JPS6345289A - プリンおよびピリミジン塩基のn−ホスホニルメトキシアルキル誘導体 - Google Patents

プリンおよびピリミジン塩基のn−ホスホニルメトキシアルキル誘導体

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JPS6345289A
JPS6345289A JP62179877A JP17987787A JPS6345289A JP S6345289 A JPS6345289 A JP S6345289A JP 62179877 A JP62179877 A JP 62179877A JP 17987787 A JP17987787 A JP 17987787A JP S6345289 A JPS6345289 A JP S6345289A
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    • C07F9/6512Six-membered rings having the nitrogen atoms in positions 1 and 3

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ピリミジン塩基及びプリン塩基のN−ホスホ
ニルメトキシアルキル誘導体、並びに該誘導体を含有す
る、抗ウィルス活性を有する治療用組成物に関するもの
である。
従来技術 幾つかの、複素環塩基の置換N−アルキル誘導体は重要
な生物学的作用をあられす。その様な化合物には、例え
ば、気管支拡張作用を有するジプロフィリン(D 1p
rophillin)やプロキシフィリン(Proxy
phill 1n)(登録商標)等のテオフィリン誘導
体がある。その他、例えば、9−(2−ヒドロキシエト
キシメチル)グアニン[アシクロビア(Acycl。
■ir)]、9−(1,3−ジヒドロキシ−2−プロポ
キンメチル)グアニン(DHPG)及び9−(4−ヒド
ロキシブチル)グアニン(HBG)のごときグアニン誘
導体、並びに9−(S)−(2,3−ジヒドロキシプロ
ピル)アデニン(DHPA)、3−(アデニン−9−イ
ル)−2−ヒドロキシプロパン酸(AHPA)及びその
エステルのごときアデニン誘導体を挙げることでき、こ
れらはいずれも抗ウィルス作用を有する。アデニン及び
グアニンの抗ウイルス性誘導体に関する総説は、ハーン
デン(M、J。
Harnden)編、抗ウィルス剤へのアプローチ(A
pproaches to Antiviral  A
gents);マクミラン、ロンドン(Macmi41
an、 London) 1985 、 l 01頁〜
134頁に記載されている。また、エリスロー9−(2
−ヒドロキシノニル)アデニン(EHNA)、1−(2
−ヒドロキシエトキシメチル)−5−ベンジルウラシル
及び1−(1,3−ジヒドロキシ−2−プロポキンメチ
ル)−5−ベンジルウラシルにも重要な生物学的作用が
見い出されており、これらの化合物は、異化作用に係る
酵素の特異的な阻害物質であることから、代謝性疾患又
は悪性疾患の治療に用い得ると考えられる。
これらの化合物の大部分は、ヌクレオシドの糖部分が、
水酸基を有する置換−炭素鎖で置き換えられた、非環式
ヌクレオシド同族体とみなされるものである。生きた生
物の体内では、通常、その様なヌクレオシド同族体はリ
ン酸エステル(ヌクレオチド同族体)に変換され、活性
な抗代謝物質として作用し得る。
リン酸エステルの形のヌクレオシド同族体を治療剤とし
て用いる試みは、生体内でその様なエステル類が容易に
脱リン酸されることから、特に成功したことがなかった
。他方、ヌクレオシド同族体の幾つかのホスホニルアル
キル誘導体では、より良好な結果が得られている。即ち
、9−(ω−ホスホニルアルキル)ヒポキサンチン類は
、代謝性疾患及び悪性疾患の治療に於いて重要な標的酵
素である、プリンヌクレオシドホスホリラーゼを阻害す
ることが分かっている[ナカムラ(C,E、Nakam
ura)ら、バイオケミカル・ファーフコロジー(Bi
oChem、Pharmacol、)3 s、 133
〜I 36(1986)]。また、9−(ホスホニルア
ルコキシメチル)プリン類の抗ウィルス作用も報告され
ている(Wo  85.04748)。この化合物群に
は、極めて重要な2つの化合物、即ち、GB−A−2゜
134.907に開示されている9−(S)−(2−ホ
スホニルメトキシ−3−ヒドロキシプロピル)アデニン
(HPMPA)及びEP−A−0205826に開示さ
れている9−(2−ホスホニルメトキシエチル)アデニ
ン(PMEA)がある。これら両化合物は、いずれもD
NAウィルスに特異的に作用する、極めて強力な抗ウィ
ルス剤である。
DNAウィルス、例えばヘルペスウィルス類[単純性包
疹ウィルス、帯状包疹ウィルス、サイトメガウィルス、
エプスタイン(E pstein)−バール(Barr
)ウィルス]、ポックスウィルス及びアデノウィルス等
は、重篤な疾ルを引き起こし得る。従来、そのような疾
患のあるものは、アシクロビア(Acyclovir)
及びD II P Gによって治療されていたしフリー
ストン(D 、 S 、 F reesjone)アン
チヴイラル・リサーチ(Antiviral Res、
) 15.307〜324(1985)]が、これらの
適応は、水に対する溶解性が低いことと、副作用がある
ことから、限られていた。しかも、アシクロビア(Ac
yclovir)及びD )[P Cの作用は、特定の
ウィルス性酵素、チミジンキナーゼの存在に依存してい
る。このことは、前記ウィルスの、該酵素を欠いている
株又は突然変異体は、上記の抗ウィルス剤に対して、感
受性を有しないことを意味する。
上記の薬剤が奏効しない症例に於いてし、ホスホニルア
ルキル誘導体であるH P M P A及びPMEAは
有効である。
発明の構成及び目的 更に研究を重ねた結果、N−ホスホニルアルキル誘導体
の抗ウィルス作用はHPMPA及びPMEA等のアデニ
ンを基本とする誘導体に限らず、シトシン、ウラシル、
チミジン、グアニン及びヒボキサンチン等の他のピリミ
ジン及びプリン塩基のN−ホスホニルメトキシアルキル
誘導体にも存在することか見い出された。本発明は、こ
の発見に基づいて為されたものである。
本発明の誘導体は、一般式(I): B    CHx    CH0CHtP  (OXO
H)y    (1)(式中、Rは水素原子又はヒドロ
キシメチル基、Bはピリミジン又はプリン塩基の残基を
表す)で示される。これらの化合物のアルカリ金属、ア
ンモニア又はアミン塩も本発明化合物の定義に包含され
る。
式(I)で示される化合物及びその塩は新規化合物であ
って、それらは、複素環塩基類、並びにそのN−(2−
ヒドロキシエチル)誘導体又はN−(2,3−ジヒドロ
キシプロピル)誘導体から容易に製造される。これらの
大部分はDNAウィルスに対する顕著な抗ウィルス活性
を示すので、ウィルス疾患の治療のための治療用組成物
に含有させることができ、他のらのは、化学的な変換を
介して活性な化合物に転換することができる。従って、
本発明は、N−ホスホニルメトキシアルキル誘導体及び
その化学的合成方法、並びに該誘導体を含有する治療用
組成物に関するものである。
一般式(1)に於いて、Bは極めて多くの、様々な複素
環塩基残基をとり得ることが注目される。
即ち、Bは天然に存在するピリミジン塩基、例えばシト
シン、ウラシル又はチミジン、あるいはプリン塩基、例
えばアデニン、グアニン、ヒボキサンチン、キサンチン
又はプリンそのもの、に由来する残基であってよい。そ
の様な複素環塩基類の環系は、例えばアルキル、アルコ
キシ、ヒドロキシル、アミン、ヒドロキシルアミノ、ヒ
ドラツノ、チオ及びアルキルチオ基等、l又はそれ以上
の置換基を何していてもよい。更に、この環系は、ピリ
ミジン又はプリン塩基のアザ、デアザ、デオキシ又はデ
アミノ同族体のごとく、修飾された環系であってもよい
。複素環塩基は、分子の残余部分のどの位置で結合して
もよく、ピリミジン塩基は1位又は3位で、他方、プリ
ン塩基は3位、7位又は9位で結合することができる。
尚、非置換型アデニンのN−ホスホニルメトキノアルキ
ル誘導体(HPMPA及びPMEA)は本発明以前に開
示されているので、一般式(1)の定義から除外される
ことに注意されたい。
一般式(1)で示される誘導体の抗ウィルス作用を、例
えばD N Aウィルスによって引き起こされる疾患等
のウィルス性疾患の治療に利用することができる。一般
式(1)で示される誘導体の重要な特性は、それらが、
例えば、ヘルペスウィルス類のTK−突然変異体の如き
、アシクロビア(Acyclovir)やD)IPGに
抵抗性のDNAウィルスに対しても抗ウィルス作用を有
する点にある。アシクロビア、DHPG、HBGSDH
PA、AHPA及びA HP Aのエステル類のごとき
抗ウィルス性ヌクレオンド同族体と対照的に、式(I)
で示される誘導体の抗ウィルス作用は特定の複素環塩基
に限定されない。このことは、一般式(1)で示される
化合物の作用機序が全く異なっていることを示唆するも
のであり、それはまた、池の抗ウイルス性物質に抵抗性
の株や突然変異体に対して該化合物が活性を有すること
によっても支持されている。
既述のアデニン誘導体(HPMPA及びP M E A
 )と全く同様に、式(1)のシトシン及びグアニン誘
導体は、ヘルペスウィルス(l型及び2型)並びにワク
シニアウィルスのTK−突然変異体に対して極めて有効
である。しかも、式(1)で示されるントンン化合物は
、アデニン誘導体(HP M P A及びPMEA)よ
りも容易に得ることかでさる。
一般式(1)で示される誘導体を活性成分として含有す
る本発明の治療用組成物は、粉末、@濁液、溶液、スプ
レー、エマルジョン、ペースト、軟膏その他の形状で、
非経口投与(静脈内、皮内、筋肉内、を髄内等)、並び
に経口、経直腸、経膣又は鼻腔内投与に、あるいは局所
適用に用いることができる。その様な組成物は、一般式
(1)で示される誘導体の塩、又は遊離の酸を、薬学的
に許容し得ろ担体、安定化剤、溶媒、湿潤剤、添加剤、
その他、この様な目的に用いられる物質と混合するか、
それらに溶解させることにより調製される。
必要性、及び投与剤型に応じて、その様な組成物中には
式(I)の化合物を0.1−100重1%の様々な濃度
で含有させることができる。また、活性物質の投与量は
、体重(kg)当たり、0 、1 Rg〜110Oxの
範囲とすることができる。
Rが水素原子である一般式(1)で示される化合物、即
ちピリミジン又はプリン塩基類の2−ホスホニルメトキ
シエチル誘導体は、一般式(■);B−CH,CH,O
H(n) (式中、Bは式(1)に於ける定義と同意義)で示され
る化合物をp−トルエンスルホニルオキンメタンリン酸
のジエステル体重と反応させ、次いでトリメチルハロゲ
ノシランと反応させることにより製造することができろ
。更に別法として、ピリミジン又はプリン塩基のアルカ
リ金属塩を一般式(■): BrCr−1tCHtOCHtP(OXOCtHs)t
    (1)で示される2−ブロモエトキシメタンリ
ン酸のジエステル体と反応させて一般式(■):B  
C1−1tcHtOcHtP(OXOCzl(s)t 
 (TV)(式中、Bは式(1)に於ける定義と同意義
)で示される中間生成物を得、次いでトリメチルハロゲ
ノシランと処理することによっても製造することができ
る。
Rがヒドロキシメチル基である一般式(1)で示される
化合物、即ちピリミジン及びプリン塩基のN−(3−ヒ
ドロキシ−2−ホスホニルメトキシプロピル)誘導体は
、1個の不斉炭素原子を有している。本化合物の2つの
光学対掌体並びにラセミ体は、一般式(■): [3−Ctl、0N(OH)CH20H(V)(式中、
Bは式(1)に於ける定義と同意義)で示される化合物
から製造することができる。式(V)で示される化合物
は、多数の合成経路により対応するピリミジン及びプリ
ン塩基から人手することができる[ホリー(A、ト1o
1y)・コレクション・チェコスロバキア・ケミカル・
コミユニティ−(Co11ect、 Czechosl
ov、 Chem、 Commun、)、 40 、1
87(1975)、同上上3,3103(1978)]
式(V)で示される化合物の、特定して保護された誘導
体(この化合物は遊離の2−ヒドロキシル基を有する)
を前述のp−トルエンスルホニルオキシメタンリン酸の
ジエステル体と反応させ、次いでトリメチルハロゲノシ
ランを開裂させることにより、これらの化合物を式(1
)で示される化合物に変換させることができろ。しかし
、より好適な方法は、保護されていない、式(V)で示
される化合物を式(■): Cl20HtP(0)C&ffi    (Vl)で示
されるクロロメタンホスホニル・ジクロリドと、ピリジ
ン中又は好適にはリン酸トリエチル中のいずれかで反応
させた後、得られた式(V)で示される化合物の2′−
〇−クロロメタンホスホニル・エステル体を鉱酸又は水
中で処理することによって、同化合物の3°−0−クロ
ロメタンホスホニル・エステル体に異性化させることで
ある。
これにより得られる化合物は、一般式(■):(式中、
Bは式(1)に於ける定義と同意義)で示される化合物
である。式(■)で示される化合物を水性アルカリ金属
水酸化物で処理することで、Rがヒドロキシメチル基で
ある式(1)で示される化合物が実用的な収量で得られ
る。
更に、一般式(I)で示される化合物は、複素環塩基を
化学的に置換させることにより製造することができる。
即ち、例えばBがウラシル−1−イルの式(+)で示さ
れるウラシル誘導体を臭素又はヨウ素と反応させれば、
Bが5−ハロゲノウラシル−1−イルである式(1)の
化合物が得られ、アデニン誘導体(I4 P M P 
A、 P ME A)を亜硝酸又は亜硝酸アミルで処理
すれば、Bがヒポキサンチン−9−イル基である式(1
)で示される化合物が得られ、グアニン誘導体を同様に
脱アミノ化することで、Bがキサンチン−9−イル基で
ある式(■)で示される化合物が得られる。一般式(1
)で示される化合物の前駆骨格に於けるプリン塩基を、
例えば塩素で置換することによっても、対応するN−ホ
スホニルメトキシアルキル−8−ハロゲノプリン類が得
られる。他方、Bが2−メチルチオアデニン−9−イル
基である一般式(1)の化合物は、例えばラニー・ニッ
ケルを用いた脱硫反応によってHPMPA又はP M 
E Aに変換することができる。
この複素環の変換は、具体的には、複素環塩基から式(
Dで示される化合物を製造する上での反応条件では所望
の異性体(ヒボキサンチン、キサンチン)が得られない
か、又は複素環塩基が分解される(これは、主として式
(■)で示される中間生成物の反応時に強アルカリを使
用することに起因する)場合に利用することができる。
ピリミジン又はプリン系列のハロゲン置換誘導体も、複
素環塩基を更に変換するための出発物質として利用する
ことができる。
一般式(1)で示される誘導体は、中程度の酸である。
これらは陰イオン交換樹脂(例えばドウエクスI(Do
vex I )、セファデックスA−’25(Seph
adex A −25)、DEAEセルロース等)のク
ロマトグラフィー(好ましくは揮発性有機酸、例えば酢
酸若しくはギ酸、又は揮発性中性緩衝液、例えば炭酸水
素トリエチルアンモニウムを用いろ)によって容易に精
製することができる。本発明の化合物の中には(特に塩
基性複素環部分を有するもの)、遊離酸の型で保存でき
るものもあるが、これらは水に難溶である可能性がある
。これら遊離酸を好ましい可溶性塩、特にアルカリ金属
(ナトリウム、リチウム及び同様のアルカリ金属)、ア
ンモニア又はアミン類との塩に変換することによって高
い溶解性が得られる。この変換は、対応する塩基を用い
て中性にするか、又はイオン交換することによって行な
うことができる。更に、ある種の塩形態はイオン交換す
ることによって別の塩形態にすることができる。一般式
(1)で示される化合物は、紫外吸収スペクトル法、ペ
ーパークロフトグラフィー法、高速液体クロマトグラフ
ィー(HPLC)法又はペーパー電気泳動法によって容
易にその特性を決めることができ、同時にこれらの方法
は均質性の判定基準として利用することができる。
一般式(1)で示される化合物の抗ウィルス活性は、ウ
ィルス誘起性の細胞毒性に対する阻害作用を目安として
検定される。即ち、例えば家兎前の初代細胞(PRK−
細胞)のような適当な細胞を対応するウィルスで予め感
染させておき、次いでこの細胞を、式(1)で示される
化合物を種々の濃度で含有する培地で培養する。化合物
の検定に際しては、同条件下に置いたこの同一の細胞の
、ウィルス非感染の対照培養物に於いて細胞の形態を顕
著に変化させることなく、培地での濃度100μg/x
Qを越えずに効果が認められた場合に、有意な活性を有
する化合物とみなす。
幾つかの代表的ウィルスに対する式(1)で示される化
合物の作用効果の概要を表1に示す。本化合物の製造方
法を実施例で説明し、これらの特性値を表2に示す。但
し、これらは、化合物の構造又はその抗ウィルス活性を
限定するためのらのではない。
実施例1 細胞培養物に於ける、一般式(1)で示され
る化合物の抗ウィルス活性の検定マイクロタイター皿の
ウェル中、イーグルの最小必要培地(EMEM、 Ea
gle’s minimum essential m
edium)で培養したPRK−細胞の全面単層物に、
被検ウィルス100CCIDS。(ICCIpsoは至
適条件下で細胞の50%を感染するのに必要なウィルス
惧)を1時間で接種する。次いで、ウィルス溶液を取り
除き、細胞をE M E Mで洗浄して、被検化合物を
種々の濃度(wt/vol)で含有するE M E M
溶液中で培養する。これらの細胞培養物中のウィルスの
細胞毒性作用(CPE)は、対照培養物即ち細胞が被検
化合物の無いE M E Mで培養されている培養物に
於いて、同ウィルスが100%のCPEに達した時に算
定する。抗ウィルス活性は、被検化合物の各種濃度に於
ける測定値の連続線から得られ、M I Cs。(μg
/x&)、即ちウィルスのCPEを50%に抑える被検
化合物の濃度として表される。一般式(1)で示される
被検化合物に関する、得られた値を表1にまとめて示す
。表中のNAは不活性を、H8Vはヘルペスウィルスを
、■■はワクシニアウィルスをそれぞれ意味している。
表1には、固有の欄を設け、MCC3O1即ちウィルス
に感染されていない培養細胞の50%に、観察される形
態上の変化をもたらす被検化合物の最低濃度を示してい
る。
実施例2一般式1(R=H)の化合物の製造2−ブロモ
エトキシメタンホスホン酸ジエチル(2,759:10
xモル)のジメチルホルムアミド(lOxQ)溶液を、
湿気を遮断した条件下、80℃で2〜3時間かけて、ピ
リミジンまたはプリン塩基のナトリウム塩[ジメチルホ
ルムアミド(80xQ)中、水素化ナトリウム(0,2
49: I Oraモル)および塩基(I 0I11モ
ル)から調製した]の撹拌溶液に滴下する。80℃で3
〜5時間撹拌した後、溶媒を13Paで蒸発させ、残留
物を煮沸クロロホルム(400〜500 xQ)で抽出
する。この抽出液を真空下で濃縮し、エタノール−クロ
ロホルムの勾配溶離液を用いて、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(200,vQ)にかける。こうしてク
ロマトグラフィー的に均一な式■の化合物が得られ、こ
れを酢酸エチル(またはエタノール)と軽油の混合液か
ら結晶化することができる。この生成物を、室温で16
時間、アセトニトリル(403+12)中のトリメチル
ブロモシラン(2,41f2)で処理する。溶媒を2k
Paで蒸発させ、残留物を50%(容積/容積)アセト
ニトリル水溶液中の10%トリエチルアミン溶液に溶解
し、そして30分後にもう一度溶媒を2kPaで蒸発さ
せる。溶離剤として、ptl 7 、5の、炭酸水素ト
リエチルアンモニウムの0.02〜0゜2モル/r2の
直線勾配液(合計2Q)を用いて、この残留物をセファ
デックス(S ephadex)A −25カラムクロ
マトグラフイー(HCO3−,150xQ)にかける。
目的の化合物を含有している主なUV吸収フラクション
を濃縮し、これに含まれる緩衝液を、メタノールとの共
蒸留を繰り返すことによって除去する(この蒸発はすべ
て2kPaで行う)。この残留物を水(20iC)に溶
解し、ダウエックス(Dowex) 50 x 8カラ
ム(Na” + 50xQ)にかけ、水で溶離する。U
Vを吸収する溶出液を濃縮し、これに含まれる生成物を
エーテル含有のメタノールから沈澱させる。得られた化
合物[(11=H)のナトリウム塩を80〜90%の収
率(化合物■から)で単離する。
このようにして製造した一般式■の化合物を表2に挙げ
る。
実施例3一般式1(R=1−()の化合物の製造実施例
2と同様にして、ピリミジンまたはプリン塩基(10I
11モル)をそのナトリウム塩に変え、2−ブロモエト
キシメタンホスホン酸ジエチルと反応させる。溶媒を1
3Paで蒸発させる。クロロホルムで抽出するかわりに
、弐■の中間体を1モル/i2の水酸化ナトリウム(5
0ff(1’)と共に80°Cで8時間加熱する。カチ
オン交換樹脂(H”−型)で中和した後、この混合物を
トリエチルアミンでアルカリ性にし、濾過し、2kPa
で濃縮した上で残留物を五酸化リン上、13Paで乾燥
する。次いで、この生成物をトリメチルブロモシランと
反応させ、実施例2と同様にして後処理する。
このようにして製造した一般式Iの化合物を表2に挙げ
る。
実施例4一般式1(R=CH,OH)の化合物の製造 クロロメタンホスホニルジクロリドC0,40RQ)を
、N−(2,3−ジヒドロキシプロピル)誘導体■とト
リエチルホスフェート(+Ox&)の撹拌混合物に加え
る。栓付きのフラスコ中で16時間撹拌した後、これに
エーテル(80z□を加え、得られた沈澱物を濾過し、
エーテルで洗浄し、13Paで乾燥する。この物質の水
溶液(20z12)を8時間還流し、トリエチルアミン
で中和し、2kPaで濃縮する。この残留物を水(1,
5x&)に溶解し、この溶液1)0.3x(lを、0 
、05 モル/Q炭酸水素トリエチルアンモニウム(p
H7,5)で平衡化した、オクタデシルシリカゲル[た
とえば、セパロン(Separon)S I X  C
18,7x月のカラム(8x50Q +u)にかける。
塩が除去されるまでこのカラムを同一の緩衝液で洗浄し
、次いで同一緩衝液中のメタノールの役階勾配溶′a(
普通はlO容重%まで)を用いて2 vQ1分の速度で
溶離する。化合物■を含有している溶出液を合わt’、
2kPaて溶媒を除去し、2モル/Q水酸化ナトリウム
(10R12)と共に80℃に加熱する。この混合物を
カチオン交換器(11”−型)で中和し、濾過し、2k
Pa″ill?濃縮する。実施例2と同様にしてこの残
留物を後処理し、化合物1 (R= CH,O1−1)
のナトリウム塩を50〜60%の収率(化合物■から)
で得ろ。
このようにして製造した一般式Iの化合物を表2に挙げ
る。
実施例5一般式1(R=CH20H)の化合物の製造 実施例4の記載のようにして反応を行なう。水溶液中で
反応中間体を還流した後、化合物■の含有量をHP L
 Cで測定する(通常は80%以上の異性体混合物)。
この混合物を水酸化ナトリウムで中和し、2kPaで濃
縮し、残留物を2モル/Q水酸化ナトリウム(20xQ
)と共に80℃で10時間加熱する。この溶液をカチオ
ン交換樹脂(H”−型)で中和し、トリエチルアミンで
アルカリ性にし、濾過し、2kPaで蒸発させる。この
粗製の生成物を、実施例2と同様にしてセファデックス
A−25クロマトグラフィーで精製し、化合物1(R−
CH,OH)のナトリウム塩を80%以上含有している
生成物を得る。
実施例6 9−(2−ホスホニルメトキシエチル)アデニンのナト
リウム塩(4mモル)の80%酢酸(50z□溶液に、
3−メチルブチルニトリル(1(2)を加える。室温で
72時間、栓付きのフラスコ中に置いた後、溶媒を2k
Paで蒸発させ、残留物を水で繰り返し共蒸留して痕跡
量の酢酸を除去する。この残留物を水(lowQ)に溶
解し、カチオン交換樹脂(たとえば、ダウエックス50
 X 8 、H+−型)のカラム(2003!12)に
かけ、UV吸収において低下が認められるまで水で溶離
する。この溶出液を2kPaで蒸発させ、残留物をエタ
ノールと共蒸留し、エタノール−エーテル(10xQ:
50xQ)から結晶化し、濾過し、エーテルで洗浄し、
13Paで乾燥して9−(2−ホスホニルメトキシエチ
ル)ヒポキサンチン(遊離酸)0.939を得る(収率
:90%:260℃まで溶融しない)。
実施例7 1モル/Q酢酸ナトリウム(pH4、0;407IQ)
中の、9−(S)−(3−ヒドロキシ−2−ホスホニル
メトキシプロピル)アデニンのナトリウム塩(2mモル
)の撹拌溶液に臭素(0,5x□を加える。室温で2日
間撹拌した後、混合物を亜硫酸水素ナトリウムの飽和溶
液で脱色し、この全溶液をカチオン交換樹脂(たとえば
、ダウエックス50X8)のカラム(H”″−梨型;5
01(2)にかける。伝導度およびUV吸収において低
下が認められるまでこのカラムを水で洗浄した後、2容
量%アンモニア水溶液で生成物を溶離する。アンモニア
を含有し、UVを吸収する溶出液を2kPaで濃縮し、
残留物を水に取り、オクタデシルシリカゲルのカラム(
80zQ)で濾過する。このUV吸収溶出液をもう一度
2kPaで濃縮し、水(5yQ)に溶解し、ダウエック
ス50×8カラム(Na′″−型、50.w□にかける
このカラムを水で洗浄し、UVを吸収する溶出液を2k
Paで濃縮し、残留物をエタノールと共蒸留し、エタノ
ール(101Q)およびエーテル(100xQ)と混合
し、濾過して集めて9−(S)−(3−ヒドロキシ−2
−ホスホニルメトキシプロピル)−8−ブロモアデニン
のナトリウム塩を得る(収率二55%)。HPLC分析
によれば、この化合物は出発化合物を0.5%以下しか
含んでいない。
実施例8 9−(RS)−(3−ヒドロキシ−2−ホスホニルメト
キシプロピル)−2−メチルチオアデニンのナトリウム
塩(2,09)を、0.2モル/Q水酸化ナトリウム(
25ff□中の未精製ラニーニッケル(7g)に加える
。還流下で72時間撹拌した後、熱いうちに混合物をセ
ライトで濾過し、次いでこれを沸騰水(10(1りで洗
浄し、この濾液をカチオン交換器(tl ”−型)で中
和する。+4 P L C分析によれば、この生成物は
反応生成物を75〜80%含有している。濃縮した後、
残留物を水(+01Q)に溶解し、0.05モル/Q炭
酸水素トリエチルアンモニウム(pH7,5)でオクタ
デシルシリカゲルのカラム(20u; 180.v12
)にかける。生成物を同一の緩衝液で溶離する(溶離速
度1uQ/分、フラクション20II2、I−I P 
L Cてモニター;第2表参照)。
生成物を含有しているフラクションを合わせ、2kPa
で濃縮し、この生成物を実施例2の記載のようにして(
R9)−1(1) ?A P Aのナトリウム塩に変え
る(収率:65〜70%)。
いずれかの実施例に記載した方法で製造した一般式■の
化合物のいくつかを表2に挙げろ。第6の欄には、2−
プロパツール・濃アンモニア水:水(7: 1 :2)
のペーパークロマトグラフィーから得られる初値を挙げ
る。第7alには、5容量%のメタノールを含有する0
、05モル/Q炭酸水素トリエチルアンモニウム(pH
7,5)での200X4x* RPS  CI 8(5
u)カラムのHPLC溶離定数を挙げる。この定数は、
k = kn−k□ / koで定義される[式中、k
Rは化合物の保持時間(分)であり、koはカラムの持
続時間(分)である]。第2表の最後の欄には、ウリジ
ン3′−ホスフェートと関連づけて、ワットマン(Wh
atman)No、 3 MMペーパー上、0.05モ
ル/σ炭酸水素トリエエチアンモニウム中での電気泳動
(50V/cz)の移動度を挙げる。HPLC溶離定数
の欄において、いくつかの値にはメタノール含有量が異
なることを示すために印を付けた。すなわち、(e)、
(f)および(g)で示される値では、溶離液にそれぞ
れ0.15および7.5容量%のメタノールを含有させ
た。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、Rは水素原子またはヒドロキシメチル基であり
    、Bは非置換アデニン残基を除くプリン塩基の残基また
    はピリミジン塩基の残基である]で示されるプリンおよ
    びピリミジン塩基のN−ホスホニルメトキシアルキル誘
    導体、およびそのアルカリ金属、アンモニアまたはアミ
    ンとの塩。
  2. (2)一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、Rは水素原子であり、Bはプリンまたはピリミ
    ジン塩基の残基である] で示される誘導体の製造方法であって、式(II):B−
    CH_2CH_2OH(II) [式中、Bは式( I )のものと同じ] で示される化合物を、p−トルエンスルホニルオキシメ
    タンホスホン酸のジエステルと反応させ、次いでトリメ
    チルハロゲノシランと反応させるか、または プリンまたはピリミジン塩基のアルカリ金属塩を、一般
    式(III): BrCH_2CH_2OCH_2P(O)(OC_2H
    _5)_2(III)で示される2−ブロモエトキシメタ
    ンホスホン酸のジエステルと反応させて一般式(IV): B−CH_2CH_2OCH_2P(O)(OC_2H
    _5)_2(IV)[式中、Bは式( I )のものと同じ
    ] で示される中間体を得、次いでトリメチルハロゲノシラ
    ンで処理することからなる方法。
  3. (3)一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、Rはヒドロキシメチル基であり、Bはプリンま
    たはピリミジン塩基の残基である] で示される誘導体の製造方法であって、一般式(V): B−CH_2CH(OH)CH_2OH(V)[式中、
    Bは式( I )のものと同じ] で示される化合物を、式(VI): ClCH_2P(O)Cl_2(VI) で示されるクロロメタンホスホニルジクロリドと反応さ
    せ、次いで得られたエステルを、一般式(VII): ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) [式中、Bは式( I )のものと同じ] で示されるエステルに異性化し、そしてこれをアルカリ
    金属水酸化物の水溶液で処理することからなる方法。
  4. (4)一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、Rは水素原子またはヒドロキシメチル基であり
    、Bはプリンまたはピリミジン塩基の残基である] で示される化合物、またはそのアルカリ金属、アンモニ
    アあるいはアミンとの塩を活性成分として含有する抗ウ
    ィルス剤。
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