JPS63198238A - 螢光表示管 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、陽極基板側から発光表示を行う螢光表示管に
関し、特にその陽極基板の構造に関するものである。

〔従来の技術〕

従来、陽極基板側から発光を観察するタイプの螢光表示
管の構造は、第３図に示すように、ソーダガラス等の透
光性絶縁基板１上Ｋｈｔをスパッタリング等で被着した
後、フォトエツチングにより陽極配線層３を形成し、そ
の陽極配線層の表示部４を除く前記基板１上に黒色の低
融点ガラスを用いて絶縁層５を形成し、表示部４に螢光
体層６を形成するものである。そして、螢光体層６に対
面する上方には、必要に応じてメツシュ状の制御電極Ｔ
および加熱されて電子を放出する陰極８が設けられ、こ
れらの電極および陽極配線層３は前記陽極基板１の周辺
部に封着される外囲器９との封着部１１から真空外部に
導出される端子１０と電気的に接続させた構造になるも
のである。

ところで、上述したように陽極配線層３にＡｌ薄膜を用
いる基板では、配線層の表示部４は表示パターンの視認
性を妨げないように、１０〜２０μｍ程度の細線で蜂の
巣状等のパターンの集合体から形成されている。また、
表示部４のパターンのみをＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｌ
ｎ　０ｘｉｄｅ　）等の透明導電膜で形成し、配線層は
Ａｌ薄膜を用いて電気的に接続した構造の基板も検討さ
れている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、いずれの構造の基板も陽極基板側から表
示を観察した場合、表示部や配線層のＡｌ薄膜が金属光
沢を有しているため、外光を反射し、表示の品位や表示
パターンの視認性を低下させるという問題がおった。

Ａｌ配線の金属光沢を低下させる方法として、予め、絶
縁基板上に）ＬＯｘやＭＯＯＫといった金属の低級酸化
膜をスパッタリング尋で被着した後、Ａｌを積層し、多
層薄膜の陽極配線層を形成することによシ、多層膜の光
学的性質を利用してＡｌの反射を防止するととも考えら
れるが、薄膜装置の増大や基板の製造コストの増加とい
った経済的問題がある。

本発明はこのような事情に鑑みて外されたもので、その
目的は、陽極基板側から発光表示を得るタイプの螢光表
示管において、Ａｌ配線の金属光沢を無くシ、表示品位
の向上を図った安価な陽極基板を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

このような目的を達成するため、本発明は、ソーダガラ
ス等の透光性絶縁基板に金属の有機化合物からなる装飾
用組成物を塗布し焼成して得られる彩色層上に、Ａｌ薄
膜を被着して陽極配線層を形成した後、再び焼成工程を
通すことにより、ｈｔの金属光沢を失なわせ、視認性の
良い陽極基板を作るものである。

〔作用〕

本発明によれば、金を含む金属の有機化合物をガラス基
板に印刷等によシ塗布し、６００℃前後の温度で焼成し
て得られる彩色層と、この彩色層上に被着したＡｌ薄膜
を５５０〜６００°Ｃの温度で焼成することによシ、反
応性に富むＡｌが彩色層の界面で金属間化合物を生じ、
Ａｌ薄膜の金属光沢が失なわれることが明らかにガつた
。

ここで、金属の有機化合物からなる装飾用組成物として
は、次式で示されるＡｕ、Ａｇ、Ｃｕといった金属のメ
ルカプチド Ｒ−８−ＭｅまたはＲ−Ｓ　−Ｍ　ｅ　−Ｓ　−ＲＲ：
アルキルまたはアリル基、Ｓ：硫黄Ｍｅ：金属 あるいは金属のスルホ樹脂酸塩等の金属レジネートに無
機バインダーとしてＢ１４’Ｓｉの金属有機化合物を加
え、有機溶剤で粘度を調製したペースト状の組成物であ
る。

また、上記金属有機化合物は６００℃程度の温度で焼成
することによシ、有機物は容易に分解消失し、金属性の
Ａｕ＋Ａｇ、Ｃｕと無機の酸化物が生成し、基板に強固
に付着した彩色層が得られる。この彩色層の光学的性質
は析出した金属微粒子の種類と量により異なるが、装飾
用組成物に８ｎ等の還元性元素を添加することによって
も変えることが可能である。

〔実施例〕

次に、具体的な実施例を用いて本発明の詳細な説明する
。

第１図は本発明の一実施例を示す陽極基板の要部断面図
である。同図において、まずソーダガラス基板１の全面
または必要な部分に、金の含有量が１０ｖｔ％以下の金
属有機物からなる装飾用組成物を２５０メツシユスクリ
ーンを用いて均一に印刷した。次いで、１５０℃、３６
分間基板を乾燥した後、空気中で５８０℃（５分間保持
）で焼成し、彩色層２を形成した。この彩色層を形成し
た基板は、５４Ｏｎｍ付近に最大吸収波長を有する第２
図に示す透過スペクトルを有していた。

次に、上記の彩色層２を形成した基板にＡｌをスパッタ
リングし、１．５μｍ程度の膜厚の陽極配線層３を形成
した後、表示部４を除く基板上に絶縁層５を形成した。

次いで、ＺｎＯ：　Ｚｎ　（緑色）およびＺｎＣｄ８　
：　Ａｇ＋Ｉｎ２０３（赤色）の２種類の螢光体を表示
部４−１Ｌおよび４−ｂに印刷し、螢光体層６を形成し
た。

そして、上記彩色層２を有する陽極基板を用いて螢光表
示管を作製した。

このとき、Ａｌの陽極配線層３の金属光沢は、絶縁層５
の焼成工程（５８０℃、３０分間）で失なわれ、螢光表
示管作製後では、ＡＡ薄膜被着後の８０係から１０係に
反射率が低下したが、その配線層の電気的抵抗の増大や
断線等の不具合は起らなかった。

ところで、彩色層２は第２図に示した透過スペクトルを
有するため、螢光体の発光色が大幅に変化してしまうこ
とが心配されたので、彩色層を有する本発明の螢光表示
管と従来型の彩色層の無い螢光表示管を動作させ、表示
部の発光色の色座標を測定した。その結果を第１表に示
す。

第１表 第１表において、本発明による螢光表示管で、ＺｎＯ：
　Ｚ　ｎおよびＺｎＣｄ５　：Ａｇ＋Ｉｎ２Ｏ３の発光
色が、彩色層の無い従来型の螢光体と比べて、はとんど
変わっていないことがわかった。

なお、上記の実施例では陽極表示部にＡｌ薄膜を用いた
構造の基板を示したが、表示部にＩＴＯ等の透明導電膜
を用い、Ａｌの陽極配線層と電気的に接続させた構造の
基板にも適用することができる。

〔発明の効果〕

以上述べたように本発明によれば、陽極配線層を金属の
微粒子からなる彩色層上に形成し、絶縁層の形成以降の
焼成工程で、ｌ薄膜の金属光沢を無くすことが可能とな
シ、表示部の視認性が良好な螢光表示管が得られ、まだ
、彩色層の形成方法が厚膜工程という簡便な手法である
ため、既存の設備が使用でき、安価な陽極基板が得られ
る効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による陽極基板の一実施例を示す要部断
面図、第２図は本発明による彩色層形成基板の分光透過
曲線を示す図、第３図は従来の螢光表示管の断面図であ
る。 １−・・−ソーダガラス基板、２・拳・・彩色層、３・
・・・陽極配線層、４−、　、４−ｂ・・・・表示部、
５・・・・絶縁層、６・・・・螢光体層。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 陰極から放出された電子を、陽極基板上に形成したＡｌ
   薄膜電極上に塗布した螢光体に射突させ、陽極基板側か
   ら発光表示を行う螢光表示管において、上記Ａｌ薄膜電
   極が、ガラス板上に塗布された金属の微粒子からなる彩
   色層上に形成されていることを特徴とする螢光表示管。