JPS6353720A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関する。
さらに詳しくは、磁性粉とバインダーとを含有する磁性
層を有するディスク状の磁気記録媒体の製造方法に関す
る。
層を有するディスク状の磁気記録媒体の製造方法に関す
る。
先行技術とその問題点
ディスク状の磁気記録媒体は、一般に長尺の非磁性支持
体上に磁性塗料を塗布し、その後、熱風等で強制乾燥さ
れた後、所望の磁性層厚さとしてディスク状に打ち抜い
て製造される。
体上に磁性塗料を塗布し、その後、熱風等で強制乾燥さ
れた後、所望の磁性層厚さとしてディスク状に打ち抜い
て製造される。
このようにして製造されたディスク状の磁気記録媒体に
おいて、磁性層中に含有される磁性粉は、規則性のない
いわゆるランダムな配向をしていることが必要である。
おいて、磁性層中に含有される磁性粉は、規則性のない
いわゆるランダムな配向をしていることが必要である。
すなわち、ディスク状の媒体はその使用に際して、回
転させながら、磁気ヘッドとディスク周方向に慴動させ
て記録再生するものである。 従って磁性粉が一定方向
に配向している場合には、原理的には磁気ヘッドが配向
方向に沿って摺接するときに最大出力を、配向方向に対
して直角に慴接するときに最小出力を得る。 このため
媒体の回転に伴なって出力変動が表われる。
転させながら、磁気ヘッドとディスク周方向に慴動させ
て記録再生するものである。 従って磁性粉が一定方向
に配向している場合には、原理的には磁気ヘッドが配向
方向に沿って摺接するときに最大出力を、配向方向に対
して直角に慴接するときに最小出力を得る。 このため
媒体の回転に伴なって出力変動が表われる。
このような出力変動はモジュレーションと呼ばれており
、モジュレーションの悪化はデータの読み取り誤差を多
くし、実用上問題となる。
、モジュレーションの悪化はデータの読み取り誤差を多
くし、実用上問題となる。
従って、このモジュレーション値を小さくするには前記
の媒体の製造過程において、磁性層中の磁性粉の配向を
極力おさえて、ランダムな配向の状態とすればよい。
の媒体の製造過程において、磁性層中の磁性粉の配向を
極力おさえて、ランダムな配向の状態とすればよい。
ところが、通常の製造方法では、一連の工程中でグラビ
アコート法等の塗布や、塗布後の搬送・平滑化処理等の
際に磁性層中に、剪断応力が加わるため、磁性層中に含
有される磁性粉は、支持体の搬送方向に機械的配向ない
し自然配向してしまう。
アコート法等の塗布や、塗布後の搬送・平滑化処理等の
際に磁性層中に、剪断応力が加わるため、磁性層中に含
有される磁性粉は、支持体の搬送方向に機械的配向ない
し自然配向してしまう。
このような磁性粉の機械的ないし自然配向を・ キャン
セルし、ランダムな状態の配向を得るための提案が種々
行われている。
セルし、ランダムな状態の配向を得るための提案が種々
行われている。
例えば、磁界の方向を交互に変更し、かつ磁界の強さを
減少させるような磁界を用いるもの(特開昭第54−1
59204号公報)、ローラ軸方向に多数の円筒状永久
磁石を同種のものが相対するように密着配置した無配向
用ロープないしこのローラとフィルム長手方向と一致す
る方向に配向するように作用する配向装置との併用(特
開昭第57−189344号、同第57−189345
号公報)、フィルムの長手方向に対して斜めに磁化され
た磁場を用いるもの(特開昭第58−141446号公
報)、厚み方向に着磁された複数個の帯状磁石の着磁の
向きが走行方向に交互に反転する装置(特開昭第60−
124029号公報)、所定のコイルが巻かれた巻線枠
中にフィルムを通過させ、フィルム幅方向に磁界をかけ
るランダム配向装置(特開昭第60−138737号公
報)等がある。
減少させるような磁界を用いるもの(特開昭第54−1
59204号公報)、ローラ軸方向に多数の円筒状永久
磁石を同種のものが相対するように密着配置した無配向
用ロープないしこのローラとフィルム長手方向と一致す
る方向に配向するように作用する配向装置との併用(特
開昭第57−189344号、同第57−189345
号公報)、フィルムの長手方向に対して斜めに磁化され
た磁場を用いるもの(特開昭第58−141446号公
報)、厚み方向に着磁された複数個の帯状磁石の着磁の
向きが走行方向に交互に反転する装置(特開昭第60−
124029号公報)、所定のコイルが巻かれた巻線枠
中にフィルムを通過させ、フィルム幅方向に磁界をかけ
るランダム配向装置(特開昭第60−138737号公
報)等がある。
しかしなから、これらのものでは、用いる磁性粉の物性
や、磁性塗料の粘度、機械的作用による自然配向の程度
、フィルム搬送スピード等の諸条件に影習され、容易に
しかも安定して支持体の全幅にわたって一様にランダム
配同化したものが得にくいという欠点がある。
や、磁性塗料の粘度、機械的作用による自然配向の程度
、フィルム搬送スピード等の諸条件に影習され、容易に
しかも安定して支持体の全幅にわたって一様にランダム
配同化したものが得にくいという欠点がある。
また、支持体搬送方向に磁性塗料の厚みムラに返囚する
スジが生じたり、配向装置に起因するスジが生じたり、
磁性層上に不必要な凹凸が形成される場合もあり、好ま
しくない。
スジが生じたり、配向装置に起因するスジが生じたり、
磁性層上に不必要な凹凸が形成される場合もあり、好ま
しくない。
■ 発明の目的
本発明の目的は、磁性粉とバインダーとを含有する磁性
層を有するディスク状の磁気記録媒体を製造するに際し
て、磁性層中に含有される磁性粉をランダムに配向し、
モジュレーションを向上させることにある。
層を有するディスク状の磁気記録媒体を製造するに際し
て、磁性層中に含有される磁性粉をランダムに配向し、
モジュレーションを向上させることにある。
■ 発明の開示
このような目的は、下記の本発明によって達成される。
長尺の非磁性支持体上に、磁性粉とバインダーとを含有
する磁性塗料を塗布し、磁石によって磁界を印加し、乾
燥し、しかる後、ディスク状に打ち抜く磁気記録媒体の
製造方法において、支持体幅方向にそれぞれ同方向の磁
界を発生する第1および第2の磁石間を支持体が通過す
るようにし、支持体の幅をl0、第1および第2の磁石
の支持体幅方向の長さをLL+および1、′、支持体長
手方向の長さをl2およびl2およびIt2’、支持体
厚さ方向の長さを23および23′、支持体との間隙な
gおよびg′としたとき、 il =1.11゜〜3. OJI!。
する磁性塗料を塗布し、磁石によって磁界を印加し、乾
燥し、しかる後、ディスク状に打ち抜く磁気記録媒体の
製造方法において、支持体幅方向にそれぞれ同方向の磁
界を発生する第1および第2の磁石間を支持体が通過す
るようにし、支持体の幅をl0、第1および第2の磁石
の支持体幅方向の長さをLL+および1、′、支持体長
手方向の長さをl2およびl2およびIt2’、支持体
厚さ方向の長さを23および23′、支持体との間隙な
gおよびg′としたとき、 il =1.11゜〜3. OJI!。
11’ =0.511〜1.oxl
x、 =Q、txt 〜0.’7J21n2’ =
o、5112〜1.0JZ211、z = 0.
OI 11〜0.5fil丘。’ =Q、 5J2
3〜1. Ofl 3g=o、1fio 〜2.
oi。
o、5112〜1.0JZ211、z = 0.
OI 11〜0.5fil丘。’ =Q、 5J2
3〜1. Ofl 3g=o、1fio 〜2.
oi。
g’ =0. t 110〜2. 01t。
であることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である
。
。
なお、本発明者らは、先に、支持体幅方向に磁界を発生
させる磁石と対向させて支持体を搬送する場合のランダ
ム配向の最適条件を提案しているが、本発明はこのよう
な磁石を対向させて、その磁石間に支持体を搬送する場
合の最適条件を提案するものである。
させる磁石と対向させて支持体を搬送する場合のランダ
ム配向の最適条件を提案しているが、本発明はこのよう
な磁石を対向させて、その磁石間に支持体を搬送する場
合の最適条件を提案するものである。
■ 発明の具体的構成
以下、本発明の具体的構成について、詳細に説明する。
第1図、第2図、第3図および第4図は、それぞれ本発
明の磁気記録媒体の製造方法の実施例を示したものであ
る。
明の磁気記録媒体の製造方法の実施例を示したものであ
る。
第1図において、巻き出しロール1から引き出された長
尺・フィルム状の非磁性支持体2上には、グラビアコー
ト、エアドクターコート、ブレードコート、エアナイフ
コート、スクイズコート、含浸コート、リバースロール
コート、トランスファーロールコート、スプレィコート
等の種々の塗布手段によって磁性塗料3が膜状に塗布さ
れる。
尺・フィルム状の非磁性支持体2上には、グラビアコー
ト、エアドクターコート、ブレードコート、エアナイフ
コート、スクイズコート、含浸コート、リバースロール
コート、トランスファーロールコート、スプレィコート
等の種々の塗布手段によって磁性塗料3が膜状に塗布さ
れる。
なお、第1図には、これらの塗布手段の1例として、リ
バースロールコートのロール41゜45.49が示され
ている。
バースロールコートのロール41゜45.49が示され
ている。
なお、同図において、磁性塗料3は、ノズル7から各ロ
ールに供給されており、ロール41に近接して、ドクタ
ーブレード8が配置されている。
ールに供給されており、ロール41に近接して、ドクタ
ーブレード8が配置されている。
非磁性支持体2は通常ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリプロ
ピレン等のポリオレフィン類、セルローストルアセテー
ト等のセルロース誘導体、ポリイミド、ポリカーボネー
ト、ポリサルホン、芳香族アラミド、芳香族ポリエステ
ル等の各種樹脂が用いられる。
リエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリプロ
ピレン等のポリオレフィン類、セルローストルアセテー
ト等のセルロース誘導体、ポリイミド、ポリカーボネー
ト、ポリサルホン、芳香族アラミド、芳香族ポリエステ
ル等の各種樹脂が用いられる。
これらの中では、特に、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド等を用いることが好ましい。
リイミド等を用いることが好ましい。
磁性塗料3には、後述の針状の磁性粉、バインダー、溶
剤等が含有される。
剤等が含有される。
このような塗布工程の後に、通常は、次工程として非磁
性支持体上に設層された磁性塗料3のランダム配同化が
行われる。
性支持体上に設層された磁性塗料3のランダム配同化が
行われる。
なお、この配向の前にウェット膜面のスムージング化や
塗膜規制等に関する種々の処理が行われてもよいが、支
持体長手方向の自然配向を助長するような処理はできる
だけさけた方が好都合である。
塗膜規制等に関する種々の処理が行われてもよいが、支
持体長手方向の自然配向を助長するような処理はできる
だけさけた方が好都合である。
本発明における配向は、前述したように塗布手段等によ
って、自然配向された磁性粉をできるかぎり無配向状態
にするためのものである。
って、自然配向された磁性粉をできるかぎり無配向状態
にするためのものである。
本発明において、ランダム配向の手段としては、磁石を
用い、この磁石としてはほぼ矩形状の磁石5.5′を用
いる。
用い、この磁石としてはほぼ矩形状の磁石5.5′を用
いる。
そして、この磁石5,5′の対向間隙内にて支持体を搬
送する。
送する。
この磁石5.5′は、第1図〜第4図に示されるように
、通常、複数個の単位磁石511゜511′の異極同士
を支持体幅方向に直列に接続し一体化し、1つの磁石単
位51,53゜55.51’ 、53’ 、55’とし
、通常、これらを支持体長手方向に一体化して構成され
る。
、通常、複数個の単位磁石511゜511′の異極同士
を支持体幅方向に直列に接続し一体化し、1つの磁石単
位51,53゜55.51’ 、53’ 、55’とし
、通常、これらを支持体長手方向に一体化して構成され
る。
この場合、支持体幅方向および長手方向には必ずしも単
位磁石511,511’や磁石単位51,53,55.
51’ 、53’ 、55’を接続する必要はないが、
このようにすることによって、磁界はより安定化する。
位磁石511,511’や磁石単位51,53,55.
51’ 、53’ 、55’を接続する必要はないが、
このようにすることによって、磁界はより安定化する。
また、磁石5.5′のサイズ決定や変更も容易となる
。
。
なお、各単位磁石511,511’は、設計上、磁界強
度が等しいものを用いるのが有利である。
度が等しいものを用いるのが有利である。
そして、単位磁石511,511’の最大エネルギー積
(B H) maxは、通常0.1〜40MGOe程度
とする。
(B H) maxは、通常0.1〜40MGOe程度
とする。
このような磁石5.5′は、第1図〜第4図に示される
ように、長尺の連続搬送される非磁性支持体2の下方お
よび上方に、間隙比!!11g。
ように、長尺の連続搬送される非磁性支持体2の下方お
よび上方に、間隙比!!11g。
g′を隔てて、支持体2の幅方向に磁界が印加されるよ
うに支持体とほぼ平行に設置される。
うに支持体とほぼ平行に設置される。
さらにこの磁石5,5′は支持体2の幅方向に均一な磁
界が生じるように設置されることが望ましい。 そのた
め通常、第2図および第3図に示されるように、磁石5
および5′は、ともに支持体2の幅方向とほぼ平行に(
好ましくは90±3°)配置し、支持体2の長手方向の
中心線および幅方向のある線に対してほぼ対称になるよ
うに設置することが好ましい。
界が生じるように設置されることが望ましい。 そのた
め通常、第2図および第3図に示されるように、磁石5
および5′は、ともに支持体2の幅方向とほぼ平行に(
好ましくは90±3°)配置し、支持体2の長手方向の
中心線および幅方向のある線に対してほぼ対称になるよ
うに設置することが好ましい。
そして、磁石5.5′の&f1iは、支持体2の幅方向
(搬送方向と直角の方向)のいずれかの一端部をN極、
他端部をS極とし、支持体2の幅方向にそれぞれ同方向
の磁界が印加されるようにする。
(搬送方向と直角の方向)のいずれかの一端部をN極、
他端部をS極とし、支持体2の幅方向にそれぞれ同方向
の磁界が印加されるようにする。
本発明においては、この磁石5,5′と磁性塗料3が塗
布された支持体2との位置関係は、下記の関係式を満足
するように規制しなければならない。
布された支持体2との位置関係は、下記の関係式を満足
するように規制しなければならない。
すなわち、磁石5および磁石5′の幅(支持体2の幅方
向と同一方向)をそれぞれ11およびu、’、支持体2
の幅を20、支持体2と磁石5および磁石5′との間隙
距離をそれぞれgおよびg′とした場合、 xi =l、leO〜3.0J20、より好ましくは1
.5I1.0〜2.5J2Qかつg=0.12o〜2.
0JZQ、より好ましくは0.2Ilo〜1.6J2Q
の条件を満足することが必要である。
向と同一方向)をそれぞれ11およびu、’、支持体2
の幅を20、支持体2と磁石5および磁石5′との間隙
距離をそれぞれgおよびg′とした場合、 xi =l、leO〜3.0J20、より好ましくは1
.5I1.0〜2.5J2Qかつg=0.12o〜2.
0JZQ、より好ましくは0.2Ilo〜1.6J2Q
の条件を満足することが必要である。
また、J21′およびg′は、それぞれl2およびll
およびgと通常等しいことが好ましいが、11 ’ =
0.5l2およびl1〜i、 0fLi 、 g’ =
0、IJ2Q 〜2.0JZQの範囲であれば、必ずし
も等しくなくてもかまわない。 なお、この場合、磁石
5および5′はどちらが上方になってもかまわない。
およびgと通常等しいことが好ましいが、11 ’ =
0.5l2およびl1〜i、 0fLi 、 g’ =
0、IJ2Q 〜2.0JZQの範囲であれば、必ずし
も等しくなくてもかまわない。 なお、この場合、磁石
5および5′はどちらが上方になってもかまわない。
以下に述べるl2およびl2’および23′についても
同様である。
同様である。
l2およびllが1.IJ20未満になると支持体幅方
向の磁束分布が悪化し−様なランダム配同化ができなく
なる。 gが0.lllG未満になると支持体2の幅方
向両端部での磁束密度が、幅方向中央部のそれと比べて
大きくなり、−様なランダム配同化ができなくなるほか
、磁性塗料3により、磁石5.5′が汚れたり、あるい
は、磁石5.5′によって塗膜に傷を生じるおそれがあ
る。
向の磁束分布が悪化し−様なランダム配同化ができなく
なる。 gが0.lllG未満になると支持体2の幅方
向両端部での磁束密度が、幅方向中央部のそれと比べて
大きくなり、−様なランダム配同化ができなくなるほか
、磁性塗料3により、磁石5.5′が汚れたり、あるい
は、磁石5.5′によって塗膜に傷を生じるおそれがあ
る。
また、LL、が3.0l2およびlQをこえたり、gが
2.010をこえると、ランダム配向に要する磁束密度
が低下して、本発明の実効がなくなる。
2.010をこえると、ランダム配向に要する磁束密度
が低下して、本発明の実効がなくなる。
支持体2の搬送方向に沿った磁石5,5′の長さu2、
It2’ は、u2=O,lfl、〜0.7l2および
l1 より好ましくは0.211〜0.611であり、
1□’ =0.5J22〜1.0JZ2である。
It2’ は、u2=O,lfl、〜0.7l2および
l1 より好ましくは0.211〜0.611であり、
1□’ =0.5J22〜1.0JZ2である。
Il2が0.1ffi1未満となると、磁束密度が低下
し本発明の実効がなくなる。
し本発明の実効がなくなる。
また0、711をこえると、磁界印加時間の上昇を抑え
るために支持体2の搬送スピードを上昇させなければな
らず、製造上困難が生じる。
るために支持体2の搬送スピードを上昇させなければな
らず、製造上困難が生じる。
なお、このような2゜の範囲で支持体2の通常の搬送ス
ピード5〜500m/分程度および通常の磁性塗料の粘
度にて、良好な結果を得られる。
ピード5〜500m/分程度および通常の磁性塗料の粘
度にて、良好な結果を得られる。
第2図および第3図に示されるように磁石5.5′を、
通常、複数個(図示では3本)の磁石単位51,53,
55.51’ 、53’ 。
通常、複数個(図示では3本)の磁石単位51,53,
55.51’ 、53’ 。
55′を一体化することによって作製すわば、上記の範
囲を変化させることはきわめて容易である。
囲を変化させることはきわめて容易である。
さらに、支持体2の厚さ方向の磁石5.5′の長さx3
、x3’はf3=O,01fi、〜0.5文!、より好
ましくは0.05〜0.3であり、LL、’ =0.5
1.〜1.’0I13である。
、x3’はf3=O,01fi、〜0.5文!、より好
ましくは0.05〜0.3であり、LL、’ =0.5
1.〜1.’0I13である。
23が0.01JZI未満となると磁束密度が低下し、
本発明の実効がなくなる。 ま た、Il、3がo、s
i、をこえると磁界強度が大きくなりすぎるため、磁束
分布の制御が困難となる。
本発明の実効がなくなる。 ま た、Il、3がo、s
i、をこえると磁界強度が大きくなりすぎるため、磁束
分布の制御が困難となる。
また、l、=2□’ 、12 =12’ 、13ミl2
およびls ′、g=g′とすることにより、磁性塗料
に対し、悪影響を与える支持体2への垂直方向および長
平方向の磁界をキャンセルでき、支持体幅方向に対し有
効な磁界を印加することができる。
およびls ′、g=g′とすることにより、磁性塗料
に対し、悪影響を与える支持体2への垂直方向および長
平方向の磁界をキャンセルでき、支持体幅方向に対し有
効な磁界を印加することができる。
このように、本発明では、ランダム配同化を行うために
、支持体2の幅方向に均一な磁界を発生するように、対
向主磁石5.5′と支持体2との位置関係を定めたもの
である。
、支持体2の幅方向に均一な磁界を発生するように、対
向主磁石5.5′と支持体2との位置関係を定めたもの
である。
なお、このような磁石5.5′に対して、必要に応じて
支持体搬送方向の前後に補助磁石を併設したり、磁石5
.5′にヨークを設けたりすることもできる。
支持体搬送方向の前後に補助磁石を併設したり、磁石5
.5′にヨークを設けたりすることもできる。
そして、磁性塗料3には、支持体2幅方向に、5〜30
0 G、通常10〜200G程度の磁界が均一に印加さ
れる。
0 G、通常10〜200G程度の磁界が均一に印加さ
れる。
なお、支持体の幅1oは10〜500 cm程度とすれ
ばよい。
ばよい。
このような対向磁石5.5′は支持体2の搬送方向に複
数個配設してもよい。 この場合、各対向磁石は同一の
ものであっても同一のものでなくてもよい。
数個配設してもよい。 この場合、各対向磁石は同一の
ものであっても同一のものでなくてもよい。
また、対向磁石5,5′に対し、一方の磁石のみを支持
体の上方または下方に対置するように並置してもよい。
体の上方または下方に対置するように並置してもよい。
塗設後、以上述べてきたようにランダム配向された磁性
塗料3は、通常、乾燥炉6等の内部に設けられた熱風、
遠赤外ランプ、電気ヒーター等の公知の乾燥手段によっ
て乾燥・固化される。 また、バインダーとして後述す
るような放射線硬化型の化合物を用いた場合には、各種
の放射線照射装置をさらに付加して用いる。
塗料3は、通常、乾燥炉6等の内部に設けられた熱風、
遠赤外ランプ、電気ヒーター等の公知の乾燥手段によっ
て乾燥・固化される。 また、バインダーとして後述す
るような放射線硬化型の化合物を用いた場合には、各種
の放射線照射装置をさらに付加して用いる。
このようにして磁性層を固化した後に、必要に応じて表
面平滑化処理を行う。
面平滑化処理を行う。
次いで、打ち抜きプレス機等によって所定のディスク形
状に打ち抜き、さらに二次加工を行い、媒体を作製する
。
状に打ち抜き、さらに二次加工を行い、媒体を作製する
。
このようにして製造されるディスク状の磁気記録媒体の
磁性塗料3は、前述したように、針状の磁性粉とバイン
ダー、必要に応じて各種添加剤と通常、溶剤とを含有す
る。
磁性塗料3は、前述したように、針状の磁性粉とバイン
ダー、必要に応じて各種添加剤と通常、溶剤とを含有す
る。
磁性粉の長軸/短軸の軸比としては、任意であるが、通
常2〜20以下の軸比をもつ針状のものに効果がある 針状の磁性粉としては、金属磁性粉、コバルト被着酸化
鉄粉、γ−Fe2O3粉等のいずれであってもよい。
常2〜20以下の軸比をもつ針状のものに効果がある 針状の磁性粉としては、金属磁性粉、コバルト被着酸化
鉄粉、γ−Fe2O3粉等のいずれであってもよい。
本発明に用いる金属磁性粉は、
1 ) a −F e OOH(Goeth
ite)。
ite)。
β−F e OOH(Akaganite)、y −F
e OOH(Lepidocrocite)等のオキ
シ水酸化鉄や;a−Fe2 03 、 y−Fe2
03 。
e OOH(Lepidocrocite)等のオキ
シ水酸化鉄や;a−Fe2 03 、 y−Fe2
03 。
Fe304 、y−Fe203−Fe304 (固溶
体)等の酸化鉄や; Co、Mn、Ni、Ti、AJ2.Bi、B。
体)等の酸化鉄や; Co、Mn、Ni、Ti、AJ2.Bi、B。
P、Ag等の金属の1つまたは2つ以上がドープされ、
その表面にアルミニウム化合物またはケイ素化合物を吸
着、被着したものを、還元性ガス気流中で加熱還元して
、鉄または鉄を主成分とする磁性粉末を製造する方法、 2)金属塩水溶液よりNaBH4により液相還元して作
製する方法、 3)あるいは低圧力の不活性ガス雰囲気中で金属を蒸発
させて作成する方法等により得られる。
その表面にアルミニウム化合物またはケイ素化合物を吸
着、被着したものを、還元性ガス気流中で加熱還元して
、鉄または鉄を主成分とする磁性粉末を製造する方法、 2)金属塩水溶液よりNaBH4により液相還元して作
製する方法、 3)あるいは低圧力の不活性ガス雰囲気中で金属を蒸発
させて作成する方法等により得られる。
金属磁性粉の組成としては、Fe、Co。
Niの単体および、これらの合金、またはこれらの単体
および合金に、Cr、Mn、Co。
および合金に、Cr、Mn、Co。
Ni、さらにはZn、Cu、Zr、Al2およびl。
Ti、Bi、Ag、Pt等を添加した金属が使用できる
。
。
また、これらの金属にB、C,Si、P、Nなどの非金
属元素を少量添加したものでも本発明の効果は失われな
い。
属元素を少量添加したものでも本発明の効果は失われな
い。
あるいは、Fe4N等、一部室化ないし炭化された金属
磁性粉であってもよい。
磁性粉であってもよい。
さらに、金属磁性粉は、粒子表面に酸化被膜を有するも
のであってもよい。
のであってもよい。
また、γ−Fe2O3粉としては、
a −F e 00 H(goethite)を400
℃以上で脱水してα−Fe203とし、H2ガス中で3
50℃以上で還元してFe3O4とし、さらに250℃
以下で酸化して作製したものを用いればよい。 また、
γ−FeOOH(レピッドクロサイト)を脱水、還元酸
化してもよい。
℃以上で脱水してα−Fe203とし、H2ガス中で3
50℃以上で還元してFe3O4とし、さらに250℃
以下で酸化して作製したものを用いればよい。 また、
γ−FeOOH(レピッドクロサイト)を脱水、還元酸
化してもよい。
コバルト被着酸化鉄粉としては、
γ−Fe203粒子やFe3O4粒子の表面から数10
λ以内のごく薄い層にCo2+を拡散させたものを用い
ればよい。
λ以内のごく薄い層にCo2+を拡散させたものを用い
ればよい。
なお、磁性粉は0.01〜1μm程度の粒径とする。
このような磁性粉末は、通常バインダー100重量部に
対し100〜900重量部程度含有される。
対し100〜900重量部程度含有される。
バインダーとしては、放射線硬化性樹脂、熱硬化性ない
し反応型樹脂、熱可塑性樹脂等が用いられる。
し反応型樹脂、熱可塑性樹脂等が用いられる。
放射線硬化性樹脂を用いる場合、その具体例としては、
ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル
酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物の
ようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよう
なアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等
の不飽和結合等の放射線照射による架橋あるいは重合乾
燥する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した
樹脂である。 その他放射線照射により架橋重合する不
飽和二重結合を有する化合物であれば用いることができ
る。
ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル
酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物の
ようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよう
なアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等
の不飽和結合等の放射線照射による架橋あるいは重合乾
燥する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した
樹脂である。 その他放射線照射により架橋重合する不
飽和二重結合を有する化合物であれば用いることができ
る。
放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂としては、樹
脂中にマレイン酸やフマル酸等を含有するもので、その
含有量は、製造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中
1〜40モル%、好ましくは10〜30モル%である。
性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂としては、樹
脂中にマレイン酸やフマル酸等を含有するもので、その
含有量は、製造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中
1〜40モル%、好ましくは10〜30モル%である。
放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、特に次のような塩化ビニール系共重合体が好適であ
る。
は、特に次のような塩化ビニール系共重合体が好適であ
る。
塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニー
ル−末端OH側鎖アルキル基共重合体、例えばUCC社
製VROH,VYNClVYEGX、VERR,VYE
S%VMCA、VAGH,UCARMAG520 、 UCARMAG528等が挙げられる。
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニー
ル−末端OH側鎖アルキル基共重合体、例えばUCC社
製VROH,VYNClVYEGX、VERR,VYE
S%VMCA、VAGH,UCARMAG520 、 UCARMAG528等が挙げられる。
そして、このものにアクリル系二重結合、マレイン酸系
二重結合、アリル系二重結合を導入して放射線感応変性
を行う。
二重結合、アリル系二重結合を導入して放射線感応変性
を行う。
これらはカルボン酸を含有してもよい。
この他、飽和ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール
系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、繊維素誘
導体等が好適である。
系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、繊維素誘
導体等が好適である。
その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(pvp
オレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等も
有効である。
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(pvp
オレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等も
有効である。
そして、これらは単独で、あるいは2種以上併用して用
いられる。
いられる。
エラストマー、プレポリマー、オリゴマーも使用でき、
その好適例としては、ポリウレタンエラストマーもしく
はプレポリマーがある。
その好適例としては、ポリウレタンエラストマーもしく
はプレポリマーがある。
ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および支持体、例えば
PETフィルムへの接着性が良い点で特に有効である。
PETフィルムへの接着性が良い点で特に有効である。
ウレタン化合物の例としては、イソシアネートとして
、2.4−トルエンジイソシアネート、2.6−1−ル
エンジイソシアネート、1.3−キシレンジイソシアネ
ート、1,4−キシレンジイソシアネート、1゜5−ナ
フタレンジイソシアネート、 m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイ
ソシアネート、3.3′−ジメチル−4,4′−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、4.4′−ジフェニルメ
タンジイソシアネート、3.3′−ジメチルビフェニレ
ンジイソシアネート、4.4′−ビフェニレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、インフォ
ロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネート、デスモジュールし、デスモジュールN等の
各種多価イソシアネートと、線状飽和ポリエステル(エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン
、トリメチロールプロパン、1.4−ブタンジオール、
1.6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソル
ビトール、ネオペンチルグリコール、1.4−シクロヘ
キサンジメタツールの様な多価アルコールと、フタル酸
、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸
、セバシン酸の様な飽和多塩基酸との縮重合によるもの
)、線状飽和ポリエーテル(ポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコ
ール)やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸
エステル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル等の
各種ポリエステル類の縮重合物により成るポリウレタン
エラストマー、プレポリマーが有効である。
、2.4−トルエンジイソシアネート、2.6−1−ル
エンジイソシアネート、1.3−キシレンジイソシアネ
ート、1,4−キシレンジイソシアネート、1゜5−ナ
フタレンジイソシアネート、 m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイ
ソシアネート、3.3′−ジメチル−4,4′−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、4.4′−ジフェニルメ
タンジイソシアネート、3.3′−ジメチルビフェニレ
ンジイソシアネート、4.4′−ビフェニレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、インフォ
ロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネート、デスモジュールし、デスモジュールN等の
各種多価イソシアネートと、線状飽和ポリエステル(エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン
、トリメチロールプロパン、1.4−ブタンジオール、
1.6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソル
ビトール、ネオペンチルグリコール、1.4−シクロヘ
キサンジメタツールの様な多価アルコールと、フタル酸
、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸
、セバシン酸の様な飽和多塩基酸との縮重合によるもの
)、線状飽和ポリエーテル(ポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコ
ール)やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸
エステル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル等の
各種ポリエステル類の縮重合物により成るポリウレタン
エラストマー、プレポリマーが有効である。
これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合等を有する単量体とを反応させることにより、
放射線感応性に変性することは非常に効果的である。
また、末端に極性基としてOH,C0OH等を含有する
ものも含む。
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合等を有する単量体とを反応させることにより、
放射線感応性に変性することは非常に効果的である。
また、末端に極性基としてOH,C0OH等を含有する
ものも含む。
さらに、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノある
いはジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。
いはジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。
上述のアクリル変性塩化ビニル系共重合体とのこれらウ
レタンエラストマーの併用は、配向度および面粗れの改
良に特に好適である。
レタンエラストマーの併用は、配向度および面粗れの改
良に特に好適である。
この他、アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラスト
マー、ポリブタジェンエラストマーも好適である。
マー、ポリブタジェンエラストマーも好適である。
またポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム製CBR−
M901も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。
M901も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。
その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレボリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴムおよびその
環化物(日本合成ゴム製ClR701)があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡
バイロン#300)等のエラストマーも放射線感応変性
処理を施すことにより有効に利用できる。
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴムおよびその
環化物(日本合成ゴム製ClR701)があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡
バイロン#300)等のエラストマーも放射線感応変性
処理を施すことにより有効に利用できる。
この他、各種放射線硬化性不飽和二重結合を有するオリ
ゴマー、モノマーも好適に用いられる。
ゴマー、モノマーも好適に用いられる。
熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分
子量10,000〜200,000、重合度200〜2
,000程度のものである。
子量10,000〜200,000、重合度200〜2
,000程度のものである。
熱硬化樹脂または反応型樹脂としてもこのような重合度
等のものであり、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとなる
ものである。 そして、これらの樹脂のなかで、樹脂が
熱分解するまでの間に軟化または溶融しないものが好ま
しい。
等のものであり、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとなる
ものである。 そして、これらの樹脂のなかで、樹脂が
熱分解するまでの間に軟化または溶融しないものが好ま
しい。
具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコー
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキ
シ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂などの縮重合の樹脂あるいは高分子量
ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合
物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポ
リマーの混合物、ポリエステルポルオールとポリイソシ
アネートの混合物など、低分子量グリコール/高分子量
ジオール/トリフェニルメタントリイソシアネートの混
合物など、上記の縮重合系樹脂とイソシアネート化合物
などの架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸ビニル(カ
ルボン酸含有も含む)、塩化ビニル−ビニルアルコール
−酢酸ビニル(カルボン酸含有も含む)、塩化ビニル−
塩化ビニリデン、塩化ビニル−アクリロニトリル、ビニ
ルブチラール、ビニルホルマール等のビニル共重合系樹
脂と架橋剤との混合物、ニトロセルロース、セルロース
アセトブチレート等の繊維素系樹脂と架橋剤との混合物
、ブタジェン−アクリロニトリル等の合成ゴム系と架橋
剤との混合物、さらにはこれらの混合物が好適である。
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコー
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキ
シ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂などの縮重合の樹脂あるいは高分子量
ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合
物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポ
リマーの混合物、ポリエステルポルオールとポリイソシ
アネートの混合物など、低分子量グリコール/高分子量
ジオール/トリフェニルメタントリイソシアネートの混
合物など、上記の縮重合系樹脂とイソシアネート化合物
などの架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸ビニル(カ
ルボン酸含有も含む)、塩化ビニル−ビニルアルコール
−酢酸ビニル(カルボン酸含有も含む)、塩化ビニル−
塩化ビニリデン、塩化ビニル−アクリロニトリル、ビニ
ルブチラール、ビニルホルマール等のビニル共重合系樹
脂と架橋剤との混合物、ニトロセルロース、セルロース
アセトブチレート等の繊維素系樹脂と架橋剤との混合物
、ブタジェン−アクリロニトリル等の合成ゴム系と架橋
剤との混合物、さらにはこれらの混合物が好適である。
このような、熱硬化性樹脂を硬化するには、一般に加熱
オーブン中で50〜80℃にて6〜100時間加熱すれ
ばよい。 あるいは低速度にて、80〜120℃にてオ
ーブン中を走行させてもよい。
オーブン中で50〜80℃にて6〜100時間加熱すれ
ばよい。 あるいは低速度にて、80〜120℃にてオ
ーブン中を走行させてもよい。
上述したようなバインダーの中で、耐久性および磁性層
との接着強度を向上させるには、特に放射線硬化性樹脂
を含有させることが好ましい。
との接着強度を向上させるには、特に放射線硬化性樹脂
を含有させることが好ましい。
このような放射線硬化性樹脂をバインダーとして用いた
場合、硬化に際して電子線を用いる場合には、放射線特
性としては、加速電圧100〜750にV、好ましくは
150〜300KVの放射線加速器を用い、吸収線量を
0.5〜20メガラツドになるように照射するのが好都
合である。
場合、硬化に際して電子線を用いる場合には、放射線特
性としては、加速電圧100〜750にV、好ましくは
150〜300KVの放射線加速器を用い、吸収線量を
0.5〜20メガラツドになるように照射するのが好都
合である。
特に照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ライ
ンへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線加
熱器により電子線を使用する方法および後述する紫外線
を使用する方法が有利である。
ンへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線加
熱器により電子線を使用する方法および後述する紫外線
を使用する方法が有利である。
一方、磁性塗膜の硬化に際して、紫外線を用いる場合、
上述したような、放射線硬化性樹脂を含有するバインダ
ーの中には、光重合増感剤が加えられる。
上述したような、放射線硬化性樹脂を含有するバインダ
ーの中には、光重合増感剤が加えられる。
この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベン
ゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェ
ノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン
類、アントラキノン、フエナントラキノン等のキノン類
、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノス
ルフィド等のスルフィド類、等を挙げることができる。
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベン
ゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェ
ノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン
類、アントラキノン、フエナントラキノン等のキノン類
、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノス
ルフィド等のスルフィド類、等を挙げることができる。
光重合増感剤は樹脂固形分に対し、0.1〜lO重量
%の範囲が望ましい。
%の範囲が望ましい。
紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いればよい。
の紫外線電球等を用いればよい。
さらに、磁性塗料には、溶剤、無機顔料、分散剤、潤滑
剤等が含まれていてもよい。
剤等が含まれていてもよい。
溶剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性お
よび相溶性等を考慮して適宜選択される。
よび相溶性等を考慮して適宜選択される。
例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイゾブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、インプロパツール、ブタノール等のアル
コール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の方
向族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエーテ
ル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラン、
フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれらの
混合溶剤として用いる。
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、インプロパツール、ブタノール等のアル
コール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の方
向族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエーテ
ル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラン、
フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれらの
混合溶剤として用いる。
これらの溶剤はバインダーに対して10〜10000w
t%、特に100〜5000wt%の割合で用いる。
t%、特に100〜5000wt%の割合で用いる。
用いる潤滑剤としては、公知の種々の潤滑剤の中で、特
に脂肪酸および/または脂肪酸エステルを用いるのが好
ましい。 脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン
酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸
、リルン酸、ステアロール酸等の炭素数8以上の脂肪酸
(RCOOH,Rは炭素数11以上のアルキル基)であ
り、なかでも、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸
、リルン酸、ステアロール酸等の不飽和脂肪酸が好適で
ある。 また、脂肪酸エステルとしては、炭素数10〜
22個の一塩基性の不飽和ないし飽和の不飽和のアルコ
ールとからなる脂肪酸エステル等が好ましい。
に脂肪酸および/または脂肪酸エステルを用いるのが好
ましい。 脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン
酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸
、リルン酸、ステアロール酸等の炭素数8以上の脂肪酸
(RCOOH,Rは炭素数11以上のアルキル基)であ
り、なかでも、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸
、リルン酸、ステアロール酸等の不飽和脂肪酸が好適で
ある。 また、脂肪酸エステルとしては、炭素数10〜
22個の一塩基性の不飽和ないし飽和の不飽和のアルコ
ールとからなる脂肪酸エステル等が好ましい。
エステルにおける脂肪酸および/またはアルコールの脂
肪族鎖は飽和でも不飽和であってもよく、n一体、i一
体等種々のものであってよい。
肪族鎖は飽和でも不飽和であってもよく、n一体、i一
体等種々のものであってよい。
なお、これらは2種以上、併用してもよい。
なお、その他の潤滑剤として、前記脂肪酸のアルカリ金
属またはアルカリ土類金属からなる金属石鹸、シリコー
ンオイル、フッ素オイル、パラフィン、流動パラフィン
、界面活性剤等も使用可能である。
属またはアルカリ土類金属からなる金属石鹸、シリコー
ンオイル、フッ素オイル、パラフィン、流動パラフィン
、界面活性剤等も使用可能である。
用いる潤滑剤量は、磁性粉100重量部に対して総計2
0重量部以下、特に0.1〜15重量部とする。
0重量部以下、特に0.1〜15重量部とする。
このような磁性塗料の粘度は、塗布の段階で5〜1oo
oo Cp程度である。
oo Cp程度である。
なお、支持体には、下地層の下地処理が施されていても
よい。
よい。
そして、磁性層は、支持体の片面に設けられても、両面
に設けられてもよい。
に設けられてもよい。
片面のみに設けるときには、バックコート層を設けても
よく、磁性層にはトップコート層を設けてもよい。
よく、磁性層にはトップコート層を設けてもよい。
■ 発明の具体的作用効果
本発明によれば、支持体2の幅方向に均一磁界を発生す
るように、磁石5.5′と支持体2との寸法および位置
関係を所定の条件を満足するように規制して、磁気記録
媒体を製造する。
るように、磁石5.5′と支持体2との寸法および位置
関係を所定の条件を満足するように規制して、磁気記録
媒体を製造する。
従って、このようにして製造された媒体は、モジュレー
ション特性が均一でしかも良好である。
ション特性が均一でしかも良好である。
■ 発明の具体的実施例
以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。
細に説明する。
〔実施例1〕
(磁性塗料1)
コバルト被着γ−Fe203
(長軸0.6μm、短軸0.08μm、Hc 730
0e) 100重量部カーボンブラック (帯電防止用、三菱カーボンブラック MA−600) 20重量部a−Af12
03粉末(0,5μm粒状)10重量部 溶剤(メチルエチルケトン/トルエン/メチルイソブチ
ルケトン= 40/30/ 30) 100重量部上記組成物をボ
ールミル中にて3時間混合し、針状磁性酸化鉄を分散剤
によりよく湿潤させた。
0e) 100重量部カーボンブラック (帯電防止用、三菱カーボンブラック MA−600) 20重量部a−Af12
03粉末(0,5μm粒状)10重量部 溶剤(メチルエチルケトン/トルエン/メチルイソブチ
ルケトン= 40/30/ 30) 100重量部上記組成物をボ
ールミル中にて3時間混合し、針状磁性酸化鉄を分散剤
によりよく湿潤させた。
次にバインダーとして
アクリル二重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニル
アルコール共重合体(マレイン酸含有;MW40,00
0)10重量部(固型分換算)、 アクリル二重結合導入ポリエステルウレタンエラストマ
ー(MW30,000)6重量部(固型分換算)、 ペンタエリスリトールトリアクリレート3重量部 溶剤(MEK/トルエン/メチルイソブチルケトン=4
0/30/30) 260重量部 ミリスチン酸/ステアリン酸/ベヘン酸各々1重量部 および ステアリン酸量−セチル 5重量部を混合溶解さ
せた。
アルコール共重合体(マレイン酸含有;MW40,00
0)10重量部(固型分換算)、 アクリル二重結合導入ポリエステルウレタンエラストマ
ー(MW30,000)6重量部(固型分換算)、 ペンタエリスリトールトリアクリレート3重量部 溶剤(MEK/トルエン/メチルイソブチルケトン=4
0/30/30) 260重量部 ミリスチン酸/ステアリン酸/ベヘン酸各々1重量部 および ステアリン酸量−セチル 5重量部を混合溶解さ
せた。
これを磁性粉混合物の入ったボールミル中に投入し、再
び42時間混合分散させた。
び42時間混合分散させた。
このようにして得られた磁性塗料を媒体の磁性層の原料
とし、第1図に示される製造ラインを用い、下記に示す
ように磁気記録媒体を製造した。
とし、第1図に示される製造ラインを用い、下記に示す
ように磁気記録媒体を製造した。
支持体としては幅300mn+、75μl厚のポリエス
テル(PET)フィルムを使用し、その搬送スピードは
100m/minとした。
テル(PET)フィルムを使用し、その搬送スピードは
100m/minとした。
リバースロールコートによって塗膜を塗布した。
次に、種々の大きさの磁石5.5′を用いて表1に示さ
れるような条件下でランダムな配向を行った。
れるような条件下でランダムな配向を行った。
なお、単位磁石511,511’ は15fl×20”
mmとした。
mmとした。
また、各単位磁石511,511’の磁力は、最大エネ
ルギー積(B H) max 4 、0 M GOeと
した。
ルギー積(B H) max 4 、0 M GOeと
した。
また、無配向化を行うための磁界の強さを支持体幅方向
中央部での塗膜面において、70Gとした。
中央部での塗膜面において、70Gとした。
次いで、乾燥炉を通過させ、表面平滑化処理を行い、放
射線照射装置内を通過させて塗膜を乾燥硬化させた。
その後、支持体幅方向に3枚の3.5”ディスク媒体が
得られるように打ち抜いて媒体サンプルを作製した。゛ なお、放射線の吸収線量は10メガラツドとした。 こ
の製造方法に準じて以下に示すような磁性塗料を用い、
種々の媒体サンプルを作製した。
射線照射装置内を通過させて塗膜を乾燥硬化させた。
その後、支持体幅方向に3枚の3.5”ディスク媒体が
得られるように打ち抜いて媒体サンプルを作製した。゛ なお、放射線の吸収線量は10メガラツドとした。 こ
の製造方法に準じて以下に示すような磁性塗料を用い、
種々の媒体サンプルを作製した。
(Mi磁性塗料)
Fe合金針状磁性粉
(長軸0.25μm1短軸0.03μm1Hc 15
000e) 100重量部α−AI1203粉末
(0,5P粒状)10重量部 溶剤(MEK/トルエン/シクロへキサノン=50/2
5/25) 200重量部 上記組成物を強力ミキサーにて3時間混合し、磁性合金
粉末を分散剤によりよく湿潤させる。
000e) 100重量部α−AI1203粉末
(0,5P粒状)10重量部 溶剤(MEK/トルエン/シクロへキサノン=50/2
5/25) 200重量部 上記組成物を強力ミキサーにて3時間混合し、磁性合金
粉末を分散剤によりよく湿潤させる。
次に、バインダーとして
アクリル二重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニルービニル
アルコール共重合体(マレイン酸含有;MW40,00
0)20重量部(固型分換算)、 アクリル二重結合導入ポリエステルウレタウエラストマ
−(MW30,000)5重量部(固型分換算)、 ペンタエリスリトールトリアクリレート3重量部 溶剤(MEK/トルエン/シクロへキサノン=50/2
5/25) 180重量部 ステアリン酸 2重量部ステアリン酸
ブチル 1重量部ステアリン酸層−ブチル
8重量部これを先の磁性粉処理物と高速ミキサー
により、1時間充分混合し、サンドグランドミルを用い
て4時間混合分散を行った。 なお、支持体幅方向中央
部での塗膜面における磁界を40Gとした。
アルコール共重合体(マレイン酸含有;MW40,00
0)20重量部(固型分換算)、 アクリル二重結合導入ポリエステルウレタウエラストマ
−(MW30,000)5重量部(固型分換算)、 ペンタエリスリトールトリアクリレート3重量部 溶剤(MEK/トルエン/シクロへキサノン=50/2
5/25) 180重量部 ステアリン酸 2重量部ステアリン酸
ブチル 1重量部ステアリン酸層−ブチル
8重量部これを先の磁性粉処理物と高速ミキサー
により、1時間充分混合し、サンドグランドミルを用い
て4時間混合分散を行った。 なお、支持体幅方向中央
部での塗膜面における磁界を40Gとした。
(磁性塗料3)
r−Fe203(長軸o、4μ=、
短軸0. 1ttrn、Hc300 0e )/y−F
ez03(長軸0.6μm、 短軸0.1μm、Hc270 0e )(80+20)
重量部 カーボンブラック(帯電防止用、三菱カーボンブラック
MA−600)、 IO重量部a−AJZ203粉末
(0,5μm粒子)3重量部 TiO□粉末(0,3−粒子) 4M1t部SiC
粉末(0,3yM粒子) 1重量部ミリスチン酸
1重量部溶剤(メチルエチルケトン
/トルエン/メチルイソブチルケトン =50/25/25) 100重量部上記組成物をボ
ールミル中にて3時間混合し、磁性酸化鉄を分散剤によ
り、よく湿潤させる。
ez03(長軸0.6μm、 短軸0.1μm、Hc270 0e )(80+20)
重量部 カーボンブラック(帯電防止用、三菱カーボンブラック
MA−600)、 IO重量部a−AJZ203粉末
(0,5μm粒子)3重量部 TiO□粉末(0,3−粒子) 4M1t部SiC
粉末(0,3yM粒子) 1重量部ミリスチン酸
1重量部溶剤(メチルエチルケトン
/トルエン/メチルイソブチルケトン =50/25/25) 100重量部上記組成物をボ
ールミル中にて3時間混合し、磁性酸化鉄を分散剤によ
り、よく湿潤させる。
次に、バインダーとして、
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
MW20000) 13.3重量部 ポリエステルポリウレタン 20重量部(固型分換算)、 溶剤(メチルエチルケトン/シクロへキサノン/メチル
イソブチルケトン= 40/30/30) 200重量部、を混合溶解させ
た。
MW20000) 13.3重量部 ポリエステルポリウレタン 20重量部(固型分換算)、 溶剤(メチルエチルケトン/シクロへキサノン/メチル
イソブチルケトン= 40/30/30) 200重量部、を混合溶解させ
た。
さらに、分散後、磁性塗料中にイソシアネート化合物(
日本ポリウレタン社製コロネートL)を5重量部(固型
分換算)加えた。
日本ポリウレタン社製コロネートL)を5重量部(固型
分換算)加えた。
なお、この磁性塗料3を用いた場合は、放射線硬化を行
わず、60℃、24時間の熱硬化を行った。 なお、支
持体幅方向中央部での塗膜面における磁界の強さを50
Gとした。
わず、60℃、24時間の熱硬化を行った。 なお、支
持体幅方向中央部での塗膜面における磁界の強さを50
Gとした。
このようにして作製された硬化後の塗膜(磁性層)の厚
さは2.0μmであった。 この膜厚の測定は電子マイ
クロメーターで行った。
さは2.0μmであった。 この膜厚の測定は電子マイ
クロメーターで行った。
これら塗膜をフィルムの両面に形成し、両面コートとし
た。
た。
このような種々の磁性塗料を用い1、表1に示されるよ
うにランダム配向条件を種々かえて作製した媒体サンプ
ルについて下記の特性を測定した。
うにランダム配向条件を種々かえて作製した媒体サンプ
ルについて下記の特性を測定した。
なお、サンプルNo、16は磁石を用いない比較例であ
る。
る。
(1)モジュレーション
トラック1周の最大振幅のところで測定される平均振幅
と、そのトラックの最小振幅のところで測定される平均
振幅を測定する。 前者をA、?&者をBとしたとき、
モジュレーションは次式で求められる。
と、そのトラックの最小振幅のところで測定される平均
振幅を測定する。 前者をA、?&者をBとしたとき、
モジュレーションは次式で求められる。
モジュレーションは最内周トラックで2fで測定した。
本発明の実施例では、支持体の幅方向にて3枚のディス
クの打ち抜きを行っている。 従って、両端部と中央部
とから打ち抜かれたディスり媒体についてモジュレーシ
ョンを測定し、それらの値を Mt (両端打ち抜き部分について測定)M2 (
中央打ち抜き部分について測定)とし、計10個のサン
プルについて平均した。
クの打ち抜きを行っている。 従って、両端部と中央部
とから打ち抜かれたディスり媒体についてモジュレーシ
ョンを測定し、それらの値を Mt (両端打ち抜き部分について測定)M2 (
中央打ち抜き部分について測定)とし、計10個のサン
プルについて平均した。
結果を表1に示す。
表1の結果より本発明におけるλo、flt、5’、f
12,12’ ・ J23・ μ3′・ g・g′の関
係の臨界的な効果が明かである。
12,12’ ・ J23・ μ3′・ g・g′の関
係の臨界的な効果が明かである。
第1図は本発明の製造工程の概略側面図である。
第2図および第3図は本発明における磁石と支持体との
関係を示す底面図および平面図である。 第4図は第2図の正面図である。 符号の説明 1・・・巻き出しロール、 2・・・非磁性支持体、 3・・・磁性塗料、 41.45.49−・・ロール、 5.5’−・・磁石、 51.51’ 、53.53’ 、55.55’・−磁
石単位、 511.511’−・・単位磁石、 6・・・乾燥炉 出願人 ティーディーケイ株式会社 0フ FIG、2
関係を示す底面図および平面図である。 第4図は第2図の正面図である。 符号の説明 1・・・巻き出しロール、 2・・・非磁性支持体、 3・・・磁性塗料、 41.45.49−・・ロール、 5.5’−・・磁石、 51.51’ 、53.53’ 、55.55’・−磁
石単位、 511.511’−・・単位磁石、 6・・・乾燥炉 出願人 ティーディーケイ株式会社 0フ FIG、2
Claims (3)
- (1)長尺の非磁性支持体上に、磁性粉とバインダーと
を含有する磁性塗料を塗布し、磁石によって磁界を印加
し、乾燥し、しかる後、ディスク状に打ち抜く磁気記録
媒体の製造方法において、支持体幅方向にそれぞれ同方
向の磁界を発生する第1および第2の磁石間を支持体が
通過するようにし、支持体の幅をl_0、第1および第
2の磁石の支持体幅方向の長さをl_1およびl_1′
、支持体長手方向の長さをl_2およびl_2′、支持
体厚さ方向の長さをl_3およびl_3′、支持体との
間隙をgおよびg′としたとき、 l_1=1.1l_0〜3.0l_0 l_1′=0.5l_1〜1.0l_1 l_2=0.1l_1〜0.7l_1 l_2′=0.5l_2〜1.0l_2 l_3=0.01l_1〜0.5l_1 l_3′=0.5l_3〜1.0l_3 g=0.1l_0〜2.0l_0 g′=0.1l_0〜2.0l_0 であることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - (2)g=g′、l_1=l_1′、l_2=l_2′
、l_3=l_3′である特許請求の範囲第1項に記載
の磁気記録媒体の製造方法。 - (3)支持体幅方向中央部での塗膜面における上記第1
および第2の磁石による磁界が10〜200Gである特
許請求の範囲第1項または第2項に記載の磁気記録媒体
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19664886A JPS6353720A (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19664886A JPS6353720A (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6353720A true JPS6353720A (ja) | 1988-03-08 |
Family
ID=16361269
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19664886A Pending JPS6353720A (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6353720A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008229884A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-02 | Nissei Plastics Ind Co | 射出成形機の型締装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59142751A (ja) * | 1983-02-04 | 1984-08-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造法 |
JPS61160835A (ja) * | 1985-01-09 | 1986-07-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法および装置 |
-
1986
- 1986-08-22 JP JP19664886A patent/JPS6353720A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59142751A (ja) * | 1983-02-04 | 1984-08-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造法 |
JPS61160835A (ja) * | 1985-01-09 | 1986-07-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法および装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008229884A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-02 | Nissei Plastics Ind Co | 射出成形機の型締装置 |
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