JPH0982475A - 薄膜カラーelパネル及びその製造方法 - Google Patents

薄膜カラーelパネル及びその製造方法

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JPH0982475A
JPH0982475A JP7232701A JP23270195A JPH0982475A JP H0982475 A JPH0982475 A JP H0982475A JP 7232701 A JP7232701 A JP 7232701A JP 23270195 A JP23270195 A JP 23270195A JP H0982475 A JPH0982475 A JP H0982475A
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panel
color
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thin film
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Mikihiro Noma
幹弘 野間
Satoshi Inoue
智 井上
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 薄膜カラーELパネルにおいて、平板状のフ
ィルタ基板を対向側に設けた構成であれば、シール部の
体積が増加してしまい、耐湿性に欠けていたため、EL
素子の寿命を短くさせていた。また、対向側基板をシー
ル板とした構成であれば、前記基板にカラーフィルタを
形成するのが困難となっていた。また、対向側基板をシ
ール板とし、カラーフィルタをEL素子形成基板上に形
成する構成であれば、カラーフィルタの現像工程におい
て、前記現像液によってEL素子がダメージを受けてし
まう。 【課題解決手段】 本発明の薄膜カラーELパネルにお
いては、EL素子の形成された素子基板とは別の、平板
状のフィルタ基板にカラーフィルタを形成し、前記素子
基板と前記フィルタ基板とを貼り合わせ、かつ前記フィ
ルタ基板を覆うように、掘り込み加工が施されたシール
板をELパネル基板に貼り合わせる構成となっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、薄型でかつ平板状
の表示手段として好適に用いられる薄膜EL(エレクト
ロルミネッセント)パネル及びその製造方法に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】ELパネルは、現在ZnS:Mnを発光
層とする黄色モノクロディスプレイが実用化されている
が、情報化時代をむかえてマルチカラー、あるいはフル
カラーディスプレイの開発が盛んに行われている。
【0003】ELディスプレイの多色化の方法として
は、CaS:EuやZnS:Smなどを発光層とする赤
色EL素子、ZnS:Tbなどを発光層とする緑色EL
素子、SrS:CeやZnS:Tmなどを発光層とする
青色EL素子をマトリクス状に配置させた並置方式、及
び、ZnS:Mn/SrS:Ce/ZnS:MnやSr
S:Pr,Ceなどを発光層とする白色EL素子に赤,
緑,青のカラーフィルタを設けたフィルタ方式がある。
【0004】前記の並置方式のカラーELパネルは、各
色の発光特性の違い(特に輝度)から、実用化に向けて
は課題が多く残されているため、現在フィルタ式のカラ
ーELパネルが実用化に向けて検討されている。
【0005】以下に、従来のフィルタ式カラーELパネ
ルの製造方法について図6を用いて簡単に説明する。ま
ず、ガラス基板1上に下部電極2としてAl,Ni,C
r,Au,あるいはITOなどをスパッタリング、ある
いは蒸着法により形成し、フォトリソグラフィ技術を用
いてストライプ状にパターニングする。
【0006】そして、この上に下部絶縁膜3として用い
られるSiO2 、Ta25積層膜をスパッタリングし、
次に、発光層4に用いられるSrS:Pr,Ceなどの
白色EL素子16を電子ビーム蒸着法により形成する。
【0007】さらに、前記発光層の上に、SiO2 、T
25積層膜からなる上部絶縁膜5をスパッタリングに
より形成し、その上に上部電極6となる透明導電性IT
O膜をスパッタリングにより形成し、フォトリソグラフ
ィ技術を用いて前記下部電極2と直交するようにストラ
イプ状にパターニングする。この後、これらを覆うよう
に防湿兼絶縁破壊防止用の透光性絶縁樹脂層7を形成す
る。
【0008】次に、有機膜からなる赤、緑、青のカラー
フィルタ9及びこれを保護するためのオーバーコート膜
10を形成したカラーフィルタ付き背面ガラス板20を
EL素子16の画素上の上部電極とフィルタとが接する
ように位置合わせしてのせ、カラーフィルタ付き背面ガ
ラス板20の周囲をシール剤11で固定し、図6に示す
ようなカラーELパネルを得る。
【0009】しかしながら、上述したカラーELパネル
では、二枚の基板を防湿性の乏しい樹脂スペーサを含む
シール剤によって貼り合わせているため、水分を嫌うE
L素子16の寿命を短くしてしまうという問題点や、E
L素子16とカラーフィルタ9とが数〜数十μmの薄い
透光性絶縁樹脂7を介して密着しているので、ELパネ
ル基板17が絶縁破壊による画素破壊を起こしてしま
い、カラーフィルタ9が黒色化し易すいという問題点を
有していた。
【0010】そこで、前記第一の問題点を解決するた
め、例えば特開平2−60088号公報では、前記シー
ル剤の外側にフッ素系樹脂を塗布する方法が開示されて
いる。
【0011】さらに、特開平5−94878号公報で
は、図7に示すように、EL素子16の上に形成される
透光性絶縁樹脂層7を厚さ0.1μm〜500μmに形
成し、他方のガラス基板には掘り込み加工を施したシー
ル板13を用いて、前記ガラス基板の貼り合わせ面上に
カラーフィルタ9を形成し、二枚の基板を貼り合わせた
カラーELパネルが開示されている。
【0012】また、特開平5−198379号公報で
は、図8に示すように、一方のガラス基板上に形成され
た透光性絶縁樹脂層7の上にカラーフィルタ9を形成
し、他方のガラス基板には掘り込み加工を施し、かつ防
湿効果を高めるために絶縁性オイル12を両基板間に充
満させるためのオイル注入口14及びオイル封止板15
が設けられたシール板13を用いたカラーELパネルが
開示されている。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記特
開平2−60088号公報に開示されたカラーELパネ
ルでは、フッ素系樹脂を塗布することで改善はされる
が、ガラスより透湿性に乏しいため、防湿効果が十分で
あるとは言えない。
【0014】特開平5−94878号公報に開示された
カラーELパネルは、片側基板にシール板13を用いて
いるため、接着部分の間隙が小さくなり防湿効果が高く
高寿命であるが、シール板13にカラーフィルタ9を形
成する際に、原液をスピンナー装置を用いて塗布するこ
とが困難であるという問題点を有している。
【0015】また、特開平5−198379号公報に開
示されたカラーELパネルでは、製造過程でカラーフィ
ルタ9を直接ELパネル基板17上に塗布して形成する
ため、多数回の現像工程で現像液として用いる有機アル
カリ溶剤(例えばテトラメチルアンモニウムハイドロオ
キサイド)などによって、EL素子16、特に発光層4
がダメージを受けやすく、製品の信頼性と歩留まりを悪
化させるという問題点を有している。
【0016】そこで本発明は、高精細でかつ信頼性の高
い長寿命の薄膜カラーELパネル及びその製造方法を提
供することを目的としている。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1記載の
薄膜カラーELパネルは、EL素子が形成された第一の
基板と、カラーフィルタが形成され、前記第一の基板の
EL素子形成面上に貼り合わされた第二の基板と、前記
EL素子及び前記第二の基板を覆うように前記第一の基
板に貼り合わされたシール板と、を少なくとも備えたこ
とを特徴としている。
【0018】本発明の請求項2記載の薄膜カラーELパ
ネルは、請求項1記載の薄膜カラーELパネルにおい
て、前記第一の基板と前記第二の基板とを、EL素子形
成面とカラーフィルタ非形成面とが向かい合うように貼
り合わせたことを特徴としている。
【0019】本発明の請求項3記載の薄膜カラーELパ
ネルの製造方法は、第一の基板上にEL素子を形成する
工程と、第二の基板上にカラーフィルタを形成する工程
と、前記第二の基板を前記EL素子の上方に配置すると
ともに前記第一の基板に貼り合わせる工程と、前記EL
素子及び前記第二の基板を覆うように、シール板を前記
第一の基板に貼り合わせる工程と、を含むことを特徴と
している。
【0020】本発明の請求項4記載の薄膜カラーELパ
ネルの製造方法は、第一の基板上にEL素子を形成する
工程と、前記第一の基板上に第二の基板を貼り合わせる
工程と、前記第二の基板上にカラーフィルタを形成する
工程と、前記EL素子及び前記第二の基板を覆うよう
に、シール板を前記第一の基板に貼り合わせる工程と、
を含むことを特徴としている。
【0021】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について、図
1ないし図5を用いて詳細に説明する。
【0022】[実施の形態1]図1は本実施の形態のカ
ラーELパネルの断面を示す図であり、図2はこのパネ
ルを表示面側から見た図であり、図3は前記パネルの作
製手順を示すフローチャートである。
【0023】図1に示されるように、本実施の形態の薄
膜カラーELパネルは、EL素子16が形成された第一
の基板(以下ELパネル基板と称す)17と、カラーフ
ィルタ9が形成された第二の基板(以下フィルタ基板と
称す)18と、掘り込み加工が施されたシール板13と
からなっている。
【0024】前記ELパネル基板17には、下部電極
2、下部絶縁膜3、EL発光層4、上部絶縁膜5、上部
電極6からなるEL素子16が形成されており、これら
を覆うように防湿兼絶縁破壊防止用の透光性絶縁樹脂層
7が形成されている。
【0025】前記フィルタ基板18には、赤、緑、青の
カラーフィルタ9が形成され、それらを覆うように保護
用のオーバーコート膜10が形成されている。
【0026】これら二枚の基板17,18は、図1に示
されるように、ELパネル基板17上に形成されたEL
素子16と、フィルタ基板18上に形成されたカラーフ
ィルタ9とが向かい合わないように、前記EL素子16
形成面と前記カラーフィルタ9非形成面とを向かい合わ
せ、シール剤11によって貼り合わされている。
【0027】以下に、本実施例の薄膜カラーELパネル
の具体的な作製手順を詳細に説明する。
【0028】まず、ELパネル基板17の作製手順につ
いて図3に基づいて説明する。ガラス基板1の一方の表
面に、Taからなる下部電極2を、スパッタ法、電子ビ
ーム蒸着法等により200nm程度の膜厚になるように
形成し、その後前記下部電極2を、ストライプ状の電極
パターンとなるように、ドライエッチング法により形成
した。
【0029】次に、前記下部電極2を覆うように、基板
全面にスパッタ法等で40nm程度の厚さにSiO2
堆積し、さらに200nm程度の厚さにSi34を堆積
して下部絶縁膜3を形成した。
【0030】さらに、ZnSにMnを0.35at%添
加し、加圧形成した後Arガス中900℃で1時間焼結
させたZnS:Mnペレットと、SrSにCeまたはC
eCl3 ,CeNなどのCe化合物を0.1at%添加
し、加圧形成した後Arガス中900℃で1時間焼結さ
せたSrS:Ceペレットとを用いて、電子ビーム蒸着
法によりEL発光層4をZnS:Mn/SrS:Ce/
ZnS:Mn構造となるようにそれぞれ200nm,8
00nm,200nmの厚さに形成した。
【0031】前記EL発光層4を覆うようにスパッタ法
等で200nm程度の厚さにSi34を堆積し、さらに
40nm程度の厚さにSiO2 を堆積して上部絶縁膜5
を形成した。
【0032】更に、前記上部絶縁膜5を覆うようにIT
Oからなる上部電極6をスパッタ法、電子ビーム蒸着法
などにより200nm程度の膜厚になるように形成し
た。その後、前記上部電極6を、図2に示すように、下
部電極2と直交するようなストライプ状の電極パターン
となるように、ドライエッチング法により形成した。ス
トライプ状の下部電極2と上部電極6とを直交させるこ
とにより、両電極の重なった部分がカラーELパネルの
画素を形成している。
【0033】更に、上部電極6の上から基板全面を覆う
ように透光性絶縁樹脂7をスクリーン印刷法により20
μm程度の厚さに形成することによって、ELパネル基
板17を作製した。
【0034】なお、前記下部電極2としては、Tiの他
にMo,W,ITOなどを用いても良い。また、上部電
極6としては、ITOの他にAlを添加したZnOや、
Gaを添加したZnOなどを用いても良い。さらに、下
部、上部絶縁膜3,5としては、Ta25やAl23
どを用いても良い。
【0035】次に、フィルタ基板18の作製手順を説明
する。まず、200μm以下、より好ましくは100μ
mのガラスからなる透光性基板8の一方の表面に、緑色
フィルターの原液をスピンナーで塗布し、約90℃でプ
リベークする。その後、画素形状にパターニングするた
め、この画素形状にあわせたマスクをかぶせて紫外線露
光を行い、有機アルカリ系の現像液で現像し、約200
℃でホストベークして緑色フィルター9aを形成した。
赤色フィルター9b、青色フィルター9cについても同
様の工程で形成し、さらにその上から基板全面に保護用
のオーバーコート膜10をスピンナーを用いて約3μm
の厚みに形成することにより、フィルタ基板18を作製
した。
【0036】次に、前記手順にて作製したELパネル基
板17とフィルタ基板18とを、ELパネル基板17上
の各画素と、フィルタ基板18上に形成された各色のカ
ラーフィルタ9とを対応させ、かつ前記ELパネル基板
17のEL素子16形成面と前記フィルタ基板18のフ
ィルタ非形成面とを向かい合わせ、エポキシ樹脂からな
るシール剤11によって貼り合わせた。
【0037】更にその上から、掘り込み加工を施したシ
ール板13をエポキシ樹脂でフィルタ基板18を覆うよ
うにELパネル基板17に貼り付け、防湿剤としてシリ
コーン樹脂からなる絶縁性オイル12をシール板13の
一部に設けられたオイル注入口14から注入し、この注
入口14をオイル封止板15を接着し封止することによ
って、薄膜カラーELパネルを作製した。
【0038】なお、シール板13の貼り付け工程におい
ては、ELパネル基板17とフィルタ基板18とを貼り
合わせた後、フィルタ基板18上に透光性樹脂19を塗
布した後、オイル注入口14のあいていないシール板1
3を気泡の入らないように密着させて紫外線硬化性樹脂
で貼り付ける、或いは、窒素又はアルゴンなどの不活性
ガス雰囲気中において、シール板13内に前記ガスが充
填されるように紫外線効果性樹脂で貼り付けるようにし
ても良い。
【0039】また、ELパネル基板17とフィルタ基板
18との間に形成した透光性絶縁樹脂7に替えて絶縁性
オイル12を用い、ELパネル基板17とフィルタ基板
18との空隙及びELパネル基板17とシール板13と
の空隙を全て絶縁性オイル12で満たすようにしてもよ
い。
【0040】本実施の形態における薄膜カラーELパネ
ルは、ELパネル基板17がフィルタ9の現像工程を通
ることがないので、EL素子16が現像液によってダメ
ージを受けることがない。また、ELパネル基板17に
設けられたEL素子16と、フィルタ基板18に設けら
れたフィルタ9との間に十分な間隙が設けられているた
め、絶縁破壊による画素破壊が起こらず、フィルタ9の
黒色化が防げて、かつフィルタ9に含まれるアルカリ成
分の溶出の影響も非常に低減できる。さらに、シール板
13による封止を行っているので十分な耐湿性が得られ
る。
【0041】[実施の形態2]次に、本発明の別の実施
の形態について、図4を用いて説明する。
【0042】図4は本実施の形態における薄膜カラーE
Lパネルの断面を示す図である。前記パネルの作製手順
を示すフローチャートは、前記第一の実施の形態と同じ
なのでここでは省略する。
【0043】本実施の形態では、上述した第一の実施の
形態とほぼ同じ構成となっているが、フィルタ基板18
に200μmより厚いものを使用している点で前記実施
の形態とは異なる。これは、パネルサイズが大きくなる
と、200μm以下のフィルタ基板18を使用していて
は、カラーフィルタ9の形成時などにおいてフィルタ基
板18が割れやすく、扱いにくくなるためである。した
がって、特に大型ELパネルに適している。
【0044】また、本実施の形態では、フィルタ基板1
8が200μm以上となっているため、前記実施の形態
と同じように、EL素子16形成面とフィルタ非形成面
とを向かい合わせて貼り合わせると、画素のパターン精
度にもよるが視角により色ずれが問題となってくる場合
がある。このときは図4に示されるように、EL素子1
6形成面とフィルタ形成面とを向かい合わせて貼り合わ
せれば良い。
【0045】本実施の形態における薄膜カラーELパネ
ルは、ELパネル基板17がフィルタ9の現像工程を通
ることがないので、EL発光層4が現像液によってダメ
ージを受けることがない。
【0046】[実施の形態3]次に、本発明の別の実施
の形態について、図5を用いて説明する。
【0047】図5は本実施の形態における薄膜カラーE
Lパネルの作製手順を示すフローチャートである。前記
パネルの断面図は、前記第一の実施の形態で示した図1
と同じなのでここでは省略する。
【0048】本実施の形態では、上述した第一の実施の
形態とほぼ同じ構成となっているが、作製手順におい
て、パネル基板17にEL素子16形成後、フィルタ未
形成のフィルタ基板18を貼り合わせ、その後フィルタ
9を形成する点で前記実施の形態とは異なる。これは、
パネルサイズが大きくなると、200μm以下のフィル
タ基板18を使用していては、カラーフィルタ9の形成
時などにおいてフィルタ基板18が割れやすく、扱いに
くくなるためである。したがって、特に大型ELパネル
に適している。
【0049】本実施の形態における薄膜カラーELパネ
ルは、フィルタ9を現像する際に、ELパネル基板17
が直接現像液に触れることがないのでダメージをかなり
軽減させることができる。また、ELパネル基板17に
設けられたEL素子16とフィルタ基板18に形成され
たフィルタ9との間に十分な間隙が設けられているた
め、絶縁破壊による画素破壊が起こらないため、フィル
タ9の黒色化が防げ、かつフィルタ9に含まれるアルカ
リ成分の溶出の影響も非常に低減できる。さらに、シー
ル板13による封止を行っているので十分な耐湿性が得
られる。
【0050】
【発明の効果】本発明の請求項1記載の薄膜カラーEL
パネルは、カラーフィルタ9をEL素子16の形成され
たELパネル基板17とは別のフィルタ基板18上に回
転塗布法により形成でき、かつシール板13を前記フィ
ルタ基板18を覆うように前記パネル基板17に貼り付
けることによって封止するので、パターン精度の良いカ
ラーフィルタ9と、湿気を嫌うEL素子16に対する十
分な耐湿効果とを同時に得ることができる。
【0051】本発明の請求項2記載の薄膜カラーELパ
ネルは、請求項1記載の薄膜カラーELパネルにおい
て、前記第一の基板と前記第二の基板とを貼り合わせる
際に、EL素子16形成面とカラーフィルタ9非形成面
とを向かい合わせて貼り合わせることによって前記EL
素子16と前記カラーフィルタ9との間に十分な間隙を
設けることができるので、絶縁破壊による画素破壊を起
こすことがなく、かつカラーフィルタ9に含まれるアル
カリ成分の溶出によるEL素子16への影響も無くすこ
とができる。
【0052】本発明の請求項3記載の薄膜カラーELパ
ネルの製造方法は、請求項1または2記載の薄膜カラー
ELパネルを製造する際に、EL素子16が形成された
ELパネル基板17がカラーフィルタ9の現像工程を通
ることがないので、EL素子16が現像液によるダメー
ジを受けることがない。
【0053】本発明の請求項4記載の薄膜カラーELパ
ネルの製造方法は、請求項1または2記載の薄膜カラー
ELパネルを製造する際に、カラーフィルタ9未形成の
フィルタ基板18を先にELパネル基板17に貼り付け
ておき、その後カラーフィルタ9を形成するので、この
カラーフィルタ9の現像工程においてEL素子16が直
接現像液に触れることがなく、EL素子16が現像液に
よって受けるダメージを低減することができる。また、
大型の薄膜カラーELパネルにおいては、フィルタ基板
18を先にELパネル基板17に貼り付けることによっ
て、カラーフィルタ9の形成時にも基板割れを起こすこ
とがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態における薄膜カラーEL
パネルの断面図である。
【図2】図1における薄膜カラーELパネルを表示面側
から見た平面図である。
【図3】本発明の一実施の形態における薄膜カラーEL
パネルの作製手順を示したフローチャート図である。
【図4】本発明の別の実施の形態における薄膜カラーE
Lパネルの断面図である。
【図5】本発明の更に別の実施の形態における薄膜カラ
ーELパネルの作製手順を示したフローチャート図であ
る。
【図6】従来の薄膜カラーELパネルの断面図である。
【図7】従来の薄膜カラーELパネルの断面図である。
【図8】従来の薄膜カラーELパネルの断面図である。
【符号の説明】
1 ガラス基板 2 下部電極 3 下部絶縁膜 4 EL発光層 5 上部絶縁膜 6 上部電極層 7 透光性絶縁樹脂 8 ガラス基板 9 カラーフィルタ 10 オーバーコート膜 11 シール剤 12 絶縁性オイル 13 シール板 14 オイル注入口 15 オイル封止板 16 EL素子 17 ELパネル基板 18 フィルタ基板 19 透光性樹脂 20 背面ガラス板

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 EL素子が形成された第一の基板と、 カラーフィルタが形成され、前記第一の基板のEL素子
    形成面上に貼り合わされた第二の基板と、 前記EL素子及び前記第二の基板を覆うように前記第一
    の基板に貼り合わされたシール板と、を少なくとも備え
    たことを特徴とする薄膜カラーELパネル。
  2. 【請求項2】 前記第一の基板と前記第二の基板とを、
    EL素子形成面とカラーフィルタ非形成面とが向かい合
    うように貼り合わせたことを特徴とする請求項1記載の
    薄膜カラーELパネル。
  3. 【請求項3】 第一の基板上にEL素子を形成する工程
    と、 第二の基板上にカラーフィルタを形成する工程と、 前記第二の基板を前記EL素子の上方に配置するととも
    に前記第一の基板に貼り合わせる工程と、 前記EL素子及び前記第二の基板を覆うように、シール
    板を前記第一の基板に貼り合わせる工程と、を含むこと
    を特徴とする薄膜カラーELパネルの製造方法。
  4. 【請求項4】 第一の基板上にEL素子を形成する工程
    と、 前記第一の基板上に第二の基板を貼り合わせる工程と、 前記第二の基板上にカラーフィルタを形成する工程と、 前記EL素子及び前記第二の基板を覆うように、シール
    板を前記第一の基板に貼り合わせる工程と、を含むこと
    を特徴とする薄膜カラーELパネルの製造方法。
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JPH11111465A (ja) * 1997-09-18 1999-04-23 Lg Electron Inc 有機el素子及びその製造方法
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