JP3170197B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、硬化処理後のバッ
クコート層をラッピングテープにより研磨処理する工程
を含む磁気記録媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】非磁性支持体の上に磁性層を備える磁気
記録媒体については、その走行性の改善を図るために、
非磁性支持体の裏面（磁性層形成側とは反対側）に、カ
ーボンブラック等の顔料を含有するバックコート層を形
成する旨の提案が以前より多くなされてきており、実際
に実用化されている。この一方で、磁性層の異物不良等
の欠陥によるドロップアウト（ＤＯ）発生の改善のため
に、磁性層の表面を研磨するクリーニング方法も提案さ
れ、実用に供されている。

【０００３】さらに近年、磁気テープに関しては、高密
度、低コスト、高信頼性への要求が一層高まってきてお
り、従来の磁性層の研磨処理とバックコート層の付与だ
けではこれらの要求、なかでも低コスト化とポリアセタ
ール（ＰＯＭ）等を使用した樹脂製ガイドを有するビデ
オカセットテープにおける走行性は、十分に満足できる
ものではなかった。特に、この走行性（信頼性）の改良
は強く望まれており、このような要求に応じるべく、さ
らに下記に示すようなバックコート層の研磨に関する技
術の提案がなされている。

【０００４】すなわち、特開平６−１５０３０６号公
報には、磁気テープの表面に研磨テープをバックアップ
ロールにより押し付けて摺接しながら、該表面を表面処
理する磁気記録媒体表面処理装置であって、研磨テープ
が研磨粉を有する多孔質材よりなり、かつ、該研磨テー
プに補足された塵埃を吸引する集塵機構を備える表面処
理装置の提案がなされている。また、特公平２−１９
８０２９号公報には、支持体と支持体上に形成した砥粒
層とからなり、支持体および砥粒層を貫通する多数の穴
を有する研磨部材と、研磨部材の砥粒層に被研磨面を接
触させた磁気記録媒体とを多孔質ガイドポストの曲面部
に巻付け、研磨材と磁気記録媒体とを接触走行させなが
ら研磨を行う研磨方法が提案されている。

【０００５】また、特開平１−２５８２２４号公報に
は、磁気記録媒体の表面を、表面粗さ（Ｒａ）が６００
ｎｍ以上の、回転する研磨ロールまたは所定の方向に搬
送される研磨テープにより研磨する方法が開示されてい
る。また、特開平２−２８１４１９号公報には、磁性
層を塗布・乾燥後、カレンダー処理を行い、その後他面
にバック層を塗布し、該バック層の表面を研磨し巻き取
り、その後サーモ処理（硬化処理）する方法が開示され
ている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
〜の方法においては、研磨対象となるバックコート層
表面の表面粗さ（Ｒａ）_B および、研磨物である砥粒層
の表面粗さ（Ｒａ）_L に関する検討が十分に行われてお
らず、バックコート層表面上に発生する傷、瞬間目詰
り、ＤＯ及び、走行性の改良（特に、ＰＯＭガイドに対
するトルクの改良）に対する総合的な対策が十分である
とは言えない。

【０００７】このような実状のもとに、本願発明は創案
されたものであって、その目的は、バックコート層表面
上に傷を発生させることなく、しかも瞬間目詰りの発
生、ＤＯに対する対策が十分で、かつ極めて優れた走行
性（特に、ＰＯＭガイドに対する低トルクの実現）を有
する磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために、本発明は、非磁性支持体の一方の面に磁性層
を有し、他方の面にバックコート層を有する磁気記録媒
体の製造方法において、磁性層形成用の磁性塗料および
バックコート層形成用の塗料をそれぞれ非磁性支持体に
塗設し、乾燥し、必要に応じてカレンダー処理した後、
硬化処理して、前記バックコート層表面の表面粗さ（Ｒ
ａ）_B を、１０ｎｍ〜３０ｎｍとし、しかる後、砥粒層
の表面粗さ（Ｒａ）_L が１５０ｎｍ〜５５０ｎｍのラッ
ピングテープを用いて、前記硬化処理後のバックコート
層の表面を研磨処理するように構成される。

【０００９】このような本発明においては、研磨対象と
なるバックコート層表面の表面粗さ（Ｒａ）_B および、
研磨物である砥粒層の表面粗さ（Ｒａ）_L が所定の範囲
に規定されているので、従来の技術では得ることができ
なかった磁気記録媒体、すなわち、バックコート層表面
上に傷を発生させることなく、しかも瞬間目詰りの発
生、ＤＯに対する対策が十分で、かつ極めて優れた走行
性（特に、ＰＯＭガイドに対する低トルクの実現）を有
する磁気記録媒体を製造することができる。

【００１０】さらに、本発明の課題を解決するためのよ
り好ましい態様として、バックコート層の表面を研磨
処理するラッピングテープの砥粒層に含有される研磨粒
子のモース硬度が９．０以上であること、バックコー
ト層の表面の研磨処理は、５０℃〜８０℃、１２〜４８
時間の熱硬化処理を施した後に行われるものであるこ
と、バックコート層の表面を研磨処理するとともに磁
性層の表面をも研磨処理すること、バックコート層の
表面を研磨処理した後に、研磨された面のクリーニング
（拭き取り）を行うこと、などが挙げられ、これらを満
足することにより本発明の課題の解決の成果が顕著なも
のとなる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、詳細に説明する。本発明の製造対象である磁気記録
媒体１の一例が図１に示される。この図に示されるよう
に磁気記録媒体１は、非磁性支持体５の一方の面５ａ上
に形成された磁性層６と、非磁性支持体５の他方の面５
ｂの上にバックコート層４を有している。そして、この
ような磁気記録媒体１の製造方法を説明するための概略
製造工程の一例が図２に示される。

【００１２】図２において、非磁性支持体５が巻かれて
いる繰出ロール１１を備える繰出装置が最上流側に位置
している。そして、この繰出ロール１１から下流側に向
かって、主装置として、磁性塗料の塗布装置（例えば、
エクストルージョンノズル２０）、バックコート層形成
用の塗料の塗布装置（例えば、エクストルージョンノズ
ル３０）、磁場配向装置４０、乾燥装置５０、カレンダ
ー加工装置６０、および巻取装置（図示していない）が
順次備えつけられている。

【００１３】そして、本発明の製造方法は図２に示され
るように、まず最初に、連続的に（矢印α方向に従っ
て）走行する非磁性支持体５の一方の面５ａ上に、塗布
装置（例えば、エクストルージョンノズル２０）を用い
て磁性層形成用の磁性塗料が塗布される。

【００１４】一般に、非磁性支持体５の表面は、塗料の
塗布前に、クリーニングおよび表面調整等の目的で、水
や溶剤等を使用する湿式クリーニング、不織布や極微細
繊維織物等をワイパーとして使用する乾式クリーニン
グ、圧搾空気やバキューム、イオン化空気等を使用する
非接触式クリーニング等の公知の種々の手段によって処
理がなされることが多い。さらに、非磁性支持体５の表
面は、塗料と非磁性支持体５との密着性や塗布面を向上
させる目的等で、コロナ放電、紫外線照射、電子線照射
等の公知の種々の非接触による表面処理を施されること
も多い。さらに、水系下塗り剤、エマルジョン系下塗り
剤、溶剤系下塗り剤等の下塗りが、前記の表面処理とあ
わせて、または単独で密着性の向上等を目的として行な
われることもある。

【００１５】このような磁性塗料の塗布後に、通常は、
次工程として非磁性支持体上に設層された磁性塗料のウ
エット膜面のスムージングや塗膜規制等に関する種々の
処理が行われても良い。スムージング手段としては、樹
脂、金属、セラミックス類のフィルムやバー等を接触さ
せたり、永久磁石、電磁石等による磁界や超音波による
振動等の非接触法等の公知の方法が使用できる。これら
は、要求特性によって単独で用いたりあるいは併用する
ことができる。

【００１６】このような磁性塗料の塗設後に、すぐに、
連続的に走行する非磁性支持体５の他方の面５ｂの上に
塗布装置（例えば、エクストルージョンノズル３０）を
用いてバックコート層形成用の塗料が塗布される。

【００１７】図２における塗布法においては、磁性塗料
とバックコート層形成用の塗料は概ね表裏同時に塗布さ
れる。この場合、塗布装置としては、上流側に位置する
塗布装置は、グラビアコート、リバースロールコート、
エクストルージョンノズル等の何れの装置であっても良
いが、下流側の塗布装置はエクストルージョンノズルを
用いる必要がある。また、非磁性支持体の表裏を全く同
時に塗布する場合（磁性塗料とバックコート層形成用の
塗料を表裏同時に塗布する場合）においては、両者とも
エクストルージョンノズルを使用する必要がある。

【００１８】このようにして磁性層形成用の磁性塗料と
バックコート層形成用の塗料とがそれぞれ非磁性支持体
５の上に塗布された後であって、磁性層形成用の磁性塗
料が未乾燥のうちに磁場配向装置の配向磁石４１，４１
によって磁界を作用させて磁場配向処理される（磁場配
向処理工程）。

【００１９】磁場配向処理は、図２に示されるように、
乾燥炉内にて配向磁石４１，４１の手前で、熱風吹き出
しノズル５３で塗膜を予備乾燥した後に、配向磁石４
１，４１で磁場配向処理をかけてもよい。なお、符号５
４は、配向磁石４１，４１の下流側に設置されている複
数の熱風吹き出しノズルを表している。また、配向磁石
は、図示のごとく１対に限定されることなく乾燥炉内で
多段に配置されてもよい。また、前段配向磁石（図示し
ていない）をエクストルージョンノズル３０と乾燥炉の
入り口の間に設置し、さらに後段配向磁石を乾燥炉内に
設置してもよい。

【００２０】さらに磁場配向処理に関して言えば、この
処理は、磁性層中の磁性粉を配向させるために行われる
のであるが、その配向方向は、媒体の走行方向に対し
て、長手方向であっても、垂直方向であっても、斜め方
向であってもよい。さらに、所定方向へ向けるためにフ
ェライト磁石や希土類磁石等の永久磁石、電磁石、ソレ
ノイド等の磁界発生手段が用いられる。これらの磁界発
生手段は複数併用してもよく、さらには乾燥後の配向性
が最も高くなるように、配向前に予め適度の乾燥工程を
設けたり、配向と同時に乾燥を行うようにしてもよい。

【００２１】このような磁場配向処理が行われた後、各
塗膜は、乾燥装置５０（乾燥炉）で乾燥される。図２に
示される乾燥装置５０の場合は、熱風吹き出しノズル５
３，５４から吹き出される熱風によって塗膜が乾燥され
るようになっているが、その他、遠赤外線、電気ヒータ
ー、真空装置等の公知の乾燥および蒸発手段によって、
または紫外線ランプや放射線照射装置等の公知の硬化装
置によって乾燥・固定するようにしてもよい。乾燥温度
は、室温〜３００℃程度までの範囲で、非磁性支持体の
耐熱性や溶剤種、濃度等によって適宜選定すればよく、
また乾燥炉内に温度勾配をもたせてもよく、乾燥炉内の
ガス雰囲気は、一般の空気または不活性ガス等を用いれ
ばよい。紫外線ランプや放射線照射装置によって乾燥を
行うときは、硬化反応が起こるので後加工を考慮した場
合は、可能な限り他の乾燥手段を利用する方がよい。ま
た、溶剤を含んだままで紫外線や放射線を照射すること
は、発火や発煙を伴うことがあるので、この場合にも可
能な限り他の乾燥手段を併用することが好ましい。

【００２２】このように磁場配向処理および乾燥処理さ
れた塗膜（磁性層およびバックコート層）は、次なるカ
レンダー加工装置６０にて、カレンダー加工される。こ
の実施の態様の場合、インラインにて連続的にカレンダ
ー加工が行われているがもちろんオフラインで行うこと
もできる。インラインにて、かつ磁性層およびバックコ
ート層を備えた状態でカレンダー加工することにより、
磁性層の表面加工性は格段と向上し、電磁変換特性等の
特性が向上する。また、インラインにて、連続処理する
ことにより、従来、磁性層は磁性層、バックコート層は
バックコート層というふうに別々にカレンダー加工処理
することにより発生していた塗布済の原反のロスを削減
することができるようになる。

【００２３】カレンダー加工を行うカレンダー加工装置
６０は、図２に示されるように、複数のカレンダーロー
ル６１，６２を一列に配列した状態で備えており、磁性
層が形成された非磁性支持体が、各カレンダーロールの
間を加圧・加熱されながら通過していく。図２に示され
るカレンダーロール６１は、磁性層表面と接する側に配
置されたロールであり、カレンダーロール６２は、非磁
性支持体の裏面（バックコート層が形成されている側）
と接する側に配置されたロールである。磁性表面と接す
る側のカレンダーロール６１は、通常金属ロールであ
り、非磁性支持体の裏面と接する側のカレンダーロール
４２は樹脂ロールあるいは金属ロールいずれでもよい。
樹脂ロールとしては、エポキシ、ポリエステル、ナイロ
ン、ポリイミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプ
ラスチックロール（カーボン、金属その他の無機化合物
を練り込んであるものでもよい）が用いられる。これら
のカレンダーロール６１，６２は、通常、３ないし７段
程度の組み合わせで用いられる（図２においては７段の
ロールが開示されている）。その処理温度は、好ましく
は７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上とされ、ま
た、ロール間で挟み込まれる線圧力は、好ましくは２０
０ｋｇ／ｃｍ以上、さらに好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ
以上とされる。また、その速度は、通常、２０ｍ／分〜
７００ｍ／分の範囲とされる。

【００２４】このようなカレンダー加工処理後、磁性
層、バックコート層の硬化を促進するための硬化処理が
行われる。特にバックコート層の硬化処理は、その後の
研磨処理（後述する）を確実かつ十分に行うために必ず
行われる。

【００２５】塗膜を硬化させる硬化処理としては、通
常、ロールに巻取った状態で行う加熱による熱硬化処理
や、通常、ロールに巻取る手前のライン上で行う電子線
または紫外線の照射による硬化処理が挙げられる。ロー
ルに巻取った状態で行う加熱による熱硬化処理は、５０
〜８０℃の温度で１２〜４８時間の処理条件で行なわれ
る。設定温度が５０℃未満では塗膜の硬化が十分に促進
されないという不都合が生じる。また、この温度が８０
℃を超えると、媒体を構成する支持体やバインダーのガ
ラス転移温度Ｔｇより高い温度設定となるために磁性層
とバックコート層とが互いに張り付いてしまうこと（い
わゆる、ブロッキング）があるといった不都合が生じ
る。また、処理時間が十分に確保されないと塗膜の硬化
が十分に促進されない。

【００２６】このようにバックコート層の塗膜の硬化が
不十分の状態で、バックコート層の研磨を行うと、本発
明の効果が低減されることがあるが、全く硬化を行わな
いものに比べると、十分に有効であるといえる。

【００２７】電子線の照射による硬化処理の条件として
は、加速電圧１００ｋＶ〜７５０ｋＶ、好ましくは１５
０ｋＶ〜３００ｋＶの電子線加速器を用い、吸収線量を
２０〜２００キログレイになるように照射するのが好都
合である。電子線の照射による硬化処理の場合、酸素濃
度が１％以下のＮ₂ 、Ｈｅ、ＣＯ₂ 等の不活性ガス雰囲
気中で電子線を照射することが重要である。これは電子
線照射により生じたＯ₃ 等がラジカルを捕捉するのを防
ぐためである。

【００２８】一方、紫外線の照射による硬化処理を行う
場合には、電子線硬化性樹脂を含有するバインダーのな
かに、公知の光重合増感剤を加えて、これに紫外線を照
射すればよい。紫外線の照射は、キセノン放電管、水素
放電管等の紫外線電球を用いればよい。

【００２９】このようにして硬化処理を完了した時点で
の磁気記録媒体のバックコート層表面の表面粗さ（Ｒ
ａ）_B は、１０ｎｍ〜３０ｎｍ、好ましくは、１３〜２
５ｎｍの範囲とされる（なお、（Ｒａ）_B の添字Ｂはバ
ックコート層を表す）。この値が、３０ｎｍを超える
と、後述の所定の研磨処理を行っても、研磨前の表面粗
さが大きいため研磨後においても表面粗さの凹凸部の変
化があまりみられず、いわゆるＰＯＭガイドにおけるト
ルク値があまり改善されない。さらに、研磨の際に発生
する研磨物の量が増えて、これが完全に拭き取りきれな
いといわゆる瞬間目詰まりの発生や、ＤＯ（ドッロプア
ウト）増加といった悪影響がでてしまう。また、この値
が１０ｎｍ未満となると、研磨によりバックコート層上
の突起物が必要以上に研磨されて耐久摩擦が上昇してし
まうという問題が生じる。さらに、研磨によるバックコ
ート層表面の傷の発生や、傷によるＤＯの増加という問
題も生じてしまう。

【００３０】このような所定範囲の表面粗さ（Ｒａ）_B
を有するバックコート層を形成するには、バックコート
層４中に含有させるカーボンブラックの粒径、非磁性支
持体５の表面性、塗布条件、乾燥条件、およびカレンダ
ー条件等を適宜調整して行えばよい。

【００３１】次いで、このようなバックコート層４を備
える磁気記録媒体原反は、スリッタで所定のテープ形状
等に加工されながら、あるいは加工後に、バックコート
層４の表面が研磨処理される。バックコート層４の表面
の研磨処理は、磁気記録媒体の製造工程におけるバック
コート層形成時に生じた突起物や付着物を研削し、除去
することにより良好な走行性やＤＯを得ることを目的に
している。しかしながら、ある範囲の表面状態を満たさ
ないバックコート層を有する研磨処理前の媒体は、研磨
処理することによりかえって悪影響を及ぼすことが本願
発明者により究明されたのである。

【００３２】研磨処理の具体的方法を図３および図４に
基づいて説明する。図３は、いわゆるラッピングテープ
の断面図を示したものであり、ラッピングテープ１３
は、可撓性支持体１５の上に砥粒層１４を備えており、
この砥粒層４の表面粗さ（Ｒａ）_L は、１５０ｎｍ〜５
５０ｎｍの範囲に設定される（なお、（Ｒａ）_L の添字
Ｌはラッピングテープを表す）。この値が５５０ｎｍを
超えると砥粒層４の表面粗さが大きいために、バックコ
ート層４の表面に傷を与えることが多くなり、ＤＯの増
加につながってしまう。また、この値が、１５０ｎｍ未
満となると、バックコート層の表面粗さ（Ｒａ）_B との
関係で研磨の能力が低下してしまい、いわゆるＰＯＭガ
イドにおけるトルク値やＤＯがあまり改善されないとい
う不都合が生じる。従って、前記バックコート層の表面
粗さ（Ｒａ）_B との関係とも相まって、砥粒層１４の表
面粗さ（Ｒａ）_L を、１５０ｎｍ〜５５０ｎｍにするこ
とによって、バックコート層４の表面に傷の発生をさせ
ることなく、ＤＯ、瞬間目詰まり、および走行性（特に
ＰＯＭガイドにおけるトルク値）の良好な磁気記録媒体
が提供できる。

【００３３】このようなラッピングテープ１３の可撓性
支持体１５としては、通常、ポリエステル類が用いられ
る。可撓性支持体１５の厚さは、通常、１０〜５０μｍ
程度とされる。砥粒層１４は、研磨粒子及びバインダー
を主成分として形成され、研磨粒子は、α−Ａｌ₂ Ｏ
₃ 、Ｃｒ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＣ等のモース硬度が９以上のもの
を用いることが好ましい。モース硬度が９未満の場合、
研磨効果が不十分となりやすく本願の効果が得にくくな
る。砥粒層１４の厚さは通常、３〜８μｍ程度とされ
る。

【００３４】具体的研磨の状態が図４に示される。この
図に示されるように棒状の支持ピン９０（断面は図示の
ごとく円形状）の上にはラッピングテープ１３がその裏
面（可撓性支持体１５）を接触角度θ_L で接触させた状
態で矢印（ａ）方向に走行されており、このラッピング
テープ１３の上には磁気記録媒体１がそのバックコート
層４を接触角度θ_B で接触させた状態で矢印（ｂ）方向
に走行される。つまりラッピングテープ１３の砥粒層１
４表面と磁気記録媒体１のバックコート層４とは向流接
触しつつ走行され、研磨処理が行われているのである。
ラッピングテープ１３の走行方向（ａ）は、図示例のご
とく磁気記録媒体１の走行方向（ｂ）と逆とするのが効
率面から考えれば好適である。しかし、ラッピングテー
プ１３の走行方向を磁気記録媒体１の走行方向と同じ方
向としても良い。要は、走行するラッピングテープ１３
と磁気記録媒体１との相対速度が所定の範囲で確保でき
ればよいのである。

【００３５】ＤＯ、瞬間目詰り及び対ＰＯＭガイドトル
クの安定化のために、また、バックコート層４とラッピ
ングテープ１３とのとの間の接触走行が高速になったと
きのエアーが巻き込まれないために、お互いの接触圧力
は十分に大きくする必要がある。そのために、支持ピン
９０の直径を小さくし、バックコート層４とラッピング
テープ１３との接触面積を小さくすることにより均一且
つ研磨能力の高い研磨方法可能となる。

【００３６】そのために支持ピン９０の直径は、５ｍｍ
以下、特に１〜３ｍｍとされる。

【００３７】また、上記接触角度θ_L と上記接触角度θ
_B との関係は、常に、θ_B ＜θ_L であり、接触角度θ_L
の範囲は、１０°〜１２０°、好ましくは、２０°〜１
１０°である。また、接触角度θ_B の範囲は、１０°〜
９０°、好ましくは、２０°〜８０°である。これらの
範囲を外れる場合、すなわち、接触面積が大きくなり過
ぎた場合には、研磨効果が低下し、対ＰＯＭトルクが改
善されなくなるし、接触面積が小さくなり過ぎた場合に
は、過度の研磨によりバックコート層の表面に傷が発生
させてしまうという不都合が生じる。

【００３８】研磨処理に際して、ラッピングテープ１３
を停止させたままであったり、間欠的に走行させること
は、ラッピングテープ１３の表面性が研磨時間によって
変化するため、バックコート層表面の長さ方向の研磨ム
ラ（研磨過剰部分と研磨不足部分）が発生し、本発明の
効果であるバックコート層表面の傷の発生の減少やＰＯ
Ｍガイドへのトルク改善が一様でなくなるおそれがあ
る。

【００３９】個別的には、ラッピングテープ１３の走行
速度は、２０〜１５０ｍｍ／ｍｉｎ、好ましくは、５０
〜１００ｍｍ／ｍｉｎ、それにかかる張力は、２０〜３
００ｇ／（1/2インチ) 、好ましくは、３０〜２００ｇ／
（1/2インチ) とされる。また、磁気記録媒体１の走行速度
は、１００〜７００ｍ／ｍｉｎ、好ましくは、２００〜
６００ｍ／ｍｉｎ、それにかかる張力は、１００〜５０
０ｇ／（1/2インチ) 、好ましくは、１５０〜４００ｇ／
（1/2インチ) とされる。

【００４０】このような研磨処理の回数は、１〜４回程
度が好ましく、回数が増えるにつれてラッピングテープ
１３の砥粒層１４は、上記の範囲内でより平滑なものを
用いるのがよい。研磨処理の回数を増やすには、ライン
中に図４に示されるような支持ピン９０を備える処理工
程を直列に配置していくつ（通常は、上記のごとく４個
以内）も設ければよい。

【００４１】このようにしてラッピングテープ１３によ
るバックコート層４表面の研磨が行われた後はバックコ
ート層４表面の拭き取り処理を施すことが望ましい。バ
ックコート層表面の研磨の後、拭き取り処理を施すこと
により、研磨処理の際に発生する研削クズがバックコー
ト層４に付着しても拭き取れ、ＤＯや瞬間目詰りがより
安定する。

【００４２】拭き取りの材料は、例えば、日本バイリー
ン社製の＃４０００ＣＲ、旭化成工業社製のベンリーゼ
ＴＳ５０７、東レ社製のミラクレーションテープ＃５２
００２ＴＲ等を挙げることができる。

【００４３】なお、上記図２に示される製造方法におい
ては、磁性塗料を先に塗布した後に、バックコート層形
成用塗料を塗布しているが、この塗布順序は逆であって
もよいし、全く同時であってもよい。また、研磨処理前
における、磁性層およびバックコート層の形成方法につ
いては特に制限はなく、公知の種々の手法が用いられ得
る。例えば、磁性塗料を塗布し、塗膜を乾燥、カレンダ
ー処理し、その後に、バックコート層形成用塗料を塗布
し、この塗膜を乾燥、カレンダー処理して、一旦巻き取
った後に、塗膜の硬化処理をし、しかる後、本発明に言
う研磨処理を行ってもよいのである。

【００４４】このような研磨処理を行った後の媒体のバ
ックコート層表面の表面粗さ、具体的には１０点表面粗
さ（Ｒ_Z ）の値は、８０〜２１０ｎｍであることが好ま
しい。この値が、８０ｎｍ未満となると、耐久走行にお
ける摩擦が上昇するという不都合が生じ、またこの値が
２１０ｎｍを超えると、ＰＯＭガイドに対するトルクが
上昇するという不具合が生じる。

【００４５】次に、本発明に用いられる磁性層形成用の
磁性塗料およびバックコート層形成用の塗料について説
明する。

【００４６】磁性塗料中には、磁性粉、バインダー等が
含有される。

【００４７】磁性粉としては、γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｃｏ含
有γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、Ｃｏ含有Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、
ＣｒＯ₂ 、バリウムフェライト、ストロンチウムフェラ
イト等の酸化物微粉末やＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉあるいはこれ
らの合金微粉末等の公知の磁性粉末から目的に応じて適
当なものを選択すれば良く、特に制限はない。形状は、
針状、紡錘状、粒状、板状等、通常用いられている形状
であれば特に制限はない。平均長径、平均軸比等につい
ても、通常用いられている範囲であれば特に制限はな
い。

【００４８】バインダーについては、熱可塑性樹脂、熱
硬化性樹脂、反応型樹脂もしくはこれらの混合物等のい
ずれであっても良い。これらのうちで樹脂成分として
は、塩化ビニル系樹脂及びポリウレタン系樹脂を組み合
わせて使用することが好ましい。特に、塩化ビニル系樹
脂とポリウレタン系樹脂との重量混合比が４０：６０〜
８０：２０となるように混合して用いることが好まし
い。バインダーの含有量は、磁性粉１００重量部に対し
て５〜４０重量部、特に１０〜３０重量部が好ましい。

【００４９】磁性塗料中には、通常、架橋剤が含有さ
れ、架橋剤としては、各種ポリイソシアネート、ジイソ
シアネートを用いることができ、特にトリレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレン
ジイソシアネートの１種以上が好ましい。これらの架橋
剤は、トリメチロールプロパン等の水酸基を複数有する
ものに変性した架橋剤または、ジイソシアネート化合物
３分子が結合したイソシアヌレート型の架橋剤として用
いることが特に好ましい。このような架橋剤の含有量
は、バインダー１００重量部に対して１０〜４０重量部
が好ましい。

【００５０】また、磁性層の機械的強度を高めるため
に、α−Ａｌ₂ Ｏ₃ 、Ｃｒ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＣ、ＴｉＯ₂ 、
α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 等の無機微粒子を含有させることが好ま
しい。また、カーボンブラック等の帯電防止剤、脂肪酸
や脂肪酸エステル等の潤滑剤、分散剤を含有させても良
い。

【００５１】磁性層形成用の磁性塗料は、上記成分に有
機溶剤を加えて調整する。用いる有機溶剤は、特に制限
はなくメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノン等のケトン系溶剤やトルエン等の芳香
族系溶剤等の各種溶剤の１種または２種以上を適宜選択
して用いれば良い。有機溶剤の添加量は、固形分（磁性
粉末や各種無機粒子等）とバインダーとの合計量１００
重量部に対し１００〜９００重量部程度とすれば良い。

【００５２】磁性塗料を製造する工程は、少なくとも混
練工程、分散工程を有し、これらの工程前後に必要に応
じて混合工程、粘度調整工程及び濾過工程が付加され
る。

【００５３】このような磁性層形成用の磁性塗料を用い
て塗設後形成される磁性層の厚さは、０. １〜５μｍの
範囲内になるように設定される。

【００５４】次に、バックコート層形成用の塗料につい
て説明する。

【００５５】バックコート層は、本来、磁気記録媒体の
走行安定性の改善、導電性や遮光性を良くするために設
けられている。そのために、バックコート層形成用の塗
料中には、カーボンブラックを含有させることが好まし
い。その含有量は、最終的に３０〜８０重量％のカーボ
ンブラックがバックコート層中に含まれるように配合す
ることが好ましい。この範囲を外れた場合、すなわち、
３０重量％未満または８０重量％を超える場合は、バッ
クコート層の表面粗さ（Ｒａ）_B を１０〜３０ｎｍの範
囲内にすることが困難となる。カーボンブラックは、通
常使用されるものであればどのようなものであっても良
いが、その平均粒径は１０〜４００ｎｍのものが好まし
い。この範囲を外れた場合、すなわち、１０ｎｍ未満ま
たは４００ｎｍを超える場合は、バックコート層の表面
粗さ（Ｒａ）_B を１０〜３０ｎｍの範囲内にすることが
困難となる。

【００５６】バックコート層形成用の塗料中には、前記
カーボンブラック以外に機械的強度を高めるために、前
述した磁性層に用いられるのと同様な各種研磨材等の非
磁性無機粉末を含有させても良い。非磁性無機粉末の平
均粒径は、０. １〜０. ５μｍであることが好ましい。
この値が、０. １μｍ未満または０. ５μｍを超える場
合は、バックコート層の表面粗さ（Ｒａ）_B を１０〜３
０ｎｍの範囲内にすることが困難となる。このような非
磁性無機粉末の含有量は、カーボンブラック１００重量
部に対し、好ましくは０. １〜５重量部、より好ましく
は０. ２〜２重量部が良い。

【００５７】バックコート層形成用の塗料中に用いられ
るバインダー、架橋剤、有機溶剤等は、前述した磁性層
に用いられるものと同様のもので良い。バインダーの含
有量は、固形分の合計１００重量部に対し、好ましくは
１５〜２００重量部、より好ましくは５０〜１８０重量
部が良い。架橋剤の含有量は、バインダー１００重量部
に対し１０〜４０重量部が良い。有機溶剤の添加量は、
固形分とバインダーとの合計量１００重量部に対し３０
０〜１２００重量部程度とすれば良い。

【００５８】バックコート層形成用の塗料中には、この
他に必要に応じて脂肪酸や脂肪酸エステル等の潤滑剤、
分散剤、その他の各種添加物を加えても良い。

【００５９】なお、磁性層と同様に従来公知である製造
方法を用いてバックコート層形成用の塗料は調整され
る。このようなバックコート層形成用の塗料を用いて塗
設後形成されるバックコート層の厚さは、０. ２〜１.
０μｍの範囲内になるように設定される。

【００６０】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。

【００６１】下記の要領で磁性層形成のための磁性塗
料、およびバックコート層形成のための塗料をそれぞれ
作製して準備した。

【００６２】 磁性塗料の作製 ・Ｃｏ含有γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ （比表面積（ＢＥＴ値）３５．０ｍ²/ｇ ) …１００重量部 ・塩化ビニル系樹脂（日本ゼオン社製 MR-110） … １２重量部 ・ポリウレタン系樹脂（日本ポリウレタン工業社製：Ｎ−２３０４） … ８重量部 ・カーボンブラック … ３重量部 ・α−Ａｌ₂ Ｏ₃ （住友化学社製：ＨＩＴ−５０） … ３重量部 ・Ｃｒ₂ Ｏ₃ （日本化学工業社製：Ｓ−１） … ２重量部 ・脂肪酸 …１．２重量部 ・脂肪酸エステル …０．５重量部 ・メチルエチルケトン …１００重量部 ・メチルイソブチルケトン … ２０重量部 ・トルエン …１００重量部 ・シクロヘキサノン … ５０重量部 このような磁性層形成用の磁性塗料は、加圧ニ−ダにて
十分に混練処理を行った後、サンドグラインドミルにて
分散を行い、有機溶剤による希釈後、ポリイソシアネー
ト（日本ポリウレタン社製、コロネートＬ）を１５重量
部添加して調整することによって作製した。

【００６３】 バックコート層形成のための塗料の作製 ・カーボンブラック（三菱化学社製：＃４７Ｂ） …１００重量部 ・カーボンブラック（コロンビアンカーボン社製：セバカーブＭＴ−ＣＩ） … １重量部 ・塩化ビニル系樹脂 … ５０重量部 ・ポリウレタン系樹脂（日本ポリウレタン工業社製：Ｎ−２３０４） … ５０重量部 ・α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ （戸田工業社製：ＴＦ−１００） … １重量部 ・脂肪酸 … ３重量部 ・脂肪酸エステル … １重量部 ・メチルエチルケトン …５５０重量部 ・メチルイソブチルケトン …１５０重量部 ・トルエン …６００重量部 ・シクロヘキサノン …２００重量部 このようなバックコート形成用の塗料は、加圧ニ−ダに
て十分に混練処理を行った後、サンドグラインドミルに
て分散を行い、有機溶剤による希釈後、ポリイソシアネ
ート（日本ポリウレタン社製、コロネートＬ）を１５重
量部添加して調整することによって作製した。

【００６４】このような塗料を準備した後、これらの塗
料を用いて実際に下記の要領で実験を行った。

【００６５】磁気記録媒体サンプルの作製 図２に示されるように連続的に走行する厚さ１３．１μ
ｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）支持体の一
方の面上に、上記磁性塗料をエクストルージョンノズル
２０より吐出して、磁性層形成のための塗膜を連続的に
形成するとともに、バックコート層形成のための塗料を
支持体の他方の面上にエクストルージョンノズル３０よ
り吐出してバックコート層形成のための塗膜を連続的に
形成した。そして、この磁性層およびバックコート層を
それぞれ熱風吹き出しノズル５３で予備乾燥した後、磁
性層が未乾燥のうちに配向磁石４１，４１を通過させる
ことにより走行方向に磁性粉を配向（磁気記録媒体の走
行方向に４０００Ｇの配向磁界をかける）させながら各
塗膜の乾燥を行い磁性層およびバックコート層を形成し
た。そして、両層の表面をカレンダー処理した後、乾燥
後の塗膜を有する支持体を一旦巻き取って、７０℃で２
４時間の熱硬化処理を行った。しかる後、１／２インチ
幅にスリット（速度：４００ｍ／ｍｉｎ、張力２００ｇ
／1/2インチ）する工程において、スリット処理しつつ、バ
ックコート層の表面をラッピングテープで研磨処理して
磁気記録媒体を作製した。なお、磁性層の厚さは２．０
μｍ、バックコート層の厚さは０．５μｍとした。

【００６６】このような磁気記録媒体の製造方法に際し
て、バックコート層の表面の表面粗さ（Ｒａ）_B および
ラッピングテープの砥粒層の表面粗さ（Ｒａ）_L を下記
の実施例のごとく種々ののものを用意し、これらの種々
の組み合わせをもってバックコート層表面を研磨処理す
ることによって下記に示すような種々の磁気記録媒体サ
ンプルを作製した。

【００６７】（実施例１）研磨処理前のバックコート層
の表面粗さ（Ｒａ）_B が２０ｎｍである磁気記録媒体
を、砥粒層の表面粗さ（Ｒａ）_L が３００ｎｍのラッピ
ングテープを用いて、図４に示される要領で研磨処理を
連続２回行い、この研磨処理の後に拭き取り処理を行い
実施例１の磁気記録媒体サンプルを作製した。

【００６８】なお、研磨処理は上述したようにスリット
工程のなかで行った。また、ラッピングテープの砥粒層
の研磨粒子は粉砕タイプのα−Ａｌ₂ Ｏ₃ （モース硬
度：９．０）を使用し、砥粒層の厚さは５μｍとした。
また、砥粒層が形成される可撓性支持体としては、厚さ
２５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を使
用した。また、研磨処理において用いた支持ピンは直径
２ｍｍのものであり、ラッピングテープおよび磁気記録
媒体の接触角度は（θ_L およびθ_B は）、それぞれ６０
°および３０°とした。ラッピングテープの走行方向
は、磁気記録媒体のそれと逆であり、ラッピングテープ
速度５８ｍｍ／ｍｉｎ、張力６０ｇ／（1/2インチ) とし
た。なお、研磨処理の後の拭き取りは、東レ社製ミラク
レーションテープ＃５２００２ＴＲを用いて行った。な
お、本実施例では、バックコート層の研磨処理と同時に
磁性層の研磨処理も同一ラインの中で行った。磁性層の
研磨処理はバックコート層の研磨処理とは別の位置で、
しかも巻き取りが行われる手前で併せて行なった。研磨
処理条件はバックコート層および磁性層ともに同じ条件
とした。

【００６９】（実施例２および３）砥粒層の表面粗さ
（Ｒａ）_L を、それぞれ、１５０ｎｍ、５５０ｎｍとし
た。それ以外は上記実施例１と同様にして実施例２およ
び３のサンプルを作製した。

【００７０】（実施例４〜６）バックコート層の表面粗
さ（Ｒａ）_B を、１０ｎｍとし、砥粒層の表面粗さ（Ｒ
ａ）_L を、それぞれ、１５０ｎｍ、３００ｎｍ、５５０
ｎｍとした。それ以外は上記実施例１と同様にして実施
例４〜６のサンプルを作製した。

【００７１】（実施例７〜９）バックコート層の表面粗
さ（Ｒａ）_B を、３０ｎｍとし、砥粒層の表面粗さ（Ｒ
ａ）_L を、それぞれ、１５０ｎｍ、３００ｎｍ、５５０
ｎｍとした。それ以外は上記実施例１と同様にして実施
例７〜９のサンプルを作製した。

【００７２】（実施例１０および１１）バックコート層
の表面粗さ（Ｒａ）_B を、それぞれ、２５ｎｍおよび１
３ｎｍとし、砥粒層の表面粗さ（Ｒａ）_L を、５００ｎ
ｍとした。それ以外は上記実施例１と同様にして実施例
１０および１１のサンプルを作製した。

【００７３】（実施例１２および１３）バックコート層
の表面粗さ（Ｒａ）_B を、それぞれ、２５ｎｍおよび１
３ｎｍとし、砥粒層の表面粗さ（Ｒａ）_L を、２５０ｎ
ｍとした。それ以外は上記実施例１と同様にして実施例
１２および１３のサンプルを作製した。

【００７４】（実施例１４および１５）上記実施例１に
おいて、砥粒層の研磨粒子をα−Ａｌ₂ Ｏ₃ から、Ｓｉ
Ｃ（（モース硬度：９．５）実施例１４）およびＣｒ₂
Ｏ₃ （（モース硬度：９．０）実施例１５）にそれぞれ
変えた。それ以外は上記実施例１と同様にして実施例１
４および１５のサンプルを作製した。

【００７５】（実施例１６〜１９）上記実施例１におい
て、磁気記録媒体サンプルの作製時の熱硬化処理条件を
７０℃２４時間から、７０℃１２時間（実施例１６）、
７０℃４８時間（実施例１７）、５０℃２４時間（実施
例１８）、８０℃２４時間（実施例１９）にそれぞれ変
えた。それ以外は上記実施例１と同様にして実施例１６
〜１９のサンプルを作製した。

【００７６】（実施例２０）上記実施例１において、研
磨処理後の拭き取り処理を行わなかった。それ以外は上
記実施例１と同様にして実施例２０のサンプルを作製し
た。

【００７７】（実施例２１および２２）上記実施例１に
おいて、磁性層とバックコート層の研磨処理を同一ライ
ンで同時に行うのではなく、磁性層を先に研磨処理した
ものを一旦巻き取り、その後にバックコート層を研磨処
理したもの（実施例２１）、バックコート層を先に研磨
処理したものを一旦巻き取り、その後に磁性層を研磨処
理したもの（実施例２２）に変えた。それ以外は、上記
実施例１と同様にして実施例２１および２２のサンプル
を作製した。

【００７８】（実施例２３）上記実施例１において、研
磨処理をバックコート層のみに行った。それ以外は上記
実施例１と同様にして実施例２３のサンプルを作製し
た。

【００７９】（比較例１〜３）バックコート層の表面粗
さ（Ｒａ）_B を、８ｎｍとし、砥粒層の表面粗さ（Ｒ
ａ）_L を、それぞれ、１００ｎｍ、３００ｎｍ、６００
ｎｍとした。それ以外は上記実施例１と同様にして比較
例１〜３のサンプルを作製した。

【００８０】（比較例４および５）バックコート層の表
面粗さ（Ｒａ）_B を、２０ｎｍとし、砥粒層の表面粗さ
（Ｒａ）_L を、それぞれ、１００ｎｍ、６００ｎｍとし
た。それ以外は上記実施例１と同様にして比較例４およ
び５のサンプルを作製した。

【００８１】（比較例６〜８）バックコート層の表面粗
さ（Ｒａ）_B を、３３ｎｍとし、砥粒層の表面粗さ（Ｒ
ａ）_L を、それぞれ、１００ｎｍ、３００ｎｍ、６００
ｎｍとした。それ以外は上記実施例１と同様にして比較
例６〜８のサンプルを作製した。

【００８２】（比較例９）研磨処理を行わなかった。そ
れ以外は、上記実施例１と同様にして比較例９のサンプ
ルを作製した。

【００８３】（比較例１０）上記実施例１において、砥
粒層の研磨粒子をα−Ａｌ₂ Ｏ₃ から、α−Ｆｅ₂Ｏ₃
（モース硬度：５．５）に変えた。それ以外は上記実施
例１と同様にして比較例１０のサンプルを作製した。

【００８４】（比較例１１）上記実施例１において、磁
気記録媒体サンプルの作製時の熱硬化処理（７０℃２４
時間）を行わなかった。それ以外は上記実施例１と同様
にして比較例１１のサンプルを作製した。

【００８５】（比較例１２〜１４）上記実施例１におい
て、磁気記録媒体サンプルの作製時の熱硬化処理条件を
７０℃２４時間から、７０℃６時間（比較例１２）、３
５℃２４時間（比較例１３）、９０℃２４時間（比較例
１４）にそれぞれ変えた。それ以外は上記実施例１と同
様にして比較例１２〜１４のサンプルを作製した。

【００８６】なお、バックコート層の表面粗さ（Ｒａ）
_B 、および砥粒層の表面粗さ（Ｒａ）_L は、それぞれ下
記の要領で測定を行った。

【００８７】 表面粗さ（Ｒａ）_B ，（Ｒａ）_L 測定機 テーラーホブソン社製ＴＡＬＹＳＴＥＰシステム 測定方法 ＪＩＳ・Ｂ・０６０１に基づく 測定条件 フィルター条件：０. １８〜９Ｈｚ 触針 ：０. １×２. ５μｍ特殊スタイラス 触針圧 ：２ｍｇ 測定スピード ：０. ０３ｍｍ／ｓｅｃ 測定長さ ：５００μｍ 上記の各サンプル（実施例サンプル１〜２３、比較例サ
ンプル１〜１４）について、『バックコート層表面傷の
発生』、『ＤＯ（ドロップアウト）』、『瞬間目詰
り』、『対ＰＯＭガイドトルク』および『耐久摩擦係
数』を測定した。

【００８８】測定方法は、以下のとおりである。

【００８９】バックコート層表面傷の発生 研磨処理後、磁気記録媒体のバックコート層表面を２ｍ
の長さにわたって目視で観察し、傷の本数を数えた。傷
の程度から下記の基準で４段階評価を行った。

【００９０】 ◎…傷の発生本数 ０〜１本 ○…傷の発生本数 ２〜５本 △…傷の発生本数 ６〜１０本 ×…傷の発生本数 １０本より多い ＤＯ（ドロップアウト） 測定機 日本ビクター社製ＶＴＲ：ＢＲ−７０００Ａ シバソク社製ドロップアウトカウンター：ＶＨＯ１ＢＺ 測定条件 入力信号 ：５０％ホワイト信号 ＷＩＤＴＨ：１５μｓｅｃ ＤＥＰＴＨ：１６ｄＢ 測定時間 ：１６０ｍｉｎ 上記の測定機を用い上記の測定条件で、１分間当たりの
発生個数を測定した。

【００９１】 瞬間目詰り 測定機 松下電器産業社製ＶＴＲ：ＮＶ−ＦＳ８００ 横河電機社製レコーダー：ＴＹＰＥ−３０５７ 測定条件 ヘッド突き出し量 ：１０μｍ ヘッドクリーニング機構：なし 測定方法 各実施例、比較例の磁気記録媒体（１６０分用ビデオテープ） をそれぞれ１０巻投入準備し、１〜１０巻目まで連続して録画 、再生を行い、再生時のＲＦ出力変動をレコーダーに記録する 。１〜１０巻目までそれぞれのＲＦ出力低下（初期出力に対し −３. ０ｄＢ未満で１５秒間以内の低下を瞬間目詰りとする） の発生個数について、下記の基準で４評価を行った。

【００９２】 ◎…瞬間目詰り発生個数 発生しない ○…瞬間目詰り発生個数 １〜５個 △…瞬間目詰り発生個数 ６〜１０個 ×…瞬間目詰り発生個数 １１個以上または目詰り（１
５秒以上ＲＦ出力低下またはＲＦ出力低下後復帰しな
い）の発生 対ＰＯＭガイドトルク 測定機 日本ビクター社製ＶＴＲ：ＢＲ−Ｓ６０５Ｂ 菊水電子工業社製直流電源：ＰＡＢ１８−１Ａ 東日製作所社製トルクゲージ 測定条件 ビデオテープカセット：ポリアセタール（ＰＯＭ）樹脂テープ ガイドのものを使用 テープ長さ ：３３０ｍ（１６０分用ビデオテープ） トルク測定部分 ：ＶＴＲで頭から１分間再生で送ったと ころのＲＥＷ（静）トルクを測定する 測定方法 直流電源を用いてＶＴＲのＲＥＷモーターの電圧を変えること によりＲＥＷトルクを変えさせることができる。上記の測定条 件において、ＲＥＷトルクを変えることにより各実施例、比較 例のサンプルが完全に巻き戻るときの最小のトルク値を対ＰＯ Ｍガイドトルクとした。トルク値が２６０ｇ_f ・ｃｍを超える と、ＶＴＲで走行停止の発生率が高くなる。

【００９３】 耐久摩擦係数 測定機 横浜測定機社製：シュウシャイン摩擦測定機 測定条件 テープ走行速度 ：１. １１ｃｍ／ｓｅｃ 走行面の巻き付き角：１８０° 繰り返し走行回数 ：１００回 耐久摩擦係数（μ）＝（１／θ）ｌｏｇ（Ｘ／Ｘ₀ ）で
算出される。ただし、θ＝π（ｒａｄ）、Ｘ₀ ：荷重４
０（ｇ）、Ｘ：１００回走行後の測定値である。耐久摩
擦係数が０. ２０を超えると、ＶＴＲで走行不良の発生
率が高くなる。

【００９４】これらの各評価の結果を下記表１および表
２に示す。

【００９５】

【表１】

【００９６】

【表２】

【００９７】

【発明の効果】上記の結果より本発明の効果は明らかで
ある。すなわち、本発明では、磁性層形成用の磁性塗料
およびバックコート層形成用の塗料をそれぞれ非磁性支
持体の両面に塗設し、乾燥し、必要に応じてカレンダー
処理した後、硬化処理して、前記バックコート層表面の
表面粗さ（Ｒａ）_B を、１０ｎｍ〜３０ｎｍのとし、し
かる後、砥粒層の表面粗さ（Ｒａ）_L が１５０ｎｍ〜５
５０ｎｍのラッピングテープを用いて、前記硬化処理後
のバックコート層の表面を研磨処理するようにように構
成している。さらに、好ましい態様として砥粒層に含有
される研磨粒子のモース硬度を所定の範囲に設定し、さ
らに硬化処理の条件も所定の範囲に定めている。従っ
て、バックコート層表面上に傷を発生させることなく、
しかも瞬間目詰りの発生、ＤＯに対する対策が十分で、
かつ極めて優れた走行性（特に、ＰＯＭガイドに対する
低トルクの実現）を有する磁気記録媒体を製造すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の製造方法の対象物である磁気記録媒体
の一例を模式的に示した断面図である。

【図２】本発明の製造方法の一例（途中部分まで）を模
式的に示した工程フロー図である。

【図３】本発明の製造方法に用いられるラッピングテー
プの一例を模式的に示した断面図である。

【図４】本発明における研磨処理の状態を説明するため
の断面図である。

【符号の説明】 １…磁気記録媒体 ４…バックコート層 ５…非磁性支持体 ６…磁性層 １３…ラッピングテープ １４…砥粒層 １５…可撓性支持体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−52544（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−52541（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G11B 5/84 G11B 5/70

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体の一方の面に磁性層を有
   し、他方の面にバックコート層を有する磁気記録媒体の
   製造方法において、 磁性層形成用の磁性塗料およびバックコート層形成用の
   塗料をそれぞれ非磁性支持体に塗設し、乾燥し、必要に
   応じてカレンダー処理した後、硬化処理して、前記バッ
   クコート層表面の表面粗さ（Ｒａ）_B を、１０ｎｍ〜３
   ０ｎｍとし、 しかる後、砥粒層の表面粗さ（Ｒａ）_L が１５０ｎｍ〜
   ５５０ｎｍのラッピングテープを用いて、前記硬化処理
   後のバックコート層の表面を研磨処理してなる磁気記録
   媒体の製造方法。
2. 【請求項２】 前記砥粒層に含有される研磨粒子のモー
   ス硬度が９．０以上である請求項１記載の磁気記録媒体
   の製造方法。
3. 【請求項３】 前記硬化処理が、５０〜８０℃、１２〜
   ４８時間の条件で行なわれる熱硬化処理である請求項１
   または請求項２記載の磁気記録媒体の製造方法。
4. 【請求項４】 前記研磨処理後、拭き取り処理が行なわ
   れる請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の磁気記
   録媒体の製造方法。