JPH0277427A - 新規ポリメタロシラザン及びその製造方法 - Google Patents
新規ポリメタロシラザン及びその製造方法Info
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- JPH0277427A JPH0277427A JP6916889A JP6916889A JPH0277427A JP H0277427 A JPH0277427 A JP H0277427A JP 6916889 A JP6916889 A JP 6916889A JP 6916889 A JP6916889 A JP 6916889A JP H0277427 A JPH0277427 A JP H0277427A
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- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
る。このポリメタロシラザンを前駆体として得られるケ
イ素−メタル−窒素−酸素系またはケイ素−メタル−窒
素−酸素−炭素系セラミックスは耐熱・高硬度材料ある
いは複合材料の強化材として有用であり、化学・金属、
航空・宇宙、機械・精密、自動車産業での広範な利用が
期待される。
は窒素原子とメタルアルコキシドが縮合したポリメタロ
シラザンについては、従来知られていない。
ルコキシドを反応させて製造したポリチタノカルボシラ
ン、およびポリカルボシランに有機ジルコニウム化合物
を反応させて製造したポリジルコノカルボシランが知ら
れている(特開昭56−74126号公報および同56
−92923号公報)。
アを反応させて製造したベルヒドロポリシラザンあるい
はポリオルガノ (ヒドロ)シラザンなどが種々報告さ
れている(特開昭60−145903号公報、口、5e
yferthら“A Liquid 5ilazane
Pre−cursor To 5ilicon N1
tride”+ Co+g++wunications
of Ame、Cer、Soc、+1983年1月、特
開昭60−226890号、特開昭61−89230号
公報など)。
シランを前駆体として得られるSi−M−C−0系(M
はTi又はZr)セラミックスは、遊離炭素を含有する
。これは、アルミニウムなどの溶融金属との反応性が高
く、強度劣化を起こすため、金属との複合材料を製造す
る際、必ずしも十分な特性が得られないという問題があ
る。
系セラミックスを金属との複合材料として利用する場合
、金属との親和性が十分でないという問題がある。
としての有用性が著しく高められる。
ン及びその製造方法を提供することによって解決する。
R” 、R3はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基
、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、また
はこれらの基以外でケイ素に直結する基が炭素である基
、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、アルコキシ基
を表わす、但し、R1、RR、R3の少なくとも1個は
水素原子である、) で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
が約100〜5万のポリシラザンと、一般式(): %式%() (式中、Mは元素長周期律表第nA族から第VA族まで
及び第1[lB族から第VB族までの金属(但し、チタ
ンとアルミニウムは除<、)であり;R4は、同一でも
異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数1〜20個
を有するアルキル基またはアリール基を表わし、少なく
とも1個のR4は上記アルキル基またはアリール基であ
り;nはMの原子価である。) で表わされるメタルアルコキシドを反応させて得られる
、メタル/ケイ素原子比が0.001〜3(好ましくは
0.001〜2.5、より好ましくは0.01〜2.0
)の範囲内かつ数平均分子量が約200〜50万(好ま
しくは400〜30万)の新規ポリメタロシラザンが提
供される。
、ポリシラザンの主骨格中の少なくとも一部のケイ素原
子に結合した水素原子および/または窒素原子に結合し
た水素原子とメタルアルコキシドとが反応して、そのケ
イ素原子および/または窒素原子がメタルアルコキシド
と縮合した側鎖基あるいは、環状、架橋構造を有するこ
とを特徴とする化合物である。
反応では、メタルアルコキシド(M(OR’)、)の有
機基(R4)が、5l−H結合の水素原子を引き抜いて
R’Hを生じて脱離することにより、Si−0−M結合
が形成される。
ドとの反応ではメタルアルコキシドにより、N−H結合
の水素原子が引き抜かれ、下記のようにN−0−M結合
又はN−M結合(以下、これらをN−Y−M結合として
表わす)が形成される。
ので、出発メタルアルコキシドの種類あるいは反応条件
に応じて、生成するポリメタロシラザンはメタルに関し
て1〜n官能性の重合体であることができる。1官能性
重合体はポリシラザンの主鎖のSiおよび/またはNに
ペンダント基が導入された下記構造を有する。
して環状、架橋構造が形成される。環状構造はメタルア
ルコキシド1分子内の2個の官能基が、ポリシラザンの
隣り合うケイ素原子及び窒素原子と縮合した構造が含ま
れる。架橋構造はメタルアルコキシドの2個以上の官能
基が、2分子以上のポリシラザンと縮合した場合に生じ
る。
橋構造を同時に有するものもある0通常、ポリシラザン
とメタルアルコキシドとの反応により、(II[)又は
(rV)で示した重合体が得られる。
造上の変化は、ポリシラザンの骨格を基本に新たにペン
ダント基、あるいは環状、架橋構造が形成されることで
ある。
のポリメタロシラザンと同様の構造を有するポリチタノ
シラザン及びポリアルミノシラザンを開示したが(特願
昭61−223790号及び同61−236270号明
細書)、さらに研究を進めたところ、上記の構造を有す
るポリメタロシラザンが一般的に製造可能であることを
突きとめ、本発明を完成するに至った。こうして、本発
明で提供されるポリメタロシラザンのメタルとしては元
素長周期律表第2A族から第5A族まで及び第3B族か
ら第5B族までの金属からなり、但しチタンとアルミニ
ウムは除かれる。具体的にはBe 、 Mg 、 Ca
、 Sr 。
ノイド元素、アクチノイド元素(以上第3A族);Zr
、)If(以上第4A族);V、Nb、Ta(以上第5
A族);B。
Si 、 Ge 、 Sn 、 Pb(以上第4B族
) ; As 、 Sb 、 Bi (以上第5B族
)である、これらの金属のアルコキシドは殆んど上布さ
れているが、上布されていないものでも上布のものと同
様の方法で製造可能である。好ましい金属は元素周期律
表第3族および第4族の金属であり、とくにTi、 A
j! 、Zr、 B 、 Yが好ましい。
i−H結合、あるいはN−H結合を有するポリシラザン
であればよく、ポリシラザン単独は勿論のこと、ポリシ
ラザンと他のポリマーとの共重合体やポリシラザンと他
の化合物との混合物でも利用できる。
は架橋構造を有するもの、あるいは分子内にこれら複数
の構造を同時に有するものがあり、これら単独でもある
いは混合物でも利用できる。
うなものがあるが、これらに限定されるものではない。
、炭素原子数1〜5個のアルキル基、炭素原子数2〜6
個のアルケニル基、炭素原子数5〜7個のシクロアルキ
ル基、了り−ル基、炭素原子数1〜4個のアルキルシリ
ル基、炭素原子数1〜5個のアルキルアミノ基、炭素原
子数1〜5個のアルコキシ基からなる群から選ばれるこ
とが立体障害が小さいので好ましく、より好ましくは水
素原子、メチル基、エチル基、ビニル基、アリル基、メ
チルアミノ基、エチルアミノ基、メトキシ基及びエトキ
シ基から選ばれる。
原子を有するものは、ベルヒドロポリシラザンであり、
その製造法は例えば特開昭60−145903号公報、
口、5eyferthらCommunication
of Am、Cer、Soc、、C−13、Jan
uary 1983.に報告されている。これらの方法
で得られるものは、種々の構造を有するポリマーの混合
物であるが、基本的には分子内に鎖状部分と環状部分を
含み、 一’fSiHJl(h−−(SiHJ)” ’(Si
Hs)c (a + b + c = 1 )の化学
式で表わすことができる。ベルヒドロポリシラザンの構
造の一例を示すと下記の如くである。
基を有するポリシラザンの製造法は、D、5eyfer
thらPolym、、 Prepr、 、 As+、C
hem、Soc、 、 Div。
告されている。この方法により得られるポリシラザンは
、繰り返し単位が−+ 5iHJCH:+ +−の鎖状
ポリマーと環状ポリマーであり、いずれも架橋構造をも
たない。
機基を有するポリオルガノ (ヒドロ)シラザンの製造
法は、D、5eyferthらPolym、Prepr
、 、Am。
、+25+ 10(1984)、特開昭61−8923
0号公報に報告されている。これらの方法により得られ
るポリシラザンには、+ R”5iHN)Iう−を繰り
返し単位として、主として重合度が3〜5の環状構造を
有するものや (R”5iHNH)、、((R”5iH)+、 s N
) +−8(0,4< x < 1 )の化学式で示
せる分子内に鎖状構造と環状構造を同時に有するものが
ある。
を有するポリシラザン、またR1及びR7に有機基、R
3に水素原子を有するものは−+ R’R”5iNR”
←を繰り返し単位として、主に重合度が3〜5の環状構
造を有している。
外のものの代表例をあげる。
yferthらCommunication of A
m、Cer、Soc、、C−132、July 198
4.が報告している様な分子内に架橋構造を有するもの
もある。−例を示すと下記の如くである。
様なR’SiX:+ (X ;ハロゲン)のアンモニア
分解によって得られる架橋構造を有するポリシラザン(
R’5i(NH)、l) 、あルイはR’SiX、及び
R55iXzO)共アンモニア分解によって得られる下
記の構造を有するポリシラザンも本発明の出発原料とし
て用いることかできる。
)で表わされる単位からなる主鎖骨格を有するが、一般
式(I)で表わされる単位は、上記にも明らかな如く環
状化することがあり、その場合にはその環状部分が末端
基となり、このように環状化されない場合には、主鎖骨
格の末端はR1、R2、R3と同様の基又は水素である
ことができる。ポリシラザンには、以上の如く有機溶媒
に可溶なもののほか、例えば下図に示すものの様に有機
溶媒に不溶−な−ものも原料として利用できるが、これ
らはメタルアルコキシドとの反応生成物も有機溶媒に不
溶であるため、応用面での制限を受けることになる。
ll、Soc、Chim、Fr、、183(1962)
(SizNJ) 、 M、B111y、Bull、S
oc、ChiTIl、Fr、、1550(1961)(
Six(Nl()i) −(Siz(NH)a)−M
、 Bi 11y、 Comp t、 Rend、 、
250.4163 (1960) ;251 、16
39 (1,960)本発明の新規ポリメタロシラザン
の数平均分子量は200〜50万、好ましくは400〜
3o万の範囲内である。
方法にも、係り、この方法は、主として一般式(I): −→−S i −N →−(1) RZ R3 (R’ 、R” 、R3はそれぞれ独立に水素原子
、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する基が
炭素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、
アルコキシ基を表わす、但し、R1、R1、R3の少な
くとも1個は水素原子である。) で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
が約100〜5万のポリシラザンと、一般式(): %式%() (式中、Mは元素長周期律表第2A族から第5A族まで
及び第3B族から第5B族までの金属(但し、チタンと
アルミニウムは除り、)であり;R4は、同一でも異な
っていてもよく、水素原子、炭素原子数1〜20個を有
するアルキル基またはアリール基を表わし、少なくとも
1個のR4は上記アルキル基またはアリール基であり;
nはMの原子価である。) で表わされるメタルアルコキシドを反応させて、メタル
/ケイ素原子比が0.001〜3の範囲内かつ数平均分
子量が約200〜50万の新規ポリメタロシラザンを得
ることを特徴とする。
、入手可能なものを用いることができるが、メタルアル
コキシドとの反応性の点で、式(1)におけるR1.R
1、及びR3は立体障害の小さい基が好ましい、即ち、
R1、R2及びR3としては水素原子及びC6〜、のア
ルキル基が好ましく、水素原子及びCl−tのアルキル
基がさらに好ましい。
、反応性の点で、式(I)におけるR4はCl−1゜の
アルキル基が好ましく、01〜1゜のアルキル基がさら
に好ましく、C3〜4のアルキル基が最も好ましい、−
船釣には、式(1)のR4は水素原子、炭素原子数1〜
10個のアルキル基、炭素原子数1〜10個の了り−ル
基から選ばれることが好ましく、メチル基、エチル基、
n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−
ブチル基、t−ブチル基、フェニル基、ベンジル基及び
トリル基から選ばれることがより好ましい、ポリシラザ
ンとメタルアルコキシドとの混合比は、M/Si原子比
が0.001から60になるように、好ましくは0.0
1から5になるように、さらに好ましくは0.05から
2.5になる様に加える。メタルアルコキシドの添加量
をこれより増やすとポリシラザンとの反応性を高めるこ
となく、単にメタルアルコキシドが未反応のまま回収さ
れ、また、少ないと顕著な高分子量化が起こらない。
用する時に比べて反応制御が難しく、ゲル状物質が生成
する場合もあるので、一般に有機溶媒を用いた方が良い
、溶媒としては、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂
環式炭化水素の炭化水素溶媒、ハロゲン化炭化水素ミ脂
肪族エーテル、脂環式エーテル類が使用できる。好まし
い溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン
、塩化メチレン、クロロホ5ルム、エチルエーテル、テ
トラヒドロフラン等があげられる。
い、ポリメタロシラザンの高分子量化をさらに進めるに
は溶媒の沸点以上で反応させることもできるが、ポリメ
タロシラザンの熱分解によるゲル化を防ぐため、−aに
400℃以下にするのが好ましい。
ないが、減圧下では、低沸点成分が留去され、収率が低
下するので好ましくない。反応時間は、一般に30分間
から1日程度であるが、ポリメタロシラザンの高分子量
化をさらに進めるには、反応時間を延長することが好ま
しい。
びポリシラザンあるいは生成物のポリメタロシラザンの
酸化や加水分解を防ぐため、乾燥させた不活性雰囲気、
例えば乾燥窒素、乾燥アルゴン等が好ましい。
キシドとは、メタルアルコキシドの減圧留去あるいはゲ
ルパーミェーションクロマトグラフィー、高速液体クロ
マトグラフィーによって分離することができる。
リシラザンの一部のケイ素−水素結合がメタルアルコキ
シドの有機基と縮合し、新たにケイ素−酸素一メタル結
合を形成し、かつ/または、ポリシラザンの一部の窒素
−水素結合もメタルアルコキシドと縮合した構造を有す
る重合体である。
可溶である。
は真空中で焼成することにより、セラミックスに変換さ
れる。雰囲気ガスとしては窒素が好都合であるが、アル
ゴン、アンモニアを用いることもできる。また、窒素、
アンモニア、アルゴン、水素等の混合ガスを利用するこ
ともできる。
する。焼成温度が低すぎると焼成に長時間を要し、また
あまり高(してもエネルギーコスト的に不利である。
11の四つロフラスコにガス吹き込み管メカニカルスタ
ーラー、ジュワーコンデンサーを装置した。反応器内部
を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四つロフラスコに
脱気した乾燥ピリジン490−を入れ、これを氷冷した
0次にジクロロシラン51.6 gを加えると白色固体
状のアダクト(Si)IzC/!・2CJJ)が生成し
た0反応器合物を水冷し、攪拌しながら、水酸化ナトリ
ウム管及び活性炭管を通して精製したアンモニア51.
0 gを吹き込んだ後、90℃で加熱した。
用いて洗浄した後、更に窒素雰囲気下でろ過してろ液8
50−を得た。ろ液5−から溶媒を減圧留去すると樹脂
状固体ベルヒドロポリシラザン0.1gが得られた。
媒:乾燥ベンゼン)により測定したところ、1080で
あった。IR(赤外吸収)スペクトル(溶媒;乾燥0−
キシレン;ベルヒドロポリシラザンの濃度714.5g
/ l )は、第1図に示す様に波数(elm−’)
3340 (見かけの吸光係数ε=0.6941 g
−’cm−’) 、及び1175のNHに基づく吸収;
2160 (ε=3.38)のStHに基づく吸収;
1020〜820のSiH及び5iNSiに基づく吸収
を示している。
積500−の四つロフラスコにガス吹込管、温度計、メ
カニカルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置した
。反応系内を窒素ガスで置換しり後、四つロフラスコに
メチルジクロロシラン(CHsSiHCl t、 24
.3 g 、 0.211o+o I! ) と乾燥ジ
クロロメタン300−を入れた。これを氷冷し、攪拌し
なから、乾燥アンモニア20.5 g (1,2OR
IOl )を窒素ガスとともに吹き込んでアンモニア分
解を行なった。
ザンを無色の液体としてB、’79g得た。生成物の数
平均分子量を凝固点降下法により測定したところ、31
0であった。
100−の四つロフラスコにガス導入管、温度計、コン
デンサー及び滴下ロートを装着し、反応系内をアルゴン
ガスで置換した。四つロフラスコに乾燥テトラヒドロフ
ラン12−1及び水素化カリウム0.189 g (4
,71mmo 12 )を入れ、磁気攪拌を開始した0
滴下ロートに参考例2の合成品5、OOg及び乾燥テト
ラヒドロフラン50−を入れ、これを水素化カリウムに
滴下した。室温で1時間反応させた後、滴下ロートにヨ
ウ化メタン1.60g(11,3mmo l ) 、及
び乾燥テトラヒドロフラン1−を入れ、これを反応溶液
に滴下した。室温で3時間反応させた後、反応混合物の
溶媒を減圧留去し、乾燥n−ヘキサン40−を加えて遠
心分離し、濾過した。濾液の溶媒を減圧留去すると、ポ
リメチル(ヒドロ)シラザンが白色粉末として4.85
g得られた。生成物の数平均分子量は、凝固点降下法に
より測定したところ、1060であった。IRスペクト
ル(乾燥0−キシレン;ポリメチル(ヒドロ)シラザン
の濃度:43.2g/jりは第2図に示す様に3380
値−1(見かけの吸光係数ε= 0.249N g−1
cse−’)、及び1160(:11−’のNHに基づ
く吸収i 2120cffi−’ (t =0.822
)のSiHに基づく吸収;1255cm−’の5iCH
sに基づく吸収を示している。
例1で得られたベルヒドロポリシラザンの乾燥0−キシ
レン溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度28.94
g / i ) 5.00@lに窒素雰囲気下でジルコ
ニウムイソプロポキシド0.2152 g (0,65
6911IIlo1)と乾燥O−キシレン3.5−との
混合物を加えた。この混合溶液を窒素雰囲気下90℃で
攪拌しながら反応させると淡黄色溶液が得られた。
に移し、標線まで乾燥0−キシレンを加えて希釈した。
第3図に示す、 3350cm−’の見かけの吸光係数
8 (1g−10−1)は、0.419に減少した。先
に作成したおいたベルヒドロポリシラザンの検量線との
比較により、NHに基づく吸収(3350cI11−’
)に対する濃度は8.73 g / 12、に相当して
いた。即ち、ジルコニウムテトライソプロポキシドとの
反応により、ベルヒドロポリシラザン中のN−H結合が
約40%消失していることが確認された。
65及び1335(δ(CHz)tcH−) ; 11
70 、 (v (C−0)Zr) ; 930(v
SiOTi+ J/ (C−0)Zr)の吸収が観測さ
れた。
00rrhlの四つロフラスコにコンデンサー、シーラ
ムキャップ、温度計、及びマグネテイックスターシーを
装置した0反応器内部を乾燥窒素で置換した後、四つロ
フラスコに参考例1で得られたベルヒドロポリシラザン
のベンゼン溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度: 4
.45重量%)63.4gを入れ、攪拌しながらジルコ
ニウムテトライソプロポキシド4.00 g (12,
2mmo ’l )を乾燥ベンゼン6.0艷に溶解させ
たものを注射器を用いて加え還流させながら、反応させ
た。
ジルコノシラザンが淡黄色固体として得られた。
媒:乾燥ベンゼン)により測定したところ2100であ
った0元素分析の結果、同ポリマーはSi:34.0.
Zr:18.6. N :13.O,O:13.2.
C:14.4およびH:5.1(各重量%)の組成を有
していた。
おける生成物と同様のスペクトルが観測された。
焼成すると黒色固体が78重量%の収率で得られた。こ
の物質のX線粉末回折測定を行なったところ、第4図に
示す様に、非晶質Zr0t相の回折線が観測された。ベ
ルヒドロポリシラザンを同一条件で焼成するとX線的に
結晶質の窒化珪素の生成が確認されているが、ポリヒド
ロジルコノシラザンを前駆体とすると、非晶質Zr0t
相の生成により、窒化珪素の非晶質状態がより高温まで
保持されている。
a/の四つロフラスコにコンデンサー、シーラムキャン
プ、温度計、及びマグネテインクスクーラーを装置した
0反応器内部を乾燥窒素で置換した後、参考例3で合成
したポリメチル(ヒドロ)シラザン0.733 g 、
及び乾燥0−キシレン25afを入れ、攪拌しながらジ
ルコニウムテトライソプロポキシド1.14 g (3
,47mmo 1 )を加えた。
、反応溶液を室温まで冷却させた後、窒素雰囲気下で2
5−メスフラスコに移し、標線まで乾燥0−キシレンを
加えて、攪拌し、IRスペクトルを測定した。
けの吸光係数t (j2 g−’cm−’)は、それ
ぞれ0.193、及び0.654に減少した。先に作成
しておいたポリメチル(ヒドロ)シラザン(参考例3の
合成品)の検量線との比較により、NHに基づく吸収(
3380cnt−”)に対する濃度は22.7 g /
l、一方SiHに基づく吸収(2120cI11−’
)に対する濃度ハ23.3g/Ilに相当していた。即
ち、ジルコニウムテトライソプロポキシドとの反応によ
り、ポリメチル(ヒドロ)シラザン中のN−H結合が2
2%、また5i−H結合が20%消失していることが確
認された。 3380、及び2120CI11−’の吸
収以外に、1360及び1340cm−’ (δ(CH
3)ICH−) i 1170、及び100100O’
(ν(C−0)Zr)の吸収が観測された。
れた。
凝固点降下法により測定したところ175゜であった。
Zr :14.6. N :13.5. O: 9.
0 、 C:21.5およびH:5.4(各重量%)の
組成を有していた。
1とほぼ同様にして得られたベルヒドロポリシラザン(
IRスペクトル3350(2)伺(ε=0.557j2
g−’cm−’)、 2170(ε= 3.14)
;数平均分子11120)の乾i0−キシレン溶液(ベ
ルヒドロポリシラザンの濃度8.30g/jり 10.
0a/に窒素雰囲気下でチタンテトライソプロポキシド
0.234 g(0,823mmo l )を加え、激
しく攪拌すると、反応溶液は無色から黒色に変化した。
第6図に示す。3350及び2170■相の見かけの吸
光係数ε (1g−’am−’)は、それぞれ0.35
6及び2.34に減少した。先に作成したおいたベルヒ
ドロポリシラザンの検量線との比較により、NHに基づ
く吸収(3350CI11− ’ )に対する濃度は5
.20g/l、一方SiHに基づく吸収(2170cm
−’)に対する濃度は、5.90g/Jに相当していた
。即ち、チタンテトライソプロポキシドとの反応により
、ベルヒドロポリシラザン中の5t−H結合が約29%
、またN−H結合が約37%消失していることが確認さ
れた。3350、及び2170CIl−’の吸収以外に
、1365及び1335 (δ(CHi)zcH−)
; 1160 、1125、及び1000 (ν(C−
0)Ti) ; 950(ν5jOTi、ν(C−0)
Ti) :615(シTi−0)の吸収が観測された。
艷の四つロフラスコにコンデンサー、シーラムキャップ
、温度計、及びマグネティックスクーラーを装置した0
反応器内部を乾燥窒素で置換した後、四つロフラスコに
参考例4で用いたベルヒドロポリシラザンのベンゼン溶
液(ベルヒドロポリシラザンの濃度: 4.57重量%
010gを入れ、撹拌しながらチタンテトライソプロポ
キシド6.30 g (22,2m+no l )を乾
燥ベンゼン6.5−に溶解させたものを注射器を用いて
加えた0反応溶液は無色から淡褐色、紫色、黒色へと変
化した。反応終了後、溶媒を減圧留去すると、ポリヒド
ロチタノシラザンが暗褐色固体として得られた。収率は
84.0重世%であった。
媒:乾燥ベンゼン)により測定したところ1840であ
った。ここで得られたポリマーは、ベルヒドロポリシラ
ザンとチタンアルコキシドが単に混合されたものではな
(、両物質の縮合反応により高分子量化したものである
。
例4における生成物(第6図参照)とほぼ同様のスペク
トルが観測された。
:33.O,Ti: 9,8 、 N :14.0.
O:11.8゜C: 23.4およびH:6.6(各重
量%)の組成を有していた。
時間焼成すると黒色固体が72重世%の収率で得られた
。この物質のX線粉末回折測定を行なったところ、第8
図に示す様に、非晶質TiN相の回折線のみが観測され
た。ベルヒドロポリシラザンを同一条件で焼成するとX
線的に結晶質の窒素珪素の生成がfii L’tされて
いるが、ポリヒドロチタノシラザンを前駆体とすると、
非晶質TiN相の生成により、窒化珪素の非晶質状態が
より高温まで保持されている。
:41.3.Ti :12.9. N :20.5.
O:19.9. C:4.5であった。
容a50−の四つロフラスコにコンデンサー、シーラム
キャップ、温度計、及びマグネテインクスターシーを装
置した0反応器内部を乾燥窒素で置換した後、参考例3
で合成したポリメチル(ヒドロ)シラザン0.733
g、及び乾燥O−キシレン20−を入れ、攪拌しながら
チタンテトライソプロポキシド0.846 g (2,
98rtrtao It )を加えた。これを130℃
から135℃で反応させると、溶液は無色から黄色に変
化した0反応終了後、反応溶液を室温まで冷却させた後
、窒素雰囲気下で25mZメスフラスコに移し、標線ま
で乾燥0−キシレンを加えて、攪拌し、IRスペクトル
を測定した。
けの吸光係数g (1g−’cn+−’)は、それぞ
れ0.193、及び0.669に減少した。先に作成し
ておいたポリメチル(ヒドロ)シラザン(参考例3の合
成品)の検を線との比較により、NHに基づく吸収(3
380cm −’ )に対する濃度は22.7 g /
ffi 、一方SiHに基づく吸収(2120aa−
’)に対する濃度は23.9 g / fに相当してい
た。即ち、チタンテトライソプロポキシドとの反応によ
り、ポリメチル(ヒドロ)シラザン中のN−H結合が2
2%、また5i−H結合が19%消失していることが確
認された。 3380、及び2120C!l−’の吸収
以外に、1360及び1330cm−’(δ(CH,)
ICB−) ; 1160 、1120、及び995
aa−’ (ν(C−0)Ti);615cm−’ (
シTi−0)の吸収が観測された。
gが得られた。収率は61.6重量%であった。
固点降下法により測定したところ1510であった。
Ti :5.3 、 N ?17.8. O: 6.
6 、 C:27.1およびH:5.9(各重量%)の
組成を有していた。
ザン(参考例3の合成品)をチタンテトライソプロポキ
シドを用いない他は参考例5と同一条件で熱処理した。
メチル(ヒドロ)シラザンのN−H結合、及び5t−H
結合は未反応であることから、参考例5の加熱処理だけ
ではポリメチル(ヒドロ)シラザンは変化しないことが
確認された。
1)〕参考例4で用いたベルヒドロポリシラザンの乾燥
0−キシレン溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度8.
14 g / It ) 60.0−に窒素雰囲気下で
アルミニウムトリイソプロポキシド0.4473 g
(2,19mno l )を加えて、均一相からなる混
合溶液とした。このる→Al−0←の構造単位の全数の
比率は約3:2であった。この混合溶液を窒素雰囲気下
で、130℃で2時間攪拌しながら還流反応を行なった
。
第10図に示す、 3350及び2170cm−’の見
かけの吸光係数ε (7!g−’am−9は、それぞれ
0、184及び2.14に減少した。先に作成したおい
たベルヒドロポリシラザンの検量線との比較により、N
Hに基づく吸収(3350cm−鳳)に対する濃度は2
、5 g / It 、一方、SiHに基づく吸収(2
170cm+−’)に対する濃度は、5.2g/Itに
相当していた。即ち、アルミニウムトリイソプロポキシ
ドとの反応により、ベルヒドロポリシラザン中の5i−
H結合が約36%、またN−H結合が約69%消失して
いることが確認された。
内容積200−の四つロフラスコにコンデンサー、シー
ラムキャップ、及びマグネチックスクーラーを装置した
0反応器内部を乾燥アルゴンで置換した後、四つロフラ
スコにアルミニウムトリイソプロポキシド1.50 g
(7,34mmo l )を入れ、参考例4で用いた
ベルヒドロポリシラザンのベンゼン溶液(ベルヒドロポ
リシラザンの濃度: 40.72 g / l )8
3−を注射器を用いて攪拌しながら加え、均一相からな
る混合溶液とした。この溶液をアルゴン雰囲気下で80
℃で2時間攪拌しながら還流反応を行なった0反応溶液
は無色から淡黄色へと変化した。
媒:乾燥ベンゼン)により測定したところ1710であ
った。ここで得られたポリマーは、ベルヒドロポリシラ
ザンとアルミニウムトリイソプロポキシドが単に混合さ
れたものではなく、核両物質が反応した重合体である。
図に示す、参考例7における生成物(第10図参照)と
ほぼ同様のスペクトルが観測された。
ラザンが淡黄色樹脂状固体として得られた。収率は89
重量%であった。得られたポリマーの元素分析の結果、
同ポリマーはSt : 45.6%。
.88%、C:12.8%およびH:5.05%(各重
量%)の組成を有していた。
10℃/分で加熱し、1350℃で1時間焼成すると黒
色固体が83重量%の収率で得られた。この′#J質の
粉末X線回折測定を行なったところ、第12図に示すご
とく、非晶質の回折線のみが観測された。例えば、ベル
ヒドロポリシラザンを同一条件で焼成すると結晶質の窒
化珪素の生成が確認されているが、ポリアルミノシラザ
ンを前駆体とすると、窒化珪素の非晶質状態がより高温
まで保持されている。
8.9%、N:24.4%、 C: 6.14%、 であった。
1000℃まで10℃/分で加熱し、1000℃で1時
間焼成して黒色固体を89重量%の収率で得た。得られ
たセラミックスの元素分析結果は(重量%) St : 46.3%、Aj2:4.32%、 O:
14.1%、N:28.8%、 C: 2.24%、 であった、この固体をさらに窒素雰囲気中で1700℃
まで100℃/分で加熱し、1700℃で1時間焼成し
・て灰白色の固体を得た。この物質の粉末X線回折測定
を行なったところ、第13図に示すごとく、2θ=13
.4°にβ−5tsNaの(100)回折線、2θ−2
3,4°にβ−5i3Lの(110)回折線、2θ=2
7.0’にβ−5i、N、の(200)回折線、2θ=
33.6゜にβ−51sN<の(101)回折線、2θ
=36.0°にβSiJ<の(210)回折線、2θ=
41.1°にβ−5iJaの(201)回折線、2θ−
47,7°にβ−5iyNaの(220)回折線および
2θ=49.8°にβ−3iJ4の(310)回折線が
また2θ=20.5°にα−3iJ4の(101)回折
線、2θ=22.9°にα−5i3N4の(110)回
折線、2θ=30.9°にf2 5iJ4の(201)
回折線、2θ−34,4°にα−3i3N4の(102
)回折線、2θ=35.2°にα−3t、N4の(21
0)回折線、2θ=38.8°にα−5iJ4の(21
1)回折線および2θ=43.4°にα−5iJ、の(
301)回折線が認められた。2θ=35.6°に5i
C(4H)の(002)回折線および2θ=38.1°
に5iC(4H)の(101)回折線が認められた。β
−5iJnの回折線はいずれも低角側にシフトしており
、例えば(301)回折線は低角側へ20=0.12°
シフトしている。従来のβ−5isNaと格子定数が興
なることから、得られた物質は主として、β−5iJ4
、α−5iJ4.5iC(4H)およびβ−5ial
onよりなる複合セラミックスであると推定される。
内容積200 aZの四つロフラスコにコンデンサー、
シーラムキャップ及びマグネチックスターシーを装置し
た0反応器内部を乾燥窒素で置換した後、四つロフラス
コにアルミニウムトリイソプロポキシド0.45 g
(2,203n+s+o 1 )を入れ、参考例3で
得られたポリメチル(ヒドロ)シラザンの0−キシレン
溶液(ポリメチル(ヒドロ)シラザンの濃度:20.4
g/1)30−を注射器を用いて攪拌しながら加え、窒
素雰囲気下で130℃で48時間環流反応を行なった。
測定したところ(第14図)、ポリメチル(ヒドロ)シ
ラザン中のSi −H結合が約5%、またN−H結合が
約25%消失していることが確認された。元素分析の結
果、同ポリマーはSl :35.8. Al :4.6
1. N :17.5.0 +8.7. C:26.6
及びH:6.1(各重量%)の組成を有していた。溶媒
を減圧留去して得られたポリマーを窒素雰囲気中、10
00℃まで10℃/分で加熱し、1000℃で1時間焼
成すると黒色固体が62重量%の収率で得られた。
11の四つロフラスコにガス吹きこみ管、メカニカルス
ターシー、ジュワーコンデンサーを装置した。反応器内
部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四つロフラスコ
に脱気した乾燥ピリジン490mfを入れ、これを氷冷
した。次にジクロロシラン51.6 gを加えると白色
固体状のアダクト(SiH2Cβ2 ・2 C5HsN
)が生成した。反応混合物を氷冷し、攪拌しながら、水
酸化ナトリウム管及び活性炭管を通して精製したアンモ
ニア51.0gを吹き込んだ。
用いて洗浄した後、更に窒素雰囲気下でろ過し、ろ液8
50−を得た。濾液5dから溶媒を減圧留去すると樹脂
固体ベルヒドロポリシラザン0、102 gが得られた
。
たところ、980であった。また、このポリマーのIR
(赤外吸収)スペクトル(溶媒:乾燥0−キシレン;ベ
ルヒドロポリシラザンの濃度:10、2 g / I!
)を検討すると、波数(cm ’) 3350(見か
けの吸光係数6 = 0.5571 g−’cm−’)
及び1175のNHに基づく吸収;2170(ε=3.
14)のSi旧こ基づく吸収; 1020〜820のS
iH及び5iNSiに基づく吸収を示すことが確認され
た。またこのポリマーの’HNMR(プロトン核磁気共
鳴)スペクトル(60MHz溶媒CDCj!s/基準物
質TMS)を検討すると、いずれも幅広い吸収を示して
いることが確認された。即ちδ4.8及び4.4 (
br 、 5at() ;1.5 (br、NH)の吸
収が確認された。
容積II!の四つロフラスコにガス吹きこみ管、メカニ
カルスターシー、ジュワーコンデンサーを装置した。反
応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四つロフ
ラスコに乾燥ジクロロメタン300m1’およびメチル
ジクロロシラン24.3 g (0,211mol)を
入れ、氷冷した。攪拌しながら、水酸化ナトリウム管お
よび活性炭管を通して精製したアンモニア18.1 g
(1,06mol)を吹き込んだ。
タンを用いて洗浄後、更に窒素雰囲気下でろ過した。ろ
液から溶媒を減圧留去すると無色透明のメチル(ヒドロ
)シラザンを8.81g得た。
ろ、380であった。
得られた一ベルヒドロポリシラザンのピリジン溶液(ベ
ルヒドロポリシラザンの濃度;5.10重量%) 10
0 mlを内容積300mj!の耐圧反応容器に入れ、
トリメチルボレー) 4.0 cc(0,035mol
)を加え密閉系で160℃で3時間攪拌しながら反応を
行なった。反応前後で圧力は1.0 kg / crl
上昇した。
より、水S$よびメタンであった。室温に冷却後、乾燥
φ−キシレン100−を加え、圧力3〜5mm)fg、
温度50〜70℃で溶媒を除いたところ、5.45gの
白色粉末が得られた。この粉末は、トルエン、テトラヒ
ドロフラン、クロロホルムおよびその他の有機溶媒に可
溶であった。
たところ、2100であった。また、そのIRスペクト
ルの分析の結果、波数(cr’) 3350および11
75のNHに基づく吸収; 2170のSiHに基づく
吸収; 1020〜820のSiHおよび5iNSiに
基づく吸収; 2960 、2940 、2840のC
Hに基づく吸収:1090のSinに基づく吸収; 1
550〜1300のBOに基づく吸収を示すことが確認
された。さらに前記重合体粉末の’HNMRスペクトル
(COCl、、 T!、(S)を分析した結果、δ4,
8 (br、5iH2) 、δ4.’/(br。
3.6 (br 、CH3[+)、δ1,4 (b
r、NH)の吸収が観測された。また、前記重合体の元
素分析結果は、重量基準でS i : 42.4%、
N:25.9%、C:8.8%、0 :12.7%、
B : 7.0%、H: 3.8%であった。
1000℃まで昇温速度3℃/分で加熱し、熱分解する
ことで白色固体を88.0重量%の収率で得た。得られ
たセラミックスの粉末X線回折測定を行なったところ、
非晶質であることが51i認された。この固体の元素分
析結果は、重量基準で、S + : 40.7%、N
:33.5%、C: 1.57%、0 :12.
0 %、 B 二 7.00%であった。
10℃/分で加熱焼成して灰色固体を得た。
図に示す如く、非晶質状態を保っていることが確2忍さ
れた。
ン溶液(N−メチルシラザンの濃度; 4.95重量%
)100rIIlを内容積300rrteの耐圧反応容
器に入れ、トリブチルボレート4.0 cc(0,01
48mol)を加え、密閉系で120℃で3時間攪拌し
ながら反応を行なった。反応前後で圧力は0.8 kg
/ cl!!上昇した。
、淡黄色ゴム状固体が5.03g得られた。この物質の
数平均分子量は、GPCにより測定したところ1880
であった。
、有機溶媒に可溶であり、焼成後Si −M−N−0系
またはSi −M−0−N−C系セラミックスに変換さ
れるため、高性能の複合セラミックス成形体を得ること
ができる。即ち、高温機械強度が高く、耐熱性、耐食性
、耐熱衝撃性に優れた高硬度の連続繊維、フィルム、被
覆膜、粉末、発泡体等を得ることができ、また焼結用結
合剤、含浸剤等として利用することも可能である。
効果あるいは利点がある。
が生成するため、例えばベルヒドロポリシラザン繊維を
高温焼成した時に観測される結晶性のα型やβ型窒化珪
素の生成を抑制させることができるので、セラミックス
繊維の機械的強度が向上する。
べて架橋構造及び、分子量が増加するため、賦形後の乾
燥工程における凝固性が向上する。
N−0系又はS+’−M−N−0−C系セラミックスに
は、メタル原子が含有されているため、複合材料として
利用する際、金属との適合性が向上する。
IRスペクトノペ第2図は参考例3で作成したポリメチ
ル(ヒドロ)シラザンのIRスペクトル図、第3図は実
施例1で作成したポリジルコノシラザンのIRスペクト
ル図、第4図は実・絶倒2のポリジルコノシラザンを焼
成したセラミックスの粉末X線回折図、第5図は実施例
3のポリジルコノシラザンのIRスペクトル図、第6図
は参考例4で作成したポリチタノシラザンのIRスペク
トル図、第7図は参考例5で作成したポリチタノシラザ
ンのそれぞれIRスペクトル図、第8図は参考例5のポ
リチタノシラザンを焼成したセラミックスのX線粉末回
折図、第9図は参考例6で作成したポリチタノシラザン
のIRスペクトル図、第10図は参考例7のポリアルミ
ノシラザンのIRスペクトル図、第11図は参考例8の
ポリアルミノシラザンのIRスペクトル図、第12図は
参考例8のポリアルミノシラザンを焼成したセラミック
スの粉末X線回折図、第13図は参考例8の第12図同
様の粉末X線回折図、第14図は参考例9のポリアルミ
ノシラザンのrRスペクトル図、第15図は実施例4の
ポリボロシラザンを焼成したセラミックスの粉末X線回
折図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、主として一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (R^1、R^2、R^3はそれぞれ独立に水素原子、
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する基が炭
素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、ア
ルコキシ基を表わす。但し、R^1、R^2、R^3の
少なくとも1個は水素原子である。) で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
が約100〜5万のポリシラザンと、一般式(II): M(OR^4)_n(II) (式中、Mは元素長周期律表第2A族から第5A族まで
及び第3B族から第5B族までの元素(但し、チタンと
アルミニウムは除く)であり;R^4は、同一でも異な
っていてもよく、水素原子、炭素原子数1〜20個を有
するアルキル基またはアリール基を表わし、少なくとも
1個のR^4は上記アルキル基またはアリール基であり
;nはMの原子価である。) で表わされるメタルアルコキシドを反応させて、得られ
るメタル/ケイ素原子比が0.001〜3の範囲内かつ
数平均分子量が約200〜50万の新規ポリメタロシラ
ザン。 2、主として一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (R^1、R^2、R^3はそれぞれ独立に水素原子、
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する基が炭
素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、ア
ルコキシ基を表わす。但し、R^1、R^2、R^3の
少なくとも1個は水素原子である。) で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
が約100〜5万のポリシラザンと、一般式(II): M(OR^4)_n(II) (式中、Mは元素長周期律表第2A族から第5A族まで
及び第3B族から第5B族までの金属(但し、チタンと
アルミニウムは除く。)であり;R^4は、同一でも異
なっていてもよく、水素原子、炭素原子数1〜20個を
有するアルキル基またはアリール基を表わし、少なくと
も1個のR^4は上記アルキル基またはアリール基であ
り;nはMの原子価である。) で表わされるメタルアルコキシドを反応させて、メタル
/ケイ素原子比が0.001〜3の範囲内かつ数平均分
子量が約200〜50万の新規ポリメタロシラザンを得
ることを特徴とするポリメタロシラザンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1069168A JP2760554B2 (ja) | 1988-03-24 | 1989-03-23 | 新規ポリメタロシラザン及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63-68221 | 1988-03-24 | ||
JP6822188 | 1988-03-24 | ||
JP1069168A JP2760554B2 (ja) | 1988-03-24 | 1989-03-23 | 新規ポリメタロシラザン及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0277427A true JPH0277427A (ja) | 1990-03-16 |
JP2760554B2 JP2760554B2 (ja) | 1998-06-04 |
Family
ID=26409446
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1069168A Expired - Lifetime JP2760554B2 (ja) | 1988-03-24 | 1989-03-23 | 新規ポリメタロシラザン及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2760554B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5459114A (en) * | 1992-11-26 | 1995-10-17 | Tonen Corporation | Method for producing ceramic products |
CN109161336A (zh) * | 2018-08-07 | 2019-01-08 | 太仓佩琦涂料有限公司 | 光固化聚硅氮烷涂料及其制备方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5350299A (en) * | 1976-10-18 | 1978-05-08 | Tokushiyu Muki Zairiyou Kenkiy | Process for preparing inorganic polymer whose main chain contains si b and o as elemental component |
-
1989
- 1989-03-23 JP JP1069168A patent/JP2760554B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5350299A (en) * | 1976-10-18 | 1978-05-08 | Tokushiyu Muki Zairiyou Kenkiy | Process for preparing inorganic polymer whose main chain contains si b and o as elemental component |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5459114A (en) * | 1992-11-26 | 1995-10-17 | Tonen Corporation | Method for producing ceramic products |
CN109161336A (zh) * | 2018-08-07 | 2019-01-08 | 太仓佩琦涂料有限公司 | 光固化聚硅氮烷涂料及其制备方法 |
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JP2760554B2 (ja) | 1998-06-04 |
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