JPS61289532A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関する。

口、発明の背景 磁気記録媒体は、オーディオ用、其他の録音用磁気テー
プ、ＶＴＲ用の録画、録音用磁気テープ、コンピュータ
やワードプロセッサ等の磁気ディスク等として多用され
ている。ＶＴＲ用磁気テープは、磁気ヘッドに対して所
定の角度を以て斜めに摺接するので、磁性層中の磁性粒
子がテープの長手方向のみに配向していては不都合であ
り、前記の角度に配向している磁性粒子の存在が必要で
ある。また、磁気ディスクは、周方向に配向してい性 る磁ス粒子の存在を必要とする。

近年、磁性層中の磁性粒子の高密度化が可能になり、磁
性粒子をランダムに配向させて無配向とし、前記のよう
な所定方向に配向する磁性粒子の数を増加することが可
能となっている。それで、長尺の無配向磁気記録媒体か
ら磁気テープや磁気ディスクを切出して、生産性を向上
しようとする試みがなされている。このような試みは、
特に磁気ディスク製造の生産性を著しく向上させること
に繋がる。

磁気記録媒体を無配向化させる方法としては、例えば次
のような方法が提案されている。

（ｉ）第一の配向磁場によって磁性塗料の塗布方向に磁
性粒子を配向させ、次ｃｉ第一の配向磁場に対して逆方
向に、かつ、弱い第二の配向磁場によって無配向とする
方法（特開昭５３−１０４２０６号公報）。

（ｉｉ）第一の配向磁場によって磁性塗料の塗布方向に
磁性粒子を配向させ、次に第一の配向磁場より弱い複数
の配向磁場によって無配向とする方法（特開昭５４−１
４９６０７号公報）。

（ｉｉｉ）５個以上の磁石を磁性塗料の塗布面又は反塗
布面に交互に異なる極性で、かつ支持体の移送方向に漸
減するように配置し、かつ、互いに隣接する磁力線が実
質的に連続するようにして無配向化する方法（特開昭５
９−１２４０３９号公報）。

（ｉｖ）方向が交互に変わり（好ましくは＋４５°、−
４５°の角度で）、かつ向きが逆となる漸減磁場によっ
て無配向とする方法（特開昭５４−１５９２０４号公報
）。

（ｖ）　Ｔｌｉ性塗料の塗布方向に対して５〜４５°の
角度を以て棒磁石を幅方向に分割配置させて無配向化す
る方法（特開昭５９−４２６４４号公報）。

（ｖｉ）軸方向に磁場が沿うような配向ローラによって
無配向化する方法（特開昭５７−１８９３４４号公報）
。

（ｖｊ）塗布ウェブの搬送方向に対して直角に磁界を形
成するようにＮ極、Ｓ極を交互にして多数の磁石を配置
して無配向化する方法（特開昭５９−１４８１４０号公
＠）。

（ｖｉ）磁性塗料の塗布方向に対して直角に磁界を形成
するようにＮ極、Ｓ極を交互に磁石を配して無配向化す
る方法（特開昭５９−１４８１４０号公報）。

上記の従来例では、５９ｍ／＋ｗｉｎ以上の高速搬送に
するには、装置を大型化せねばならず、また、操作が煩
雑になるという欠点があった。

ハ、発明の目的 本発明は、上記の事情に鑑みて成されたものであって、
装置の大型化や操作の煩雑化を伴わず、支持体の搬送速
度を速めて高い生産性で製造が可能であり、而も磁性粒
子の無配向化を確実にする磁気記録媒体の製造方法を提
供することを目的としている。

二、発明の構成 本発明は、磁性粒子を含有する層を支持体上に形成し、
前記支持体を配向磁場に通過させて前記層中の磁性粒子
を無配向化させる磁気記録媒体の製造方法に於いて、前
記配向磁場が、前記支持体の面に沿って第一の磁極とこ
れとは逆極性の第二の磁極とが順次配された単一の磁界
発生手段の少なくとも一つにより形成されるものである
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法に係る。

なお、上記「単一の磁界発生手段」とは、第１２図に示
したような相隣れる磁界発生手段（例えば磁石）の互い
に異なる極性の磁極間に磁界を発生させるのではなく、
互いに異なる極性の磁極間に磁界を発生させる一つの磁
界発生手段を指す。

ホ、実施例 先ず、本発明で使用する磁性塗料の成分、支持体材料及
び塗布方法について説明する。

磁気記録媒体において、磁性層のバインダー樹脂として
少なくともポリウレタンを使用できるが、これは、ポリ
オールとポリイソシアネートとの反応によって合成でき
る。使用可能なポリオールとしては、フタル酸、アジピ
ン酸、三量化リルイン酸、マレイン酸などの有機二塩基
酸と、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブ
チレングリコール、ジエチレングリコールなどのグリコ
ール類若しくはトリメチロールプロパン、ヘキサントリ
オール、グリセリン、トリメチロールエタン、ペンタエ
リスリトールなどの多価アルコール類若しくはこれらの
グリコール類及び多価アルコール類の中から選ばれた任
意の２種以上のポリオールとの反応によって合成された
ポリエステルポリオール；又は、Ｓ−カプロラクタム、
α−メチル−１−カプロラクタム、Ｓ−メチル−８−カ
プロラクタム、Ｔ−ブチロラクタム等のラクタム類から
合成されるラクトン系ポリエステルポリオール；又はエ
チレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオ
キサイドなどから合成されるポリエーテルポリオール等
が挙げられる。

これらのポリオールは、トリレンジイソシアネート、ヘ
キサメ、チレンジイソシアネート、メチレンジイソシア
ネート、メタキシリレンジイソシアネート等のインシア
ネート化合物と反応させ、これによってウレタン化した
ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン
や、ホスゲンやジフェニルカーボネートでカーボネート
化したポリカーボネートポリウレタンが合成される。こ
れらのポリウレタンは通常は主として、ポリイソシアネ
ートとポリオールとの反応で製造され、そして遊離イソ
シアネート基及び／又はヒドロキシル基を含有するウレ
タン樹脂又はウレタンプレポリマーの形でも、或いはこ
れらの反応性末端基を含有しないものく例えばウレタン
エラストマーの形）であっても良い。

ポリウレタン、ウレタンプレポリマー、ウレタンエラス
トマーの製造方法、硬化架橋方法等については公知であ
るので、その詳細な説明は省略する。

なお、バインダー樹脂として上記のポリウレタンと共に
、フェノキシ樹脂及び／又は塩化ビニル系共重合体も含
有させれば、磁性層に適用する場合に磁性粉の分散性が
向上し、その機械的強度が増大する。但し、フェノキシ
樹脂及び／又は塩化ビニル系共重合体のみでは層が硬く
なり過ぎるが、これはポリウレタンの含有によって防止
でき、支持体又は下地層との接着性が良好となる。

使用可能なフェノキシ樹脂には、ビスフェノールＡとエ
ピクロルヒドリンの重合より得られる重（但し、ｎ夕８
２〜１３） 例えば、ユニオンカーバイド？、［のＰＫＨＣｌＰＫＨ
Ｈ，ＰＫＨＴ等がある。

また、使用可能な上記の塩化ビニル系共重合体としては
、 におけるｌ及びｍから導き出されるモル比は、前者のユ
ニットについては９５〜５０モル％であり、後者のユニ
ットについては５〜５０モル％である。また、Ｘは塩化
ビニルと共重合し得る単量体残基を表し、酢酸ビニル、
ビニルアルコール、無水マレイン酸等からなる群よる選
ばれた少なくとも１種を表す。（１＋ｍ）として表され
る重合度は好ましくは１００〜６００であり、重合度が
１００未満になると磁性層等が粘着性を帯び易く、６０
０を越えると分散性が悪くなる。上記の塩化ビニル系共
重合体は、部分的に加水分解されていても良い。塩化ビ
ニル系共重合体として、好ましくは塩化ビニル−酢酸ビ
ニルを含んだ共重合体（以下、「塩化ビニル−酢酸ビニ
ル系共重合体」という。）が挙げられる。塩化ビニル−
酢酸ビニル系共重合体の例としては、塩化ビニル−酢酸
ビニル−ビニルアルコール、塩化ビニル−酢酸ビニル−
無水マレイン酸の各共重合体が挙げられ、塩化ビニル−
酢酸ビニル系共重合体の中でも、部分加水分解された共
重合体が好ましい。上記の塩化ビニル−酢酸ビニル系共
重合体の具体例としては、ユニオンカーバイド社製のｒ
ＶＡＧＨＪ、ｒＶＹＨＨＪ、ｒＶＭＣＨ」、種水化学社
製の「エスレックＡ」、「エスレックＡ−５」、ｒエス
レソクＣ」、「エスレフクＭ」、電気化学工業社製の［
デンカビニル１０００　Ｇ　Ｊ、「デンカビニル１００
ＯＷ　Ｊ等が使用できる。

また、上記以外にも、バインダー樹脂として繊維素系樹
脂が使用可能・であるが、これには、セルロースエーテ
ル、セルロース無機酸エステル、セルロース有機酸エス
テル等が使用できる。セルロースエーテルとしては、メ
チルセルロース、エチルセ／Ｌ／　ｏ−ス等が使用でき
る。セルロース無機酸エステルとしては、ニトロセルロ
ース、硫酸セルロース、燐酸セルロース等が使用できる
。また、セルロース有機酸エステルとしては、アセチル
セルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロ
ース等が使用できる。これら繊維素系樹脂の中でニトロ
セルロースが好ましい。

また、バインダー組成全体については、上述のウレタン
樹脂と、その他の樹脂（フェノキシ樹脂と塩化ビニル系
共重合体等との合計Ｉｔ）との割合は、重量比で９０／
１０〜４０／６０であるのが望ましく、８５／１５〜４
５１５５が更に望ましいことが確認されている。この範
囲を外れて、ウレタン樹脂が多いと分散が悪くなり易く
、またその他の樹脂が多くなると表面性不良となり易く
、特に６０ｆｆｉ量％を越えると塗膜物性が総合的にみ
てあまり好ましくなくなる。塩化ビニル−酢酸ビニルの
場合、ウレタン樹脂とかなりの自由度で混合でき、好ま
しくはウレタン樹脂は１５〜７５重量％である。

磁気記録媒体を構成する層のバインダー樹脂としては、
前記したものの他、熱可塑性樹脂、？！硬化性樹脂、反
応型樹脂、電子線照射硬化型樹脂が使用されても良い。

熱可塑性樹脂としては、軟化温度が１５０℃以下、平均
分子量が１０，０００〜２００．０００、重合度が約２
００〜２．０００程度のもので、例えばアクリル酸エス
テル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル
−塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル−スチ
レン共重合体が使用される。

熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、塗布液の状態
では２００，０００以下の分子量であり、塗布乾燥後に
は縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとな
る。また、これらの樹脂のなかで樹脂が熱分解する迄の
間に軟化又は熔融しないものが好ましい。具体的には、
例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラ
ミン樹脂、アルキッド樹脂等である。

電子線照射硬化型樹脂としては、不飽和プレポリマー、
例えば無水マレイン酸タイプ、ウレタンアクリルタイプ
、ポリエステルアクリルタイプ等が挙げられる。

磁性層中には、更にカーボンブランクを添加してよい、
このカーボンブラックは導電性のあるものが望ましいが
、遮光性のあるものも添加して良い。こうした導電性カ
ーボンブランクとしては、例えばコロンビアカーボン社
製のコンダクテックス（Ｃｏｎｄｕｃｔｅｘ　）　９７
５　　（比表面積２５０ｒｒｆ／ｇ−粒径２４ｍμ）、
コンダクテソクス９００（比表面積１２５ｍｆ／ｇ、粒
径２７ｍμ）、カボット社製のパルカン（Ｃａｂｏｔ　
Ｖｕｌｃａｎ）　Ｘ　Ｃ−７２（比表面積２５４ｄ／ｇ
、粒径３０ｍμ）、ラーベン１０４０．４２０　、三菱
化成社製の＃４４等がある。遮光用カーボンブラックと
しては、例えばコロンビアカーボン社製のラーベン２０
００　（比表面積１９０ｒｒｒ／ｇ、粒径１８ｍ　ｕ　
）、２１００．１１７０．１０００、三菱化成社製の＃
１００　、＃７５、＃４０、＃３５、＃３０等が使用可
能である。カーボンブラックは、その吸油量が’３０ｍ
　ｌ　　（Ｄ　Ｂ　Ｐ）　／１００ｇ以上であるとスト
ラフチャー構造をとり易く、より高い導電性を示す点で
望ましい。

本発明に於いて、磁気記録媒体は、例えば第１０図に示
すように、支持体１の両側上に無配向化された磁性粒子
２１を含有する磁性層２０を有している。磁性層２０に
使用される磁性粉末、特に強磁性粉末としては、γ−Ｆ
ｅ２Ｏ３、Ｇｏ含有ｒ−Ｆｅ２０３、Ｆｅ３Ｏ４、Ｃｏ
含有Ｆｅ３Ｏ４等の酸化鉄磁性粉；　Ｆ　ｅ　％　Ｎ　
１％　ＣＯ％　Ｆ　ｅ　　Ｎ　１−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｍ
ｎ−Ｚｎ合金、Ｆ　ｅ　−Ｎ　１−Ｚｎ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ合金、Ｃｏ
−Ｎｉ合金等Ｆｅ。

Ｎｉ、Ｃｏ等を主成分とするメタル磁性粉等各種の強磁
性粉が挙げられる。これらのうち、ＣＯ含有酸化鉄やメ
タル磁性粉が望ましい。また、磁性粉のＢＥＴ値は２５
ｒｒｆ／ｇ以上、更には３０イ／ｇ以上が良く、磁性粉
は針状を呈し、磁性塗料の粘度は通常１０００〜５ｏｏ
ｏｃ　ｐ　ｓである。磁性層２０にはまた、潤滑剤（例
えばシリコーンオイル、グラファイト、二硫化モリブデ
ン、二硫化タングステン、炭素原子数１２〜２０の一塩
基性脂肪酸（例えばステアリン酸）と炭素原子数が１３
〜２６個の一価のアルコールからなる脂肪酸エステル等
）、研磨剤（例えば溶融アルミナ）、帯電防止剤（例え
ばグラファイト）等を添加して良い。

なお、第１０図の磁気記録媒体は、磁性層２０と支持体
１との間に下引き層（図示せず）を設ける必要は必ずし
もない。

なお、上記の磁性層等の塗布形成時には、塗料中に架橋
剤としての多官能イソシアネートを所定量添加しておく
のが望ましい。°こうした架橋剤としては、既述した多
官能ポリイソシアネートの他、トリフェニルメタントリ
イソシアネート、トリス−（Ｐ−イソシアネートフェニ
ル）チオホスファイト、ポリメチレンポリフェニルイソ
シアネート等が挙げられる、メチレンジイソシアネート
系、トリレンジイソシアネート系が良い。

また、上述した支持体１の素材としては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート
等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン類、セルローストリアセテート、セルロースダイアセ
テート等のセルロース誘導体、ポリカーボネートなどの
プラスチック、Ａｊ！、Ｚｎなどの金属などが使用され
る。これら支持体の厚みはフィルム、シート状の場合は
約３〜１００μｍ程度、好ましくは２０〜７５μｍであ
り、ディスク、カード状の場合は、３０μｍ〜１０ｍ程
度であり、ドラム状の場合は円筒状とし、使用するレコ
ーダーに応じてその型は決められる。

支持体上へ前記磁性塗料を塗布し磁性層を形成するため
の塗布方法としては、エアーナイフコート、ブレードコ
ート、ドクターブレードコート、エアーナイフコート、
スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、
トランスファーロールコート、グラビアコート、キスコ
ート、キャストコート、スプレィコート等が利用でき、
その他の方法も可能である。

以下、実施例を挙げて本発明を詳述する。

裏胤週上 第２図は装置の概要を示し、供給ロール２に巻付けられ
た支持体１は、磁性塗料塗布手段３に搬送されて磁性粒
子を含有する塗膜が形成され、複数の配向磁場４（その
内容は後に詳述する。）を通過して塗膜中の磁性粒子が
無配向化され、引続き乾燥手段５を通過して塗膜が乾燥
して磁性層が形成され、次に、カレンダロール６ａの組
合せからなるカレンダ部６に導かれてカレンダ処理され
、巻取りロール２２に巻取られる。

第１０図のように、磁性層２０を支持体１の両面に形成
するには、例えば第２図の工程を２回繰返す。かくして
製造された磁気記録媒体は、図示しない次のスリソティ
ング工程又はディスク状に打ち抜く工程に供せられる。

同図中、３ａは塗布用対向ロール、３ｂは余分な塗料を
掻落すブレード、３Ｃは磁性塗料である。

第２図に於いて、支持体１は、磁性塗料塗布手段３に搬
送されて磁性粒子を含有する塗膜が形成され、複数の配
向磁場４を通過する間に、塗布手段３に於いて搬送方向
７の方向に機械的に配向された磁性粒子は、搬送方向７
及びその逆の方向に配向されようとして塗膜中で運動す
る。配向磁場４は、下流側に行くに従って磁性粒子の運
動が鈍くなるようにしてあり、やがて磁性粒子は、上記
の方向に配されきれる以前にその運動が停止し、その方
向がランダムになって無配向となる。

第２図の配向磁場４の内容は第１図に示す通りである。

支持体１の最上流側には、塗膜側の面に磁極Ｎ、Ｓが近
接して位置し、かつ、支持体１の搬送方向７に平行にな
るように磁石４ａ−１が配されている。これに続いて、
同様の配置で磁石４ａ−２，４ａ−３、・・・・・・・
・・、４ａ−ｎが、磁極の向きを交互に逆にして、支持
体１から次第に離れるように順次配置されている。

支持体１の塗膜の反対側の面には、磁石４ａ−１，４３
−２，４ａ−３、・・・・・・・・・、４ａ−ｎに対向
し、かつ、支持体１との距離を同じくして磁石４ｂ−１
，４ｂ−２，４ｂ−３、・・・・・・・・・、４ｂ−ｎ
が配置されている。

このように磁石を配置することにより、互いに対向する
各組の磁石の磁力線は、方向が交互に逆になり、かつ、
支持体１の面での磁場強さが下流側に向かって次第に弱
くなるようになり、前述したように、支持体１がこれら
の配向磁場を通過して、磁性粒子の無配向化が遂行され
る。また、磁力線のうちの磁性粒子の運動に寄与する磁
力線の割合は、第１１図及び第１２図に示した従来の磁
石の配置に於けるそれに較べて大幅に増大する。

その結果、支持体１の搬送速度を速めても、磁性粒子の
運動は無配向化に充分足りるものとなる。

なお、互いに対向する一組の磁石間の磁場強さは、最も
強い最上流でも磁性粒子の抗磁力（Ｈｃ）に必要な磁場
強さ以下とする。また、支持体の一方の側の磁石の個数
ｎは、３個以上、好ましくは５〜１５個とするのが良い
。また、支持体の各位置が各磁石の磁力線の有効な作用
領域を通過する時間は、２０　ｍ　ｓｅｃ以上であれば
良（，６０〜１５０ｍ５ｅｃとするのが更に望ましい。

上記のような装置を使用して、厚さ７５μｍのポリエチ
レンテレフタレートからなる支持体の片面に、下記第１
表に示す組成の磁性塗料を乾燥後の厚さが２．０μｍに
なるようにグラビアロール法によって４９ｍ／ａ＋ｉｎ
又は９０ｍ／ｌｌｌ１ｎの搬送速度で塗布し、引続き無
配向化処理を施してシート状磁気記録媒体を得た。

（以下余白、次頁に続く。） 第１表 配向磁場の形成には、フェライト系磁石を支持体の両面
側に各１０段配し、支持体面での磁場強さは、初段を２
５０ガウス、最終段を５０ガウスとし、その間を順次低
下させた。

比較のために、第１２図に示した従来の磁石の配置で、
その他の条件を同様にして無配向化処理を施してなる磁
気記録媒体を用意した。

これらの磁気記録媒体について、搬送方向についての角
形比とその直角方向についての角形比との比、即ち配向
度比を求めた。ここで角形比とは、（残留磁束密度／最
大磁束密度）を指す。

結果は下記第２表に示す通りである。

第２表 特に磁気ディスクにあっては、配向度比は１．０５以下
の低い値が要求されている。従来の磁石の配置による比
較例では、搬送速度４０ｍ／ｍｉｎで漸くこの要求が満
足されていて、搬送速度をそれ以上に速（すると、上記
の要求を満足させることができない。これに対して実施
例では、搬送速度を９０ｍ／ｍｉｎに速めても配向度比
１．０１と、殆ど完全に無配向化されている。

次］直連ｉ この例は、磁性粒子の無配向化処理が完了する前に塗膜
の乾燥を開始させる例である。

装置全体の概要を第４図に示す。以下、前記実施例１　
（第１図及び第２図）と共通する各構成部分は、同一の
符号を付して示す。

この例では、第４図に示すように、複数の配向磁場４の
うちの後段側が乾燥手段５の中に位置していて、無配向
化処理が完了する前に塗膜の乾燥が開始するようにして
いる。

第３図は複数の配向磁場４と乾燥手段５との内容を示す
。

複数の磁石４ａ−１，４ａ−２，４ａ−３、・・・・・
・・・・、４ａ−ｎ及び４ｂ−１，４ｂ−２，４ｂ−３
、・・・・旧・・、４ｂ−ｎは、支持体１との距離を同
じくして位置しているほかは、前記実施例１　（第１図
参照）に於けると同様に配置されている。従って、支持
体１の面での磁場強さは、各磁石の組について実質的に
同一である。

支持体１が複数の配向磁場４に入ると、磁性粒子は搬送
方向７の方向とその逆の方向に交互に配向しようとして
運動する。支持体１が磁石４ａ−４，４ｂ−４の間を通
過すると乾燥手段５中に人混 り、ノズル５ａからｌ風５ｂが吹付けられて塗膜の乾燥
が実質的に開始する。

塗膜の乾燥開始後も磁性粒子は配向磁場の作用を受けて
運動を続けるが、その運動は、乾燥の進行に伴って次第
に鈍くなり、やがて停止し、磁性粒子はその方向がラン
ダムになって無配向となる。

支持体は実質的に乾燥が開始してからなお少なくとも１
組の、好ましくは２組以上の磁石の磁場を通過させるの
が良い。また、各磁場強さは、磁性粒子の抗磁力に必要
な磁場強さよりも小さくし、その１０〜５０％程度とす
るのが望ましい。また、前記のｎの数は３以上、好まし
くは１０以上とするのが良い。

上記のように装置を構成することにより、無配向化の程
度が一層高まり、その上、装置の小型化が可能となる。

第３図及び第４図に示した装置を使用し、支持体面での
磁場強さを総て２５０ガウスとし、磁石を１０段に配し
、３段目の磁石を通過してから乾燥を開始するようにし
、その他は前記実施例１に於けると同様にして磁気記録
媒体を製造した。

この磁気記録媒体の配向度比は、搬送速度９０ｍ／ｗｉ
ｎでも１．００と、完璧な無配向になっていた。

変形例 前記実施例１．２共に、各１組毎に磁石を独立させて磁
界を発生させているが、磁界発生手段を次のようにする
ことも可能である。

変並遡上 この例では、第５図及び第６図に示すように、支持体１
の一方の側、他方の側の磁石４ａ−１，４ａ−２，４ａ
−３、・・・・・・・・・、４ａ−ｎ及び４ｂ−１，４
ｂ−２，４ｂ−３、・・・・・・・・・、４ｂ−ｎを、
夫々支持体１とは逆の側で透磁性材料８で連結し、支持
体１に対向する側にのみ磁力線を発生させて各磁力線を
一層有効ならしめるようにした例である。

変１１引先 この例は、支持体の一方の側、他方の側で複数個の磁石
を１組にし、各磁石毎の磁力線に加えて複数個の磁石に
共通する磁力線を発生させ、配向磁場を一層有効に形成
させた例である。

この例では、第７図、第８図及び第９図に示すように、
支持体１の一方の側及び他方の側で、３個ずつの磁石４
ａ−１，４ａ−２，４ａ−３と、４ａ−４，４ａ−５，
４ａ−６と、４ａ−７，４ａ−８，４ａ−９と、・・・
・・・・・・及び４ｂ−１，４ｂ−２，４ｂ−３と、４
ｂ−４，４ｂ−５，４ｂ−６と、４ｂ−７，４ｂ−８，
４ｂ−９と、・・・・・・・・・とを一つずつのグルー
プとし、各磁石の磁力線に加えて、各グループ毎に共通
する磁力線を発生させている。

なお本発明にあって、本発明の精神を逸脱しない範囲で
種々の変形を行うことは差支えない。例えば、磁界発生
手段に磁石に替えて直流のソレノイドコイルを利用した
磁界発生手段や電磁石を用いても良い。電磁石を用いる
場合は、電磁石に供給する電力は、周波数が充分に低い
交流又は直流とする。また、磁力線の方向は、支持体の
搬送方向に平行する方向に限られるものではなく、支持
体の面に沿って任意の方向に向け、磁性粒子の運動を一
層活発にすることも可能である。また、配向磁場の前段
に磁性塗料塗布工程を設け、この塗布中に無配向化処理
を開始するようにすることもできる。また、高度な無配
向化が要求されない場合には、支持体の一方の面倒、例
えば塗膜側の面にのみ磁界発生手段を配置しても良い。

へ、発明の詳細 な説明したように、本発明に基づく磁気記録媒体の製造
方法は、支持体の面に沿って第一の磁極とこれとは逆極
性の第二の磁極とが順次配された単一の磁界発生手段に
支持体を通過させて磁性粒子を無配向化させるので、磁
界発生手段の磁力線のうちの磁性粒子の無配向化に寄与
する磁力線の割合が大幅に増大される。その結果、本発
明の方法によるときは、装置の大型化や操作の煩雑を伴
うことなく、無配向化処理速度を速くしても充分に無配
向化された磁気記録媒体を容易に得ることができ、生産
性が著しく向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第１０図は本発明の実施例を示すものであって
、 第１図、第５図、第６図、第７図、第８図及び　　であ
第９図は配向磁場の概要を示す正面図、第２図及び第４
図は装置の概略正面図、第３図は配向磁場と乾燥手段の
内部を示す正面図、 第１０図は磁気記録媒体の拡大断面図 である。 第１１図及び第１２図は従来例を示すものであって、い
ずれも配向磁場の部分正面図である。 なお、図面に示された符号に於いて、 １・・・・・・・・・支持体 ３・・・・・・・・・磁性塗料塗布手段３Ｃ・・・・・
・・・・磁性塗料 ４・・・・・・・・・配向磁場 ４ａ−１，４ａ−２，４ａ−３，４ａ−ｎ。 ４ｂ−１，４ｂ−２，４ｂ−３，４ｂ　−ｎ　”−・・
−磁石５・・・・・・・・・乾燥手段 ７・・・・・・・・・支持体搬送方向 ２０・・・・・・・・・磁性層 ２１・・・・・・・・・磁性粒子 る。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １　磁性粒子を含有する層を支持体上に形成し、前記支
   持体を配向磁場に通過させて前記層中の磁性粒子を無配
   向化させる磁気記録媒体の製造方法に於いて、前記配向
   磁場が、前記支持体の面に沿って第一の磁極とこれとは
   逆極性の第二の磁極とが順次配された単一の磁界発生手
   段の少なくとも一つにより形成されるものであることを
   特徴とする磁気記録媒体の製造方法。