JPS6381122A - 新規ポリチタノシラザン及びその製造方法 - Google Patents
新規ポリチタノシラザン及びその製造方法Info
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- JPS6381122A JPS6381122A JP22379086A JP22379086A JPS6381122A JP S6381122 A JPS6381122 A JP S6381122A JP 22379086 A JP22379086 A JP 22379086A JP 22379086 A JP22379086 A JP 22379086A JP S6381122 A JPS6381122 A JP S6381122A
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Landscapes
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規ポリチタノシラザンの製造方法に係る。こ
のポリチタノシラザンを前駆体として得られる5t−T
i−N−0−系セラミックスは耐熱・高硬度材料あるい
は複合材料の強化材として有用であり、化学・金属、航
空・宇宙、機械・精密、自動車産業での広範な利用が期
待される。
のポリチタノシラザンを前駆体として得られる5t−T
i−N−0−系セラミックスは耐熱・高硬度材料あるい
は複合材料の強化材として有用であり、化学・金属、航
空・宇宙、機械・精密、自動車産業での広範な利用が期
待される。
分子内にケイ素−酸素一チタン結合を有し、かつ/また
は窒素原子とチタンアルコキシドが縮合したポリチタノ
シラザンについては、従来知られていない。
は窒素原子とチタンアルコキシドが縮合したポリチタノ
シラザンについては、従来知られていない。
類似の化合物としては、ポリカルボシランにチタンアル
コキシドを反応させて製造したポリチタノカルボシラン
、およびポリカルボシランに有機ジルコニウム化合物を
反応させて製造したポリジルコノカルボシランが知られ
ている(特開昭56−74126号公報および同56−
92923号公報)。
コキシドを反応させて製造したポリチタノカルボシラン
、およびポリカルボシランに有機ジルコニウム化合物を
反応させて製造したポリジルコノカルボシランが知られ
ている(特開昭56−74126号公報および同56−
92923号公報)。
また、ポリシラザンについては、ハロシランとアンモニ
アを反応させて製造したベルヒドロポリシラザンあるい
はポリオルガノ (ヒドロ)シラザンなどが種々報告さ
れている(特開昭60−145903号公報、D、5e
yferthら“A Liquid 5ilazane
Precursor To 5ilicon N
1tride″、Commuriicattonsof
Ame、Cer、Soc、+1983年1月、特開昭
60−226890号、特開昭61−89230号公報
など)。
アを反応させて製造したベルヒドロポリシラザンあるい
はポリオルガノ (ヒドロ)シラザンなどが種々報告さ
れている(特開昭60−145903号公報、D、5e
yferthら“A Liquid 5ilazane
Precursor To 5ilicon N
1tride″、Commuriicattonsof
Ame、Cer、Soc、+1983年1月、特開昭
60−226890号、特開昭61−89230号公報
など)。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ポリシラザンを前駆体として、窒化ケイ素繊維あるいは
窒化ケイ素/炭化ケイ素繊維を製造する際、前駆体繊維
の焼成によるセラミックス化過程において、比較的低温
で結晶化や粒成長が起こるためミ期待している程の高温
強度が得られないという問題がある。
窒化ケイ素/炭化ケイ素繊維を製造する際、前駆体繊維
の焼成によるセラミックス化過程において、比較的低温
で結晶化や粒成長が起こるためミ期待している程の高温
強度が得られないという問題がある。
また、ポリシラザンの賦形後の乾燥あるいは不融化工程
における凝固性が高められれば製造が容易化し、また生
産性が高められる。
における凝固性が高められれば製造が容易化し、また生
産性が高められる。
さらに、ポリシラザンを前駆体として得られる窒化ケイ
素系セラミックスの金属に対する適合性が高められれば
、コーテイング材等としての有用性が増加すると考えら
れる。
素系セラミックスの金属に対する適合性が高められれば
、コーテイング材等としての有用性が増加すると考えら
れる。
本発明は、上記のような課題を新規なポリチタノシラザ
ンの製造方法を提供することによって解決する。
ンの製造方法を提供することによって解決する。
すなわち、本発明によれば、主として一般式():
%式%
(R’ 、R” 、R”はそれぞれ独立に水素原子、ア
ルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール
基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する基が炭素
である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、アル
コキシ基を表わす、但し、R1、R2、R3の少なくと
も1個は水素原子で5万のポリシラザンと、一般式(■
):Ti(OR’)n (n)(式中
、R4は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭
素原子数1〜20個を有するアルキル基またはアリール
基を表わし、少なくとも1個のR4は上記アルキル基ま
たはアリール基である。)で表わされるチタンアルコキ
シドを不活性な雰囲気中で反応させて、分子内の一部の
ケイ素原子おタノシラザンを得ることを特徴とする゛城
すチタノシラザンの製造方法が提供される。
ルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール
基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する基が炭素
である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、アル
コキシ基を表わす、但し、R1、R2、R3の少なくと
も1個は水素原子で5万のポリシラザンと、一般式(■
):Ti(OR’)n (n)(式中
、R4は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭
素原子数1〜20個を有するアルキル基またはアリール
基を表わし、少なくとも1個のR4は上記アルキル基ま
たはアリール基である。)で表わされるチタンアルコキ
シドを不活性な雰囲気中で反応させて、分子内の一部の
ケイ素原子おタノシラザンを得ることを特徴とする゛城
すチタノシラザンの製造方法が提供される。
本発明によって提供されるポリチタノシラザンは、ポリ
シラザンの主骨格中の少なくとも一部のケイ素原子に結
合した水素原子および/または窒素原子に結合した水素
原子とチタンアルコキシドとが反応して、そのケイ素原
子および/または窒素原子がチタンアルコキシドと縮合
した側鎖基あるいは、環状、架橋構造を有することを特
徴とする新規な化合物である。
シラザンの主骨格中の少なくとも一部のケイ素原子に結
合した水素原子および/または窒素原子に結合した水素
原子とチタンアルコキシドとが反応して、そのケイ素原
子および/または窒素原子がチタンアルコキシドと縮合
した側鎖基あるいは、環状、架橋構造を有することを特
徴とする新規な化合物である。
チタンアルコキシドは最大4官能性であることができる
ので、出発チタンアルコキシドの種類あるいは反応条件
に応じて、生成するポリチタノシラザンはチタンに関し
て1〜4官能性の重合体であることができる。1官能性
重合体はポリシラザンの主鎖のSiおよび/またはNに
ペンダント基が導入された構造を有する。2.3.4官
能性重合体ではポリシラザン骨格にTi原子を介して環
状、架橋構造が形成される。環状構造はチタンアルコキ
シドの2官能基が、ポリシラザンの隣り合うケイ素原子
及び窒素原子と縮合した構造である。
ので、出発チタンアルコキシドの種類あるいは反応条件
に応じて、生成するポリチタノシラザンはチタンに関し
て1〜4官能性の重合体であることができる。1官能性
重合体はポリシラザンの主鎖のSiおよび/またはNに
ペンダント基が導入された構造を有する。2.3.4官
能性重合体ではポリシラザン骨格にTi原子を介して環
状、架橋構造が形成される。環状構造はチタンアルコキ
シドの2官能基が、ポリシラザンの隣り合うケイ素原子
及び窒素原子と縮合した構造である。
架橋構造はチタンアルコキシドの2つ以上の官能基が、
2個以上のポリシラザンと縮合した場合に生じる。また
、3.4官能性重合体の中には上記の環状構造と架橋構
造を同時に有するものもある。
2個以上のポリシラザンと縮合した場合に生じる。また
、3.4官能性重合体の中には上記の環状構造と架橋構
造を同時に有するものもある。
通常、ポリシラザンとチタンアルコキシドとの反応によ
り、1あるいは2官能性重合体が得られる。
り、1あるいは2官能性重合体が得られる。
5i−)1結合とチタンアルコキシドとの反応では、チ
タンアルコキシドの有機基(R4)が、5i−H結合の
水素原子を引き抜いてR’Hを生じて脱離することによ
り、5i−0−Tt結合が形成される。
タンアルコキシドの有機基(R4)が、5i−H結合の
水素原子を引き抜いてR’Hを生じて脱離することによ
り、5i−0−Tt結合が形成される。
以上の様にポリシラザンからポリチタノシラザンへの構
造上の変化は、ポリシラザンの骨格を基本に新たにペン
ダント基、あるいは環状、架橋構造が形成されることで
ある。
造上の変化は、ポリシラザンの骨格を基本に新たにペン
ダント基、あるいは環状、架橋構造が形成されることで
ある。
本発明により提供されるポリチタノシラザンがこのよう
な構造を有することは赤外線吸収(IR)スペクトルに
よる定量分析、プロトン核磁気共鳴(’HNMR)によ
って確認された。また、上記の如く本発明のポリチタノ
シラザンの分子量がペンダント基、あるいは環状、架橋
構造の形成によって出発ポリシラザンの分子量より増大
することは分子量測定により確認された。
な構造を有することは赤外線吸収(IR)スペクトルに
よる定量分析、プロトン核磁気共鳴(’HNMR)によ
って確認された。また、上記の如く本発明のポリチタノ
シラザンの分子量がペンダント基、あるいは環状、架橋
構造の形成によって出発ポリシラザンの分子量より増大
することは分子量測定により確認された。
本発明の新規ポリチタノシラザンを製造するための本発
明の方法は、ポリシラザンとチタンアルコキシドを無溶
媒または溶媒中で、かつ反応に対して不活性な雰囲気下
で反応させることからなる。
明の方法は、ポリシラザンとチタンアルコキシドを無溶
媒または溶媒中で、かつ反応に対して不活性な雰囲気下
で反応させることからなる。
本発明で用いるポリシラザンは、分子内に少なくとも5
i−H結合、あるいはN−H結合を有するポリシラザン
であればよく、ポリシラザン単独は勿論のこと、ポリシ
ラザンと他のポリマーとの共重合体やポリシラザンと他
の化合物との混合物でも利用できる。
i−H結合、あるいはN−H結合を有するポリシラザン
であればよく、ポリシラザン単独は勿論のこと、ポリシ
ラザンと他のポリマーとの共重合体やポリシラザンと他
の化合物との混合物でも利用できる。
本発明で用いるポリシラザンには、鎖状、環状、あるい
は架橋構造を有するもの、あるいは分子内にこれら複数
の構造を同時に有するものがあり、これら単独でもある
いは混合物でも利用できる。
は架橋構造を有するもの、あるいは分子内にこれら複数
の構造を同時に有するものがあり、これら単独でもある
いは混合物でも利用できる。
ポリシラザンの中には、例えば下図に示す様に有機溶媒
に (St(NH)z )、 M、B111y(Si
JJ) * M、B111y、B(Six(NH)s
) − M、 Bt 11y、 Compt、 Rend、 、
250.416、 Bull、Soc、Chim、F
r、 、 183(1962)ull、Soc、Chi
n+、Fr、、1550(1961)(Sis(NH)
*)− 3(1960) ;251.1639(1960)不溶
なものも原料として利用できるが、チタンアルコキシド
との反応生成物も有機溶媒に不溶であるため、応用面で
の制限を受けることになる。
に (St(NH)z )、 M、B111y(Si
JJ) * M、B111y、B(Six(NH)s
) − M、 Bt 11y、 Compt、 Rend、 、
250.416、 Bull、Soc、Chim、F
r、 、 183(1962)ull、Soc、Chi
n+、Fr、、1550(1961)(Sis(NH)
*)− 3(1960) ;251.1639(1960)不溶
なものも原料として利用できるが、チタンアルコキシド
との反応生成物も有機溶媒に不溶であるため、応用面で
の制限を受けることになる。
次に本発明で用いる有機溶媒に可溶なポリシラザンの代
表例をあげるが、これらに限定されるものではない。
表例をあげるが、これらに限定されるものではない。
一般式(1)でR重#R”、及びR3に水素原子を存す
るものは、ベルヒドロポリシラザンであり、その製造法
は例えば特開昭60−145903号公報、D、5ey
ferthらCommunication of Am
、Cer、Soc、、C−13+January 19
83.に報告されている。これらの方法で得られるもの
は、種々の構造を有するポリマーの混合物であるが、基
本的には分子内に鎖状部分と環状部分を含み、 −(SiHtNHh (SiRgN+:(Sigh)
c (a + b + C= 1 )の化学式で表わす
ことができる。ベルヒドロポリシラザンの構造の一例を
示すと下記の如くである。
るものは、ベルヒドロポリシラザンであり、その製造法
は例えば特開昭60−145903号公報、D、5ey
ferthらCommunication of Am
、Cer、Soc、、C−13+January 19
83.に報告されている。これらの方法で得られるもの
は、種々の構造を有するポリマーの混合物であるが、基
本的には分子内に鎖状部分と環状部分を含み、 −(SiHtNHh (SiRgN+:(Sigh)
c (a + b + C= 1 )の化学式で表わす
ことができる。ベルヒドロポリシラザンの構造の一例を
示すと下記の如くである。
一般式(I)でR′、及びRzに水素原子、R3にメチ
ル基を有するポリシラザンの製造法は、D、5eyfe
rthらPolym、Prepr、+Am、Chea、
Soc、、Div。
ル基を有するポリシラザンの製造法は、D、5eyfe
rthらPolym、Prepr、+Am、Chea、
Soc、、Div。
Polyeg、Che@、、25 、10(1984)
に報告されている。この方法により得られるポリシラザ
ンは、繰り返し単位が−+ 5iHJCH3)−の鎖状
ポリマーと環状ポリマーであり、いずれも架橋構造をも
たない。
に報告されている。この方法により得られるポリシラザ
ンは、繰り返し単位が−+ 5iHJCH3)−の鎖状
ポリマーと環状ポリマーであり、いずれも架橋構造をも
たない。
一般式(I)でR11及びRzに水素原子、R1に有機
基を有するポリオルガノ(ヒドロ)シラザンの製造法は
、D、5eyferthらPolyw、 Prepr、
+ Am、Chea+。
基を有するポリオルガノ(ヒドロ)シラザンの製造法は
、D、5eyferthらPolyw、 Prepr、
+ Am、Chea+。
Soc、Div、 Polym、Chem、+ 15−
+ 10(1984)、特開昭61−89230号公
報に報告されている。これらの方法により得られるポリ
シラザンには、−+R”5iHNH→−を繰り返し単位
として、主として重合度が3〜5の環状構造を有するも
のや (R”5iHNH)x ((R”5iH)+、sN )
l−11(0,4< X < 1 )の化学式で示せ
る分子内に鎖状構造と環状構造を同時に有するものがあ
る。
+ 10(1984)、特開昭61−89230号公
報に報告されている。これらの方法により得られるポリ
シラザンには、−+R”5iHNH→−を繰り返し単位
として、主として重合度が3〜5の環状構造を有するも
のや (R”5iHNH)x ((R”5iH)+、sN )
l−11(0,4< X < 1 )の化学式で示せ
る分子内に鎖状構造と環状構造を同時に有するものがあ
る。
一般式(I)でR1に水素原子、R8及びR3に有機基
を有するポリシラザン、またR1及びR2に有機基、R
3に水素原子を有するものは−f R’R”5iNR3
→を繰り返し単位として、主に重合度が3〜5の環状構
造を有している。
を有するポリシラザン、またR1及びR2に有機基、R
3に水素原子を有するものは−f R’R”5iNR3
→を繰り返し単位として、主に重合度が3〜5の環状構
造を有している。
次に本発明で用いるポリシラザンの内、−S式(1)以
外のものの代表例をあげる。
外のものの代表例をあげる。
ポリオルガノ (ヒドロ)シラザンの中には、D、5e
ferth らCovwunication of
Am、Cer、Soc、+C−132.July 19
84.が報告している様な分子内に架橋構造を有するも
のもある。−例を示すと下記の如くである。
ferth らCovwunication of
Am、Cer、Soc、+C−132.July 19
84.が報告している様な分子内に架橋構造を有するも
のもある。−例を示すと下記の如くである。
以下余白
また、特開昭49−69717号公報に報告されている
様なR’5iXs (X :ハロゲン)のアンモニア分
解によって得られる架橋構造を有するポリシラザン(R
’5i(NH)−) 、あるいはR’5iXs及びR”
5iX3(7)共アンモニア分解によって得られる下記
の構造を有するポリシラザンも本発明の 出発原料として用いることができる。
様なR’5iXs (X :ハロゲン)のアンモニア分
解によって得られる架橋構造を有するポリシラザン(R
’5i(NH)−) 、あるいはR’5iXs及びR”
5iX3(7)共アンモニア分解によって得られる下記
の構造を有するポリシラザンも本発明の 出発原料として用いることができる。
本発明に用いるポリシラザンの分子量に特に制約はなく
、入手可能なものを用いることができるが、チタンアル
コキシドとの反応性の点で、式(1)におけるR’ l
R” 、及びR′は立体障害の小さい基が好ましい、
即ち、R1、R2及びR3としては水素原子及びCI〜
、のアルキル基が好ましく、水素原子及びC,−、のア
ルキル基がさらに好ましい。
、入手可能なものを用いることができるが、チタンアル
コキシドとの反応性の点で、式(1)におけるR’ l
R” 、及びR′は立体障害の小さい基が好ましい、
即ち、R1、R2及びR3としては水素原子及びCI〜
、のアルキル基が好ましく、水素原子及びC,−、のア
ルキル基がさらに好ましい。
本発明で用いるチタンアルコキシドに特に制約はないが
、反応性の点で、式(I)におけるR4はC3〜、。の
アルキル基が好ましく、C3〜4のアルキル基がさらに
好ましい。ポリシラザンとチタンアルコキシドとの混合
比は、ポリチタノシラザン「 コキシドの構造単位→Ti−0←の全数の比が1:4か
ら1000:1の範囲となる様に加える。
、反応性の点で、式(I)におけるR4はC3〜、。の
アルキル基が好ましく、C3〜4のアルキル基がさらに
好ましい。ポリシラザンとチタンアルコキシドとの混合
比は、ポリチタノシラザン「 コキシドの構造単位→Ti−0←の全数の比が1:4か
ら1000:1の範囲となる様に加える。
チタンアルコキシドの添加量をこれより増やすとチタン
アルコキシドが未反応のまま回収され、また、少ないと
顕著な高分子量化が起こらない。
アルコキシドが未反応のまま回収され、また、少ないと
顕著な高分子量化が起こらない。
反応は、無溶媒で行なうこともできるが、有機溶媒を使
用する時に比べて反応制御が難しく、ゲル状物質が生成
する場合もあるので、一般に有機溶媒を用いた方が良い
、溶媒としては、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂
環式炭化水素の炭化水素溶媒、ハロゲン化炭化水素、脂
肪族エーテル、脂環式エーテル類が使用できる。好まし
い溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン
、塩化メチレン、クロロホルム、エチルエーテル、テト
ラヒドロフラン等があげられる。
用する時に比べて反応制御が難しく、ゲル状物質が生成
する場合もあるので、一般に有機溶媒を用いた方が良い
、溶媒としては、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂
環式炭化水素の炭化水素溶媒、ハロゲン化炭化水素、脂
肪族エーテル、脂環式エーテル類が使用できる。好まし
い溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン
、塩化メチレン、クロロホルム、エチルエーテル、テト
ラヒドロフラン等があげられる。
反応温度は反応系が液体系である範囲にするのが好まし
い、ポリチタノシラザンの高分子量化をさらに進めるに
は溶媒の沸点以上で反応させることもできるが、熱分解
によるゲル化を防ぐため、一般に400℃以下にするの
が好ましい。
い、ポリチタノシラザンの高分子量化をさらに進めるに
は溶媒の沸点以上で反応させることもできるが、熱分解
によるゲル化を防ぐため、一般に400℃以下にするの
が好ましい。
圧力は常圧が好ましい、加圧にすることには特に制約は
ないが、減圧下では、低沸点成分が留去され、収率が低
下するので好ましくない0反応時間は、一般に30分間
から1日程度であるが、ポリチタノシラザンの高分子量
化をさらに進めるには、反応時間を延長することが好ま
しい。
ないが、減圧下では、低沸点成分が留去され、収率が低
下するので好ましくない0反応時間は、一般に30分間
から1日程度であるが、ポリチタノシラザンの高分子量
化をさらに進めるには、反応時間を延長することが好ま
しい。
また、反応雰囲気としては原料のチタンアルコキシド及
びポリシラザンあるいは生成物のポリチタノシラザンの
酸化や加水分解を防ぐため、乾燥させた不活性雰囲気、
例えば乾燥窒素、乾燥アルゴン等が好ましい。
びポリシラザンあるいは生成物のポリチタノシラザンの
酸化や加水分解を防ぐため、乾燥させた不活性雰囲気、
例えば乾燥窒素、乾燥アルゴン等が好ましい。
本発明の新規ポリチタノシラザンは、ポリシラザンの一
部のケイ素−水素結合がチタンアルコキシドの有機基と
縮合し、新たにケイ素−酸素一チタン結合を形成し、か
つ/または、ポリシラザンの一部の窒素−水素結合もチ
タンアルコキシドと縮合した構造を有する重合体である
。この数平均分子量は200〜50万であり、有機溶媒
に可溶である。
部のケイ素−水素結合がチタンアルコキシドの有機基と
縮合し、新たにケイ素−酸素一チタン結合を形成し、か
つ/または、ポリシラザンの一部の窒素−水素結合もチ
タンアルコキシドと縮合した構造を有する重合体である
。この数平均分子量は200〜50万であり、有機溶媒
に可溶である。
本発明の新規ポリチタノシラザンは、不活性ガス雰囲気
中、あるいは真空中で焼成することにより、セラミック
スに変換される。− 〔実施例〕 以下実施例について説明する。
中、あるいは真空中で焼成することにより、セラミック
スに変換される。− 〔実施例〕 以下実施例について説明する。
参考皿上
内容積11の四つロフラスコにガス吸き込み管メカニカ
ルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置した。反応
器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換し゛た後、四つロフ
ラスコに脱気した乾燥ピリジン490 m Aを入れ、
これを氷冷した0次にジクロロシラン51.6gを加え
ると白色固体状のアダクト(SiHICl−2CsHs
N)が生成した0反応混合物を氷冷し、攪拌しながら、
水酸化ナトリウム管及び活性炭管を通して精製したアン
モニア51.0 gを吹き込んだ後、100℃で加熱し
た。
ルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置した。反応
器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換し゛た後、四つロフ
ラスコに脱気した乾燥ピリジン490 m Aを入れ、
これを氷冷した0次にジクロロシラン51.6gを加え
ると白色固体状のアダクト(SiHICl−2CsHs
N)が生成した0反応混合物を氷冷し、攪拌しながら、
水酸化ナトリウム管及び活性炭管を通して精製したアン
モニア51.0 gを吹き込んだ後、100℃で加熱し
た。
反応終了後、反応混合物を遠心分離し、乾燥ピリジンを
用いて洗浄した後、更に窒素雰囲気下でろ過してろ液8
50 m lを得た。ろ液5mlから溶媒を濾去留去す
ると樹脂状固体ベルヒドロポリシラザン0.102gが
得られた。
用いて洗浄した後、更に窒素雰囲気下でろ過してろ液8
50 m lを得た。ろ液5mlから溶媒を濾去留去す
ると樹脂状固体ベルヒドロポリシラザン0.102gが
得られた。
得られたポリマーの数平均分子量は、凝固点降下法(溶
媒:乾燥ベンゼン)により測定したところ、1120で
あった。IR(赤外吸収)スペクトル(溶媒:乾燥0−
キシレン;ペルヒドロポリシラザンの濃度: 10.2
g/j! )は、第1図に示す様に波数(cIII−’
) 3350 (見かけの吸光係数6−0.5571g
−’cm−’) 、及び1175のNHに基づく吸収
;2170 (a =3.14)のSiHに基づく吸収
: 1020〜820のSiH及び5iNSiに基づく
吸収を示している。
媒:乾燥ベンゼン)により測定したところ、1120で
あった。IR(赤外吸収)スペクトル(溶媒:乾燥0−
キシレン;ペルヒドロポリシラザンの濃度: 10.2
g/j! )は、第1図に示す様に波数(cIII−’
) 3350 (見かけの吸光係数6−0.5571g
−’cm−’) 、及び1175のNHに基づく吸収
;2170 (a =3.14)のSiHに基づく吸収
: 1020〜820のSiH及び5iNSiに基づく
吸収を示している。
’ HNMR(プロトン核磁気共鳴)スペクトル(60
MI(z、溶媒CDCj!3/基準物質TMS)は、第
2図に示す様にいずれも幅広い吸収を示している。即ち
、64.8及び4.4 (br、、5iH) ; 1.
5 (br、、NH)の吸収が観測された。
MI(z、溶媒CDCj!3/基準物質TMS)は、第
2図に示す様にいずれも幅広い吸収を示している。即ち
、64.8及び4.4 (br、、5iH) ; 1.
5 (br、、NH)の吸収が観測された。
裏詣斑上
参考例1で得られたベルヒドロポリシラザンの乾燥0−
キシレン溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度8.30
g乙I Ho、Omjに窒素雰囲気下でチタンテトライ
ソプロポキシド0.234g (0,823mmo1)
を加え、激しく攪拌すると、反応溶液は無色から黒色に
変化した。
キシレン溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度8.30
g乙I Ho、Omjに窒素雰囲気下でチタンテトライ
ソプロポキシド0.234g (0,823mmo1)
を加え、激しく攪拌すると、反応溶液は無色から黒色に
変化した。
この反応溶液のIRスペクトル(乾燥O−キシレン)を
第3図に示す、 3350及び21701m−’の見か
けの吸光係数a (jFg−’am−’)は、それぞれ
0.356、及び2.34に減少した。先に作成してお
いたベルヒドロポリシラザンの検量線との比較により、
NHに基づく吸収<3350c!1−’ ”)に対する
濃度は5.20g/l、一方SiHに基づく吸収(21
70cm−’)に対する濃度は、5.90 g / /
に相当していた。卯ち、チタンテトライソプロポキシド
との反応により、ベルヒドロポリシラザン中の5i−H
結合が約29%、またN−H結合が約37%消失してい
ることが確認された。 3350、及び2170aa−
’の吸収以外に、1365及び1335 (δ(CHI
)ICH−):1160 、1125 、及び1000
(ν(C−0)Ti) ;950 (ν5iOTi、
ν(C−0)Ti):615(シTi−0)の吸収が観
測された。
第3図に示す、 3350及び21701m−’の見か
けの吸光係数a (jFg−’am−’)は、それぞれ
0.356、及び2.34に減少した。先に作成してお
いたベルヒドロポリシラザンの検量線との比較により、
NHに基づく吸収<3350c!1−’ ”)に対する
濃度は5.20g/l、一方SiHに基づく吸収(21
70cm−’)に対する濃度は、5.90 g / /
に相当していた。卯ち、チタンテトライソプロポキシド
との反応により、ベルヒドロポリシラザン中の5i−H
結合が約29%、またN−H結合が約37%消失してい
ることが確認された。 3350、及び2170aa−
’の吸収以外に、1365及び1335 (δ(CHI
)ICH−):1160 、1125 、及び1000
(ν(C−0)Ti) ;950 (ν5iOTi、
ν(C−0)Ti):615(シTi−0)の吸収が観
測された。
1土斑主
内容積200 m j!の四つロフラスコにコンデンサ
ー、シーラムキャップ、温度計、及びマグネテインクス
クーラーを装置した0反応器内部を乾燥窒素で置換した
後、四つロフラスコに参考例1で得られたベルヒドロポ
リシラザンのベンゼン溶液(ベルヒドロポリシラザンの
濃度: 4.57重貴簡)110gを入れ、攪拌しなが
らチタンテトライソプロポキシド6.30 g (22
,2wmo1)を乾燥ベンゼン6.5rrlに溶解させ
たものを注射器を用いて加えた0反応溶液は無色から淡
褐色、紫色、黒色へと変化した。反応終了後、溶媒を減
圧留去すると、ポリヒドロチタノシラザンが暗褐色固体
として得られた。収率は84.0重量%であった。
ー、シーラムキャップ、温度計、及びマグネテインクス
クーラーを装置した0反応器内部を乾燥窒素で置換した
後、四つロフラスコに参考例1で得られたベルヒドロポ
リシラザンのベンゼン溶液(ベルヒドロポリシラザンの
濃度: 4.57重貴簡)110gを入れ、攪拌しなが
らチタンテトライソプロポキシド6.30 g (22
,2wmo1)を乾燥ベンゼン6.5rrlに溶解させ
たものを注射器を用いて加えた0反応溶液は無色から淡
褐色、紫色、黒色へと変化した。反応終了後、溶媒を減
圧留去すると、ポリヒドロチタノシラザンが暗褐色固体
として得られた。収率は84.0重量%であった。
生成したポリマーの数平均分子量は、凝固点降下法(溶
媒:乾燥ベンゼン)により測定したところ1840であ
った。ここで得られたポリマーは、ベルヒドロポリシラ
ザンとチタンアルコキシドが単に混合されたものではな
く、両物質の縮合反応により高分子量化したものである
。
媒:乾燥ベンゼン)により測定したところ1840であ
った。ここで得られたポリマーは、ベルヒドロポリシラ
ザンとチタンアルコキシドが単に混合されたものではな
く、両物質の縮合反応により高分子量化したものである
。
IRスペクトル(乾燥ベンゼン)を第4図に示す、実施
例1における生成物(第3図参照)とほぼ同様のスペク
トルが観測された。’ HNMRスペクトル(60MH
z、 CDC1s/TMS)を第5図に示す。64.7
及び4.3 (br、、SiH、(CHs)t C且0
−);1.2(d、(C且sh CHO−、N)I)の
スペクトルが観測された。
例1における生成物(第3図参照)とほぼ同様のスペク
トルが観測された。’ HNMRスペクトル(60MH
z、 CDC1s/TMS)を第5図に示す。64.7
及び4.3 (br、、SiH、(CHs)t C且0
−);1.2(d、(C且sh CHO−、N)I)の
スペクトルが観測された。
ここで得られたポリマーを窒素雰囲気下、1350℃で
1時間焼成すると黒色固体が72重量%の収率で得られ
た。この物質のX線粉末回折測定を行なったところ、第
6図に示す様に、非晶質TiN相の回折線のみが観測さ
れた。ベルヒドロポリシラザンを同一条件で焼成すると
X¥a的に結晶質の窒化珪素の生成が確認されているが
、ポリヒドロチタノシラザンを前駆体とすると、非晶質
TiN相の生成により、窒化珪素の非晶質状態がより高
温まで保持されている。
1時間焼成すると黒色固体が72重量%の収率で得られ
た。この物質のX線粉末回折測定を行なったところ、第
6図に示す様に、非晶質TiN相の回折線のみが観測さ
れた。ベルヒドロポリシラザンを同一条件で焼成すると
X¥a的に結晶質の窒化珪素の生成が確認されているが
、ポリヒドロチタノシラザンを前駆体とすると、非晶質
TiN相の生成により、窒化珪素の非晶質状態がより高
温まで保持されている。
得られたセラミックスの元素分析結果(重量%)は、S
i:41.3; Ti:12.9; N:20.5;
(b19.9; C:4.5であった。
i:41.3; Ti:12.9; N:20.5;
(b19.9; C:4.5であった。
111ユ
実施例2で得られたポリヒドロチタノシラザンのベンゼ
ン溶液にポリエチルメタクリレート(分子量34万)を
ポリヒドロチタノシラザンに対して4.0重量%加え、
1時間攪拌した後、溶媒を減圧留去して濃縮することに
より、紡糸溶液として60重量%のポリヒドロチタノシ
ラザンを含むベンゼン溶液が得られた。これをノズルか
ら大気中に吐出させると淡褐色繊維が得られた。続いて
、これを窒素雰囲気下で5℃/分で昇温させて1100
℃で3時間加熱することにより黒色繊維が得られた。
ン溶液にポリエチルメタクリレート(分子量34万)を
ポリヒドロチタノシラザンに対して4.0重量%加え、
1時間攪拌した後、溶媒を減圧留去して濃縮することに
より、紡糸溶液として60重量%のポリヒドロチタノシ
ラザンを含むベンゼン溶液が得られた。これをノズルか
ら大気中に吐出させると淡褐色繊維が得られた。続いて
、これを窒素雰囲気下で5℃/分で昇温させて1100
℃で3時間加熱することにより黒色繊維が得られた。
ス新11±
実施例2で得られたポリヒドロチタノシラザンのベンゼ
ン溶液にポリエチルメタクリレート(分子量34万)を
ポリヒドロチタノシラザンに対して2.0重量%加え、
1時間攪拌した。これをなめらかなテフロン基体上に展
開させ、溶媒を減圧留去した後、さらに100℃で5時
間乾燥させた。得られたチタノシラザン膜を窒素雰囲気
下で5℃/分で昇温させて1000℃で3時間加熱する
ことにより黒色の耐熱性膜が得られた。
ン溶液にポリエチルメタクリレート(分子量34万)を
ポリヒドロチタノシラザンに対して2.0重量%加え、
1時間攪拌した。これをなめらかなテフロン基体上に展
開させ、溶媒を減圧留去した後、さらに100℃で5時
間乾燥させた。得られたチタノシラザン膜を窒素雰囲気
下で5℃/分で昇温させて1000℃で3時間加熱する
ことにより黒色の耐熱性膜が得られた。
1考■1
内容積500 m lの四つロフラスコにガス吹込管、
温度計、メカ′ニカルスクーラー、ジュワーコンデンサ
ーを装置した0反応系内を窒素ガスで置換した後、四つ
ロフラスコにメチルジクロロシラン(CHsSiHCl
g、24.3 g 、0.211mol)と乾燥ジク
ロロメタン300mAを入れた。これを氷冷し、撹拌し
ながら、乾燥アンモニア20.5g (1,20mo
n )を窒素ガスとともに吹き込んでアンモニア分解を
行なった。
温度計、メカ′ニカルスクーラー、ジュワーコンデンサ
ーを装置した0反応系内を窒素ガスで置換した後、四つ
ロフラスコにメチルジクロロシラン(CHsSiHCl
g、24.3 g 、0.211mol)と乾燥ジク
ロロメタン300mAを入れた。これを氷冷し、撹拌し
ながら、乾燥アンモニア20.5g (1,20mo
n )を窒素ガスとともに吹き込んでアンモニア分解を
行なった。
反応終了後、反応i合物を遠心分離した後、濾過した。
濾液から溶媒を減圧除去し、ポリメチル(ヒドロ)シラ
ザンを無色の液体として8.79g得た。生成物の数平
均分子量を凝固点降下法により測定したところ、310
であった。
ザンを無色の液体として8.79g得た。生成物の数平
均分子量を凝固点降下法により測定したところ、310
であった。
皇考■主
内容積100m1の四つロフラスコにガス導入管、温度
計、コンデンサー及び滴下ロートを装着し、反応系内を
アルゴンガスで置換した。四つロフラスコに乾燥テトラ
ヒドロフラン12m1、及び水素化カリウム0.189
gG4.71mmol)を入れ、磁気攪拌を開始した0
滴下ロートに参考例2の合成品5.00g及び乾燥テト
ラヒドロフラン5Qrrlを入れ、これを水素化カリウ
ムに滴下した。室温で1時間反応させた後、滴下ロート
にヨウ化メタン1.60g (11,3saoj! )
:及び乾燥テトラヒドロフラン1m1を入れ、これを
反応溶液に滴下した。室温で3時間反応させた後、反応
混合物の溶媒を減圧留去し、乾燥n−ヘキサン40m1
を加えて遠心分離し、濾過した。濾液の溶媒を減圧留去
すると、ポリメチル(ヒドロ)シラザンが白色粉末とし
て4.85g得られた。生成物の数平均分子量は、凝固
点降下法により測定したところ、1060であった。I
Rスペクトル(乾燥O−キシレン;ポリメチル(ヒドロ
)シラザンの濃度: 43.2g / It )は第7
図に示す様に3380cm−’ (見かけの吸光係数t
= 0.241’ g−’am−’) 、及び116
0cm−’のNHに基づく吸収; 2120aa−’
(8=0.822)のSiHに基づ(吸収11255c
+m−’の5iCHsに基づく吸収を示している。
計、コンデンサー及び滴下ロートを装着し、反応系内を
アルゴンガスで置換した。四つロフラスコに乾燥テトラ
ヒドロフラン12m1、及び水素化カリウム0.189
gG4.71mmol)を入れ、磁気攪拌を開始した0
滴下ロートに参考例2の合成品5.00g及び乾燥テト
ラヒドロフラン5Qrrlを入れ、これを水素化カリウ
ムに滴下した。室温で1時間反応させた後、滴下ロート
にヨウ化メタン1.60g (11,3saoj! )
:及び乾燥テトラヒドロフラン1m1を入れ、これを
反応溶液に滴下した。室温で3時間反応させた後、反応
混合物の溶媒を減圧留去し、乾燥n−ヘキサン40m1
を加えて遠心分離し、濾過した。濾液の溶媒を減圧留去
すると、ポリメチル(ヒドロ)シラザンが白色粉末とし
て4.85g得られた。生成物の数平均分子量は、凝固
点降下法により測定したところ、1060であった。I
Rスペクトル(乾燥O−キシレン;ポリメチル(ヒドロ
)シラザンの濃度: 43.2g / It )は第7
図に示す様に3380cm−’ (見かけの吸光係数t
= 0.241’ g−’am−’) 、及び116
0cm−’のNHに基づく吸収; 2120aa−’
(8=0.822)のSiHに基づ(吸収11255c
+m−’の5iCHsに基づく吸収を示している。
’ HNMRスペクトル(60MHz、 CDCII
3 / CI、H&)を第8図に示す、δ4.7(Si
H,0,56H) 2.4(NCH3゜0.15H)
; 0.7(Nll、0.51H) ; 0.2(Si
CHz、3H)の吸収が観測されたことから生成物は(
CHzSiHNH)。、51(CHsSiN)。、44
(CHsSiHNClh)。、。、なる組成を有する
ことが確認された。
3 / CI、H&)を第8図に示す、δ4.7(Si
H,0,56H) 2.4(NCH3゜0.15H)
; 0.7(Nll、0.51H) ; 0.2(Si
CHz、3H)の吸収が観測されたことから生成物は(
CHzSiHNH)。、51(CHsSiN)。、44
(CHsSiHNClh)。、。、なる組成を有する
ことが確認された。
1上■工
内容積50rrlの四つロフラスコにコンデンサー、シ
ーラムキャップ、温度計、及びマグネティックスクーラ
ーを装置した。反応器内部を乾燥窒素で置換した後、参
考例3で合成したポリメチル(ヒドロ)シラザン0.7
33g、及び乾燥0−キシレン2Qmj!を入れ、攪拌
しながらチタンテトライソプロポキシド0.846g(
2,98mmoj! )を加えた。これを130℃から
135℃で反応させると、溶液は無色から黄色に変化し
た0反応終了後、反応溶液を室温まで冷却させた後、窒
素雰囲気下で25m1メスフラスコに移し、標線まで乾
燥0−キシレンを加えて、攪拌し、IRスペクトルを測
定した。
ーラムキャップ、温度計、及びマグネティックスクーラ
ーを装置した。反応器内部を乾燥窒素で置換した後、参
考例3で合成したポリメチル(ヒドロ)シラザン0.7
33g、及び乾燥0−キシレン2Qmj!を入れ、攪拌
しながらチタンテトライソプロポキシド0.846g(
2,98mmoj! )を加えた。これを130℃から
135℃で反応させると、溶液は無色から黄色に変化し
た0反応終了後、反応溶液を室温まで冷却させた後、窒
素雰囲気下で25m1メスフラスコに移し、標線まで乾
燥0−キシレンを加えて、攪拌し、IRスペクトルを測
定した。
第9図に示す様に3380及び2120ロー1の見かけ
の吸光係数8 (47g−’cn−鳳)は、それぞれ0
.193、及び0.669に減少した。先に作成してお
いたポリメチル(ヒドロ)シラザン(参考例3の合成品
)の検量線との比較により、NHに基づく吸収(338
01−1)に対する濃度は22.7 g / 1、一方
Sinに基づく吸収(2120c1m−’)に対する濃
度は23.9 g / Itに相当していた。即ち、チ
タンテトライソプロポキシドとの反応により、ポリメチ
ル(ヒドロ)シラザン中のN−H結合が22%、また5
L−H結合が19%消失していることが確認された。
3380、及び2120cm−1の吸収以外に、136
0及び1330am−’(δ(C)Is)zcH−);
1160 、1120.及び995cIl−I(ν(
C−0)Ti):615cm−’ (s4i−0)の吸
収が観測された。
の吸光係数8 (47g−’cn−鳳)は、それぞれ0
.193、及び0.669に減少した。先に作成してお
いたポリメチル(ヒドロ)シラザン(参考例3の合成品
)の検量線との比較により、NHに基づく吸収(338
01−1)に対する濃度は22.7 g / 1、一方
Sinに基づく吸収(2120c1m−’)に対する濃
度は23.9 g / Itに相当していた。即ち、チ
タンテトライソプロポキシドとの反応により、ポリメチ
ル(ヒドロ)シラザン中のN−H結合が22%、また5
L−H結合が19%消失していることが確認された。
3380、及び2120cm−1の吸収以外に、136
0及び1330am−’(δ(C)Is)zcH−);
1160 、1120.及び995cIl−I(ν(
C−0)Ti):615cm−’ (s4i−0)の吸
収が観測された。
反応溶液の溶媒を減圧留去すると青色固体、0.972
gが得られた。収率は61.6重量%であった。
gが得られた。収率は61.6重量%であった。
生成したポリメチルチタノシラザンの数平均分子量は凝
固点降下法により測定したところ1510であった。
固点降下法により測定したところ1510であった。
北較■
乾燥O−キシレン中のポリメチル(ヒドロ)シラザン(
参考例3の合成品)をチタンテトライソプロポキシドを
用いない他は実施例5と同一条件で熱処理した。生成物
のIRスペクトルは出発物質と同一であり、ポリメチル
(ヒドロ)シラザン。
参考例3の合成品)をチタンテトライソプロポキシドを
用いない他は実施例5と同一条件で熱処理した。生成物
のIRスペクトルは出発物質と同一であり、ポリメチル
(ヒドロ)シラザン。
のN−H結合、及び5t−H結合は未反応であることか
ら、実施例5の加熱処理だけではポリメチル(ヒドロ)
シラザンは変化しないことが確認された。
ら、実施例5の加熱処理だけではポリメチル(ヒドロ)
シラザンは変化しないことが確認された。
本発明によって新規に提供されるポリチタノシラザンは
、有機溶媒に可溶であり、焼成後5i−Ti−N−0系
セラミックスに変換されるため、高性能の複合セラミッ
クス成形体を得ることができる。即ち、高温機械強度が
高く、耐熱性、耐食性、耐熱衝撃性に優れた高硬度の連
続繊維、フィルム、被覆膜、粉末、発泡体等を得ること
ができ、また焼結用結合剤、含浸剤等として利用するこ
とも可能である。
、有機溶媒に可溶であり、焼成後5i−Ti−N−0系
セラミックスに変換されるため、高性能の複合セラミッ
クス成形体を得ることができる。即ち、高温機械強度が
高く、耐熱性、耐食性、耐熱衝撃性に優れた高硬度の連
続繊維、フィルム、被覆膜、粉末、発泡体等を得ること
ができ、また焼結用結合剤、含浸剤等として利用するこ
とも可能である。
特に、次のような効果あるいは利点がある。
(1)ポリチタノシラザンを高温焼成すると、非晶質の
TiN相が生成し、これが第2の耐火相となるため、例
えばベルヒドロポリシラザン繊維を高温焼成した時に観
測される結晶性のα型やβ型窒化珪素の生成を抑制させ
ることができるので、セラミックス繊維の機械的強度が
向上する。
TiN相が生成し、これが第2の耐火相となるため、例
えばベルヒドロポリシラザン繊維を高温焼成した時に観
測される結晶性のα型やβ型窒化珪素の生成を抑制させ
ることができるので、セラミックス繊維の機械的強度が
向上する。
(2)ポリチタノシラザンは、原料のポリシラザンに比
べて架橋構造及び、分子量が増加するため、賦形後の乾
燥工程における凝固性が向上する。
べて架橋構造及び、分子量が増加するため、賦形後の乾
燥工程における凝固性が向上する。
(3)ポリチタノシラザンの焼成で得られる5i−Ti
−N−0系セラミツクスには、チタン原子が、TiN相
等の形で含有されているため、複合材料として利用する
際、金属(特にチタン)との適合性が向上する。
−N−0系セラミツクスには、チタン原子が、TiN相
等の形で含有されているため、複合材料として利用する
際、金属(特にチタン)との適合性が向上する。
第1図および第2図は参考例1で作成したベルヒドロポ
リシラザンのそれぞれIRスペクトル図および’ HN
MRスペクトル図、第3図は実施例1で作成したポリチ
タノシラザンのIRスペクトル図、第4図および第5図
は実施例2で作成したポリチタノシラザンのそれぞれI
Rスペクトル図および’ HNMRスペクトル図、第6
図は実施例2のポリチタノシラザンを焼成したセラミッ
クスのX線粉末回折図、第7図および第8図は参考例3
で作成したポリメチル(ヒドロ)シラザンのそれぞれI
Rスペクトル図および’ HNMRスペクトル図、第9
図は実施例5で作成したポリチタノシラザンのIRスペ
クトル図である。 手続補正書(自発) 昭和62年12月24日 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 1、事件の表示 昭和61年特許願第223790号 2、 発明の名称 新規ポリチタノシ、ラザく及びその製造方法(新名称) 3、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 東亜燃料工業株式会社 4、代理人 住所 〒105東京都港区虎ノ門−丁目8番10号5、
補正によって増加する発明の数 1)図 6、補正の対象 (1)明細書の「発明の名称」の欄 (2)明細書全文 (3)図面(第3〜8図) 7、補正の内容 シンキ オヨ(
1、発明の名称を「新規ポリチタノシラザン及(2)明
細書全文を別紙の通りに補正する。 (3)第3〜8図を別紙の通りに補正する。 8、添付書類の目録 (1)全文補正明細書 1通(2)
図面(第3〜8図) 1通全文補正明
細書 1、発明の名称 新規ポリチタノシラザン及びその製造方法2、特許請求
の範囲 ある。) (■): Ti(OR’)、 (II)(
式中、R4は、同一でも異なっていてもよく、水素原子
、炭素原子数1〜20個を有するアルキ一←Si
N寸−(I) R2R3 (R’ 、R2、R3はそれぞれ独立に水素原子、ア
ルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール
基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する基が炭素
である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、アル
コキシ基を表わす。但し、R1、R2、R3の少なくと
も1個は水素原子である。) で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
が約100〜5万のポリシラザンと、一般式(): %式% (式中、R4は、同一でも異なっていてもよく、水素原
子、炭素原子数1〜20個を有するアルキル基またはア
リール基を表わし、少なくとも1個のR4は上記アルキ
ル基またはアリール基である。)で表わされるチタンア
ルコキシドを反応させて、チタン/ケイ素原子比が0.
001〜3の範囲内かつ数平均分子量が約200〜50
万の新規ポリチタノシラザンを得ることを特徴とするポ
リチタノシラザンの製造方法。 3、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規ポリチタノシラザン及びその製造方法に係
る。このポリチタノシラザンを前駆体として得られるケ
イ素−チタン−窒素−酸素系またはケイ素−チタン−窒
素−酸素−炭素系セラミックスは耐熱・高硬度材料ある
いは複合材料の強化材として有用であり、化学・金属、
航空・宇宙、機械・精密、自動車産業での広範な利用が
期待される。 〔従来の技術〕 分子内にケイ素−酸素一チタン結合を有し、かつ/また
は窒素原子とチタンアルコキシドが縮合したポリチタノ
シラザンについては、従来知られていない。 類似の化合物としては、ポリカルボシランにチタンアル
コキシドを反応させて製造したポリチタノカルボシラン
、およびポリカルボシランに有機ジルコニウム化合物を
反応させて製造したポリジルコノカルボシランが知られ
ている(特開昭56−74126号公報および同56−
92923号公報)。 また、ポリシラザンについては、ハロシランとアンモニ
アを反応させて製造したベルヒドロポリシラザンあるい
はポリオルガノ (ヒドロ)シラザンなどが種々報告さ
れている(特開昭60−145903号公報、D、 5
eyferthら“A Liquid 5ilazan
ePrecursor To 5ilicon N1t
rideIl、Communicationsof A
me、Cer、 Sac、 、 1983年1月、特開
昭60−226890号、特開昭61−89230号公
報など)。 〔発明が解決しようとする問題点〕 ポリチタノカルボシラン、あるいはポリジルコ間 アルミニウムなどの溶融金属との反応性が高く、強度劣
化を起こすため、金属との複合材料を製造する際、必ず
しも十分な特性が得られないという問題がある。 また、ポリシラザンを前駆体として得られる窒化ケイ素
系セラミックスを金属との複合材料として利用する場合
、金属との親和性が十分でないという問題がある。 以上の点が改善できれば、耐熱・高硬度材料や複合材料
としての有用性が著しく高められる。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は、上記のような課題を新規なポリチタノシラザ
ン及びその製造方法を提供することによって解決する。 本発明によれば、主として一般式(I):(R’ 、
R2、R3はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、ア
ルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、またはこ
れらの基以外でケイ素に直結する基が炭素である基、ア
ルキルシリル基、アルキルアミノ基、アルコキシ基を表
わす。但し、R’、R2、R3の少なくとも1個は水素
原子である。) で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
が約100〜5万のポリシラザンと、一般式(): %式%() (式中、R4は、同一でも異なっていてもよく、水素原
子、炭素原子数1〜20個を有するアルキル基またはア
リール基を表わし、少なくとも1個のR4−は上記アル
キル基ま゛たはアリール基である。)で表わされるチタ
ンアルコキシドを反応させて得られる、チタン/ケイ素
原子比が0.001〜30の範囲内かつ数平均分子量が
約200〜50万の新規ポリチタノシラザンが提供され
る。 本発明によって提供される新規なポリチタノシラザンは
、ポリシラザンの主骨格中の少なくとも一部のケイ素原
子に結合した水素原子および/または窒素原子に結合し
た水素原子とチタンアルコキシドとが反応して、そのケ
イ素原子および/または窒素原子がチタンアルコキシド
と縮合した側鎖基あるいは、環状、架橋構造を有するこ
とを特徴とする化合物である。 ポリシラザンの5i−H結合とチタンアルコキシドとの
反応では、チタンアルコキシド(Tl (OR’) 4
)の有機基(R4)が、5i−H結合の水素原子を引き
抜いてR’Hを生じて脱離することにより、5i−0−
Ti結合が形成される。 >N−3l−H+T+(OR’) 4→>N−3i−0
−Ti(OR’) 3+R’)1一方、ポリシラザンの
N−H結合と、チタンアルコキシドとの反応ではチタン
アルコキシドにより、N−H結合の水素原子が引き抜か
れ、下記のようにN−0−T i結合又はN−Ti結合
(以下、これらをN−Y−Ti結合として表わす)が形
成される。 チタンアルコキシドは最大4官能性であることができる
ので、出発チタンアルコキシドの種類あるいは反応条件
に応じて、生成するポリチタノシラザンはチタンに関し
て1〜4官能性の重合体であることができる。1官能性
重合体はポリシラザンの主鎖のSiおよび/またはNに
ペンダント基が導入された下記構造を有する。 R’ HR’ MへSi −N−〜−3i−N(III)l
II OHY Tl(OR’)3 Ti(OR’)32.
3.4官能性重合体ではポリシラザン骨格にT1原子を
介して環状、架橋構造が形成される。 環状構造はチタンアルコキシド1分子内の2個の官能基
が、ポリシラザンの隣り合うケイ素原子及び窒素原子と
縮合した構造が含まれる。架橋構造はチタンアルコキシ
ドの2個以上の官能基が、2分子以上のポリシラザンと
縮合した場合に生じる。 R’ HR’ wS i −N −ry S i −N ”[
] HY Ti(OR’) 2 Tl (OR’)
2OR’ Y 1坑Si −N−/ψ WS i −N昂H ■ f−AAN −8Vφ^ また、3.4官能性重合体の中には上記の環状構造と架
橋構造を同時に有するものもある。通常、ポリシラザン
とチタンアルコキシドとの反応により、(I[I)又は
(■)で示した重合体が得られる。 以上の様にポリシラザンからポリチタノシラザンへの構
造上の変化は、ポリシラザンの骨格を基本に新たにペン
ダント基、あるいは環状、架橋構造が形成されることで
ある。 本発明で用いるポリシラザンは、分子内に少なくとも5
i−H結合、あるいはN−H結合を有するポリシラザン
であればよく、ポリシラザン単独は勿論のこと、ポリシ
ラザンと他のポリマーとの共重合体やポリシラザンと他
の化合物との混合物でも利用できる。 本発明で用いるポリシラザンには、鎖状、環状、あるい
は架橋構造を有するもの、あるいは分子内にこれら複数
の構造を同時に有するものがあり、これら単独でもある
いは混合物でも利用できる。 本発明で用いるポリシラザンの代表例としては
。 下記のようなものがあるが、これらに限定されるもので
はない。 一般式(I)でR’ l R2、及びR3に水素原子
を有するものは、ベルヒドロポリシラザンであり、その
製造法は例えば特開昭60−145903号公報、D、
5eyferthらCommunication o
f Am、 Cer、 Soc、 、 C−13゜Ja
nuary 1983. に報告されている。これら
の方法で得られるものは、種々の構造を有するポリマー
の混合物であるが、基本的には分子内に鎖状部分と環状
部分を含み、 −fSiLNH)r (”5iHJ)’: fliL)
。(a+b+c=1)の化学式で表わすことができる。 ベルヒドロポリシラザンの構造の一例を示すと下記の如
くである。 一般式(I)でR1及びR2に水素原子、R3にメチル
基を有するポリシラザンの製造法は、D、 5eyfe
rthらPolym、Prepr、、 Am、Chem
、Soc、 、 Div。 Polym、 Chem、 、 μト10 (1984
)に報告されている。この方法により得られるポリシラ
ザンは、繰り返し単位が+5i)12N[:’)13
)−の鎮状ポリマーと環状ポリマーであり、いずれも架
橋構造をもたない。 一般式(I)でR1及びR3に水素原子、R2に有機基
を有するポリオルガノ (ヒドロ)シラザンの製造法は
、D、 5eyferthらPolym、 Prepr
、 、 Am、 Chem。 Sac、Div、 Polym、Chem、、 25.
10(1984)、特開昭61−89230号公報に報
告されている。これらの方法により得られるポリシラザ
ンには、−+ R2S i HN H士−を繰り返し単
位として、主として重合度が3〜5の環状構造を有する
ものや (R2SiHNH)x ((R2SiH) l+ sN
〕+−x(0,4< x < 1 )の化学式で示せ
る分子内に鎮状構造と環状構造を同時に有するものがあ
る。 一般式(I)でR1に水素原子、R2及びR3に有機基
を有するポリシラザン、またR1及びR2に有機基、R
3に水素原子を有するものは−f R’R25iNR″
士を繰り返し単位として、主に重合皮が3〜5の環状構
造を有している。 次に本発明で用いるポリシラザンの内、一般式(I)以
外のものの代表例をあげる。 ポリオルガノ (ヒドロ)シラザンの中には、D、 5
eferth らCommunication of
Am、Cer、Soc、 。 C−132,July 1984.が報告している様な
分子内に架橋構造を有するものもある。−例を示すと下
記の如くである。 また、特開昭49−69717号公報に報告されている
様すR’SiX、 (X :ハロゲン)のアンモモア分
解によって得られる架橋構造を有するポリシラザン(R
’5i(NH)x ) 、あルイltR’siX、及び
R’、SiX、(7)共アンモニア分解によって得られ
る下記の構造を有するポリシラザンも本発明の出発原料
として用いす ることができる。 本発明で用いるポリシラザンは、上記の如く一般式(I
)で表わされる単位からなる主鎖骨格を有するが、一般
式(I)で表わされる単位は、上記にも明らかな如く環
状化することがあり、その場合にはその環状部分が末端
基となり、このような環状化されない場合には、主鎖骨
格の末端はR1、R2、R3と同様の基又は水素である
ことができる。ポリシラザンには、以上の如く有機溶媒
に可溶なもののほか、例えば下図に示すものの様に有機
溶媒に不溶なものも原料として利用できるが、これらは
チタンアルコキシドとの反応生成物も有機溶媒に不溶で
あるため、応用面での制限を受けることになる。 NHNH (Si (NH) 2 〕I、M、B111y、 Bu
ll、 Soc、Chim、 Fr1.183 (19
62)一3i −NH−3i − −N N− (SiJ3H]I、M、B111y、Bull、Sac
、Chim、Fr、、1550(1961)C312N
H)! 〕−C313(NH)4]。 !J、 Bi lly、 Compt、 Rend、、
250.4163 (1960) ;251.163
9 (1960)本発明の新規ポリチタノシラザンの数
平均分子量は200〜50万の範囲内である。 また、本発明は、上記の新規ポリチタノシラザンの製造
方法にも係り、この方法は、主として一般式(I) : (R’ 、R2、R’はそれぞれ独立に水素原子、ア
ルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール
基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する基が炭素
である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、アル
コキシ基を表わす。但し、R1、R2、R3の少なくと
も1個は水素原子である。) で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
が約100〜5万のポリシラザンと、一般式(): %式%) (式中、R4は、同一でも異なっていてもよく、水素原
子、炭素原子数1〜20個を有するアルキル基またはア
リール基を表わし、少なくとも1個のR4は上記アルキ
ル基またはアリール基である。)で表わされるチタンア
ルコキシドを反応させて、チタン/ケイ素原子比が0.
001〜3の範囲内かつ数平均分子量が約200〜50
万の新規ポリチタノシラザンを得ることを特徴とする。 本発明に用いるポリシラザンの分子量に特に制約はなく
、入手可能なものを用いることができるが、チタンアル
コキシドとの反応性の点で、式(I)におけるR1.R
2、及びR3は立体障害の小さい基が好ましい。即ち、
R1,R2及びR3としては水素原子及びCI〜、のア
ルキル基が好ましく、水素原子及び01〜・2のアルキ
ル基がさらに好ましい。 本発明で用いるチタンアルコキシドに特に制約はないが
、反応性の点で、式(1)におけるR4はC1〜2oの
アルキル基が好ましく、C8〜10のアルキル基がさら
に好ましく、01〜4のアルキル基が最も好ましい。ポ
リシラザンとチタンアルコキシドとのの混合比は、Ti
/Si原子比が0.001から60になるように、好ま
しくは0.01から5になるように、さらに好ましくは
0.05から0.7になる様に加える。チタンアルコキ
シドの添加量をこれより増やすとポリシラザンとの反応
性を高めることなく、単にチタンアルコキシドが未反応
のまま回収され、また、少ないと顕著な高分子量化が起
こらない。 反応は、無溶媒で行なうこともできるが、有機溶媒を使
用する時に比べて反応制御が難しく、ゲル状物質が生成
する場合もあるので、一般に有機溶媒を用いた方が良い
。溶媒としては、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂
環式炭化水素の炭化水素溶媒、ハロゲン化炭化水素、脂
肪族エーテノペ脂環式エーテル類が使用できる。好まし
い溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン
、塩化メチレン、クロロホルム、エチルエーテノベテト
ラヒドロフラン等があげられる。 反応温度は反応系が液体系である範囲にするのが好まし
い。ポリチタノシラザンの高分子量化をさらに進めるに
は溶媒の沸点以上で反応させることもできるが、ポリチ
タノシラザンの熱分解によるゲル化を防ぐため、一般に
400℃以下にするのが好ましい。 圧力は常圧が好ましい。加圧にすることには特に制約は
ないが、減圧下では、低沸点成分が留去され、収率が低
下するので好ましくない。反応時間は、一般に30分間
から1日程度であるが、ポリチタノシラザンの高分子量
化をさらに進めるには、反応時間を延長することが好ま
しい。 また、反応雰囲気としては原料のチタンアルコキシド及
びポリシラザンあるいは生成物のポリチタノシラザンの
酸化や加水分解を防ぐため、乾燥させた不活性雰囲気、
例えば乾燥窒素、乾燥アルゴン等が好ましい。 生成物のポリチタノシラザンと出発原料のチタンアルコ
キシドとは、チタンアルコキシドの減圧留去あるいはゲ
ルパーミェーションクロマトクラフィー、高速液体クロ
マトグラフィーによって分離することができる。 本発明の方法で得られる新規ポリチタノシラザンは、ポ
リシラザンの一部のケイ素−水素結合がチタンアルコキ
シドの有機基と縮合し、新たにケイ素−酸素−チタン結
合を形成し、かつ/または、ポリシラザンの一部の窒素
−水素結合もチタンアルコキシドと縮合した構造を有す
る重合体である。 この数平均分子量は200〜50万であり、有機溶媒に
可溶である。 本発明のポリチタノシラザンは、雰囲気ガス下、あるい
は真空中で焼成することにより、セラミックスに変換さ
れる。雰囲気ガスとしては窒素が好都合であるが、アル
ゴン、アンモニアを用いルコともできる。また、窒素、
アンモニア、アルゴン、水素等の混合ガスを利用するこ
ともできる。 焼成温度は、一般には、700〜1900℃の範囲内と
する。焼成温度が低すぎると焼成に長時間を要し、また
あまり高くしてもエネルギーコスト的に不利である。 〔実施例〕 以下実施例について説明する。 参考例1 〔原料ベルヒドロポリシラザンの製造〕内容
積11の四つロフラスコにガス吸き込み管メカニカルス
ターラー、ジュワーコンデンサーを装置した。反応器内
部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四つロフラスコ
に脱気した乾燥ピリジン490−を入れ、これを氷冷し
た。次にジクロロシラン51.6 gを加えると白色固
体状のアダクト(SiH2Cj! ・2C,H5N)
が生成した。反応混合物を氷冷し、攪拌しながら、水酸
化ナトリウム管及び活性炭管を通して精製したアンモニ
ア51.0gを吹き込んだ後、100℃で加熱した。 反応終了後、反応混合物を遠心分離し、乾燥ピリジンを
用いて洗浄した後、更に窒素雲囲気下で・ろ過してろ液
850−を得た。ろ液5−から溶媒を滅失留去すると樹
脂状固体ベルヒドロポリシラザン0.102 gが得ら
れた。 得られたポリマーの数平均分子量は、凝固点降下法(溶
媒:乾燥ベンゼン)により測定したところ、1120で
あった。IR(赤外吸収)スペクトル(溶媒:乾燥0−
キシレン;ベルヒドロポリシラザンの濃度:10.2g
/β)は、第1図に示す様に波数(am−’) 335
0 (見かけの吸光係数ε=0.5571g”−’Cm
″″l)、及び1175ONHに基づく吸収;2170
(ε=3.14)のSiHに基づく吸収; 1020
〜820のSiH及び5iNSiに基づく吸収を示して
いる。 ’ HNMR(プロトン核磁気共鳴)スペクトル(60
MHz 。 溶媒CDCJ。/基準物質TMS)は、第2図に示す様
にいずれも幅広い吸収を示している。即ち、δ4.8及
び4.4 (br、、5iH) ; 1.5 (br、
、 NH)の吸収が観測された。 参考例2〔ポリメチル(ヒドロ)シラザンの製造〕内容
積500−の四つロフラスコにガス吹込管、温度計、メ
カニカルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置した
。反応系内を窒素ガスで置換しり後、四つロフラスコに
メチルジクロロシラン(CH3SillCl 2.24
.3 g+ o、 211m0j! ’)と乾燥ジクロ
ロメタン300−を入れた。これを氷冷し、攪拌しな
□がら、乾燥アンモニア20.5g(1,20m
on )を窒素ガスとともに吹き込んでアンモニア分解
を行なった。 反応終了後、反応混合物を遠心分離した後、濾過した。 濾液から溶媒を減圧除去し、ポリメチル(ヒドロ)シラ
ザンを無色の液体として8.79g得た。生成物の数平
均分子量を凝固点降下法により測定したところ、310
であった。 参考例3〔ポリメチル(ヒドロ)シラザンの製造〕内容
積100−の四つロフラスコにガス導入管、温度計、コ
ンデンサー及び滴下ロートを装着し、反応系内をアルゴ
ンガスで置換した。四つロフラスコに乾燥テトラヒドロ
フラン12−1及び水素化カリウム0.189g (4
,71mmoA )を入れ、磁気攪拌を開始した。滴下
ロートに参考例2の合成品5.00g及び乾燥テトラヒ
ドロフラン50−を入れ、これを水素化カリウムに滴下
した。室温で1時間反応させた後、滴下ロートにヨウ化
メタン1.60g(11,3mmoIt) 、及び乾燥
テトラヒドロフランINiを入れ、これを反応溶液に滴
下した。室温で3時間反応させた後、反応混合物の溶媒
を減圧留去し、乾燥n−ヘキサン40117を加えて遠
心分離し、濾過した。濾液の溶媒を減圧留去すると、ポ
リメチル(ヒドロ)シラザンが白色粉末として4.85
g得られた。生成物の数平均分子量は、凝固点降下法に
より測定したところ、1060であった。IRスペクト
ル(乾燥0−キシレン;ポリメチル(ヒドロ)シラザン
の濃度: 43.2 g / l )は第3図に示す様
に3380car’ (見かけの吸光係数ε=0.24
9βg −1cm−’)、及び1160cm−’のNH
に基づく吸収; 2120am−’(+:=Q。822
)のSiHに基づく吸収;1255cm−’の5iCl
13に基づく吸収を示している。 ’HNMRスペクト/l/ (50MI(z 、CD(
[3/C6H6)を第4図に示す。δ4.7 (SiH
,0,568) 2.4(NCH3゜0.15H) :
0.7 (NH,0,5LH) ; 0.2(SiC
l2,3)1)の吸収が観測されたことから生成物は(
CI13SIHNH)。、51(CH3SIN)。、
44 (CH3S 1HNCH3)。、。、なる組成を
有することが確J忍された。 実施例1 参考例1で得られたベルヒドロポリシラザンの乾燥o−
+シレン溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度8.30
g/j!> 10.0−に窒素雲囲気下でチタンテトラ
イソプロポキシド0.234g (0,823mmof
)を加え、激しく攪拌すると、反応溶液は無色から黒
色に変化した。 この反応溶液のIRスペクトル(乾燥O−キシレン)を
第5図に示す。3350及び2170cr’の見かけの
吸光係数t(Ig−’am″″)は、それぞれ0.35
6、及び2.34に減少した。先に作成しておいたベル
ヒドロポリシラザンの検量線との比較により、NHに基
づく吸収(3350cm−’ )に対する濃度は5.2
0g/f、一方SiHに基づく吸収(2170cm−’
)に対する濃度は、5.90g/Itに相当していた。 即ち、チタンテトライソプロポキシドとの反応により、
ベルヒドロポリシラザン中の5i−H結合が約29%、
またN−H結合が約37%消失していることが確認され
た。3350、及び2170cm−’の吸収以外に、1
365及び1335 (δ(CH3) 2CH−) :
1160 、112°5.及び1000 (ν(C−0
)Ti);950 (ν5iOTi、ν(C−0)Ti
) ;615(νT 1−0)の吸収が観測された。 実施例2 内容積20α−の四つロフラスコにコンデンサー、シー
ラムキャップ、温度計、及びマグネティックスターシー
を装置した。反応器内部を乾燥窒素で置換した後、四つ
ロフラスコに参考例1で得られたベルヒドロポリシラザ
ンのベンゼン溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度:4
.57重量%)110gを入れ、攪拌しながらチタンテ
トライソプロポキシド6.30 g (22,2mmo
j2 )を乾燥ベンゼン6.5−に溶解させたものを
注射器を用いて加えた。反応溶液は無色から淡褐色、紫
色、黒色へと変化した。反応終了後、溶媒を減圧留去す
ると、ポリヒドロチタノシラザンが暗褐色固体として得
られた。収率は84.0重量%であった。 生成したポリマーの数平均分子量は、凝固点降下法(溶
媒:乾燥ベンゼン)により測定したところ1840であ
った。ここで得られたポリマーは、ベルヒドロポリシラ
ザンとチタンアルコキシドが単に混合されたものではな
く、両物質の縮合反応により高分子量化したものである
。 IRスペクトル(乾燥ベンゼン)を第6図に示す、実施
例1における生成物(第5図参照)とほぼ同様のスペク
トルが観測された。’HNMRスペク) ル(60MH
z、 CDC’ s /TMS)を第7図に示す。 δ4.7及び4.3 (br、、 5l)I −(CL
) 2CHO−) :1、2 (d 、 (Ct13
)2 CHD−、NH)のスペクトルが観測された。 得られたポリマーの元素分析の結果、同ポリマーはSi
:33.0 、Ti:9.8 、N:14.0.0:
11.8 、C:23.4およびH:6.6 (各重
量%)の組成を有していた。 この得られたポリマーを窒素雰囲気下、1350℃で1
時間焼成すると黒色固体が72重量%の収率で得られた
。この物質のX線粉末回折測定を行なったところ、第8
図に示す様に、非晶質TiN相の回折線のみが観測され
た。ベルヒドロポリシラザンを同一条件で焼成するとX
線的に結晶質の窒化珪素の生成が確認されているが、ポ
リヒドロチタノシラザンを前駆体とすると、非晶質Ti
N相の生成により、窒化珪素の非晶質状態がより高温ま
で保持されている。 得られたセラミックスの元素分析結果(重量%)は、S
i:41.3; Ti:12.9; N:20.5;
0:19゜9; C:4.5であった。 使用例1 実施例2で得られたポリヒドロチタノシラザンのベンゼ
ン溶液にポリエチルメタクリレート(分子量34万)を
ポリヒドロチタノシラザンに対して4.0重量%加え、
1時間攪拌した後、溶媒を減圧留去して濃縮することに
より、紡糸溶液として60重量%のポリヒドロチタノシ
ラザンを含むベンゼン溶液が得られた。これをノズルか
ら大気中に吐出させると淡褐色繊維が得られた。続いて
、これを窒素雰囲気下で5℃/分で昇温させて1100
℃で3時間加熱することにより黒色繊維が得られた。 使用例2 実施例2で得られたポリヒドロチタノシラザンのベンゼ
ン溶液にポリエチルメタクリレート(分子量34万)を
ポリヒドロチタノシラザンに対して2.0重量%加え、
1時間攪拌した。これをなめらかなテフロン基体上に展
開させ、溶媒を減圧留去した後、さらに100℃で5時
間乾燥させた。得られたチタノシラザン膜を窒素雰囲気
下で5℃/分で昇温させて1000℃で3時間加熱する
ことにより黒色の耐熱性膜が得られた。 実施例4 内容積50−Zの四つロフラスコにコンデンサー、シー
ラムキャップ、温度計、及びマグネティックスターシー
を装置した。反応器内部を乾燥窒素で置換した後、参考
例3で合成したポリメチル(ヒドロ)シラザン0.73
3g、及び乾燥0−キシレン20−を入れ、攪拌しなが
らチタンテトライソプロポキシド0.846g(2,9
8mmoj )を加えた。これを130℃から135℃
で反応させると、溶液は無色から黄色に変化した。反応
終了後、反応溶液を室温まで冷却させた後、窒素雰囲気
下で25−メスフラスコに移し、標線まで乾燥0−キシ
レンを加えて、攪拌し、IRスペクトルを測定した。 第9図に示す様に3380及び2120cm″″1の見
かけの吸光係数t (fg−’am−’)は、それぞれ
0.193、及び0.669に減少した。先に作成して
おいたポリメチル(ヒドロ)シラザン(参考例3の合成
品)の検量線との比較により、NHに基づく吸収(33
80car’)に対する濃度は22゜7 g / It
、一方SiHに基づく吸収(2120cm−’)に対す
る濃度は23.9 g / Itに相当していた。即ち
、チタンテトライソプロポキシドとの反応により、ポリ
メチル(ヒドロ)シラザン中のN−H結合が22%、ま
た5i−H結合が19%消失していることが確認された
。3380、及び2120cm−’の吸収以外に、13
60及び1330cm−’(δ(ct+、LcH−);
1160.1120、及び995cm−’ (ν(C
−0)Ti) :6/15cm−’ (シTi−C1)
の吸収が観測された。 反応溶液の溶媒を減圧留去すると青色固体、0、972
gが得られた。収率は61.6重量%であった。 生成したポリメチルチタノシラザンの数平均分子量は凝
固点降下法により測定したところ1510であった。 元素分析の結果、同ポリマーはSi:36.4. Ti
:5.3゜N:17.8.0:6.6. C:27.1
及びH:5.9(各重量%)の組成を有していた。 なお、乾燥0−キシレン中のポリメチル(ヒドロ)シラ
ザン(参考例3の合成品)をチタンテトライソプロポキ
シドを用いない他は実施例3と同一条件で熱処理した。 生成物のIRスペクトルは出発物質と同一であり、ポリ
メチル(ヒドロ)シラザンのN−H結合、及び5i−H
結合は未反応であることから、実施例3の加熱処理だけ
ではポリメチル(ヒドロ)シラザンは変化しないことが
確認された。 〔発明の効果〕 本発明によって新規に提供されるポリチタノシラザンは
、有機溶媒に可溶であり、焼成後5i−Ti−N−0系
またはS i−T 1−O−N−C系セラミックスに変
換されるため、高性能の複合セラミックス成形体を得る
ことができる。即ち、高温機械強度が高く、耐熱性、耐
食性、耐熱衝撃性に優れた高硬度の連続繊維、フィルム
、被覆膜、粉末、発泡体等を得ることができ、また焼結
用結合剤、含浸剤等として利用することも可能である。 特に、本発明の新規なポリチタノシラザンは次のような
効果あるいは利点がある。 (1)ポリチタノシラザンを高温焼成すると、非晶質の
TiN相が生成し、これが第2の耐人相となるため、例
えばベルヒドロポリシラザン繊維を高温焼成した時に観
測される結晶性のα型やβ型窒化珪素の生成を抑制させ
ることができるので、セラミックス繊維の機械的強度が
向上する。 (2) ポリチタノシラザンは、原料のポリシラザンに
比べて架橋構造及び、分子量が増加するため、賦形後の
乾燥工程における凝固性が向上する。 (3)ポリチタノシラザンの焼成で得られる5i−Ti
−N−0系又はS i−T 1−N−0−C系セラミッ
クスには、チタン原子が、TiN相等の形で含有されて
いるため、複合材料として利用する際、金属(特にチタ
ン)との適合性が向上する。 4、図面の簡単な説明 第1図および第2図は参考例1で作成したベルヒドロポ
リシラザンのそれぞれIRスペクトル図および’ HN
MRスペクトル図、第3図および第4図は参考例3で作
成したポリメチル(ヒドロ)シラザンのそれぞれIRス
ペクトル図および’)INMRスペクトル図、第5図は
実施例1で作成したポリチタノシラザンのIRスペクト
ル図、第6図および第7図は実施例2で作成したポリチ
タノシラザンのそれぞれIRスペクトル図および’ H
NMRスペクトル図、第8図は実施例2のポリチタノシ
ラザンを焼成したセラミックスのX線粉末回折図、第9
図は実施例3で作成したポリチタノシラザンのIRスペ
クトル図である。
リシラザンのそれぞれIRスペクトル図および’ HN
MRスペクトル図、第3図は実施例1で作成したポリチ
タノシラザンのIRスペクトル図、第4図および第5図
は実施例2で作成したポリチタノシラザンのそれぞれI
Rスペクトル図および’ HNMRスペクトル図、第6
図は実施例2のポリチタノシラザンを焼成したセラミッ
クスのX線粉末回折図、第7図および第8図は参考例3
で作成したポリメチル(ヒドロ)シラザンのそれぞれI
Rスペクトル図および’ HNMRスペクトル図、第9
図は実施例5で作成したポリチタノシラザンのIRスペ
クトル図である。 手続補正書(自発) 昭和62年12月24日 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 1、事件の表示 昭和61年特許願第223790号 2、 発明の名称 新規ポリチタノシ、ラザく及びその製造方法(新名称) 3、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 東亜燃料工業株式会社 4、代理人 住所 〒105東京都港区虎ノ門−丁目8番10号5、
補正によって増加する発明の数 1)図 6、補正の対象 (1)明細書の「発明の名称」の欄 (2)明細書全文 (3)図面(第3〜8図) 7、補正の内容 シンキ オヨ(
1、発明の名称を「新規ポリチタノシラザン及(2)明
細書全文を別紙の通りに補正する。 (3)第3〜8図を別紙の通りに補正する。 8、添付書類の目録 (1)全文補正明細書 1通(2)
図面(第3〜8図) 1通全文補正明
細書 1、発明の名称 新規ポリチタノシラザン及びその製造方法2、特許請求
の範囲 ある。) (■): Ti(OR’)、 (II)(
式中、R4は、同一でも異なっていてもよく、水素原子
、炭素原子数1〜20個を有するアルキ一←Si
N寸−(I) R2R3 (R’ 、R2、R3はそれぞれ独立に水素原子、ア
ルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール
基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する基が炭素
である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、アル
コキシ基を表わす。但し、R1、R2、R3の少なくと
も1個は水素原子である。) で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
が約100〜5万のポリシラザンと、一般式(): %式% (式中、R4は、同一でも異なっていてもよく、水素原
子、炭素原子数1〜20個を有するアルキル基またはア
リール基を表わし、少なくとも1個のR4は上記アルキ
ル基またはアリール基である。)で表わされるチタンア
ルコキシドを反応させて、チタン/ケイ素原子比が0.
001〜3の範囲内かつ数平均分子量が約200〜50
万の新規ポリチタノシラザンを得ることを特徴とするポ
リチタノシラザンの製造方法。 3、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規ポリチタノシラザン及びその製造方法に係
る。このポリチタノシラザンを前駆体として得られるケ
イ素−チタン−窒素−酸素系またはケイ素−チタン−窒
素−酸素−炭素系セラミックスは耐熱・高硬度材料ある
いは複合材料の強化材として有用であり、化学・金属、
航空・宇宙、機械・精密、自動車産業での広範な利用が
期待される。 〔従来の技術〕 分子内にケイ素−酸素一チタン結合を有し、かつ/また
は窒素原子とチタンアルコキシドが縮合したポリチタノ
シラザンについては、従来知られていない。 類似の化合物としては、ポリカルボシランにチタンアル
コキシドを反応させて製造したポリチタノカルボシラン
、およびポリカルボシランに有機ジルコニウム化合物を
反応させて製造したポリジルコノカルボシランが知られ
ている(特開昭56−74126号公報および同56−
92923号公報)。 また、ポリシラザンについては、ハロシランとアンモニ
アを反応させて製造したベルヒドロポリシラザンあるい
はポリオルガノ (ヒドロ)シラザンなどが種々報告さ
れている(特開昭60−145903号公報、D、 5
eyferthら“A Liquid 5ilazan
ePrecursor To 5ilicon N1t
rideIl、Communicationsof A
me、Cer、 Sac、 、 1983年1月、特開
昭60−226890号、特開昭61−89230号公
報など)。 〔発明が解決しようとする問題点〕 ポリチタノカルボシラン、あるいはポリジルコ間 アルミニウムなどの溶融金属との反応性が高く、強度劣
化を起こすため、金属との複合材料を製造する際、必ず
しも十分な特性が得られないという問題がある。 また、ポリシラザンを前駆体として得られる窒化ケイ素
系セラミックスを金属との複合材料として利用する場合
、金属との親和性が十分でないという問題がある。 以上の点が改善できれば、耐熱・高硬度材料や複合材料
としての有用性が著しく高められる。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は、上記のような課題を新規なポリチタノシラザ
ン及びその製造方法を提供することによって解決する。 本発明によれば、主として一般式(I):(R’ 、
R2、R3はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、ア
ルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、またはこ
れらの基以外でケイ素に直結する基が炭素である基、ア
ルキルシリル基、アルキルアミノ基、アルコキシ基を表
わす。但し、R’、R2、R3の少なくとも1個は水素
原子である。) で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
が約100〜5万のポリシラザンと、一般式(): %式%() (式中、R4は、同一でも異なっていてもよく、水素原
子、炭素原子数1〜20個を有するアルキル基またはア
リール基を表わし、少なくとも1個のR4−は上記アル
キル基ま゛たはアリール基である。)で表わされるチタ
ンアルコキシドを反応させて得られる、チタン/ケイ素
原子比が0.001〜30の範囲内かつ数平均分子量が
約200〜50万の新規ポリチタノシラザンが提供され
る。 本発明によって提供される新規なポリチタノシラザンは
、ポリシラザンの主骨格中の少なくとも一部のケイ素原
子に結合した水素原子および/または窒素原子に結合し
た水素原子とチタンアルコキシドとが反応して、そのケ
イ素原子および/または窒素原子がチタンアルコキシド
と縮合した側鎖基あるいは、環状、架橋構造を有するこ
とを特徴とする化合物である。 ポリシラザンの5i−H結合とチタンアルコキシドとの
反応では、チタンアルコキシド(Tl (OR’) 4
)の有機基(R4)が、5i−H結合の水素原子を引き
抜いてR’Hを生じて脱離することにより、5i−0−
Ti結合が形成される。 >N−3l−H+T+(OR’) 4→>N−3i−0
−Ti(OR’) 3+R’)1一方、ポリシラザンの
N−H結合と、チタンアルコキシドとの反応ではチタン
アルコキシドにより、N−H結合の水素原子が引き抜か
れ、下記のようにN−0−T i結合又はN−Ti結合
(以下、これらをN−Y−Ti結合として表わす)が形
成される。 チタンアルコキシドは最大4官能性であることができる
ので、出発チタンアルコキシドの種類あるいは反応条件
に応じて、生成するポリチタノシラザンはチタンに関し
て1〜4官能性の重合体であることができる。1官能性
重合体はポリシラザンの主鎖のSiおよび/またはNに
ペンダント基が導入された下記構造を有する。 R’ HR’ MへSi −N−〜−3i−N(III)l
II OHY Tl(OR’)3 Ti(OR’)32.
3.4官能性重合体ではポリシラザン骨格にT1原子を
介して環状、架橋構造が形成される。 環状構造はチタンアルコキシド1分子内の2個の官能基
が、ポリシラザンの隣り合うケイ素原子及び窒素原子と
縮合した構造が含まれる。架橋構造はチタンアルコキシ
ドの2個以上の官能基が、2分子以上のポリシラザンと
縮合した場合に生じる。 R’ HR’ wS i −N −ry S i −N ”[
] HY Ti(OR’) 2 Tl (OR’)
2OR’ Y 1坑Si −N−/ψ WS i −N昂H ■ f−AAN −8Vφ^ また、3.4官能性重合体の中には上記の環状構造と架
橋構造を同時に有するものもある。通常、ポリシラザン
とチタンアルコキシドとの反応により、(I[I)又は
(■)で示した重合体が得られる。 以上の様にポリシラザンからポリチタノシラザンへの構
造上の変化は、ポリシラザンの骨格を基本に新たにペン
ダント基、あるいは環状、架橋構造が形成されることで
ある。 本発明で用いるポリシラザンは、分子内に少なくとも5
i−H結合、あるいはN−H結合を有するポリシラザン
であればよく、ポリシラザン単独は勿論のこと、ポリシ
ラザンと他のポリマーとの共重合体やポリシラザンと他
の化合物との混合物でも利用できる。 本発明で用いるポリシラザンには、鎖状、環状、あるい
は架橋構造を有するもの、あるいは分子内にこれら複数
の構造を同時に有するものがあり、これら単独でもある
いは混合物でも利用できる。 本発明で用いるポリシラザンの代表例としては
。 下記のようなものがあるが、これらに限定されるもので
はない。 一般式(I)でR’ l R2、及びR3に水素原子
を有するものは、ベルヒドロポリシラザンであり、その
製造法は例えば特開昭60−145903号公報、D、
5eyferthらCommunication o
f Am、 Cer、 Soc、 、 C−13゜Ja
nuary 1983. に報告されている。これら
の方法で得られるものは、種々の構造を有するポリマー
の混合物であるが、基本的には分子内に鎖状部分と環状
部分を含み、 −fSiLNH)r (”5iHJ)’: fliL)
。(a+b+c=1)の化学式で表わすことができる。 ベルヒドロポリシラザンの構造の一例を示すと下記の如
くである。 一般式(I)でR1及びR2に水素原子、R3にメチル
基を有するポリシラザンの製造法は、D、 5eyfe
rthらPolym、Prepr、、 Am、Chem
、Soc、 、 Div。 Polym、 Chem、 、 μト10 (1984
)に報告されている。この方法により得られるポリシラ
ザンは、繰り返し単位が+5i)12N[:’)13
)−の鎮状ポリマーと環状ポリマーであり、いずれも架
橋構造をもたない。 一般式(I)でR1及びR3に水素原子、R2に有機基
を有するポリオルガノ (ヒドロ)シラザンの製造法は
、D、 5eyferthらPolym、 Prepr
、 、 Am、 Chem。 Sac、Div、 Polym、Chem、、 25.
10(1984)、特開昭61−89230号公報に報
告されている。これらの方法により得られるポリシラザ
ンには、−+ R2S i HN H士−を繰り返し単
位として、主として重合度が3〜5の環状構造を有する
ものや (R2SiHNH)x ((R2SiH) l+ sN
〕+−x(0,4< x < 1 )の化学式で示せ
る分子内に鎮状構造と環状構造を同時に有するものがあ
る。 一般式(I)でR1に水素原子、R2及びR3に有機基
を有するポリシラザン、またR1及びR2に有機基、R
3に水素原子を有するものは−f R’R25iNR″
士を繰り返し単位として、主に重合皮が3〜5の環状構
造を有している。 次に本発明で用いるポリシラザンの内、一般式(I)以
外のものの代表例をあげる。 ポリオルガノ (ヒドロ)シラザンの中には、D、 5
eferth らCommunication of
Am、Cer、Soc、 。 C−132,July 1984.が報告している様な
分子内に架橋構造を有するものもある。−例を示すと下
記の如くである。 また、特開昭49−69717号公報に報告されている
様すR’SiX、 (X :ハロゲン)のアンモモア分
解によって得られる架橋構造を有するポリシラザン(R
’5i(NH)x ) 、あルイltR’siX、及び
R’、SiX、(7)共アンモニア分解によって得られ
る下記の構造を有するポリシラザンも本発明の出発原料
として用いす ることができる。 本発明で用いるポリシラザンは、上記の如く一般式(I
)で表わされる単位からなる主鎖骨格を有するが、一般
式(I)で表わされる単位は、上記にも明らかな如く環
状化することがあり、その場合にはその環状部分が末端
基となり、このような環状化されない場合には、主鎖骨
格の末端はR1、R2、R3と同様の基又は水素である
ことができる。ポリシラザンには、以上の如く有機溶媒
に可溶なもののほか、例えば下図に示すものの様に有機
溶媒に不溶なものも原料として利用できるが、これらは
チタンアルコキシドとの反応生成物も有機溶媒に不溶で
あるため、応用面での制限を受けることになる。 NHNH (Si (NH) 2 〕I、M、B111y、 Bu
ll、 Soc、Chim、 Fr1.183 (19
62)一3i −NH−3i − −N N− (SiJ3H]I、M、B111y、Bull、Sac
、Chim、Fr、、1550(1961)C312N
H)! 〕−C313(NH)4]。 !J、 Bi lly、 Compt、 Rend、、
250.4163 (1960) ;251.163
9 (1960)本発明の新規ポリチタノシラザンの数
平均分子量は200〜50万の範囲内である。 また、本発明は、上記の新規ポリチタノシラザンの製造
方法にも係り、この方法は、主として一般式(I) : (R’ 、R2、R’はそれぞれ独立に水素原子、ア
ルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール
基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する基が炭素
である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、アル
コキシ基を表わす。但し、R1、R2、R3の少なくと
も1個は水素原子である。) で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
が約100〜5万のポリシラザンと、一般式(): %式%) (式中、R4は、同一でも異なっていてもよく、水素原
子、炭素原子数1〜20個を有するアルキル基またはア
リール基を表わし、少なくとも1個のR4は上記アルキ
ル基またはアリール基である。)で表わされるチタンア
ルコキシドを反応させて、チタン/ケイ素原子比が0.
001〜3の範囲内かつ数平均分子量が約200〜50
万の新規ポリチタノシラザンを得ることを特徴とする。 本発明に用いるポリシラザンの分子量に特に制約はなく
、入手可能なものを用いることができるが、チタンアル
コキシドとの反応性の点で、式(I)におけるR1.R
2、及びR3は立体障害の小さい基が好ましい。即ち、
R1,R2及びR3としては水素原子及びCI〜、のア
ルキル基が好ましく、水素原子及び01〜・2のアルキ
ル基がさらに好ましい。 本発明で用いるチタンアルコキシドに特に制約はないが
、反応性の点で、式(1)におけるR4はC1〜2oの
アルキル基が好ましく、C8〜10のアルキル基がさら
に好ましく、01〜4のアルキル基が最も好ましい。ポ
リシラザンとチタンアルコキシドとのの混合比は、Ti
/Si原子比が0.001から60になるように、好ま
しくは0.01から5になるように、さらに好ましくは
0.05から0.7になる様に加える。チタンアルコキ
シドの添加量をこれより増やすとポリシラザンとの反応
性を高めることなく、単にチタンアルコキシドが未反応
のまま回収され、また、少ないと顕著な高分子量化が起
こらない。 反応は、無溶媒で行なうこともできるが、有機溶媒を使
用する時に比べて反応制御が難しく、ゲル状物質が生成
する場合もあるので、一般に有機溶媒を用いた方が良い
。溶媒としては、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂
環式炭化水素の炭化水素溶媒、ハロゲン化炭化水素、脂
肪族エーテノペ脂環式エーテル類が使用できる。好まし
い溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン
、塩化メチレン、クロロホルム、エチルエーテノベテト
ラヒドロフラン等があげられる。 反応温度は反応系が液体系である範囲にするのが好まし
い。ポリチタノシラザンの高分子量化をさらに進めるに
は溶媒の沸点以上で反応させることもできるが、ポリチ
タノシラザンの熱分解によるゲル化を防ぐため、一般に
400℃以下にするのが好ましい。 圧力は常圧が好ましい。加圧にすることには特に制約は
ないが、減圧下では、低沸点成分が留去され、収率が低
下するので好ましくない。反応時間は、一般に30分間
から1日程度であるが、ポリチタノシラザンの高分子量
化をさらに進めるには、反応時間を延長することが好ま
しい。 また、反応雰囲気としては原料のチタンアルコキシド及
びポリシラザンあるいは生成物のポリチタノシラザンの
酸化や加水分解を防ぐため、乾燥させた不活性雰囲気、
例えば乾燥窒素、乾燥アルゴン等が好ましい。 生成物のポリチタノシラザンと出発原料のチタンアルコ
キシドとは、チタンアルコキシドの減圧留去あるいはゲ
ルパーミェーションクロマトクラフィー、高速液体クロ
マトグラフィーによって分離することができる。 本発明の方法で得られる新規ポリチタノシラザンは、ポ
リシラザンの一部のケイ素−水素結合がチタンアルコキ
シドの有機基と縮合し、新たにケイ素−酸素−チタン結
合を形成し、かつ/または、ポリシラザンの一部の窒素
−水素結合もチタンアルコキシドと縮合した構造を有す
る重合体である。 この数平均分子量は200〜50万であり、有機溶媒に
可溶である。 本発明のポリチタノシラザンは、雰囲気ガス下、あるい
は真空中で焼成することにより、セラミックスに変換さ
れる。雰囲気ガスとしては窒素が好都合であるが、アル
ゴン、アンモニアを用いルコともできる。また、窒素、
アンモニア、アルゴン、水素等の混合ガスを利用するこ
ともできる。 焼成温度は、一般には、700〜1900℃の範囲内と
する。焼成温度が低すぎると焼成に長時間を要し、また
あまり高くしてもエネルギーコスト的に不利である。 〔実施例〕 以下実施例について説明する。 参考例1 〔原料ベルヒドロポリシラザンの製造〕内容
積11の四つロフラスコにガス吸き込み管メカニカルス
ターラー、ジュワーコンデンサーを装置した。反応器内
部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四つロフラスコ
に脱気した乾燥ピリジン490−を入れ、これを氷冷し
た。次にジクロロシラン51.6 gを加えると白色固
体状のアダクト(SiH2Cj! ・2C,H5N)
が生成した。反応混合物を氷冷し、攪拌しながら、水酸
化ナトリウム管及び活性炭管を通して精製したアンモニ
ア51.0gを吹き込んだ後、100℃で加熱した。 反応終了後、反応混合物を遠心分離し、乾燥ピリジンを
用いて洗浄した後、更に窒素雲囲気下で・ろ過してろ液
850−を得た。ろ液5−から溶媒を滅失留去すると樹
脂状固体ベルヒドロポリシラザン0.102 gが得ら
れた。 得られたポリマーの数平均分子量は、凝固点降下法(溶
媒:乾燥ベンゼン)により測定したところ、1120で
あった。IR(赤外吸収)スペクトル(溶媒:乾燥0−
キシレン;ベルヒドロポリシラザンの濃度:10.2g
/β)は、第1図に示す様に波数(am−’) 335
0 (見かけの吸光係数ε=0.5571g”−’Cm
″″l)、及び1175ONHに基づく吸収;2170
(ε=3.14)のSiHに基づく吸収; 1020
〜820のSiH及び5iNSiに基づく吸収を示して
いる。 ’ HNMR(プロトン核磁気共鳴)スペクトル(60
MHz 。 溶媒CDCJ。/基準物質TMS)は、第2図に示す様
にいずれも幅広い吸収を示している。即ち、δ4.8及
び4.4 (br、、5iH) ; 1.5 (br、
、 NH)の吸収が観測された。 参考例2〔ポリメチル(ヒドロ)シラザンの製造〕内容
積500−の四つロフラスコにガス吹込管、温度計、メ
カニカルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置した
。反応系内を窒素ガスで置換しり後、四つロフラスコに
メチルジクロロシラン(CH3SillCl 2.24
.3 g+ o、 211m0j! ’)と乾燥ジクロ
ロメタン300−を入れた。これを氷冷し、攪拌しな
□がら、乾燥アンモニア20.5g(1,20m
on )を窒素ガスとともに吹き込んでアンモニア分解
を行なった。 反応終了後、反応混合物を遠心分離した後、濾過した。 濾液から溶媒を減圧除去し、ポリメチル(ヒドロ)シラ
ザンを無色の液体として8.79g得た。生成物の数平
均分子量を凝固点降下法により測定したところ、310
であった。 参考例3〔ポリメチル(ヒドロ)シラザンの製造〕内容
積100−の四つロフラスコにガス導入管、温度計、コ
ンデンサー及び滴下ロートを装着し、反応系内をアルゴ
ンガスで置換した。四つロフラスコに乾燥テトラヒドロ
フラン12−1及び水素化カリウム0.189g (4
,71mmoA )を入れ、磁気攪拌を開始した。滴下
ロートに参考例2の合成品5.00g及び乾燥テトラヒ
ドロフラン50−を入れ、これを水素化カリウムに滴下
した。室温で1時間反応させた後、滴下ロートにヨウ化
メタン1.60g(11,3mmoIt) 、及び乾燥
テトラヒドロフランINiを入れ、これを反応溶液に滴
下した。室温で3時間反応させた後、反応混合物の溶媒
を減圧留去し、乾燥n−ヘキサン40117を加えて遠
心分離し、濾過した。濾液の溶媒を減圧留去すると、ポ
リメチル(ヒドロ)シラザンが白色粉末として4.85
g得られた。生成物の数平均分子量は、凝固点降下法に
より測定したところ、1060であった。IRスペクト
ル(乾燥0−キシレン;ポリメチル(ヒドロ)シラザン
の濃度: 43.2 g / l )は第3図に示す様
に3380car’ (見かけの吸光係数ε=0.24
9βg −1cm−’)、及び1160cm−’のNH
に基づく吸収; 2120am−’(+:=Q。822
)のSiHに基づく吸収;1255cm−’の5iCl
13に基づく吸収を示している。 ’HNMRスペクト/l/ (50MI(z 、CD(
[3/C6H6)を第4図に示す。δ4.7 (SiH
,0,568) 2.4(NCH3゜0.15H) :
0.7 (NH,0,5LH) ; 0.2(SiC
l2,3)1)の吸収が観測されたことから生成物は(
CI13SIHNH)。、51(CH3SIN)。、
44 (CH3S 1HNCH3)。、。、なる組成を
有することが確J忍された。 実施例1 参考例1で得られたベルヒドロポリシラザンの乾燥o−
+シレン溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度8.30
g/j!> 10.0−に窒素雲囲気下でチタンテトラ
イソプロポキシド0.234g (0,823mmof
)を加え、激しく攪拌すると、反応溶液は無色から黒
色に変化した。 この反応溶液のIRスペクトル(乾燥O−キシレン)を
第5図に示す。3350及び2170cr’の見かけの
吸光係数t(Ig−’am″″)は、それぞれ0.35
6、及び2.34に減少した。先に作成しておいたベル
ヒドロポリシラザンの検量線との比較により、NHに基
づく吸収(3350cm−’ )に対する濃度は5.2
0g/f、一方SiHに基づく吸収(2170cm−’
)に対する濃度は、5.90g/Itに相当していた。 即ち、チタンテトライソプロポキシドとの反応により、
ベルヒドロポリシラザン中の5i−H結合が約29%、
またN−H結合が約37%消失していることが確認され
た。3350、及び2170cm−’の吸収以外に、1
365及び1335 (δ(CH3) 2CH−) :
1160 、112°5.及び1000 (ν(C−0
)Ti);950 (ν5iOTi、ν(C−0)Ti
) ;615(νT 1−0)の吸収が観測された。 実施例2 内容積20α−の四つロフラスコにコンデンサー、シー
ラムキャップ、温度計、及びマグネティックスターシー
を装置した。反応器内部を乾燥窒素で置換した後、四つ
ロフラスコに参考例1で得られたベルヒドロポリシラザ
ンのベンゼン溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度:4
.57重量%)110gを入れ、攪拌しながらチタンテ
トライソプロポキシド6.30 g (22,2mmo
j2 )を乾燥ベンゼン6.5−に溶解させたものを
注射器を用いて加えた。反応溶液は無色から淡褐色、紫
色、黒色へと変化した。反応終了後、溶媒を減圧留去す
ると、ポリヒドロチタノシラザンが暗褐色固体として得
られた。収率は84.0重量%であった。 生成したポリマーの数平均分子量は、凝固点降下法(溶
媒:乾燥ベンゼン)により測定したところ1840であ
った。ここで得られたポリマーは、ベルヒドロポリシラ
ザンとチタンアルコキシドが単に混合されたものではな
く、両物質の縮合反応により高分子量化したものである
。 IRスペクトル(乾燥ベンゼン)を第6図に示す、実施
例1における生成物(第5図参照)とほぼ同様のスペク
トルが観測された。’HNMRスペク) ル(60MH
z、 CDC’ s /TMS)を第7図に示す。 δ4.7及び4.3 (br、、 5l)I −(CL
) 2CHO−) :1、2 (d 、 (Ct13
)2 CHD−、NH)のスペクトルが観測された。 得られたポリマーの元素分析の結果、同ポリマーはSi
:33.0 、Ti:9.8 、N:14.0.0:
11.8 、C:23.4およびH:6.6 (各重
量%)の組成を有していた。 この得られたポリマーを窒素雰囲気下、1350℃で1
時間焼成すると黒色固体が72重量%の収率で得られた
。この物質のX線粉末回折測定を行なったところ、第8
図に示す様に、非晶質TiN相の回折線のみが観測され
た。ベルヒドロポリシラザンを同一条件で焼成するとX
線的に結晶質の窒化珪素の生成が確認されているが、ポ
リヒドロチタノシラザンを前駆体とすると、非晶質Ti
N相の生成により、窒化珪素の非晶質状態がより高温ま
で保持されている。 得られたセラミックスの元素分析結果(重量%)は、S
i:41.3; Ti:12.9; N:20.5;
0:19゜9; C:4.5であった。 使用例1 実施例2で得られたポリヒドロチタノシラザンのベンゼ
ン溶液にポリエチルメタクリレート(分子量34万)を
ポリヒドロチタノシラザンに対して4.0重量%加え、
1時間攪拌した後、溶媒を減圧留去して濃縮することに
より、紡糸溶液として60重量%のポリヒドロチタノシ
ラザンを含むベンゼン溶液が得られた。これをノズルか
ら大気中に吐出させると淡褐色繊維が得られた。続いて
、これを窒素雰囲気下で5℃/分で昇温させて1100
℃で3時間加熱することにより黒色繊維が得られた。 使用例2 実施例2で得られたポリヒドロチタノシラザンのベンゼ
ン溶液にポリエチルメタクリレート(分子量34万)を
ポリヒドロチタノシラザンに対して2.0重量%加え、
1時間攪拌した。これをなめらかなテフロン基体上に展
開させ、溶媒を減圧留去した後、さらに100℃で5時
間乾燥させた。得られたチタノシラザン膜を窒素雰囲気
下で5℃/分で昇温させて1000℃で3時間加熱する
ことにより黒色の耐熱性膜が得られた。 実施例4 内容積50−Zの四つロフラスコにコンデンサー、シー
ラムキャップ、温度計、及びマグネティックスターシー
を装置した。反応器内部を乾燥窒素で置換した後、参考
例3で合成したポリメチル(ヒドロ)シラザン0.73
3g、及び乾燥0−キシレン20−を入れ、攪拌しなが
らチタンテトライソプロポキシド0.846g(2,9
8mmoj )を加えた。これを130℃から135℃
で反応させると、溶液は無色から黄色に変化した。反応
終了後、反応溶液を室温まで冷却させた後、窒素雰囲気
下で25−メスフラスコに移し、標線まで乾燥0−キシ
レンを加えて、攪拌し、IRスペクトルを測定した。 第9図に示す様に3380及び2120cm″″1の見
かけの吸光係数t (fg−’am−’)は、それぞれ
0.193、及び0.669に減少した。先に作成して
おいたポリメチル(ヒドロ)シラザン(参考例3の合成
品)の検量線との比較により、NHに基づく吸収(33
80car’)に対する濃度は22゜7 g / It
、一方SiHに基づく吸収(2120cm−’)に対す
る濃度は23.9 g / Itに相当していた。即ち
、チタンテトライソプロポキシドとの反応により、ポリ
メチル(ヒドロ)シラザン中のN−H結合が22%、ま
た5i−H結合が19%消失していることが確認された
。3380、及び2120cm−’の吸収以外に、13
60及び1330cm−’(δ(ct+、LcH−);
1160.1120、及び995cm−’ (ν(C
−0)Ti) :6/15cm−’ (シTi−C1)
の吸収が観測された。 反応溶液の溶媒を減圧留去すると青色固体、0、972
gが得られた。収率は61.6重量%であった。 生成したポリメチルチタノシラザンの数平均分子量は凝
固点降下法により測定したところ1510であった。 元素分析の結果、同ポリマーはSi:36.4. Ti
:5.3゜N:17.8.0:6.6. C:27.1
及びH:5.9(各重量%)の組成を有していた。 なお、乾燥0−キシレン中のポリメチル(ヒドロ)シラ
ザン(参考例3の合成品)をチタンテトライソプロポキ
シドを用いない他は実施例3と同一条件で熱処理した。 生成物のIRスペクトルは出発物質と同一であり、ポリ
メチル(ヒドロ)シラザンのN−H結合、及び5i−H
結合は未反応であることから、実施例3の加熱処理だけ
ではポリメチル(ヒドロ)シラザンは変化しないことが
確認された。 〔発明の効果〕 本発明によって新規に提供されるポリチタノシラザンは
、有機溶媒に可溶であり、焼成後5i−Ti−N−0系
またはS i−T 1−O−N−C系セラミックスに変
換されるため、高性能の複合セラミックス成形体を得る
ことができる。即ち、高温機械強度が高く、耐熱性、耐
食性、耐熱衝撃性に優れた高硬度の連続繊維、フィルム
、被覆膜、粉末、発泡体等を得ることができ、また焼結
用結合剤、含浸剤等として利用することも可能である。 特に、本発明の新規なポリチタノシラザンは次のような
効果あるいは利点がある。 (1)ポリチタノシラザンを高温焼成すると、非晶質の
TiN相が生成し、これが第2の耐人相となるため、例
えばベルヒドロポリシラザン繊維を高温焼成した時に観
測される結晶性のα型やβ型窒化珪素の生成を抑制させ
ることができるので、セラミックス繊維の機械的強度が
向上する。 (2) ポリチタノシラザンは、原料のポリシラザンに
比べて架橋構造及び、分子量が増加するため、賦形後の
乾燥工程における凝固性が向上する。 (3)ポリチタノシラザンの焼成で得られる5i−Ti
−N−0系又はS i−T 1−N−0−C系セラミッ
クスには、チタン原子が、TiN相等の形で含有されて
いるため、複合材料として利用する際、金属(特にチタ
ン)との適合性が向上する。 4、図面の簡単な説明 第1図および第2図は参考例1で作成したベルヒドロポ
リシラザンのそれぞれIRスペクトル図および’ HN
MRスペクトル図、第3図および第4図は参考例3で作
成したポリメチル(ヒドロ)シラザンのそれぞれIRス
ペクトル図および’)INMRスペクトル図、第5図は
実施例1で作成したポリチタノシラザンのIRスペクト
ル図、第6図および第7図は実施例2で作成したポリチ
タノシラザンのそれぞれIRスペクトル図および’ H
NMRスペクトル図、第8図は実施例2のポリチタノシ
ラザンを焼成したセラミックスのX線粉末回折図、第9
図は実施例3で作成したポリチタノシラザンのIRスペ
クトル図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、主として一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (R^1、R^2、R^3はそれぞれ独立に水素原子、
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する基が炭
素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、ア
ルコキシ基を表わす。但し、R^1、R^2、R^3の
少なくとも1個は水素原子である。) で表わされる骨格を有する数平均分子量が約100〜5
万のポリシラザンと、一般式(II): Ti(OR^4)_4(II) (式中、R^4は、同一でも異なっていてもよく、水素
原子、炭素原子数1〜20個を有するアルキル基または
アリール基を表わし、少なくとも1個のR^4は上記ア
ルキル基またはアリール基である。)で表わされるチタ
ンアルコキシドを不活性な雰囲気中で反応させて、分子
内の一部のケイ素原子および/または窒素原子とチタン
アルコキシドとが縮合した数平均分子量が約200〜5
0万の新規ポリチタノシラザンを得ることを特徴とする
ポリチタノシラザンの製造方法。
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Cited By (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5459114A (en) * | 1992-11-26 | 1995-10-17 | Tonen Corporation | Method for producing ceramic products |
WO2004101841A3 (de) * | 2003-05-14 | 2005-04-14 | Friedrich Baur Gmbh | VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG VON KERAMISCHEN GRADIENTENSCHICHTEN AUF METALLISCHEN SUBSTRATEN DURCH EINE IN SITU-REAKTION MIT NICHTOXIDISCHEN PRECURSOREN IM SYSTEM Si-C-N(-M) |
JP2005350304A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Az Electronic Materials Kk | 六面体構造を有するシラザン化合物およびその製造法とそれを用いたコーティング組成物 |
US7344603B2 (en) | 2001-12-27 | 2008-03-18 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Solvent for treating polysilazane and method of treating polysilazane with the solvent |
WO2011122497A1 (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-06 | リンテック株式会社 | 透明導電性フィルムおよびその製造方法並びに透明導電性フィルムを用いた電子デバイス |
WO2011125602A1 (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-13 | リンテック株式会社 | 成形体、その製造方法、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
WO2012023389A1 (ja) | 2010-08-20 | 2012-02-23 | リンテック株式会社 | 成形体、その製造方法、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
WO2012032907A1 (ja) | 2010-09-07 | 2012-03-15 | リンテック株式会社 | 粘着シート、及び電子デバイス |
WO2013015096A1 (ja) | 2011-07-25 | 2013-01-31 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム積層体及び電子部材 |
WO2013065812A1 (ja) | 2011-11-04 | 2013-05-10 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム及びその製造方法、ガスバリアフィルム積層体、電子デバイス用部材、並びに電子デバイス |
WO2013081003A1 (ja) | 2011-11-30 | 2013-06-06 | リンテック株式会社 | ガスバリア性フィルムの製造方法、およびガスバリア性フィルムを備える電子部材又は光学部材 |
EP2626378A1 (en) | 2009-03-17 | 2013-08-14 | LINTEC Corporation | Molded article, process for producing the molded article, member for electronic device, and electronic device |
WO2013133256A1 (ja) | 2012-03-06 | 2013-09-12 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム積層体、粘着フィルム、および電子部材 |
WO2013141318A1 (ja) | 2012-03-22 | 2013-09-26 | リンテック株式会社 | 透明導電性積層体及び電子デバイス又はモジュール |
WO2013147093A1 (ja) | 2012-03-30 | 2013-10-03 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム積層体、電子デバイス用部材、及び電子デバイス |
WO2014157685A1 (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
WO2014157686A1 (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | リンテック株式会社 | 積層体及びその製造方法、電子デバイス用部材、並びに電子デバイス |
US20170107344A1 (en) | 2014-03-31 | 2017-04-20 | Lintec Corporation | Elongated gas barrier laminate and method for producing same |
WO2017170547A1 (ja) | 2016-03-29 | 2017-10-05 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
JP2018037641A (ja) * | 2016-08-31 | 2018-03-08 | 三星エスディアイ株式会社Samsung SDI Co., Ltd. | シリカ膜形成用組成物、およびシリカ膜 |
WO2019078069A1 (ja) | 2017-10-20 | 2019-04-25 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム用基材、ガスバリアフィルム、電子デバイス用部材、及び電子デバイス |
WO2020138206A1 (ja) | 2018-12-27 | 2020-07-02 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体 |
US10967618B2 (en) | 2016-03-18 | 2021-04-06 | Lintec Corporation | Curable composition for forming primer layer, gas barrier laminated film, and gas barrier laminate |
US11512231B2 (en) | 2017-03-28 | 2022-11-29 | Lintec Corporation | Gas barrier laminate |
CN115558323A (zh) * | 2021-07-02 | 2023-01-03 | 宁波激智科技股份有限公司 | 一种抗菌聚钛氮烷涂料组合物及其制备方法 |
CN115558420A (zh) * | 2021-07-02 | 2023-01-03 | 宁波激智科技股份有限公司 | 一种聚钛硅氮烷耐蚀涂料及其制备方法 |
US11760854B2 (en) | 2014-06-04 | 2023-09-19 | Lintec Corporation | Gas barrier laminated body, method for producing same, member for electronic device, and electronic device |
-
1986
- 1986-09-24 JP JP22379086A patent/JP2507714B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5459114A (en) * | 1992-11-26 | 1995-10-17 | Tonen Corporation | Method for producing ceramic products |
US7344603B2 (en) | 2001-12-27 | 2008-03-18 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Solvent for treating polysilazane and method of treating polysilazane with the solvent |
WO2004101841A3 (de) * | 2003-05-14 | 2005-04-14 | Friedrich Baur Gmbh | VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG VON KERAMISCHEN GRADIENTENSCHICHTEN AUF METALLISCHEN SUBSTRATEN DURCH EINE IN SITU-REAKTION MIT NICHTOXIDISCHEN PRECURSOREN IM SYSTEM Si-C-N(-M) |
JP2005350304A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Az Electronic Materials Kk | 六面体構造を有するシラザン化合物およびその製造法とそれを用いたコーティング組成物 |
JP4574238B2 (ja) * | 2004-06-10 | 2010-11-04 | Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 | 六面体構造を有するシラザン化合物およびその製造法とそれを用いたコーティング組成物 |
EP2626378A1 (en) | 2009-03-17 | 2013-08-14 | LINTEC Corporation | Molded article, process for producing the molded article, member for electronic device, and electronic device |
WO2011125602A1 (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-13 | リンテック株式会社 | 成形体、その製造方法、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
WO2011122497A1 (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-06 | リンテック株式会社 | 透明導電性フィルムおよびその製造方法並びに透明導電性フィルムを用いた電子デバイス |
WO2012023389A1 (ja) | 2010-08-20 | 2012-02-23 | リンテック株式会社 | 成形体、その製造方法、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
WO2012032907A1 (ja) | 2010-09-07 | 2012-03-15 | リンテック株式会社 | 粘着シート、及び電子デバイス |
WO2013015096A1 (ja) | 2011-07-25 | 2013-01-31 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム積層体及び電子部材 |
WO2013065812A1 (ja) | 2011-11-04 | 2013-05-10 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム及びその製造方法、ガスバリアフィルム積層体、電子デバイス用部材、並びに電子デバイス |
EP3636432A1 (en) | 2011-11-04 | 2020-04-15 | LINTEC Corporation | Gas barrier film, method for producing same, gas barrier film laminate, member for electronic devices, and electronic device |
WO2013081003A1 (ja) | 2011-11-30 | 2013-06-06 | リンテック株式会社 | ガスバリア性フィルムの製造方法、およびガスバリア性フィルムを備える電子部材又は光学部材 |
WO2013133256A1 (ja) | 2012-03-06 | 2013-09-12 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム積層体、粘着フィルム、および電子部材 |
WO2013141318A1 (ja) | 2012-03-22 | 2013-09-26 | リンテック株式会社 | 透明導電性積層体及び電子デバイス又はモジュール |
WO2013147093A1 (ja) | 2012-03-30 | 2013-10-03 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム積層体、電子デバイス用部材、及び電子デバイス |
WO2014157686A1 (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | リンテック株式会社 | 積層体及びその製造方法、電子デバイス用部材、並びに電子デバイス |
WO2014157685A1 (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
US10377870B2 (en) | 2014-03-31 | 2019-08-13 | Lintec Corporation | Elongated gas barrier laminate and method for producing same |
US20170107344A1 (en) | 2014-03-31 | 2017-04-20 | Lintec Corporation | Elongated gas barrier laminate and method for producing same |
US11760854B2 (en) | 2014-06-04 | 2023-09-19 | Lintec Corporation | Gas barrier laminated body, method for producing same, member for electronic device, and electronic device |
US10967618B2 (en) | 2016-03-18 | 2021-04-06 | Lintec Corporation | Curable composition for forming primer layer, gas barrier laminated film, and gas barrier laminate |
WO2017170547A1 (ja) | 2016-03-29 | 2017-10-05 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
JP2018037641A (ja) * | 2016-08-31 | 2018-03-08 | 三星エスディアイ株式会社Samsung SDI Co., Ltd. | シリカ膜形成用組成物、およびシリカ膜 |
US11512231B2 (en) | 2017-03-28 | 2022-11-29 | Lintec Corporation | Gas barrier laminate |
WO2019078069A1 (ja) | 2017-10-20 | 2019-04-25 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム用基材、ガスバリアフィルム、電子デバイス用部材、及び電子デバイス |
WO2020138206A1 (ja) | 2018-12-27 | 2020-07-02 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体 |
CN115558323A (zh) * | 2021-07-02 | 2023-01-03 | 宁波激智科技股份有限公司 | 一种抗菌聚钛氮烷涂料组合物及其制备方法 |
CN115558420A (zh) * | 2021-07-02 | 2023-01-03 | 宁波激智科技股份有限公司 | 一种聚钛硅氮烷耐蚀涂料及其制备方法 |
CN115558323B (zh) * | 2021-07-02 | 2023-12-22 | 宁波激智科技股份有限公司 | 一种抗菌聚钛氮烷涂料组合物及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2507714B2 (ja) | 1996-06-19 |
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