JPH0546659B2 - - Google Patents
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- JPH0546659B2 JPH0546659B2 JP13169685A JP13169685A JPH0546659B2 JP H0546659 B2 JPH0546659 B2 JP H0546659B2 JP 13169685 A JP13169685 A JP 13169685A JP 13169685 A JP13169685 A JP 13169685A JP H0546659 B2 JPH0546659 B2 JP H0546659B2
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- anode
- metal oxide
- oxide film
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- phosphor
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Landscapes
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の理用分野〕
本発明は、蛍光表示管の陽極基板に関し、特に
Alなどの薄膜上の陽極上に金属酸化物膜を介し
て蛍光体層を被着形成する際にその蛍光体層の付
着力を向上せしめた蛍光表示管用陽極基板に関す
るものである。
Alなどの薄膜上の陽極上に金属酸化物膜を介し
て蛍光体層を被着形成する際にその蛍光体層の付
着力を向上せしめた蛍光表示管用陽極基板に関す
るものである。
従来、蛍光表示管用の陽極基板としては、その
要部断面を第３図に示すように、ガラス基板１上
にAlやITO（Indium tin oxide）などからなる薄
膜状の陽極２を被着形成したうえ、この陽極２上
に、組成として〔ZnS：Au，Al＋In2O3〕，
〔ZnCdS：Ag＋In2O3〕などの蛍光体をスクリー
ン印刷法や電気泳動法により塗布して蛍光体層３
を形成したものがある。
要部断面を第３図に示すように、ガラス基板１上
にAlやITO（Indium tin oxide）などからなる薄
膜状の陽極２を被着形成したうえ、この陽極２上
に、組成として〔ZnS：Au，Al＋In2O3〕，
〔ZnCdS：Ag＋In2O3〕などの蛍光体をスクリー
ン印刷法や電気泳動法により塗布して蛍光体層３
を形成したものがある。
ところが、このような従来の陽極基板は、蛍光
体の陽極２への封着力が弱く、その結果、次のよ
うな問題が生じていた。
体の陽極２への封着力が弱く、その結果、次のよ
うな問題が生じていた。
管球化工程中あるいは管球化後、わずかな衝
撃により蛍光体が陽極から脱落する。
撃により蛍光体が陽極から脱落する。
脱落はしないものの蛍光体層３が陽極２上か
ら局所的に浮き上がり、陽極との電気的接触が
不十分となつて蛍光体層表面の電位が低下し、
低輝度となる。
ら局所的に浮き上がり、陽極との電気的接触が
不十分となつて蛍光体層表面の電位が低下し、
低輝度となる。
これらの問題を解決するために、Alなどの薄
膜状の陽極上を金属酸化物膜で被覆し、その表面
上に蛍光体層を被着形成する陽極基板の製造方法
が提案されている。（特願昭58−214150号）。
膜状の陽極上を金属酸化物膜で被覆し、その表面
上に蛍光体層を被着形成する陽極基板の製造方法
が提案されている。（特願昭58−214150号）。
かかる陽極基板の製造方法においては、蛍光体
の付着力をある程度向上させることができるが、
その付着力は十分ではなく、蛍光体の脱落や輝度
の低下をきたすという不具合があつた。なお、こ
の方法において蛍光体の付着力が不十分である理
由は、薄膜状の陽極上に被覆する金属酸化物膜の
表面が平滑で、蛍光体粒子と金属酸化物膜との間
にひつかかりがないためと考えられる。
の付着力をある程度向上させることができるが、
その付着力は十分ではなく、蛍光体の脱落や輝度
の低下をきたすという不具合があつた。なお、こ
の方法において蛍光体の付着力が不十分である理
由は、薄膜状の陽極上に被覆する金属酸化物膜の
表面が平滑で、蛍光体粒子と金属酸化物膜との間
にひつかかりがないためと考えられる。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもの
で、その目的は、蛍光体の陽極への付着力を一層
強めることにより、その蛍光体の脱落がなく、か
つ均一で高輝度の蛍光体層を得ることのできる蛍
光表示管の陽極基板を提供することにある。
で、その目的は、蛍光体の陽極への付着力を一層
強めることにより、その蛍光体の脱落がなく、か
つ均一で高輝度の蛍光体層を得ることのできる蛍
光表示管の陽極基板を提供することにある。
本発明に係る陽極基板は、絶縁基板上にAlあ
るいはITOなどからなる薄膜上の陽極を形成し、
この陽極状に、直径数μm程度の粒子を散在させ
てその表面に凹凸を設けた金属酸化物膜を被覆し
たうえ、該金属酸化物膜上の凹凸面に蛍光体層を
被着形成してなるものである。
るいはITOなどからなる薄膜上の陽極を形成し、
この陽極状に、直径数μm程度の粒子を散在させ
てその表面に凹凸を設けた金属酸化物膜を被覆し
たうえ、該金属酸化物膜上の凹凸面に蛍光体層を
被着形成してなるものである。
本発明においては、薄膜状の陽極上に金属酸化
物膜を被覆する際、該金属酸化物膜に直径数μm
程度の粒子を散在させてその表面に凹凸を設ける
ことにより、この凹凸面によつて蛍光体粒子と金
属酸化物膜との接触面積が広くなるため密着が良
くなり、蛍光体層の陽極への付着力を強くかつ両
者の密着性を向上させることができる。
物膜を被覆する際、該金属酸化物膜に直径数μm
程度の粒子を散在させてその表面に凹凸を設ける
ことにより、この凹凸面によつて蛍光体粒子と金
属酸化物膜との接触面積が広くなるため密着が良
くなり、蛍光体層の陽極への付着力を強くかつ両
者の密着性を向上させることができる。
以下、本発明を図に示す実施例に基づいて説明
する。
する。
第１図は本発明に係る蛍光表示管用陽極基板の
一実施例を示す要部断面図である。同図におい
て、まずガラス基板１上の全面にスパツタリング
でAl薄膜を2μmの厚みに被着したうえ、フオト
エツチングによりパターニングして図示しない配
線層と所定パターンを有する陽極２を形成した。
次いで、このガラス基板１上に、金属アルコキシ
ドの加水分解液としてOCD−4000（東京応化製）
を用いスピンナーにより1000Åの厚みにコーテイ
ングして金属酸化物膜４を被覆した後、この金属
酸化物膜４の表面に凹凸を作るための粒子として
ぬμmの平均粒径をもつIn2O3粉末粒子５をスプレ
ーにより散在する状態に付着させた。次いで、ガ
ラス基板１上の金属酸化物膜４およびIn2O3粉末
粒子５を150℃で30分間乾燥した後、その陽極２
上の凹凸面に蛍光体として〔ZnCdS：Ag＋In2
O3〕（赤）をエチルセルローズをバインダーとす
る蛍光体ペーストでスクリーン印刷し、蛍光体層
３を30μmの厚みで形成した。この後、通常の製
造方法で管球化を行なつたところ、管球化工程中
および管球化後の蛍光体脱落は全く認められなか
つた。なお、In2O3粉末粒子５を付着させず金属
酸化物膜４のみを陽極２上に形成した場合は、10
〜20％程度の蛍光体層の脱落が発生していた。ま
た、蛍光体層３が陽極２から局所的に浮き上がる
こともなくなり、In2O3粉末粒子５や金属酸化物
膜４中に多数存在するピンホールを介して蛍光体
層３と陽極２との電気的接続が非常に良好になつ
た。その結果、金属酸化物膜を形成しない時より
平均輝度が約40％向上し、金属酸化物膜だけを形
成した場合よりも平均輝度は約20％向上した。
一実施例を示す要部断面図である。同図におい
て、まずガラス基板１上の全面にスパツタリング
でAl薄膜を2μmの厚みに被着したうえ、フオト
エツチングによりパターニングして図示しない配
線層と所定パターンを有する陽極２を形成した。
次いで、このガラス基板１上に、金属アルコキシ
ドの加水分解液としてOCD−4000（東京応化製）
を用いスピンナーにより1000Åの厚みにコーテイ
ングして金属酸化物膜４を被覆した後、この金属
酸化物膜４の表面に凹凸を作るための粒子として
ぬμmの平均粒径をもつIn2O3粉末粒子５をスプレ
ーにより散在する状態に付着させた。次いで、ガ
ラス基板１上の金属酸化物膜４およびIn2O3粉末
粒子５を150℃で30分間乾燥した後、その陽極２
上の凹凸面に蛍光体として〔ZnCdS：Ag＋In2
O3〕（赤）をエチルセルローズをバインダーとす
る蛍光体ペーストでスクリーン印刷し、蛍光体層
３を30μmの厚みで形成した。この後、通常の製
造方法で管球化を行なつたところ、管球化工程中
および管球化後の蛍光体脱落は全く認められなか
つた。なお、In2O3粉末粒子５を付着させず金属
酸化物膜４のみを陽極２上に形成した場合は、10
〜20％程度の蛍光体層の脱落が発生していた。ま
た、蛍光体層３が陽極２から局所的に浮き上がる
こともなくなり、In2O3粉末粒子５や金属酸化物
膜４中に多数存在するピンホールを介して蛍光体
層３と陽極２との電気的接続が非常に良好になつ
た。その結果、金属酸化物膜を形成しない時より
平均輝度が約40％向上し、金属酸化物膜だけを形
成した場合よりも平均輝度は約20％向上した。
第２図は本発明に係る蛍光表示管用陽極基板の
別の実施例を示す要部断面図である。この実施例
では、ガラス基板１上に第１図の実施例と同様に
Al薄膜からなる配線層および陽極２を形成した
うえ、この基板上に、平均粒径2μmのSiO2粉末
粒子５ａを5wt％分散させた金属アルコキシドの
加水分解液、例えばOCD−4000（東京応化製）を
スピンナーコーテイングにより塗布して、この
OCD−4000の膜厚が約500Åの厚みでかつその表
面が膜下に散在したSiO2粉末粒子５ａで凹凸に
なるように金属酸化物膜４を形成した。この後、
150℃で30分間乾燥し、上記陽極２上に組成
〔ZnS：Au，Al＋In2O3〕（黄）の蛍光体層３をス
クリーン印刷法により被着形成した。これによ
り、管球化工程中および管球化後の蛍光体脱落は
全く認められず、また、蛍光体層３が陽極２から
局所的に浮き上がることもなくなり、金属酸化物
膜４中に多数存在するピンホールを介して蛍光体
層３と陽極２との電気的接続が非常に良好になつ
た。その結果、金属酸化物膜４のない場合より平
均輝度が約30％、金属酸化物膜４だけを形成した
場合よりも約10％向上した。
別の実施例を示す要部断面図である。この実施例
では、ガラス基板１上に第１図の実施例と同様に
Al薄膜からなる配線層および陽極２を形成した
うえ、この基板上に、平均粒径2μmのSiO2粉末
粒子５ａを5wt％分散させた金属アルコキシドの
加水分解液、例えばOCD−4000（東京応化製）を
スピンナーコーテイングにより塗布して、この
OCD−4000の膜厚が約500Åの厚みでかつその表
面が膜下に散在したSiO2粉末粒子５ａで凹凸に
なるように金属酸化物膜４を形成した。この後、
150℃で30分間乾燥し、上記陽極２上に組成
〔ZnS：Au，Al＋In2O3〕（黄）の蛍光体層３をス
クリーン印刷法により被着形成した。これによ
り、管球化工程中および管球化後の蛍光体脱落は
全く認められず、また、蛍光体層３が陽極２から
局所的に浮き上がることもなくなり、金属酸化物
膜４中に多数存在するピンホールを介して蛍光体
層３と陽極２との電気的接続が非常に良好になつ
た。その結果、金属酸化物膜４のない場合より平
均輝度が約30％、金属酸化物膜４だけを形成した
場合よりも約10％向上した。
なお、上記の実施例では金属酸化物膜４の表面
に凹凸を作るための粒子としてIn2O3とSiO2につ
いて述べたが、本発明はこれに限られるものでは
なく、蛍光体にダメージを与えない物質であれば
よく、Al，Al2O3，ZnO，SnO2，WO3などでも
同様な効果が得られた。また、蛍光体層を被着す
る薄膜状の陽極もAl以外にITOなどの金属ある
いは透明導電材を用いたり、金属酸化物膜も
OCD−4000の他の金属アルコキシドなどを用い
た被膜形成法にて形成することもできる。
に凹凸を作るための粒子としてIn2O3とSiO2につ
いて述べたが、本発明はこれに限られるものでは
なく、蛍光体にダメージを与えない物質であれば
よく、Al，Al2O3，ZnO，SnO2，WO3などでも
同様な効果が得られた。また、蛍光体層を被着す
る薄膜状の陽極もAl以外にITOなどの金属ある
いは透明導電材を用いたり、金属酸化物膜も
OCD−4000の他の金属アルコキシドなどを用い
た被膜形成法にて形成することもできる。
以上説明したように、本発明に係る陽極基板に
よれば、蛍光体層の陽極への付着力を強くかつ両
者を密着することができるため、管球化工程中あ
るいは管球化後の蛍光体層脱落を防止できると共
に、蛍光体層と陽極との電気的接続が良好とな
り、均一で高輝度の発光が得られるなどの効果を
有し、実用上の効果は大である。
よれば、蛍光体層の陽極への付着力を強くかつ両
者を密着することができるため、管球化工程中あ
るいは管球化後の蛍光体層脱落を防止できると共
に、蛍光体層と陽極との電気的接続が良好とな
り、均一で高輝度の発光が得られるなどの効果を
有し、実用上の効果は大である。
第１図は本発明の一実施例を示す要部断面図、
第２図は本発明の別の実施例を示す要部断面図、
第３図は従来の一例を示す要部断面図である。 １……ガラス基板、２……陽極、３……蛍光体
層、４……金属酸化物膜、５……In2O3粉末粒子、
５ａ……SiO2粉末粒子。
第２図は本発明の別の実施例を示す要部断面図、
第３図は従来の一例を示す要部断面図である。 １……ガラス基板、２……陽極、３……蛍光体
層、４……金属酸化物膜、５……In2O3粉末粒子、
５ａ……SiO2粉末粒子。
Claims (1)
- １ 絶縁基板上にAlあるいはITOなどからなる
薄膜状の陽極を形成し、この陽極上に、直径数
μm程度の粒子を散在させてその表面に凹凸を設
けた金属酸化物膜を被覆したうえ、該金属酸化物
膜上の凹凸面に蛍光体層を被着形成してなること
を特徴とする蛍光表示管の陽極基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13169685A JPS61290639A (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 | 螢光表示管の陽極基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13169685A JPS61290639A (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 | 螢光表示管の陽極基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61290639A JPS61290639A (ja) | 1986-12-20 |
| JPH0546659B2 true JPH0546659B2 (ja) | 1993-07-14 |
Family
ID=15064064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13169685A Granted JPS61290639A (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 | 螢光表示管の陽極基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61290639A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2524245Y2 (ja) * | 1993-04-21 | 1997-01-29 | 春日電機株式会社 | 除電器 |
| JP2002358917A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Noritake Itron Corp | 蛍光表示管及びその製造方法並びに導電性ペースト |
-
1985
- 1985-06-19 JP JP13169685A patent/JPS61290639A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61290639A (ja) | 1986-12-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |