おいて、磁性層中に含有される磁性粉は、規則性のない
いわゆるランダムな配向をしていることが必要である。
おいて、磁性層中に含有される磁性粉は、規則性のない
いわゆるランダムな配向をしていることが必要である。
すなわち、ディスク状の媒体はその使用に際して、回
転させながら、磁気ヘッドとディスク周方向に慴動させ
て記録再生するものである。 従って磁性粉が一定方向
に配向している場合には、原理的には磁気ヘッドが配向
方向に沿って摺接するときに最大出力を、配向方向に対
して直角に慴接するときに最小出力を得る。 このため
媒体の回転に伴なって出力変動が表われる。
転させながら、磁気ヘッドとディスク周方向に慴動させ
て記録再生するものである。 従って磁性粉が一定方向
に配向している場合には、原理的には磁気ヘッドが配向
方向に沿って摺接するときに最大出力を、配向方向に対
して直角に慴接するときに最小出力を得る。 このため
媒体の回転に伴なって出力変動が表われる。
このような出力変動はモジュレーションと呼ばれており
、モジュレーションの悪化はデータの読み取り誤差を多
くし、実用上問題となる。
、モジュレーションの悪化はデータの読み取り誤差を多
くし、実用上問題となる。
従って、このモジュレーション値を小さくするには前記
の媒体の製造過程において、磁性層中の磁性粉の配向を
極力おさえて、ランダムな配向の状態とすればよい。
の媒体の製造過程において、磁性層中の磁性粉の配向を
極力おさえて、ランダムな配向の状態とすればよい。
ところが、通常の製造方法では、一連の工程中でグラビ
アコート法等の塗布や、塗布後の搬送・平滑化処理等の
際に磁性層中に剪断応力が加わるため、磁性層中に含有
される磁性粉は、支持体の搬送方向に機械的配向ないし
自然配向してしまう。
アコート法等の塗布や、塗布後の搬送・平滑化処理等の
際に磁性層中に剪断応力が加わるため、磁性層中に含有
される磁性粉は、支持体の搬送方向に機械的配向ないし
自然配向してしまう。
このような磁性粉の機械的ないし自然配向をキャンセル
し、ランダムな状態の配向を得るための提案が種々行わ
れている。
し、ランダムな状態の配向を得るための提案が種々行わ
れている。
例えば、磁界の方向を交互に変更し、かつ磁界の強さを
減少させるような磁界を用いるもの(特開間第54−1
59204号公報)、ローラ軸方向に多数の円筒状永久
磁石を同種のものが相対するように密着配置した無配向
用ローラないしこのローラとフィルム長手方向と一致す
る方向に配向するように作用する配向装置との併用(特
開間第57−189344号、同第57−189345
号公報)、フィルムの長手方向に対して斜めに磁化され
た磁場を用いるもの(特開間第58−141446号公
報)、厚み方向に着磁された複数個の帯状磁石の着磁の
向きが走行方向に交互に反転する装置(特開間第60−
124029号公報)、所定のコイルが巻かれた巻線枠
中にフィルムを通過させ、フィルム幅方向に磁界をかけ
るランダム配向装置(特開間第60−138737号公
報)等がある。
減少させるような磁界を用いるもの(特開間第54−1
59204号公報)、ローラ軸方向に多数の円筒状永久
磁石を同種のものが相対するように密着配置した無配向
用ローラないしこのローラとフィルム長手方向と一致す
る方向に配向するように作用する配向装置との併用(特
開間第57−189344号、同第57−189345
号公報)、フィルムの長手方向に対して斜めに磁化され
た磁場を用いるもの(特開間第58−141446号公
報)、厚み方向に着磁された複数個の帯状磁石の着磁の
向きが走行方向に交互に反転する装置(特開間第60−
124029号公報)、所定のコイルが巻かれた巻線枠
中にフィルムを通過させ、フィルム幅方向に磁界をかけ
るランダム配向装置(特開間第60−138737号公
報)等がある。
しかしながら、これらのものでは、用いる磁性粉の物性
や、磁性塗料の粘度、機械的作用による自然配向の程度
、フィルム搬送スピード等の諸条件にJ[Jされ、容易
にしかも安定して支持体の全幅にわたって一様にランダ
ム配向化したものが得にくいという欠点がある。
や、磁性塗料の粘度、機械的作用による自然配向の程度
、フィルム搬送スピード等の諸条件にJ[Jされ、容易
にしかも安定して支持体の全幅にわたって一様にランダ
ム配向化したものが得にくいという欠点がある。
また、支持体搬送方向に磁性塗料の厚みムラに起因する
スジが生じたり、配向装置に起因するスジが生じたり、
磁性層上に不必要な凹凸が形成される場合もあり、好ま
しくない。
スジが生じたり、配向装置に起因するスジが生じたり、
磁性層上に不必要な凹凸が形成される場合もあり、好ま
しくない。
■ 発明の目的
本発明の目的は、磁性粉とバインダーとを含有する磁性
層を存するディスク状の磁気記録媒体を製造するに際し
て、磁性層中に含有される磁性粉をランダムに配向し、
モジュレーションを向上させることにある。
層を存するディスク状の磁気記録媒体を製造するに際し
て、磁性層中に含有される磁性粉をランダムに配向し、
モジュレーションを向上させることにある。
■ 発明の開示
このような目的は、下記の本発明によって達成される。
すなわち本発明は、長尺の非磁性支持体上に、磁性粉と
バインダーとを含有する磁性塗料を塗布し、磁石によっ
て磁界を印加し、乾燥し、しかる後、ディスク状に打ち
抜く磁気記録媒体の製造方法において、上記磁石が電磁
石であり、支持体平面に対してほぼ垂直方向に交流磁界
を印加することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法で
ある。
バインダーとを含有する磁性塗料を塗布し、磁石によっ
て磁界を印加し、乾燥し、しかる後、ディスク状に打ち
抜く磁気記録媒体の製造方法において、上記磁石が電磁
石であり、支持体平面に対してほぼ垂直方向に交流磁界
を印加することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法で
ある。
■ 発明の具体的構成
以下、未発明の具体的構成について、詳細に説明する。
第1図、第2図および第3図は、それぞれ本発明の磁気
記録媒体の製造方法の実施例を示したものである。
記録媒体の製造方法の実施例を示したものである。
第1図において、巻き出しり−ル1から引き出された長
尺・フィルム状の非磁性支持体2上には、グラビアコー
ト、エアドクターコート、ブレードコート、エアナイフ
コート、スクイズコート、含浸コート、リバースロール
コート、トランスファーロールコート、スプレィコート
等の種々の塗布手段によって磁性塗料3が膜状に塗布さ
れる。
尺・フィルム状の非磁性支持体2上には、グラビアコー
ト、エアドクターコート、ブレードコート、エアナイフ
コート、スクイズコート、含浸コート、リバースロール
コート、トランスファーロールコート、スプレィコート
等の種々の塗布手段によって磁性塗料3が膜状に塗布さ
れる。
なお、第1図には、これらの塗布手段の1例として、リ
バースロールコートのロール41.・45.49が示さ
れている。
バースロールコートのロール41.・45.49が示さ
れている。
なお、同図において、磁性塗料3は、ノズル7から各ロ
ールに供給されており、ロール41に近接して、ドクタ
ーブレード8が配置されている。
ールに供給されており、ロール41に近接して、ドクタ
ーブレード8が配置されている。
非磁性支持体2は通常ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリプロ
ピレン等のポリオレフィン類、セルローストルアセテー
ト等のセルロース誘導体、ポリイミド、ポリカーボネー
ト、ポリサルホン、芳香族アラミド、芳香族ポリエステ
ル等の各種樹脂が用いられる。
リエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリプロ
ピレン等のポリオレフィン類、セルローストルアセテー
ト等のセルロース誘導体、ポリイミド、ポリカーボネー
ト、ポリサルホン、芳香族アラミド、芳香族ポリエステ
ル等の各種樹脂が用いられる。
これらの中では、特に、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド等を用いることが好ましい。
リイミド等を用いることが好ましい。
磁性塗料3には、後述の針状の磁性粉、バインダー、溶
剤等が含有される。
剤等が含有される。
このような塗布工程の後に、通常は、次工程として非磁
性支持体上に設層された磁性塗料3のランダム配向化が
行われる。
性支持体上に設層された磁性塗料3のランダム配向化が
行われる。
なお、この配向の前にウェット膜面のスムージング化や
塗り規制等に関する種々の処理が行われてもよいが、支
持体長手方向の自然配向を助長するような処理はできる
だけさけた方が好都合である。
塗り規制等に関する種々の処理が行われてもよいが、支
持体長手方向の自然配向を助長するような処理はできる
だけさけた方が好都合である。
本発明における配向は、前述したように塗布手段等によ
って、自然配向された磁性粉をできるかぎり無配向状態
にする(いわゆるランダム配向)ためのものである。
って、自然配向された磁性粉をできるかぎり無配向状態
にする(いわゆるランダム配向)ためのものである。
本発明において、ランダム配向の手段としては、交流電
磁石5を用いる。
磁石5を用いる。
交流電磁石5は、支持体2平面に対してほぼ垂直方向に
連続的に反転する磁界を与え、磁性塗膜中の磁性粉をラ
ンダム化させるために用いられる。
連続的に反転する磁界を与え、磁性塗膜中の磁性粉をラ
ンダム化させるために用いられる。
このような交流電磁石5としては、例えば第2図および
第3図に示されるようなソレノイドコイル51とこれに
電流を通じる交流電源9とから構成されるものがある。
第3図に示されるようなソレノイドコイル51とこれに
電流を通じる交流電源9とから構成されるものがある。
ソレノイドコイル51は、導線を密接に隣りあわせて
断面円形、矩形、扁平だ円形状、円を適当に変形させた
形等に100〜100000ターン程度巻回したコイル
であって、このコイルの両端は、交流電源9に接続され
る。
断面円形、矩形、扁平だ円形状、円を適当に変形させた
形等に100〜100000ターン程度巻回したコイル
であって、このコイルの両端は、交流電源9に接続され
る。
ソレノイドコイル51には必要に応じ、磁心が設けられ
る。 そしてこのようなソレノイドコイル51は、コイ
ル巻き線方向が、はぼ支持体平面に垂直となるように設
置される。
る。 そしてこのようなソレノイドコイル51は、コイ
ル巻き線方向が、はぼ支持体平面に垂直となるように設
置される。
しかも、コイル中心部がほぼ支持体2の幅の中心と一致
するように設置されることが好ましい。
するように設置されることが好ましい。
添1イ 古441に小組ん0− w lノlノIs’
Mノルの直径をD、支持体2とソレノイドコイルの支持
体最近部との間隙をgとした場合、これらの関係は下記
の関係式を満足させることが好ましい。
Mノルの直径をD、支持体2とソレノイドコイルの支持
体最近部との間隙をgとした場合、これらの関係は下記
の関係式を満足させることが好ましい。
すなわち、D=1.oio 〜3.O1゜g=0.1
no ”1.Oft。
no ”1.Oft。
である。
交流電源としては、周波数50Hz〜13.56MII
z程度のものが使用可能であるが、通常は、5011z
〜I K11z 、また、電流0.0010TA〜I
A程度のものを使用する。
z程度のものが使用可能であるが、通常は、5011z
〜I K11z 、また、電流0.0010TA〜I
A程度のものを使用する。
なお、本発明における交流電磁石5は、支持体の−L方
もしくは下方のいずれか一方、又は、これらの両方に設
けてもよいが、より好ましくは下方に設けるのがよい。
もしくは下方のいずれか一方、又は、これらの両方に設
けてもよいが、より好ましくは下方に設けるのがよい。
さらに場合によっては、これらに加えて、複数個の交
流電磁石5を用いることもできる。 さらには、これら
と、公知のランダム配向磁石を用いた配向手段とを併用
することも可能である。
流電磁石5を用いることもできる。 さらには、これら
と、公知のランダム配向磁石を用いた配向手段とを併用
することも可能である。
そして、磁性塗料3に対して5〜500 G。
通常10〜300G程度の磁界が印加される。
なお、支持体の幅Itoは10〜500 cm程度とす
わばよい。
わばよい。
塗設後、以上述べてきたようにランダム配向された磁性
塗料3は、通常、乾燥炉6等の内部に設けられた熱風、
遠赤外ランプ、電気ヒーター等の公知の乾燥手段によっ
て乾燥・固化される。 また、バインダーとして後述す
るような放射線硬化型の化合物を用いた場合には、各種
の放射線照射装置をさらに付加して用いる。
塗料3は、通常、乾燥炉6等の内部に設けられた熱風、
遠赤外ランプ、電気ヒーター等の公知の乾燥手段によっ
て乾燥・固化される。 また、バインダーとして後述す
るような放射線硬化型の化合物を用いた場合には、各種
の放射線照射装置をさらに付加して用いる。
このようにして磁性層を固化した後に、必要に応じて表
面平滑化処理を行う。
面平滑化処理を行う。
次いで、打ち抜きプレス機等によって所定のディスク形
状に打ち抜き、さらに二次加工を行い、媒体を作製する
。
状に打ち抜き、さらに二次加工を行い、媒体を作製する
。
このようにして製造されるディスク状の磁気記録媒体の
磁性塗料3は、前述したように、針状の磁性粉とバイン
ダー、必要に応じて各種添加剤と通常、溶剤とを含有す
る。
磁性塗料3は、前述したように、針状の磁性粉とバイン
ダー、必要に応じて各種添加剤と通常、溶剤とを含有す
る。
磁性粉の長軸/短軸の軸比としては、任意であるが、通
常2〜20以下の軸比をもつ針状のものに効果がある 針状の磁性粉としては、金属磁性粉、コバルト被着酸化
鉄粉、γ−Fe2O3粉等のいずわであってもよい。
常2〜20以下の軸比をもつ針状のものに効果がある 針状の磁性粉としては、金属磁性粉、コバルト被着酸化
鉄粉、γ−Fe2O3粉等のいずわであってもよい。
本発明に用いる金属磁性粉は、
1 ) a −F e OOH(Goethite)。
・ β −Fe00H(八kaganite)、7
− F e OOH(Lepidocrocit
e)等のオキシ水酸化鉄や:a−Fe203 、 y−
Fe203 。
− F e OOH(Lepidocrocit
e)等のオキシ水酸化鉄や:a−Fe203 、 y−
Fe203 。
Fe304 、y−Fe203−Fe304 (固溶
体)等の酸化鉄や; Co、Mn、Ni、Ti、An、Bi、B。
体)等の酸化鉄や; Co、Mn、Ni、Ti、An、Bi、B。
P、Ag等の金属の1つまたは2つ以上がドープされ、
その表面にアルミニウム化合物またはケイ素化合物を吸
着、被着したものを、還元性ガス気流中で加熱還元して
、鉄または鉄を主成分とする磁性粉末を製造する方法、 2)金属塩水溶液よりNaBH4により液相還元して作
製する方法、 3)あるいは低圧力の不活性ガス雰囲気中で金属を蒸発
させて作成する方法等により得られる。
その表面にアルミニウム化合物またはケイ素化合物を吸
着、被着したものを、還元性ガス気流中で加熱還元して
、鉄または鉄を主成分とする磁性粉末を製造する方法、 2)金属塩水溶液よりNaBH4により液相還元して作
製する方法、 3)あるいは低圧力の不活性ガス雰囲気中で金属を蒸発
させて作成する方法等により得られる。
金属磁性粉の組成としては、Fe、Co。
Niの単体および、これらの合金、またはこわらの単体
および合金に、Cr、Mn、Co。
および合金に、Cr、Mn、Co。
Ni、さらにはZn、Cu、Zr、All。
Ti、Bi、Ag、Pt等を添加した金属が使用できる
。
。
また、これらの金属にB、C,Si、P、Nなどの非金
属元素を少量添加したものでも本発明の効果は失われな
い。
属元素を少量添加したものでも本発明の効果は失われな
い。
あるいは、Fe4N等、一部室化ないし炭化された金属
磁性粉であってもよい。
磁性粉であってもよい。
さらに、金属磁性粉は、粒子表面に酸化被膜を有するも
のであフてもよい。
のであフてもよい。
また、γ−Fe2O3粉としては、
a −F e OOH(goethit、e)を400
”C以上で親水してα−Fe203とし、H2ガス中
で350℃以上で還元してFe3O4とし、さらに25
0℃以下で酸化して作製したものを用いればよい。 ま
た、γ−FeOOH(レピッドクロサイト)を親水、還
元酸化してもよい。
”C以上で親水してα−Fe203とし、H2ガス中
で350℃以上で還元してFe3O4とし、さらに25
0℃以下で酸化して作製したものを用いればよい。 ま
た、γ−FeOOH(レピッドクロサイト)を親水、還
元酸化してもよい。
コバルト被着酸化鉄粉としては、
γ−Fe203粒子やFe3O4粒子の表面から数10
λ以内のごく薄い層にCo2+を拡散させたものを用い
ればよい。
λ以内のごく薄い層にCo2+を拡散させたものを用い
ればよい。
なお、磁性粉は0.01〜1μl程度の粒径とする。
このような磁性粉末は、通常バインダー100重量部に
対し100〜900重量部程度含有される。
対し100〜900重量部程度含有される。
バインダーとしては、放射線硬化性樹脂、熱硬化性ない
し反応型樹脂、熱可塑性樹脂等が用いられる。
し反応型樹脂、熱可塑性樹脂等が用いられる。
放射線硬化性樹脂を用いる場合、その具体例としては、
ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル
酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物の
ようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよう
なアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等
の不飽和結合等の放射線照射による架橋あるいは重合乾
燥する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した
樹脂である。 その池数射線照射により架橋重合する不
飽和二重結合を有する化合物であれば用いることができ
る。
ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル
酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物の
ようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよう
なアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等
の不飽和結合等の放射線照射による架橋あるいは重合乾
燥する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した
樹脂である。 その池数射線照射により架橋重合する不
飽和二重結合を有する化合物であれば用いることができ
る。
放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂としては、樹
脂中にマレイン酸やフマル酸等を含有するもので、その
含有量は、製造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中
1〜40モル%、好ましくは10〜30モル%である。
性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂としては、樹
脂中にマレイン酸やフマル酸等を含有するもので、その
含有量は、製造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中
1〜40モル%、好ましくは10〜30モル%である。
放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、特に次のような塩化ビニール系共重合体が好適であ
る。
は、特に次のような塩化ビニール系共重合体が好適であ
る。
塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニー
ル−末端OH側釦アルキル基共重合体、例えばUCC社
製VROH1VYNC1VYEGX、 VERR,V
YES% VMCA、VAGH,UCARMAG520
、 UCARMAG528等が挙げられる。
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニー
ル−末端OH側釦アルキル基共重合体、例えばUCC社
製VROH1VYNC1VYEGX、 VERR,V
YES% VMCA、VAGH,UCARMAG520
、 UCARMAG528等が挙げられる。
そして、このものにアクリル系二重結合、マレイン酸系
二重結合、アリル系二重結合を導入して放射線感応変性
を行う。
二重結合、アリル系二重結合を導入して放射線感応変性
を行う。
これらはカルボン酸を含有してもよい。
この他、飽和ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール
系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、繊維素誘
導体等が好適である。
系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、繊維素誘
導体等が好適である。
その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリニスデル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹1指および誘導体(pv
pオレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド
樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基
を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステル
を重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等
も有効である。
ては、多官能ポリニスデル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹1指および誘導体(pv
pオレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド
樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基
を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステル
を重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等
も有効である。
そして、こわらは単独で、あるいは2種以上併用して用
いられる。
いられる。
エラストマー、プレポリマー、オリゴマーも使用でき、
その好適例としては、ポリウレタンエラストマーもしく
はプレポリマーがある。
その好適例としては、ポリウレタンエラストマーもしく
はプレポリマーがある。
ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および支持体、例えば
PETフィルムへの接着性が良い点で特に有効である。
PETフィルムへの接着性が良い点で特に有効である。
ウレタン化合物の例としては、イソシアネートとして
、2.4−トルエンジイソシアネート、2.6−1−ル
エンジイソシアネート、1,3−キシレンジイソシアネ
ート、1,4−キシレンジイソシアネート、1゜5−ナ
フタレンジイソシアネート、 m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイ
ソシアネート、3,3′−ジメチルート、4,4′−ジ
フェニルメタンジイソシアネート、3,3′−ジメチル
ビフェニレンジイソシアネート、4.4”−ビフェニレ
ンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート
、インフォロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメ
タンジイソシアネート、デスモジュールし、デスモジュ
ールN等の各種多価イソシアネートと、線状飽和ポリエ
ステル(エチレングリコール、ジエチレングリコール、
グリセリン、トリメチロールプロパン、1,4−ブタン
ジオール、1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリ
ット、ソルビトール、ネオペンチルグリコール、1,4
−シクロヘキサンジメタツールの様な多価アルコールと
、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、
アジピン酸、セバシン酸の様な飽和多塩基酸との縮重合
によるもの)、線状飽和ポリエーテル(ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチ
レングリコール)やカブロニhhン ミノ[い+−l
ンSl菅l八−へ寸h111智、統イフニル、ヒドロキ
シル含有メタクリル酸エステル等の各種ポリエステル類
の縮重合物により成るポリウレタンエラストマー、プレ
ポリマーが有効である。
、2.4−トルエンジイソシアネート、2.6−1−ル
エンジイソシアネート、1,3−キシレンジイソシアネ
ート、1,4−キシレンジイソシアネート、1゜5−ナ
フタレンジイソシアネート、 m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイ
ソシアネート、3,3′−ジメチルート、4,4′−ジ
フェニルメタンジイソシアネート、3,3′−ジメチル
ビフェニレンジイソシアネート、4.4”−ビフェニレ
ンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート
、インフォロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメ
タンジイソシアネート、デスモジュールし、デスモジュ
ールN等の各種多価イソシアネートと、線状飽和ポリエ
ステル(エチレングリコール、ジエチレングリコール、
グリセリン、トリメチロールプロパン、1,4−ブタン
ジオール、1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリ
ット、ソルビトール、ネオペンチルグリコール、1,4
−シクロヘキサンジメタツールの様な多価アルコールと
、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、
アジピン酸、セバシン酸の様な飽和多塩基酸との縮重合
によるもの)、線状飽和ポリエーテル(ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチ
レングリコール)やカブロニhhン ミノ[い+−l
ンSl菅l八−へ寸h111智、統イフニル、ヒドロキ
シル含有メタクリル酸エステル等の各種ポリエステル類
の縮重合物により成るポリウレタンエラストマー、プレ
ポリマーが有効である。
これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合等を存する単量体とを反応させることにより、
放射、1a感応性に変性することは非常に効果的である
。 また、末端に極性基としてOH,C0OH等を含有
するものも含む。
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合等を存する単量体とを反応させることにより、
放射、1a感応性に変性することは非常に効果的である
。 また、末端に極性基としてOH,C0OH等を含有
するものも含む。
さらに、不飽和二重結合を有する長Sn脂肪酸のモノあ
るいはジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活
性水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結
合を有する単量体も含まれる。
るいはジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活
性水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結
合を有する単量体も含まれる。
上述のアクリル変性塩化ビニル系共重合体とのこれらウ
レタンエラストマーの併用は、配向度および面粗れの改
良に特に好適である。
レタンエラストマーの併用は、配向度および面粗れの改
良に特に好適である。
この他、アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラスト
マー、ポリブタジェンエラストマーも好適である。
マー、ポリブタジェンエラストマーも好適である。
またポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム製CBR−
M901も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。
M901も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。
その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴムおよびその
環化物(日本合成ゴム製ClR701)があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡
バイロン#300)等のエラストマーも放射線感応変性
処理を施すことにより有効に利用できる。
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴムおよびその
環化物(日本合成ゴム製ClR701)があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡
バイロン#300)等のエラストマーも放射線感応変性
処理を施すことにより有効に利用できる。
この他、各種放射線硬化性不飽和二重結合を有するオリ
ゴマー、モノマーも好適に用いられる。
ゴマー、モノマーも好適に用いられる。
熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分
子量10,000〜200.000、重合度200〜2
,000程度のものである。
子量10,000〜200.000、重合度200〜2
,000程度のものである。
熱硬化樹脂または反応型樹脂としてもこのような重合度
等のものであり、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとなる
ものである。 そして、これらの樹脂のなかで、樹脂が
熱分解するまでの間に軟化または溶融しないものが好ま
しい。
等のものであり、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとなる
ものである。 そして、これらの樹脂のなかで、樹脂が
熱分解するまでの間に軟化または溶融しないものが好ま
しい。
具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコー
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキ
シ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂などの!重合の樹脂あるいは高分子量
ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合
物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポ
リマーの混合物、+:+1 η 7 テ 11ノ ゼ
Jし す − lノ ν 士 11 、/ リ
ぐノ 7 立 −kの混合物など、低分子量グリコール
/高分子量ジオール/トリフェニルメタントリイソシア
ネートの混合物など、上記の縮重合系樹脂とインシアネ
ート化合物などの架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸
ビニル(カルボン酸含有も含む)、塩化ビニル−ビニル
アルコール−酢酸ビニル(カルボン酸含有も含む)、塩
化ビニル−塩化ビニリデン、塩化ビニル−アクリロニト
リル、ビニルブチラール、ビニルホルマール等のビニル
共重合系樹脂と架橋剤との混合物、ニトロセルロース、
セルロースアセトブチレート等の繊維素系樹脂と架橋剤
との混合物、ブタジェン−アクリロニトリル等の合成ゴ
ム系と架橋剤との混合物、さらにはこれらの混合物が好
適である。
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコー
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキ
シ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂などの!重合の樹脂あるいは高分子量
ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合
物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポ
リマーの混合物、+:+1 η 7 テ 11ノ ゼ
Jし す − lノ ν 士 11 、/ リ
ぐノ 7 立 −kの混合物など、低分子量グリコール
/高分子量ジオール/トリフェニルメタントリイソシア
ネートの混合物など、上記の縮重合系樹脂とインシアネ
ート化合物などの架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸
ビニル(カルボン酸含有も含む)、塩化ビニル−ビニル
アルコール−酢酸ビニル(カルボン酸含有も含む)、塩
化ビニル−塩化ビニリデン、塩化ビニル−アクリロニト
リル、ビニルブチラール、ビニルホルマール等のビニル
共重合系樹脂と架橋剤との混合物、ニトロセルロース、
セルロースアセトブチレート等の繊維素系樹脂と架橋剤
との混合物、ブタジェン−アクリロニトリル等の合成ゴ
ム系と架橋剤との混合物、さらにはこれらの混合物が好
適である。
このような、熱硬化性樹脂を硬化するには、一般に加熱
オーブン中で50〜80℃にて6〜100時間加熱すれ
ばよい。 あるいは低速度にて、80〜120℃にてオ
ーブン中を走行させてもよい。
オーブン中で50〜80℃にて6〜100時間加熱すれ
ばよい。 あるいは低速度にて、80〜120℃にてオ
ーブン中を走行させてもよい。
−上述したようなバインダーの中で、耐久性および磁性
層との接着強度を向上させるには、特に放射線硬化性樹
脂を含有させることが好ましい。
層との接着強度を向上させるには、特に放射線硬化性樹
脂を含有させることが好ましい。
このような放射線硬化性樹脂をバインダーとして用いた
場合、硬化に際して電子線を用いる場合には、放射線特
性としては、加速電圧100〜750KV、好ましくは
150〜300KVの放射線加速器を用い、吸収線量を
0.5〜20メガラツトになるように照射するのが好都
合である。
場合、硬化に際して電子線を用いる場合には、放射線特
性としては、加速電圧100〜750KV、好ましくは
150〜300KVの放射線加速器を用い、吸収線量を
0.5〜20メガラツトになるように照射するのが好都
合である。
特に照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ライ
ンへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線加
熱器により電子線を使用する方法および後述する紫外線
を使用する方法が有利である。
ンへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線加
熱器により電子線を使用する方法および後述する紫外線
を使用する方法が有利である。
一方、磁性塗膜の硬化に際して、紫外線を用いる場合、
上述したような、放射線硬化性樹脂を含有するバインダ
ーの中には、光重合増感剤が加えられる。
上述したような、放射線硬化性樹脂を含有するバインダ
ーの中には、光重合増感剤が加えられる。
この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベン
ゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェ
ノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン
類、アントラキノン、フエナントラキノン等のキノン類
、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノス
ルフィド等のスルフィド類、等を挙げることができる。
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベン
ゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェ
ノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン
類、アントラキノン、フエナントラキノン等のキノン類
、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノス
ルフィド等のスルフィド類、等を挙げることができる。
光重合増感剤は樹脂固形分に対し、0.1〜lO重量
%の範囲が望ましい。
%の範囲が望ましい。
紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いればよい。
の紫外線電球等を用いればよい。
さらに、磁性塗料には、溶剤、無機顔料、分散剤、潤滑
剤等が含まれていてもよい。
剤等が含まれていてもよい。
溶剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性お
よび相溶性等を考慮して適宜選択される。
よび相溶性等を考慮して適宜選択される。
例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイゾブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、イソプロパツール、ブタノール等のアル
コール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の方
向族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエーテ
ル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラン、
フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれらの
混合溶剤として用いる。
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、イソプロパツール、ブタノール等のアル
コール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の方
向族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエーテ
ル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラン、
フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれらの
混合溶剤として用いる。
これらの溶剤はバインダーに対して10〜10000w
t%、特に100〜5000wt%の割合で用いる。
t%、特に100〜5000wt%の割合で用いる。
用いる潤滑剤としては、公知の種々の潤滑剤の中で、特
に脂肪酸および/または脂肪酸エステルを用いるのが好
ましい。 脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン
酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸
、リルン酸、ステアロール酸等の炭素数8以上の脂肪酸
(RCOOH,Rは炭素数11以上のアルキル基)であ
り、なかでも、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸
、リルン酸、ステアロール酸等の不飽和脂肪酸が好適で
ある。 また、脂肪酸エステルとしては、炭素数10〜
22個の一塩基性の不飽和ないし飽和の不飽和のアルコ
ールとからなる脂肪酸エステル等が好ましい。
に脂肪酸および/または脂肪酸エステルを用いるのが好
ましい。 脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン
酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸
、リルン酸、ステアロール酸等の炭素数8以上の脂肪酸
(RCOOH,Rは炭素数11以上のアルキル基)であ
り、なかでも、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸
、リルン酸、ステアロール酸等の不飽和脂肪酸が好適で
ある。 また、脂肪酸エステルとしては、炭素数10〜
22個の一塩基性の不飽和ないし飽和の不飽和のアルコ
ールとからなる脂肪酸エステル等が好ましい。
エステルにおける脂肪酸および/またはアルコールの脂
肪族鎖は飽和でも不飽和であってもよく、n一体、i一
体等種々のものであってよい。
肪族鎖は飽和でも不飽和であってもよく、n一体、i一
体等種々のものであってよい。
なお、これらは2種以上、併用してもよい。
なお、その他の潤滑剤として、餌記脂肪酸のアルカリ金
属またはアルカリ土類金属からなる金属石鹸、シリコー
ンオイル、フッ素オイル、パラフィン、流動パラフィン
、界面活性剤等も使用可能である。
属またはアルカリ土類金属からなる金属石鹸、シリコー
ンオイル、フッ素オイル、パラフィン、流動パラフィン
、界面活性剤等も使用可能である。
用いる彊滑剤量は、磁性粉100重量部に対して総計2
0重量部以下、特に0.1〜15gH量部とする。
0重量部以下、特に0.1〜15gH量部とする。
このような磁性塗料の粘度は、塗布の段階で5〜100
0o cp程度である。
0o cp程度である。
なお、支持体には、下地層の下地処理が施されていても
よい。
よい。
そして、磁性層は、支持体の片面に設けられても、両面
に設けられてもよい。
に設けられてもよい。
片面のみに設けるときには、バックコート層を設けても
よく、磁性層にはトップコート層を設けてもよい。
よく、磁性層にはトップコート層を設けてもよい。
■ 発明の具体的作用効果
本発明によれば、ランダム配向用の磁石が、交流電磁石
であり、支持体平面に対してほぼ垂直方向に連続的に反
転する磁界を与える。
であり、支持体平面に対してほぼ垂直方向に連続的に反
転する磁界を与える。
従って、このようにして製造された媒体は、モジュレー
ション特性が均一でしかもその値が良好である。
ション特性が均一でしかもその値が良好である。
■ 発明の具体的実施例
以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。
細に説明する。
〔実施例1〕
(磁性塗料1)
γ−Fe2O3
(長袖0.6μm、短軸0.1j、Lm、Hc 30
00e) 100重量部カーボンブラック (帯電防止用、三菱カーボンブラック MA−600) 10重量部a−AI12
03粉末(0,5μm粒状)5重量部 溶剤(メチルエチルケトン/トルエン/メチルイソブチ
ルケトン= 40/30/ 30) 100重量部 上記組成物をボールミル中にて3時間混合し、針状磁性
酸化鉄を分散剤によりよく湿潤させた。
00e) 100重量部カーボンブラック (帯電防止用、三菱カーボンブラック MA−600) 10重量部a−AI12
03粉末(0,5μm粒状)5重量部 溶剤(メチルエチルケトン/トルエン/メチルイソブチ
ルケトン= 40/30/ 30) 100重量部 上記組成物をボールミル中にて3時間混合し、針状磁性
酸化鉄を分散剤によりよく湿潤させた。
次にバインダーとして
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
MW20,000) 15重量部ポリエステルポリウ
レタン (MW20.000) 10重量部(固型分
換算)、 溶剤(MEに/トルエン/メチルイソブチルケトン=4
0/30/30) 260重量部 ステアリン酸 3重量部および ステアリン酸量−ブチル 5重量部を混合溶解さ
せた。
MW20,000) 15重量部ポリエステルポリウ
レタン (MW20.000) 10重量部(固型分
換算)、 溶剤(MEに/トルエン/メチルイソブチルケトン=4
0/30/30) 260重量部 ステアリン酸 3重量部および ステアリン酸量−ブチル 5重量部を混合溶解さ
せた。
さらに、分散後、磁性塗料中にイソシアネート化合物(
日本ポリウレタン社製コロネートL)を5重量部(固型
分換算)加えた。
日本ポリウレタン社製コロネートL)を5重量部(固型
分換算)加えた。
これを磁性粉混合物の入ったボールミル中に投入し、再
び42時間混合分散させた。
び42時間混合分散させた。
このようにして得られた磁性塗料を媒体の磁性層の原料
とし、第1図に示される製造ラインした。
とし、第1図に示される製造ラインした。
支持体としては幅300mm、75μI11厚のポリエ
ステル(PET)フィルムを使用し、その搬送スピード
は100m/minとした。
ステル(PET)フィルムを使用し、その搬送スピード
は100m/minとした。
リバースロールコートによフて塗膜を塗布した。
次に、下記表1に示される大きさの磁石5を用いてラン
ダムな配向を行った。
ダムな配向を行った。
なお、塗膜面での磁界は200Gとした。
次いで、乾燥炉を通過させ、表面平滑化処理を行い、7
0”C124Hrの熱硬化を行なった。 その後、同様
の操作で塗膜をフィルムの両面に形成し、支持体幅方向
に3枚の3.5”ディスク媒体が得られるように打ち抜
いて媒体サンプルを作製した。
0”C124Hrの熱硬化を行なった。 その後、同様
の操作で塗膜をフィルムの両面に形成し、支持体幅方向
に3枚の3.5”ディスク媒体が得られるように打ち抜
いて媒体サンプルを作製した。
なお、硬化後の塗膜(磁性層)の厚さは2.0yMとし
た。 膜厚の測定は電子マイクロメータで行なフた。
た。 膜厚の測定は電子マイクロメータで行なフた。
なお、比較サンプルとして、本発明における製したもの
(比較サンプル1)および特開昭60−138737号
公報に記載の方法、すなわち所定のコイルが巻かれた巻
線枠中にフィルムを通過させ、フィルム幅方向に磁界(
印加磁界200G)をかける方法を用いてランダム配向
を行い、サンプルを作製したもの(比較サンプル2)と
した。
(比較サンプル1)および特開昭60−138737号
公報に記載の方法、すなわち所定のコイルが巻かれた巻
線枠中にフィルムを通過させ、フィルム幅方向に磁界(
印加磁界200G)をかける方法を用いてランダム配向
を行い、サンプルを作製したもの(比較サンプル2)と
した。
これらの各サンプルについて下記の特性を測定した。
(1)モジュレーション
トラック1周の最大振幅のところで測定される平均振幅
と、そのトラックの最小振幅のところで測定される平均
振幅を測定する。 前者をA、後者をBとしたとき、モ
ジュレーションは次式で求められる。
と、そのトラックの最小振幅のところで測定される平均
振幅を測定する。 前者をA、後者をBとしたとき、モ
ジュレーションは次式で求められる。
モジュレーションは最内周トラックで2fで測定した。
本発明の実施例では、支持体の幅方向にて3枚のディス
クの打ち抜きを行っている。 従って、両端部と中央部
とから打ち抜かれたディスク媒体についてモジュレーシ
ョンを測定し、それらの値を Ml (両端打ち抜き部分について測定)M2 (中
央打ち抜き部分について測定)とし、計10個のサンプ
ルについて平均した。
クの打ち抜きを行っている。 従って、両端部と中央部
とから打ち抜かれたディスク媒体についてモジュレーシ
ョンを測定し、それらの値を Ml (両端打ち抜き部分について測定)M2 (中
央打ち抜き部分について測定)とし、計10個のサンプ
ルについて平均した。
結果を表1に示す。
表 1
サンプル D/I−o g/II−o M
+ 閘。
+ 閘。
NO,(’Is) (!k)
l(本発明) 1.5 0.5 2 22
(本発明) 2.0 0.5 2 23(
本発明) 1.0 2.0 9 6サンプ
ル2)−−88 表1の結果より本発明の効果が明らかである。
(本発明) 2.0 0.5 2 23(
本発明) 1.0 2.0 9 6サンプ
ル2)−−88 表1の結果より本発明の効果が明らかである。
第1図は、本発明の製造工程の概略側面図である。
第2図および第3図は、本発明における磁石と支持体と
の関係を示す正面図および平面図である。 符号の説明 1・−巻き出しロール、 2−・非磁性支持体、 3・・・磁性塗料、 41.45.49−・ロール、 5・・・磁石、 51−・・ソレノイドコイル、 6・−乾燥炉 9・・・交流電源 0フ
の関係を示す正面図および平面図である。 符号の説明 1・−巻き出しロール、 2−・非磁性支持体、 3・・・磁性塗料、 41.45.49−・ロール、 5・・・磁石、 51−・・ソレノイドコイル、 6・−乾燥炉 9・・・交流電源 0フ
Claims (1)
- (1)長尺の非磁性支持体上に、磁性粉とバインダーと
を含有する磁性塗料を塗布し、磁石によって磁界を印加
し、乾燥し、しかる後、ディスク状に打ち抜く磁気記録
媒体の製造方法において、 上記磁石が電磁石であり、支持体平面に対してほぼ垂直
方向に交流磁界を印加することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22669086A JPS6381628A (ja) | 1986-09-25 | 1986-09-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22669086A JPS6381628A (ja) | 1986-09-25 | 1986-09-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6381628A true JPS6381628A (ja) | 1988-04-12 |
Family
ID=16849127
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22669086A Pending JPS6381628A (ja) | 1986-09-25 | 1986-09-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6381628A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52117601A (en) * | 1976-03-29 | 1977-10-03 | Hoshino Hide | Method of producing isotropic magnetic recording media |
JPS54159204A (en) * | 1978-06-05 | 1979-12-15 | Ibm | Method of fabricating magnetic medium |
JPS5812135A (ja) * | 1981-07-13 | 1983-01-24 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1986
- 1986-09-25 JP JP22669086A patent/JPS6381628A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52117601A (en) * | 1976-03-29 | 1977-10-03 | Hoshino Hide | Method of producing isotropic magnetic recording media |
JPS54159204A (en) * | 1978-06-05 | 1979-12-15 | Ibm | Method of fabricating magnetic medium |
JPS5812135A (ja) * | 1981-07-13 | 1983-01-24 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
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