JP2001052638A - 蛍光表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高精細配線パターンに対応でき、かつ表示情
報を多彩に表示可能な蛍光表示装置を提供する。 【解決手段】 蛍光表示装置に透光性基板１０１と、こ
の基板１０１上に配置された複数の陽極１０４と、これ
らの陽極１０４に対応してその上に配置された蛍光体１
０５と、これらの蛍光体１０５と離間しかつ対向配置さ
れたカソード１０７と、前記基板１０１の背面に配置さ
れたバックライト光源１４０とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、蛍光表示装置に
関し、特に背後に設けたバックライト光源と蛍光表示を
組み合わせて表示するようにした蛍光表示装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】蛍光表示装置は、一方が透明な真空容器
の中でカソードから放出される電子を蛍光体に衝突発光
させて所望のパターンを表示する電子管であり、蛍光体
は表示すべきパターンの形状で陽極上に塗布されてい
る。従来の一般的な蛍光表示装置は、ガラス基板上に陽
極とリードを接続するための配線層が設けられており、
配線層の上にコントラストを向上する目的で黒色に着色
されスルーホールが設けられた絶縁層が置かれている。

【０００３】そして、この絶縁層のスルーホールの上に
陽極を設け、陽極上に蛍光体からなる発光部を配置し、
蛍光体と対向してカソードを設けている。なお、通常
は、電子の働きを制御するためのグリッドをフィラメン
トと蛍光体の間に設けた３極管構造のものが最も多く用
いられている。従来の蛍光表示装置は、上述したような
構成であるため、表示に利用できる領域が陽極上の発光
部に限られている上、表示に利用できる色が蛍光体によ
って決まっているため、単純な情報しか表示できなかっ
た。

【０００４】この問題を解決するために、ガラス基板上
に配置された透光性の陽極導体上に蛍光体が被着され、
蛍光体と対向してフィラメント状カソードが配置された
構成を有し、カソードから放出された電子の衝撃により
発光する蛍光体の光を透明な陽極を通して外部に出力す
るようにした透過型蛍光表示装置において、ガラス基板
と透光性陽極導体の間に吸収特性の異なる複数のカラー
フィルタを設けて蛍光体からの発光を色変換したり、コ
ントラストを上げる目的で表示パターン部分にフィルタ
を形成したものが知られている。

【０００５】また、特願平７−２１９４７８のように、
従来の陽極基板による第１の表示部に加えて、この陽極
基板と対向するフロントガラス内壁にもう１つの表示パ
ターンに対応した透光性を有する陽極が形成され、この
陽極上に蛍光体が配置された第２の表示部を備え、電子
放出源となるフィラメントを共用とした、いわゆるバイ
プレーナ形の蛍光表示装置が提案されている。このバイ
プレーナ形の蛍光表示装置は、フロントガラスを介して
第１の表示部の発光表示と第２の表示部の発光表示とを
観察することができるため、表示情報量を格段に増やす
ことが可能である。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たカラーフィルタを備えた透過型蛍光表示装置は、特定
領域の発光色を別の固定された色に変えるだけであり、
表示パターンの色を変更できないため、表示情報を多彩
に表示することが困難であるという問題があった。ま
た、前述したバイプレーナ形の蛍光表示装置では、第２
の表示部が透光性の陽極を通して発光を見る透過型構造
であるため、フロントガラスの内壁に設けられた第２の
表示部に絶縁層がなく、陽極と配線や配線同士を交差で
きないので、複雑なパターンを表示できないという問題
があった。この発明の目的は、上記課題を解決するため
に、複雑な表示パターンに対応でき、かつ表示情報を多
彩に表示可能な蛍光表示装置を提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、この発明の蛍光表示装置は、透光性基板と、こ
の基板上に配置された複数の陽極と、これらの陽極に対
応してその上に配置された蛍光体と、これらの蛍光体と
離間しかつ対向配置されたカソードと、上述した透光性
基板を除く各部品を内蔵し、かつこの透光性基板を一部
として使用した外囲器と、透光性基板の背面側に配置さ
れた少なくとも１つのバックライト光源とを備えたこと
によって特徴づけられる。

【０００８】また、この発明の蛍光表示装置の一構成例
は、透光性基板と、この基板上に配置された複数の陽極
と、これらの陽極に対応してその上に配置された蛍光体
と、これらの蛍光体の上方に離間して配置されたグリッ
ドと、このグリッドの上方に離間して配置されたカソー
ドと、上述した透光性基板を除く各部品を内蔵し、かつ
この透光性基板を一部として使用した外囲器と、透光性
基板の背面側に配置された少なくとも１つのバックライ
ト光源とを備えたことによって特徴づけられる。この場
合、陽極の一構成例は、光透過可能な材料あるいは構造
によって構成されている。

【０００９】また、これら前述した蛍光表示装置の一構
成例は、透光性基板と陽極との間に、さらに基板上に配
置された配線層と、この上に配置された少なくとも一部
が光透過可能な絶縁層とを備えており、この絶縁層には
配線層と各陽極とを接続する手段が備えられている。こ
の場合、配線層の一構成例は、光透過可能な材料あるい
は構造によって構成されている。また、絶縁層の一構成
例は、少なくとも１つの光フィルタ領域を備えている。
この場合、光フィルタ領域の一構成例は、複数のフィル
タ特性の異なる領域によって構成されている。また、透
光性基板の一構成例は、表面に形成された着色フィルタ
層を備えている。また、前述した蛍光表示装置の別の構
成例は、バックライト光源と透光性基板との間に少なく
とも１つのシャッターが配置されていることによって特
徴づけられる。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下に図を用いてこの発明の実施
の形態を説明する。はじめに、この発明の第１の実施の
形態について説明する。図１は、この発明の蛍光表示装
置の第１の実施の形態を示す断面図である。同図におい
て、透明なガラス基板１０１上に配線層１０２が形成さ
れ、配線層１０２上には透明絶縁層１０３が形成されて
いる。透明絶縁層１０３上には複数の陽極１０４が形成
されており、これらの陽極１０４は、透明絶縁層１０３
に開けられたスルーホール１０３ａを介して、配線層１
０２の所定位置に接続されている。陽極１０４上には蛍
光体よりなる発光部１０５が形成されている。

【００１１】発光部１０５の上方には、所定の空隙を介
してメッシュ状のグリッド１０６が配置されており、透
明絶縁層１０３上に置かれた脚部により発光部１０５か
ら所定の空隙を保つように保持されている。グリッド１
０６の脚部は、一方が固定用フリットガラス１１４で透
明絶縁層１０３に固着され、他方が焼成された導電性ペ
ースト１１３で透明絶縁層１０３に固着されると共に、
スルーホールを介して配線層１０２に接続されている。
グリッド１０６の上方には空隙を介してカソードとなる
フィラメント１０７が配置されており、フィラメント１
０７の上方には空隙を介して透明なフロントガラス１０
９が配置されている。

【００１２】フロントガラス１０９は、ガラス基板１０
１端部に配置された枠状の側壁１０８を介してガラス基
板１０１と対向して配置されている。ガラス基板１０１
と側壁１０８、及び側壁１０８とフロントガラス１０９
は、それぞれフリットガラス１１０により接着固定され
て真空容器となる外囲器を構成しており、外囲器内が１
０^-3〜１０^-5Ｐａの真空度に保たれている。また、側壁
１０８とガラス基板１０１の間のフリットガラス１１０
を貫通してリード１１１が設けられており、リード１１
１の端部は、電極１１２に接触している。この電極１１
２は、図示していない配線により配線層１０２に接続し
ている。ガラス基板１０１の背面側には、空隙を介して
バックライト光源１４０が配置され、図示しない電源に
２本のリード線１４１を介して接続されている。

【００１３】この実施の形態においては、透明絶縁層１
０３が光透過可能な材料で形成されており、フロントガ
ラス１０９側からガラス基板１０１上の発光部１０５の
表示パターンと、ガラス基板１０１を通して見えるバッ
クライト光源による背景光とが観察できる。この透明絶
縁層１０３は、酸化物、窒化物、フッ化物の中から選ば
れた１つの光透過可能な材料によって形成されている。
なお、この透明絶縁層１０３は、種類の異なる光透過可
能な材料を積層し、複数層で構成するようにしてもよ
い。

【００１４】次に、この発明の蛍光表示装置の第１の実
施の形態における製造方法を以下に説明する。まず、ガ
ラス基板１０１上に膜厚１μｍ程度のアルミニウムの配
線層１０２をフォトリソグラフィ法で形成する。この場
合、アルミニウムの配線層１０２は、次に形成する透明
絶縁膜１０３が薄膜であるため、配線１０２ａのエッジ
部分で透明絶縁膜１０３の膜厚が薄くなって絶縁耐圧が
低下しないように配線１０２ａのエッジ部分にテーパー
を付けてエッジ部の角度を鈍角にする。配線のエッジ部
にテーパーを付ける方法は、アルミニウム配線をパター
ニングするためのエッチング時に、エッチング時間を制
御してオーバーエッチングを行う方法を用いる。

【００１５】次に、配線層１０２が形成されたガラス基
板１０１に有機シリコン化合物と有機高分子化合物のバ
インダーと溶剤とを含む絶縁層ペーストを配線層１０２
上の所定部分が開口するようにスクリーン印刷し、１３
０℃程度に加熱して乾燥後、５５０℃前後で焼成する。
この焼成工程で、絶縁層ペーストに含まれる有機バイン
ダーが燃焼し飛散すると共に、絶縁層ペーストの主成分
である有機シリコン化合物が分解、酸化されてＳｉＯ₂
薄膜が形成され、スルーホール１０３ａを有する透明絶
縁層１０３となる。

【００１６】なお、絶縁層の膜厚は、配線層の段差部で
十分な絶縁耐圧を得るために、段差の高さ＋０．２μｍ
以上必要であるが、基板の反りや割れが発生しないよう
にするためには積層材料を選択した場合で５μｍ以下と
することが望ましく、一般的には３μｍ以下とすること
が望ましい。この実施の形態では、配線層１０２の高さ
約１μｍの段差を十分カバーし、かつ基板１０１の反り
や割れが発生しない範囲にするため、形成するＳｉＯ₂
薄膜の膜厚を１．２μｍ以上３μｍ以下の範囲で決める
ようにした。

【００１７】次に、有機バインダーと黒鉛粉末からなる
黒鉛ペーストを、スルーホール１０３ａを含む透明絶縁
層１０３上に所定のパターンでスクリーン印刷した後、
５００℃程度で焼成して陽極１０４を形成する。次に、
陽極１０４上に有機バインダーと蛍光体からなる蛍光体
ペーストをスクリーン印刷し、４００〜５００℃程度で
焼成して発光部１０５を形成する。次に、透明絶縁層１
０３上の所定位置にグリッド１０６を置き、その脚部の
一方に低融点ガラスペーストを配置し、他方に透明絶縁
層１０３のスルーホールを介して配線層１０２に接続さ
れるように導電ペーストを配置して５００℃前後に加熱
して焼成する。

【００１８】これにより、グリッド１０６が基板上に固
定されると共に、配線層１０２と電気的に接続され、陽
極プレートが完成する。なお、導電ペースト１１３に
は、固着用のバインダーとして低軟化点のフリットガラ
スを含んだ銀ペーストを用いる。また、必要に応じて、
駆動用ドライバーＩＣ（図示せず）などをダイボンドペ
ーストなどで基板上に固定すると共に導電性ペースト、
ワイヤーボンディングなどで配線層１０２との電気的接
続を施すようにしてもよい。

【００１９】そして、前述した陽極プレートと、あらか
じめ組み立てておいたカソードとなるフィラメント１０
７を張ったフレームと、側壁１０８と、フロントガラス
１０９とを組み立てて、フリットガラス１１０で接着固
定して真空容器を形成し、これを真空ポンプで排気して
真空容器内を１０^-3〜１０^-5Ｐａの真空度にして封止切
り、真空管とする。出来上がった真空管は、フィラメン
ト１０７を加熱することで電子を放出し、グリッド１０
６及び陽極１０４に印加した正電位によって蛍光体１０
５に電子が衝突して発光する蛍光表示装置となる。次
に、ガラス基板１０１の背面側に空隙を介してバックラ
イト光源１４０となる冷陰極放電管を取り付け、そのリ
ード線１４１を図示しない電源に接続する。

【００２０】上述した透明絶縁層の製造方法は、印刷法
なので成膜とパターニングが同時にでき、従来の蛍光表
示装置の工法、設備がそのまま使えるので大きな投資が
不要であるという利点がある。この製造方法は、形成さ
れる絶縁膜の絶縁耐圧が次に述べる塗布法に比べて低い
ので、陽極電圧に低電圧を使用する場合に用いるとよ
い。

【００２１】次に、陽極電圧に高電圧を使用する場合な
ど高耐電圧が要求される場合に用いることのできる透明
絶縁層の形成方法について説明する。この場合、透明絶
縁膜を形成する方法として有機金属化合物、金属アルコ
キシドなどの液状材料をスピンコート又はディッピング
によって成膜する周知の塗布法を用いるとよい。以下
に、この方法を用いた透明絶縁膜の形成方法を説明す
る。

【００２２】まず、前述した方法であらかじめアルミニ
ウム配線のパターニングが施してあるガラス基板１０１
に、フォトレジストでスルーホール部分にマスクパター
ンを形成する。次に有機金属化合物、金属アルコキシド
などの液状材料をスピンコート又はディッピングによっ
て基板１０１の裏と表に塗布形成し、１３０℃程度で乾
燥する。ここで、液状の有機金属化合物などは酢酸エチ
ルなどの有機溶剤が主成分であるため、マスクパターン
に用いるフォトレジストには、これに溶けないイソプレ
ンゴム系フォトレジストを選定する必要がある。ここで
は、東京応化工業株式会社製のＯＭＲ８３（商品名）を
用いる。

【００２３】次に、乾燥後の基板１０１を５５０℃程度
で１時間程度焼成する。この工程は、有機金属化合物を
分解して金属酸化物にする工程と、マスキングに使った
フォトレジストを燃焼させて、その上部の膜を同時に除
去するレジスト剥離とを兼ねた一種のリフトオフ工程と
なっている。なお、焼成後に炭化したレジスト残さが残
る場合はプラズマアッシングなどのドライプロセスによ
って除去するとよい。なお、絶縁層の膜厚は、配線層の
段差部で十分な絶縁耐圧を得るために、段差の高さ＋
０．２μｍ以上必要であるが、基板の反りや割れが発生
しないようにするためには積層材料を選択した場合で５
μｍ以下とすることが望ましく、一般的には３μｍ以下
とすることが望ましい。ここでは、配線層１０２の高さ
約１μｍの段差を十分カバーし、かつ基板１０１の反り
や割れが発生しない範囲にするため、形成する金属酸化
物薄膜の膜厚を１．２μｍ以上３μｍ以下の範囲で決め
るようにした。

【００２４】以上の処理を実施することで前述した印刷
法と同等の透過率を備え、耐電圧性の優れた絶縁層が形
成される。この方法ではパターニングが必要で、あらか
じめフォトレジストでマスクパターンを作っておいてか
ら成膜し、リフトオフ法で不要部分を除去するので、印
刷法よりもパターニング工数が余分にかかるが、耐電圧
などの膜質は印刷法で得られる膜より上質である。

【００２５】また、透明絶縁層の形成方法において、透
明絶縁膜を形成する方法としてスパッタ、蒸着、ＣＶＤ
などで成膜する方法を用いてもよい。以下に、この方法
を用いた透明絶縁層の形成方法を説明する。まず、前述
した方法であらかじめアルミニウム配線のパターニング
が施してあるガラス基板１０１に、フォトレジストでス
ルーホール部分にマスクパターンを形成する。次にスパ
ッタ法、蒸着法及びＣＶＤ法のいずれか１つの方法で直
接透明絶縁膜１０３を形成する。

【００２６】なお、絶縁層の膜厚は、配線層の段差部で
十分な絶縁耐圧を得るために、段差の高さ＋０．２μｍ
以上必要であるが、基板の反りや割れが発生しないよう
にするためには積層材料を選択した場合で５μｍ以下と
することが望ましく、一般的には３μｍ以下とすること
が望ましい。ここでは、配線層１０２の高さ約１μｍの
段差を十分カバーし、かつ基板１０１の反りや割れが発
生しない範囲にするため、形成する透明絶縁層１０３の
膜厚を１．２μｍ以上３μｍ以下の範囲で決めるように
した。次に、マスキングに使ったフォトレジストをレジ
スト剥離液で剥離して、その上部の膜を除去するリフト
オフ工程を行う。なお、リフトオフ工程では、レジスト
剥離液を用いる代わりに、プラズマアッシングなどのド
ライプロセスを用いてもよい。以上の処理を実施するこ
とで前述した塗布法以上の透過率と耐電圧性を有する透
明絶縁層が形成される。

【００２７】この場合、透明絶縁層を形成できる材料は
酸化物に限らず、窒化物やフッ化物又はそれらの複合化
合物でもよい。例えば、ＳｉＯ₂はもとよりＳｉ₃Ｎ₄，
ＭｇＦ₂，Ａｌ₂Ｏ₃，ＭｇＯ，ＳｉＡｌＯＮ，ＴｉＯ₂，
Ｔａ₂Ｏ₅，ＺｒＯなどが使用できる。また、これらの異
種、同種の多層膜としてもよい。この方法は、前述した
塗布法と同様にスルーホールのパターニングが必要であ
り、リフトオフ法が必要であるが、膜質は最も良く、緻
密で絶縁耐圧の高い膜が得られるという利点がある。

【００２８】また、絶縁膜が半透明でもよい場合は、低
融点のガラス質材料で光透過可能な絶縁層を形成しても
よい。低融点のガラス質材料としては、フリットガラス
（鉛硼珪酸ガラス）や透明誘電体ペーストなどのガラス
質塗布膜を用いることができる。なお、フリットガラス
には、再加熱したときに同じ温度で溶融するものと、最
初の加熱のときに結晶が析出して再加熱時に同じ温度で
は溶融しないようにしたものとがあるが、どちらを用い
てもよい。蛍光表示装置の絶縁層などに使われているフ
リットガラスは本来光学的に透明であり、表示パターン
を引き締めるため黒色の無機顔料を添加して着色してい
るので、顔料を除くことで半透明の絶縁膜とすることが
できる。以下に、この方法を用いた半透明絶縁層の形成
方法を説明する。まず、前述した方法であらかじめアル
ミニウム配線のパターニングが施してあるガラス基板１
０１に、フリットガラスを主成分とし、ビークルと、フ
ィラーとしてＳｉＯ₂やＡｌ₂Ｏ₃などの無機酸化物やＳ
ｉ₃Ｎ₄などの窒化物を添加して膨張係数や絶縁耐圧及び
ピンポール防止性能などの印刷性能を調整したガラスペ
ーストを配線層１０２上の一部分が開口するようにスル
ーホールを設けてスクリーン印刷する。次に、このガラ
ス基板１０１を１３０℃程度に加熱して乾燥した後、５
５０℃前後で焼成する。以上の処理を実施することで耐
電圧性に優れた半透明絶縁層が形成される。

【００２９】また、ガラス質塗布膜を用いた半透明絶縁
層の形成方法は、次の通りである。まず、前述した方法
であらかじめアルミニウム配線のパターニングが施して
あるガラス基板１０１に、プラズマディスプレイパネル
（ＰＤＰ）用で一般に市販されている透明誘電体ペース
ト、例えば、日本電気硝子株式会社製のＰＬＳ−３１６
２Ｓ（商品名）やＰＬＳ−３２３２（商品名）などを配
線層１０２上の所定部分が開口するようにスクリーン印
刷する。次に、このガラス基板１０１を１３０℃程度に
加熱して乾燥した後、５８０℃で１０〜６０分程度焼成
する。以上の処理を実施することで強固な誘電体膜が成
膜され、耐電圧性に優れスルーホール１０３ａを備えた
半透明絶縁層が形成される。

【００３０】上記フリットガラスやガラス質塗布膜を用
いた方法では半透明であるものの、厚みと製造方法に関
しては従来の工法を踏襲できるので容易に実現できると
いう利点がある。また、フリットガラスやガラス質塗布
膜を用いると、厚膜の絶縁層が形成できるので、配線層
にアルミニウム薄膜を用いた薄膜タイプだけでなく、銀
ペーストを用いてスクリーン印刷で形成する厚膜タイプ
も用いることができる。厚膜タイプの場合、印刷された
銀ペーストの膜厚は１０μｍ前後であるから、ガラスペ
ーストや透明誘電体ペーストを印刷する際には、配線層
の段差を十分カバーし、かつ基板の反りや割れが発生し
ない範囲にするため、膜厚が２０μｍ以上６０μｍ以下
となるようにすることが望ましい。なお、厚膜タイプの
膜厚は、印刷したペーストを乾燥した後の厚さで示して
いる。

【００３１】この実施の形態では、高密度の表示パター
ンに対応するため、陽極と配線を陽極層と配線層に分け
て間に透明絶縁層を設けるようにしているが、表示密度
が低く、陽極と配線や配線同士が交差しない場合は、絶
縁層を省いてよい。また、これら光透過可能な絶縁膜
は、必ずしも１層で形成する必要はなく、多層で形成す
るようにしてもよい。この場合、１つの層でピンホール
が生じても、次の層でピンホールを埋めることができる
ので、ピンホール対策として有効である。また、多層形
成する場合は、各層を異なった材料で構成してもよく、
材料を変えることで基板材料との膨張係数の整合性を向
上させ、反りやクラックなどの問題を改善することが可
能である。

【００３２】また、バックライト光源１４０とガラス基
板１０１の間に空隙を設けたが、必ずしも空隙を設ける
必要はなく、密着させてもよい。また、バックライト光
源として冷陰極放電管を用いたが、これに限られるもの
ではなく発光ダイオード（ＬＥＤ）、電球、蛍光灯、ネ
オンランプ、紫外線ランプなど光源であれば何でもよ
く、その個数も１個に限るものではなく必要に応じて複
数設けるようにしてもよい。なお、バックライト光源を
複数配置した場合、発光色を異なるものにすることによ
り、表示パターンとバックライト光源のＯＮ／ＯＦＦに
加えて、バックライト光源の発光色の組み合わせによる
背景色の変更もできるようになるので、より表示情報を
多彩にできるという効果が得られる。

【００３３】次に、この発明の蛍光表示装置の第２の実
施の形態について説明する。一般的な民生用機器では、
キャラクタータイプの表示パターンを有する蛍光表示装
置が使われている。これは、「ＬＯＵＤ」のような文字
や幾何学的模様などが１つのパターンとして固定されて
いて発光のＯＮ，ＯＦＦで表示を変化させるものであ
り、陽極や配線パターンが大きくベタで形成されてい
る。しかしながら、背面からの透過光を利用しようとす
る場合、大きなベタ領域があると背面からの透過光が阻
害され、透過率が低下してしまう。

【００３４】この実施の形態は、このような場合に、背
面からの透過率を向上できるように構成したものであ
り、図２に示すように、表示パターンを表示に不必要な
ベタ部分の蛍光体をくりぬいたパターンとすると共に、
陽極２０４を光透過可能な材料で構成し、陽極２０４の
下部に配置された配線１０２ｂに光透過可能な開口部１
０２ｃを設けることで、蛍光面の透過率を向上したもの
である。ここで、図２と図３は、この発明の蛍光表示装
置の第２の実施の形態を示し、図２は、フィラメント１
０７側から見たガラス基板１０１面の表示パターン部分
であり、図３は、そのＡ−Ａ線断面図である。これらの
図において、図１と同一符号は同一部分を示す。

【００３５】次に、この実施の形態の蛍光表示装置で図
１に示すものと異なる点を説明する。この実施の形態に
おいては、陽極２０４が光透過可能な導電性材料で構成
されている。ここでは、光透過可能な導電性材料として
インジウム、スズ、亜鉛の中の少なくとも１つを含む酸
化物材料を用いる。透明陽極２０４上には蛍光体２０５
が所定のパターンで配置されている。また、透明陽極２
０４の下部に配置された配線１０２ｂは、蛍光体２０５
が配置されていない部分に光透過可能な開口部１０２ｃ
が設けられている。なお、透明陽極２０４の下部に配置
された配線１０２ｂに開口部１０２ｃを設ける代わり
に、配線層をアルミニウム、銀、金などの金属膜で形成
し、透明陽極の下部のみメッシュ状に加工して透過構造
としてもよい。

【００３６】次に、この発明の蛍光表示装置の第２の実
施の形態における製造方法を以下に説明する。まず、ガ
ラス基板１０１上に膜厚１μｍ程度のアルミニウムの配
線層１０２をフォトリソグラフィ法で形成する。この場
合、アルミニウムの配線層１０２は、ベタ部分の配線１
０２ｂを蛍光体２０５が配置されない部分に光透過可能
な開口部１０２ｃを設けたパターンとする。なお、その
ほかの配線のうち、蛍光体２０５が形成されておらず、
光透過可能な領域に設けられた配線１０２ａは、観察者
が視認できないようにフィラメント１０７程度の寸法の
細線にして、透過率の向上に役立てることが望ましい。
次に、配線層１０２が形成されたガラス基板１０１に透
明絶縁層１０３を形成する。なお、透明絶縁層１０３を
形成する方法は、第１の実施の形態と同じなので説明を
省略する。

【００３７】次に、透明絶縁層１０３のスルーホール部
１０３ａに、インジウムとスズを含む有機金属化合物と
有機高分子化合物のバインダーと溶剤とを含むペースト
をスクリーン印刷し、１３０℃程度に加熱して乾燥した
後、５００℃程度で焼成してＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔ
ｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜の透明陽極２０４を形成する。次
に、透明陽極２０４上に有機バインダーと蛍光体からな
る蛍光体ペーストを所定の表示パターンでスクリーン印
刷し、４００〜５００℃程度で焼成して蛍光体層を形成
する。以後の製造方法は、第１の実施の形態と同じなの
で説明を省略する。

【００３８】この蛍光表示装置は、図１のものと異な
り、陽極が透明で、かつ配線層を光透過可能に構成して
あるため、一般的な民生用機器に使われるキャラクター
タイプの表示パターンのように陽極や配線パターンを大
きく確保している場合でも背面からの透過光が阻害され
ることがなく、背面からの透過率を向上することができ
る。上述した透明陽極層の形成方法は、印刷法なので成
膜とパターニングが同時にでき、従来の蛍光表示装置の
工法や設備がそのまま使えるので大きな投資が不要であ
るという利点を有する。

【００３９】次に、膜質が要求される場合に用いること
のできる透明陽極層の形成方法について説明する。この
場合、透明陽極膜を形成する方法として、インジウム、
スズ、亜鉛の中の少なくとも１つを含む有機金属化合
物、金属アルコキシドなどの液状材料をスピンコート又
はディッピングによって成膜する周知の塗布法を用いる
とよい。以下に、この方法を用いた透明陽極膜の形成方
法を説明する。

【００４０】まず、前述した方法であらかじめ配線層１
０２と透明絶縁層１０３が形成されたガラス基板１０１
の透明絶縁層１０３上に、フォトレジストでマスクパタ
ーンを形成する。次に、Ｉｎ（Ｃ₇Ｈ₁₅ＣＯＯ）₃とＳｎ
（Ｃ₇Ｈ₁₅ＣＯＯ）₃の混合液をスピンコート又はディッ
ピングによって基板の裏と表に塗布形成し、１３０℃程
度で乾燥する。ここで、マスクパターンに用いるフォト
レジストには、第１の実施の形態と同様にイソプレンゴ
ム系フォトレジストを選定する必要がある。ここでは、
東京応化工業株式会社製のＯＭＲ８３（商品名）を用い
た。

【００４１】次に、乾燥後のガラス基板１０１を５５０
℃程度で１時間程度焼成する。この工程は、Ｉｎ（Ｃ₇
Ｈ₁₅ＣＯＯ）₃とＳｎ（Ｃ₇Ｈ₁₅ＣＯＯ）₃を分解・酸化
してＩＴＯにする工程と、マスキングに使ったフォトレ
ジストを燃焼させて、その上部の膜を同時に除去するレ
ジスト剥離とを兼ねた一種のリフトオフ工程となってい
る。以上の処理を実施することで前述した印刷法と同等
の透過率を備えた透明陽極層が形成される。この方法で
はパターニングが必要で、あらかじめフォトレジストで
マスクパターンを作っておいてから成膜し、リフトオフ
するので、印刷法よりもパターニング工数が余分にかか
るが、膜質は印刷法で得られる膜より上質であり、導電
率の高い膜が得られる。

【００４２】また、透明陽極層の形成方法において、透
明陽極膜を形成する方法としてスパッタ、蒸着、ＣＶＤ
などで、インジウム、スズ、亜鉛の中の少なくとも１つ
を含む酸化物材料を成膜する周知の方法を用いてもよ
い。以下に、この方法を用いた透明陽極膜の形成方法を
説明する。まず、前述した方法であらかじめ配線層１０
２と透明絶縁層１０３が形成されたガラス基板１０１の
透明絶縁層１０３上に、フォトレジストでマスクパター
ンを形成する。次に、スパッタ法、蒸着法及びＣＶＤ法
のいずれか１つの方法で直接ＩＴＯの陽極膜を形成す
る。次に、マスキングに使ったフォトレジストをレジス
ト剥離液で剥離して、その上部の膜を除去するリフトオ
フ工程を行う。なお、リフトオフ工程では、レジスト剥
離液を用いる代わりに、プラズマアッシングなどのドラ
イプロセスを用いてもよい。以上の処理を実施すること
で塗布法以上の透過率を有する透明陽極層が形成され
る。この方法は塗布法と同様にパターニングが必要であ
り、リフトオフ法が必要であるが、膜質は最も良く、緻
密で導電率の高い膜が得られる。

【００４３】なお、パターン密度が粗く簡単なパターン
では、メタルマスクなどで直接マスキングして陽極膜を
成膜することが可能であり、レジスト形成とリフトオフ
工程を省略できる。また、スパッタ法や蒸着法を用いた
場合、アルミニウム、チタン、金、銀、モリブデンなど
の金属膜を光透過可能な構造の陽極や配線として成膜す
ることが可能である。この場合、透過させたい部分だけ
金属膜をメッシュ構造とすればよい。この実施の形態で
は、表示パターンの背景をバックライト光源の発光色と
することができる。このため、表示パターンとバックラ
イト光源のＯＮ／ＯＦＦの組み合わせにより、表示パタ
ーン自身の発光による表示以外に、表示パターンを消灯
してバックライト光源により表示パターンが浮き上がる
ようにしたり、表示パターンの点灯とバックライト光源
の発光による背景色とを組み合わせたりすることがで
き、表示情報を多彩に表示することができるという効果
が得られる。この場合、バックライト光源を複数用いる
と、さらに多彩に表示できることは言うまでもない。な
お、この実施の形態では、高密度の表示パターンに対応
するため、陽極と配線を陽極層と配線層に分けて間に透
明絶縁層を設けるようにしているが、表示密度が低く、
陽極と配線や配線同士が交差しない場合は、絶縁層を省
いてよい。

【００４４】次に、この発明の蛍光表示装置の第３の実
施の形態について説明する。この発明の蛍光表示装置の
第３の実施の形態は、前述した一般的な民生用機器に使
われるキャラクタータイプの表示パターンのように陽極
や配線パターンを大きく確保している場合に、グラファ
イト陽極などの非透過性材料を用いながら、背面からの
透過光が阻害されることがなく、背面からの透過率を向
上できるように構成したものである。

【００４５】ここで、図４と図５は、この発明の蛍光表
示装置の第３の実施の形態を示し、図４は、フィラメン
ト１０７側から見たガラス基板１０１面の表示パターン
部分であり、図５は、そのＢ−Ｂ線断面図である。これ
らの図において、図１〜図３と同一符号は同一部分を示
す。この蛍光表示装置が図１に示すものと異なる点は、
陽極３０４の蛍光体２０５が配置されていない部分に光
透過可能な開口部３０４ｃを設けると共に、配線層１０
２の配線１０２ａを観察者が視認できないようにフィラ
メント１０７程度の寸法の細線で構成したことである。

【００４６】次に、この発明の蛍光表示装置の第３の実
施の形態における製造方法を以下に説明する。まず、ガ
ラス基板１０１上に膜厚１μｍ程度のアルミニウムの配
線層１０２をフォトリソグラフィ法で形成する。この場
合、アルミニウムの配線層１０２の配線１０２ａは、観
察者が視認できないようにフィラメント１０７程度の寸
法の細線にする。次に、配線層１０２が形成されたガラ
ス基板１０１に透明絶縁層１０３を形成する。なお、透
明絶縁層１０３を形成する方法は、第１の実施の形態と
同じなので説明を省略する。

【００４７】次に、ガラス基板１０１のスルーホール部
１０３ａを含む透明絶縁層１０３上の所定位置に、蛍光
体が配置されないベタ部分の周辺部や中心部をくりぬい
たパターンで黒鉛ペーストをスクリーン印刷し、５００
℃程度で焼成してグラファイトの陽極３０４を形成す
る。次に、陽極３０４上に有機バインダーと蛍光体から
なる蛍光体ペーストを所定の表示パターンでスクリーン
印刷し、４００〜５００℃程度で焼成して蛍光体層を形
成する。なお、陽極３０４をメッシュ状に形成し、メッ
シュの交点にドット状の蛍光体２０５を配置して表示パ
ターンで形成するように構成してもよい。以後の製造方
法は、第１の実施の形態と同じなので説明を省略する。

【００４８】この実施の形態では、透明絶縁層１０３上
に設けられた陽極３０４を、蛍光体２０５が配置されな
いベタ部分の周辺部や中心部をくりぬいたパターンにす
ると共に、配線層１０２の配線１０２ａを観察者１１７
が視認できないようにフィラメント１０７程度の寸法の
細線にしているため、一般的な民生用機器に使われるキ
ャラクタータイプの表示パターンのように陽極や配線パ
ターンを大きく確保している場合でも、背面からの透過
光が阻害されることがなく、背面からの透過率を向上で
きる。また、陽極３０４や配線層１０２に従来使用され
ていた材料をそのまま使用できるので、従来の蛍光表示
装置の工法や設備がそのまま使えるため、大きな投資が
不要であるという利点を有する。なお、この実施の形態
では高密度の表示パターンに対応するため、陽極と配線
を陽極層と配線層に分けて間に透明絶縁層を設けるよう
にしているが、表示密度が低く、陽極と配線や配線同士
が交差しない場合は、絶縁層を省いてよい。

【００４９】次に、この発明の蛍光表示装置の第４の実
施の形態について説明する。この発明の蛍光表示装置の
第４の実施の形態は、第２の実施の形態で示した蛍光表
示装置の配線層に光透過性材料を用いたものである。こ
こで、図６と図７は、この発明の蛍光表示装置の第４の
実施の形態を示し、図６は、フィラメント１０７側から
見たガラス基板１０１面の表示パターン部分であり、図
７は、そのＣ−Ｃ線断面図である。これらの図におい
て、図１〜図５と同一符号は同一部分を示す。この蛍光
表示装置が図２と図３に示すものと異なる点は、配線層
に光透過性の導電材料を用いて透明配線２０２を形成す
ると共に、透明配線２０２の幅を陽極２０４の幅に近い
大きさに構成したことである。

【００５０】この実施の形態においては、配線層と絶縁
層と陽極とが光透過可能に構成されている。ここで、透
明絶縁層１０３は、酸化物、窒化物、フッ化物の中から
選ばれた１つの光透過可能な材料によって形成されてい
る。なお、この透明絶縁層１０３は、酸化物、窒化物、
フッ化物の中から複数の光透過可能な材料を選んで積層
し、複数層で構成するようにしてもよい。また、透明配
線２０２及び透明陽極２０４は、インジウム、スズ、亜
鉛の中の少なくとも１つを含む酸化物材料で形成されて
いる。透明陽極２０４上には蛍光体２０５が所定のパタ
ーンで配置されている。なお、表示パターンは、陽極２
０４上に蛍光体をドット状に配置して構成してもよい。

【００５１】次に、この発明の蛍光表示装置の第４の実
施の形態における製造方法を以下に説明する。まず、ガ
ラス基板１０１上に、インジウムとスズを含む有機金属
化合物と有機高分子化合物のバインダーと溶剤とを含む
ペーストを所定の配線パターンでスクリーン印刷する。
次に、このガラス基板１０１を１３０℃程度に加熱して
乾燥した後、５００℃程度で焼成してＩＴＯ膜の透明配
線２０２を形成する。以後は、第２の実施の形態と同じ
であるので、説明を省略する。

【００５２】なお、透明配線２０２は、第２の実施の形
態の透明陽極２０４と同様に、インジウム、スズ、亜鉛
の中の少なくとも１つを含む有機金属化合物、金属アル
コキシドなどの液状材料をスピンコート又はディッピン
グによって成膜する周知の塗布法を用いてもよいし、ス
パッタ、蒸着、ＣＶＤなどで、インジウム、スズ、亜鉛
の中の少なくとも１つを含む酸化物材料を成膜する周知
の方法を用いてもよい。

【００５３】この実施の形態では、透明配線２０２と透
明絶縁層１０３と透明陽極２０４を用いるため、蛍光体
２０５以外に背面からの透過光を阻害するものがなく、
背面からの透過率を大幅に向上することができる。な
お、ＩＴＯ，ＳｎＯ₂，ＺｎＯなどの酸化物系透明導電
膜ではアルミニウムなどの金属に比べて体積抵抗率が２
桁以上高く、配線抵抗による電圧降下により配線の始め
と末端では抵抗値が大幅に異なってくるので輝度ムラ、
輝度傾斜の原因となりやすい。このため、透明配線を用
いる方法は、配線幅を大きくとれ、各表示パターンまで
の配線距離がほとんど変わらない場合に用いることが望
ましい。パターン密度の高い入り組んだ配線を必要とす
る場合は、ＩＴＯなどの酸化物系透明導電材料を用いる
方法よりも、第２の実施の形態で示したようにアルミニ
ウム、銀、金などの金属膜を必要な部分のみメッシュ状
に加工する方法の方が配線抵抗を低くできて、望まし
い。なお、この実施の形態では高密度の表示パターンに
対応するため、陽極と配線を陽極層と配線層に分けて間
に透明絶縁層を設けるようにしているが、表示密度が低
く、陽極と配線や配線同士が交差しない場合は、絶縁層
を省いてよい。

【００５４】次に、この発明の蛍光表示装置の第５の実
施の形態について説明する。この発明の蛍光表示装置の
第５の実施の形態は、第１の実施の形態で示した蛍光表
示装置のガラス基板の背面側に少なくとも１つのシャッ
ターを備えたものである。ここで、図８は、この発明の
蛍光表示装置の第５の実施の形態を示し、同図において
図１と同一符号は同一部分を示す。この実施の形態で図
１に示すものと異なる点は、ガラス基板１０１の背面側
とバックライト光源１４０の間にシャッター板１２０を
配置し、バックライト光源１４０による背景光を個別の
パターンごとに制御できるようにしたことである。

【００５５】この実施の形態で用いるシャッター板１２
０は、複数の液晶シャッター１２１を備えており、ガラ
ス基板１０１背面に密着させてガラス基板１０１面の透
過領域を個別に透過させたり、遮光させたりすることが
できる。これにより、蛍光表示装置の表示領域ごとに背
景光のＯＮ／ＯＦＦをすることが可能になり、表示パタ
ーンと組み合わせて表示情報量を大きく向上させること
ができる。なお、この実施の形態では高密度の表示パタ
ーンに対応するため、陽極と配線を陽極層と配線層に分
けて間に透明絶縁層を設けるようにしているが、表示密
度が低く、陽極と配線や配線同士が交差しない場合は、
絶縁層を省いてよい。

【００５６】次に、この発明の蛍光表示装置の第６の実
施の形態について説明する。この発明の蛍光表示装置の
第６の実施の形態は、第１の実施の形態で示した蛍光表
示装置のガラス基板に少なくとも１つの着色フィルタを
備えたものである。ここで、図９は、この発明の蛍光表
示装置の第６の実施の形態を示し、同図において図１と
同一符号は同一部分を示す。この実施の形態で図１に示
すものと異なる点は、ガラス基板１０１の配線層１０２
側の面に着色フィルタ１２５，１２６を設け、特定の波
長の光だけを透過するようにしたことである。

【００５７】この着色フィルタは、コロイドによるガラ
スの着色法を用いて形成したものである。コロイドによ
る着色は、ガラス中に一様に分散している微細な粒子
（可視光の波長よりも一般に小さい）による光の吸収と
散乱に基づくもので、コロイドとしては金属コロイドと
非金属コロイドがある。この種の着色ガラスではコロイ
ドを析出させるために適当な熱処理が必要で、この過程
を経て初めて発色する。以下に、ガラス基板１０１に着
色フィルタ１２５，１２６を形成した蛍光表示装置を製
造する方法を説明する。

【００５８】まず、ガラス基板１０１の一面に市販の金
属コロイド系着色剤を用いた着色用ペーストで所定のパ
ターンを印刷形成する。ここで利用する金属コロイドは
金、銀又は銅であり、銅と金のコロイドは赤色に、銀の
コロイドは黄色に着色する。次に、所定のパターンを印
刷形成したガラス基板１０１を６００℃程度で焼成し、
焼成後灰化した部分を洗い流す。これによりガラス基板
１０１に赤色透過層１２５又は黄色透過層１２６が形成
される。次に、ガラス基板１０１の着色層１２５，１２
６が設けられた面に膜厚１μｍ程度のアルミニウムの配
線層１０２をフォトリソグラフィ法で形成する。以後
は、第１の実施の形態と同じであるので、説明を省略す
る。

【００５９】この実施の形態は、ガラス基板１０１に着
色フィルタ１２５，１２６が形成されるので、別に着色
フィルタを備える必要がなく、部品点数を減らすことが
できるため、コストを下げることができるという利点が
ある。これにより、バックライト光源１４０に白色光源
を用いて蛍光表示装置の表示領域ごとに背景色を着色加
工することが可能になり、表示パターンと組み合わせて
表示情報量を大きく向上させることができる。

【００６０】なお、この蛍光表示装置に第５の実施の形
態で用いたシャッター板１２０を取り付けるようにして
もよく、この場合はさらに表示情報量を向上させること
ができる。なお、この実施の形態では、ガラス基板１０
１の配線層１０２側の面に着色フィルタ１２５，１２６
を形成するようにしたが、ガラス基板１０１の厚みによ
る視差が無視できる場合は、ガラス基板１０１の背面側
に着色フィルタを形成してもよいし、同様の方法で別の
ガラス基板に着色フィルタを形成し、これをガラス基板
１０１背面に取り付けるようにしてもよい。また、別の
光学フィルタをガラス基板１０１とバックライト光源１
４０の間に設けてもよい。別フィルタとする場合は、部
品コストがかかるが、フィルタのパターンや色を簡単に
変更できるという利点がある。また、高密度の表示パタ
ーンに対応するため、陽極と配線を陽極層と配線層に分
けて間に透明絶縁層を設けるようにしているが、表示密
度が低く、陽極と配線や配線同士が交差しない場合は、
絶縁層を省いてよい。

【００６１】次に、この発明の蛍光表示装置の第７の実
施の形態について説明する。この発明の蛍光表示装置の
第７の実施の形態は、第１の実施の形態で示した蛍光表
示装置の光透過可能な絶縁層に少なくとも１つのフィル
タ領域を備えるようにしたものである。ここで、図１０
は、この発明の蛍光表示装置の第７の実施の形態を示
し、同図において図１と同一符号は同一部分を示す。こ
の実施の形態で図１に示すものと異なる点は、透明絶縁
層１０３に光フィルタ機能を設け、特定の波長の光だけ
を透過するようにしたものである。この実施の形態にお
いて、光フィルタ機能を有する絶縁層１２７，１２８，
１２９は、図１０（ｂ）に例示するように、無機顔料層
１２９ａと透明絶縁膜１２９ｂを積層して形成する。以
下、ガラス基板１０１に光フィルタ機能を有する絶縁層
１２７，１２８，１２９を形成した蛍光表示装置を製造
する方法を説明する。

【００６２】まず、ガラス基板１０１上に膜厚１μｍ程
度のアルミニウムの配線層１０２をフォトリソグラフィ
法で形成する。次に、所定のスルーホール部分と非形成
部分を残して無機顔料ペーストからなる無機顔料層１２
９ａを印刷形成する。この場合、無機顔料ペーストは、
青色にＡｌ₂Ｏ₃・ＣｏＯ、緑色にＴｉＯ₂・ＺｎＯ・Ｃ
ｏＯ・ＮｉＯ、赤色にＦｅ₂Ｏ₃を用い、使用する色ごと
に分けて印刷する。また、そのまま透過させたい部分に
は何も形成させなくてもよいし、顔料の代わりにＳｉＯ
₂などの光透過性微粒子を用いて、図１０（ｃ）に例示
するように、光透過性微粒子層１０３ｃを形成させても
よい。また、光吸収層を形成して遮光フィルタとしても
よく、この場合は特定パターンの輪郭を強調する場合な
どに有効である。なお、光フィルタの構成は赤色、青
色、緑色に限るものではなく、黄色や紫色など必要に応
じて他の分光特性を有する無機顔料を選択してもよい。
また、顔料の組成もこれらに限られるものではなく、種
々存在する中から必要なものを選択すればよい。

【００６３】次に、このガラス基板１０１を５５０℃程
度の温度で焼成し、脱バインダーして無機顔料層１２９
ａや光透過性微粒子層１０３ｃを形成する。なお、これ
らの無機顔料層１２９ａや光透過性微粒子層１０３ｃ
は、製造工程の熱処理に耐えうる４００℃〜６００℃程
度の耐熱性を備えていることが必要である。次に、第１
の実施の形態に示したいずれかの方法で、無機顔料層１
２９ａや光透過性微粒子層１０３ｃの上に透明絶縁層１
２９ｂ，１０３ｂを形成する。これにより光フィルタ機
能を有する絶縁層を含む透明絶縁層が形成される。以後
は、第１の実施の形態と同じであるので、説明を省略す
る。

【００６４】なお、この実施の形態では、絶縁層を無機
顔料層１２９ａや光透過性微粒子層１０３ｃの上に透明
絶縁層１２９ｂ、１０３ｂを形成する２層構造とした
が、これに限定するものではなく、無機顔料層１２９ａ
や光透過性微粒子層１０３ｃの１層だけでもよく、また
種類の異なる無機顔料層を複数積層したり、透明絶縁層
を複数積層するものであってもよい。また、無機顔料と
透明絶縁ペーストを混合した絶縁層材料を用いてフィル
ター機能を有する絶縁層を形成するようにしてもよい。
なお、高密度の表示パターンに対応するため、陽極と配
線を陽極層と配線層に分けて間に透明絶縁層を設けるよ
うにしているが、表示密度が低く、陽極と配線や配線同
士が交差しない場合は、絶縁層を省いてよい。

【００６５】この実施の形態では、透明絶縁層中に領域
によってフィルタ特性の異なる複数の光フィルタが形成
されるため、別に光フィルタを備える必要がなく、部品
点数を減らすことができるため、コストを下げることが
できるという利点がある。これにより、バックライト光
源１４０に白色光源を用いて蛍光表示装置の表示領域ご
とに光フィルタの透過波長によって背景色を加工するこ
とが可能になり、表示パターンと組み合わせて表示情報
量を大きく向上させることができる。また、この蛍光表
示装置に第５の実施の形態で用いたシャッター板を取り
付けるようにしてもよく、この場合はさらに表示情報量
を向上させることができる。

【００６６】この発明の蛍光表示装置は、従来のものと
異なり表示パターン以外にガラス基板１０１の背面側に
設けられたバックライト光源１４０による背景色の変化
がフロントガラス１０９側から観察できる。よって、表
示パターンと背景色とを組み合わせることにより多彩な
表示を行うことができる利点がある。また、さらに着色
フィルタ、光フィルタ、シャッターなどを組み合わせる
ことにより、より一層多彩な表示を行わせることが可能
になる。なお、この発明の実施の形態では、一般的な３
極管タイプで説明したが、グリッドのない２極管タイプ
でも適用可能なことは言うまでもない。また、フィラメ
ント状のカソードを用いたもので説明したが、これに限
られるものではなく、観察者が視認できない寸法で、か
つ電子放出が可能なものであれば他のものでもよい。ま
た、外囲器も真空容器として構成でき、ガラス基板背面
からのバックライト光源の透過光と発光部の表示パター
ンが直視できるものであれば、他のものでもよい。

【００６７】

【発明の効果】以上説明したように、この発明の蛍光表
示装置は、透光性基板と、この基板上に配置された複数
の陽極と、これらの陽極に対応してその上に配置された
蛍光体と、これらの蛍光体と離間しかつ対向配置された
カソードと、上述した各部品のすべてあるいは上述した
透光性基板を除く各部品を内蔵し、かつ透光性基板を一
部として使用した外囲器と、基板の背面に配置された少
なくとも１つのバックライト光源とを備えるようにした
ので、発光部の表示パターンとバックライト光源による
背景光を組み合わせることができるため、表示情報量を
大きく向上させることが可能である。このため、この発
明の蛍光表示装置は、従来の透過型蛍光表示装置のよう
に発光部の表示パターンしか表示に用いないものに比べ
て、表示情報を多彩に表示することが可能であるという
効果を有する。また、この発明の蛍光表示装置は、陽極
層と配線層の間に設けられた透明な絶縁層を介して陽極
と配線を接続することにより、高精細配線パターンを形
成できるので、バイプレーナ形蛍光表示装置に比べて複
雑な表示パターンをより多彩に表示できるという効果を
有する。

【００６８】また、この発明の蛍光表示装置は、絶縁層
に加えて陽極又は配線層を光透過可能にしたので、表示
パターンの背景をバックライト光源の発光色とすること
ができる。このため、表示パターンとバックライト光源
のＯＮ／ＯＦＦの組み合わせにより、表示パターン自身
の発光による表示以外に、表示パターンを消灯してバッ
クライト光源により表示パターンが浮き上がるようにし
たり、表示パターンの点灯とバックライト光源の発光に
よる背景色とを組み合わせたりすることができ、表示情
報をより多彩に表示することができるという効果を有す
る。

【００６９】また、この発明の蛍光表示装置は、ガラス
基板の背面側に複数のシャッターを有するシャッター板
を備えるようにしたので、透過領域を個別に透過させた
り、遮光させたりすることができ、表示領域ごとにバッ
クライトによる背景光をＯＮ／ＯＦＦすることが可能に
なり、表示パターンと組み合わせて表示情報量を大きく
向上させることができるという効果を有する。また、こ
の発明の蛍光表示装置は、ガラス基板に着色フィルタを
形成したので、バックライト光源に白色光源を用いて表
示領域ごとに背景色を着色加工することが可能になり、
表示パターンと組み合わせて表示情報量を大きく向上さ
せることができるという効果を有する。この場合、別に
着色フィルタを備える必要がなく、部品点数を減らすこ
とができるので、低コストで表示情報量を大きく向上さ
せることができるという効果も有する。

【００７０】また、この発明の蛍光表示装置は、透明絶
縁層中に光フィルタを形成したので、バックライト光源
に白色光源を用いて表示領域ごとに光フィルタの透過波
長によって背景色を加工することが可能になり、表示パ
ターンと組み合わせて表示情報量を大きく向上させるこ
とができるという効果を有する。また、光フィルタによ
り表示パターンのコントラストを変えてパターンを強調
させる効果も有する。

【００７１】このように、この発明の蛍光表示装置は、
従来のものと異なり表示パターン以外に背面に設けられ
たバックライト光源による背景色の変化がフロントガラ
ス側から観察できるようにしたので、表示パターンと背
景色とを組み合わせることにより多彩な表示を行うこと
ができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】 第１の実施の形態における蛍光表示装置の構
成を示す断面図である。

【図２】 第２の実施の形態における蛍光表示装置のフ
ィラメント側から見たガラス基板面の部分構成図であ
る。

【図３】 図２のＡ−Ａ線断面図である。

【図４】 第３の実施の形態における蛍光表示装置のフ
ィラメント側から見たガラス基板面の部分構成図であ
る。

【図５】 図４のＢ−Ｂ線断面図である。

【図６】 第４の実施の形態における蛍光表示装置のフ
ィラメント側から見たガラス基板面の部分構成図であ
る。

【図７】 図６のＣ−Ｃ線断面図である。

【図８】 第５の実施の形態における蛍光表示装置の構
成を示す断面図である。

【図９】 第６の実施の形態における蛍光表示装置の構
成を示す断面図である。

【図１０】 第７の実施の形態における蛍光表示装置の
構成を示す断面図である。

【符号の説明】

１０１…ガラス基板、１０２…配線層、１０２ａ，１０
２ｂ…配線、１０２ｃ，３０４ｃ…開口部、１０３…透
明絶縁層、１０３ａ…スルーホール、１０３ｂ…透明絶
縁層、１０３ｃ…光透過性微粒子層、１０４，３０４…
陽極、１０５，２０５…蛍光体（発光部）、１０６…グ
リッド、１０７…フィラメント（カソード）、１０８…
側壁、１０９…フロントガラス、１１０…フリットガラ
ス、１１１…リード、１１２…電極、１１３…導電ペー
スト、１１４…固定用フリットガラス、１１５…発光
光、１１６…透過光、１１７…観察者、１２０…シャッ
ター板、１２１…液晶シャッター、１２２…遮断光、１
２５…赤色透過層、１２６…黄色透過層、１２７…赤色
透過層、１２８…緑色透過層、１２９…青色透過層、１
２９ａ…無機顔料層、１２９ｂ…透明絶縁層、１４０…
バックライト光源、１４１…リード線、２０２…透明配
線、２０４…透明陽極。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 近田 太郎 三重県伊勢市上野町字和田700番地 伊勢 電子工業株式会社内 Ｆターム(参考） 5C032 EE01 EE17 EF02 EF07 5C036 EE04 EE19 EF01 EF02 EF05 EF08 EF11 EG28 EG29 EG30 EH07 EH09 EH26 5C096 AA11 AA27 BA01 BA04 BC02 BC03 BC04 BC11 BC15 BC20 CA03 CA14 CA17 CA28 CB07 CC10 CC17 CH04 CJ01 DC03 DC04 DC05 DC20 FA01

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透光性基板と、 この基板上に配置された複数の陽極と、 これらの陽極に対応してその上に配置された蛍光体と、 これらの蛍光体と離間しかつ対向配置されたカソード
   と、 上述した透光性基板を除く各部品を内蔵し、かつ前記透
   光性基板を一部として使用した外囲器と、 前記透光性基板の背面側に配置された少なくとも１つの
   バックライト光源とを備えた蛍光表示装置。
2. 【請求項２】 透光性基板と、 この基板上に配置された複数の陽極と、 これらの陽極に対応してその上に配置された蛍光体と、 これらの蛍光体の上方に離間して配置されたグリッド
   と、 このグリッドの上方に離間して配置されたカソードと、 上述した透光性基板を除く各部品を内蔵し、かつ前記透
   光性基板を一部として使用した外囲器と、 前記透光性基板の背面側に配置された少なくとも１つの
   バックライト光源とを備えた蛍光表示装置。
3. 【請求項３】 前記陽極は、光透過可能な材料あるいは
   構造によって構成されていることを特徴とする請求項１
   又は請求項２に記載の蛍光表示装置。
4. 【請求項４】 前記透光性基板と前記陽極との間には、
   さらに前記基板上に配置された配線層と、この上に配置
   された少なくとも一部が光透過可能な絶縁層とを備え、
   この絶縁層には前記配線層と各陽極とを接続する手段が
   含まれていることを特徴とする請求項１から３のいずれ
   か１つに記載の蛍光表示装置。
5. 【請求項５】 前記配線層は、光透過可能な材料あるい
   は構造によって構成されていることを特徴とする請求項
   ４に記載の蛍光表示装置。
6. 【請求項６】 前記絶縁層は、少なくとも１つの光フィ
   ルタ領域を備えていることを特徴とする請求項４又は請
   求項５に記載の蛍光表示装置。
7. 【請求項７】 前記光フィルタ領域は、複数のフィルタ
   特性の異なる領域によって構成されていることを特徴と
   する請求項６に記載の蛍光表示装置。
8. 【請求項８】 前記透光性基板は、表面に形成された着
   色フィルタ層を有することを特徴とする請求項１から５
   のいずれか１つに記載の蛍光表示装置。
9. 【請求項９】 前記バックライト光源と前記透光性基板
   との間に少なくとも１つのシャッターが配置されている
   ことを特徴とする請求項１から８のいずれか１つに記載
   の蛍光表示装置。