JPS63169262A - セリウムを主体とする有機ガラス研磨用組成物 - Google Patents

セリウムを主体とする有機ガラス研磨用組成物

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JPS63169262A
JPS63169262A JP62239127A JP23912787A JPS63169262A JP S63169262 A JPS63169262 A JP S63169262A JP 62239127 A JP62239127 A JP 62239127A JP 23912787 A JP23912787 A JP 23912787A JP S63169262 A JPS63169262 A JP S63169262A
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ceric oxide
cerium
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フランシス・タステュ
ピエール・ムラール
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Rhone Poulenc Chimie SA
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    • C09G1/00Polishing compositions
    • C09G1/02Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C19/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14Anti-slip materials; Abrasives
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  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
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  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明はセリウムを主体とする有機ガラス研磨用の研
磨組成物に関する。さらに詳しくは、この発明は有機材
料製眼鏡レンズの研磨に関する。
「従来技術」 「有機ガラス」という用語は所望の適用において研磨す
る必要のあるすべての有機材料をいう。
これは例えば、眼鏡レンズを構成する合成ポリマーたい
ていの場合ポリカーボネート特にポリジアリルグリコー
ルカーボネートまたは乗り物の窓もしくは風防用の板の
形のそのようなポリマーである。
現在、有機ガラスは眼鏡製造業の市場において成長しつ
つある部分を占めていることが認められる。この発展は
有機ガラスが無機ガラスには無い一定の性質を持ってい
ることにより説明される。
耐衝撃性は、実際、安全性の問題: 保護眼鏡、小児用
矯正眼鏡など、であるかむ最優先で選択すべきことであ
る。さらに、有機ガラスはずっと軽く細い縁または径の
大きなガラスを必要とする眼鏡に適している。
有機ガラスの研磨は非常に微妙であり、研磨の難しさは
それらが脆く線が付きやすいことにある。
研磨が不十分であると細かい線が残存し、研磨が行き過
ぎると線や硬い筋や曇りまでもが出現する。
研磨組成物は有機ガラスの表面を良好な状態にすること
ができる必要があるだけでなく、経済的要請から工業的
生産に歩調を合わせるために十分な研磨効率を課せられ
ていることを忘れてはならない。
従来、研磨組成物は、場合によって他の添加物を含有し
ていてもよい有機もしくは水性媒体にけん濁させた粉末
状研磨生成物から成る。
そのような研磨生成物としては、一般に、アルミナ、酸
化錫またはそれらの混合物が使用されている。上記酸化
物が研磨組成物中に介在していると研磨効率は良好であ
るが有機ガラスの研四の竹は透明性のレベルからは曇り
が存在するためと表面状態のレベルからは線があるので
中位である。
希土類元素の酸化物、特に酸化第二セリウムを使用して
結果を改善することが称賛された。酸化第二セリウムの
水性けん濁液を使用する有機ガラスの研磨は研磨が不十
分なため有機ガラスの表面に多数の細かい線が残存する
ので不満足である。
前記の不都合を解消するために西独特願第250887
1号では粒径36μm未満の酸化第二セリウム30〜4
5重量%、グリセリン5〜15重量%および水45〜6
0重量%から成る研磨剤が提案されている。この研磨剤
を使用した場合の研磨時間は従来の酸化物を使用した場
合の研磨時間よりもずっと長い。さらに、眼鏡レンズに
支持体の品質が優秀であることが必要な反射防止または
摩擦防止処理のような表面処理をしようとするときには
万−傷が存在すれば目立つので得られた研磨が完全に満
足がゆくものではなかった。
仏国特願第2414071号に従うと、研磨の品質を改
善しかつ研磨時間を酸化第二セリウム単独使用の場合の
研磨時間に対して10%短縮するために、水中にけん濁
させた酸化第二セリウムをカルボキシメチルセルロース
、エチルセルロース、メチルセルロース、ポリビニルア
ルコール、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリ酸化メチレ
ン、カルボキシポリメチレン、ポリビニルピロリドン、
カゼイン、アラビアゴム等のような濃化剤およびアルキ
ルアリールスルホネート、ラウリルスルホネート、ドデ
シルスルホネート、ドデシルスルフェート、ラウリルエ
ーテルスルフェート、ジオクチルスルホスクシネート、
ジヘキシルスルホスクシネート、シアミルスルホスクシ
ネート、りん酸ポリエステル等のアルカリ塩類やポリシ
ロキサンのような表面張力低下剤と組み合わせて含有す
る研磨材料が提案されている。
前記の研磨材料を使用して得られた表面の状態は満足で
ある。しかしながら、眼鏡レンズの工業的製造の実際の
ベースに対して10%の時間短縮の利得は不十分である
ので研磨時間の改善が必要である。
従って、良好な品質の研磨を生じ研磨時間が従来の酸化
物の場合の研磨時間と比肩し得るような研磨効率を持つ
研磨剤を提供することが望まれている。
ここに、酸化第二セリウムと研磨条件下で可溶性の第一
セリウム塩とから成ることを特徴とする、酸化第二セリ
ウムを含有する有機ガラス研磨組成物を見出し、この発
明を完成した。
すなわち、この発明に従うと、酸化第二セリウムは単独
でまたは酸化第二セリウムを主体とする組成物の形で使
用することができる。
以下の説明において、酸化第二セリウムは酸化第二セリ
ウム単独だけでなく組成物の形も指称するものとする。
この発明で使用される酸化第二セリウムは下記の物理化
学的性質を示すものであればどんな酸化第二セリウムで
もよい。
酸化第二セリウムは粒径が約20μm未満の粉末状であ
る。好ましくは、0.1−10μmの大きさの酸化第二
セリウムを使用することができる。
粒径分析は、けん濁液中の粒子の沈降量を測定しくスト
ークスの法則に基づいて)球の等価直径の関数である累
積百分率分布として自動的に測定結果を与える測定器具
セディグラフ(SED I GRAPH)  5000
  Dを使用して行う。
酸化第二セリウムの比表面積は1〜35m”7gであり
、好ましくは、3〜IOm”7gの比表面積を持つ酸化
第二セリウムが選ばれる。この表面積は「ザ・ジャーナ
ル・オブ・アメリカン・ソサイエティJ  (The 
 Journal  ofAmerican  5oc
iety)第60巻第30頁(1938年)に記載され
ているブルナウアー・エメット・テラー(BRUNAU
ER−EMMETT−置LER)の方法に従って決定さ
れる。
使用される酸化第二セリウムの純度は無関係である。非
常に純度が高い酸化第二セリウム、特にロータ・ブーラ
ン社から「オパリンJ(Opalins)という商品名
で市販されている純度が99%を超える酸化第二セリウ
ムを使用してもよい〜また、酸化第二セリウムを一種ま
たは二種以上の他の希土類元素酸化物および/または一
種または二種以上の塩と組み合わせて使用してもよい。
好ましくは、酸化第二セリウムを約30重量%以上含有
する研磨組成物を使用する。
酸化第二セリウムを仏国特許出願公開第247260■
号公報明細書に記載の組成物の形で使用することもでき
る。
仏国特許出願公開第2472601号公報明細書に記載
の組成物はセリウム塩溶液、塩基溶液および陰イオンが
希土類元素の不溶性化合物を形成し易い一種または二種
以上の酸および/または塩基の溶液を、使用塩基当量が
セリウムの当皿以上であり反応媒体のpHが6以上であ
るように、同時に連続的に混合し、得られた沈澱をろ過
し、乾燥し、焼成することから成る方法に従って得られ
る。
第一工程では、反応体の混合を実施する。
使用するセリウム塩はこの発明の条件下で可溶性の第一
セリウムおよび/または第二セリウム状態のセリウム塩
水溶液であればよく、特に第一セリウムまたは第二セリ
ウムの状態の塩化第一セリウムまたは硝酸第二セリウム
水溶液あるいはこれら二つの混合物を使用することがで
きる。
セリウム塩溶液の濃度は重要な因子ではなく、広い範囲
で変えられる。一般に、0.5〜2モル/i2の濃度が
好ましい。
反応媒体にセリウムを第一セリウムの状態で導入し、反
応混合物に該媒体と適合する酸化剤をあるいは単独であ
るいは塩基含有溶液以外の溶液と混合して連続的に添加
することにより第一セリウムを第二セリウムに酸化する
のが好適である。適当な酸化剤の例としては、過塩素酸
、塩素酸、次亜塩素酸、過硫酸のナトリウム塩、カリウ
ム塩またはアンモニウム塩、過酸化水素水、空気、過酸
化水素またはオゾン等が挙げられる。電気化学的方法に
よってもにセリウムを同様に酸化することができる。過
酸化水素水を使用するのが好ましい。
酸化すべき第一セリウム塩に対する酸化剤の割合は広い
範囲で変えられるが、一般に、化学量論的量より大きく
、10〜40%超過量が好ましい。
使用する塩基溶液は例えばアンモニア、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、    、   の水溶液でよい
が、アンモニア溶液を使用するのが好ましい。
使用する塩基溶液の規定度は重要な因子ではなく、広い
範囲で変えられるが、1〜5Nが好ましい。
上記塩基溶液とセリウム塩溶液の割合は導入される塩基
の当量数が同時に導入されるセリウムの当量数以上とな
るようにしなければならない。塩基の当量数がセリウム
の当量数に対して5%超過するように使用するのが有利
である。反応媒体のpHは6より高くなければならない
が、約lOを超えてはならない。pHは7〜9が有利で
ある。
pHをこの範囲内で一定値±0.IpH単位に調整する
のが特に有利である。
この発明に従う陰イオンが希土類元素の不溶性化合物を
形成し易い一種以上の酸および/または塩基の溶液は、
特に、陰イオンがしゅう酸イオン、ふっ素イオン、炭酸
イオン、ほう、酸イオン、けい酸イオン、硫酸イオン、
りん酸イオンの一種または二種以上より成る群から選ば
れる酸および/または塩の水溶液であればよい。使用す
る一種または二種以上の塩は水溶性の塩、好ましくはア
ンモニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩である。この
溶液は反応媒体に単独でまたは塩基溶液との混合物とし
て導入される。塩類、特に陰イオンがふっ素イオン、ほ
う酸イオン、硫酸イオンまたはりん酸イオンである塩類
が好ましい。
酸および/または塩溶液の濃度は重要な因子ではなく広
い範囲で変えられるが、6モル/σ未満が好ましく、さ
らに好ましくは2〜4モル/Qである。
仏国特許出願公開第2472601号公報明細書に記載
の方法に従うと、さらに反応媒体に、あるいは単独であ
るいはセリウ・ム塩溶液との混合物として、場合によっ
てイツトリウムを含有しこの発明の条件下で可溶性の一
種または二種以上の三価の希土m元素の塩の水溶液を連
続添加することができる。適当な塩類の例としては、特
にランタン、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユ
ーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウ
ム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウ
ム、ルテシウム、イツトリウムの塩化物または硝酸塩が
挙げられる。特に、セリウム塩と希土類元素の塩類を含
有し希土類元素鉱石の処理により直接または間接に由来
する水溶液を使用することができる。
使用する希土類元素(類)の塩(類)溶液の濃度は重要
な因子ではなく広い範囲で変えられるが、好ましくは0
.2〜1モル/eである。
前期の種々の反応体の混合を行う。使用する陰イオンの
当量数は使用する陽イオンの当量数以上であることに注
意すべきである。
反応媒体の温度は、好ましくは約20〜95℃、さらに
好ましくは50〜70℃にしなければならない。
反応媒体における混合物の滞留時間は重要な因子ではな
く広い範囲で変えられるが、一般に使用される滞留時間
はボー+30分間〜2時間である。
反応塊すなわち反応混合物をろ過操作の前に一定時間約
20〜95℃、好ましくは50〜80℃の温度で熟成し
てもよい。この場合、熟成時間は重要な因子ではなく広
い範囲で変えられるが、2時間以内の時間が一般に十分
である。
仏国特許出願公開第2472601号公報明細書に記載
の組成物を得る方法の第二工程は反応後、けん濁液の形
の反応塊をろ過することから成る。
次いで、ろ過ケーキを水またはアンモニウム塩溶液で洗
浄してもよい。
ろ過および場合によって洗浄後に得られる生成物は次い
で場合によって連続的に乾燥する。乾燥温度は好ましく
は100〜600℃であり、乾燥時間は重要な因子では
なくこれらの条件下で30分間〜24時間の範囲で変え
られる。
乾燥生成物は次いで600〜1200℃温度で一般に約
30分間〜2時間に亙って場合によって連続的に焼成す
る。
上記の方法に従って得られた組成物は場合によって当業
者には周知の技法に従って粉砕操作および粒径選択操作
に付してもよい。
この発明に従えば、上記の陰イオン、好ましくはふっ素
イオン、ほう酸イオン、硫酸イオンまたはりん酸イオン
のような陰イオンを使用して上記の方法に従って得られ
る酸化第二セリウムを主体とする組成物を使用するのが
好ましい。
同様に、仏国特許出願公開第2549846号公報明細
書に記載されている、CeO2型の結晶相と式Ln2−
xCexSi207(式中、Lnはランタニド類および
イツトリウムより成る群から選ばれる一種または二種以
上の元素を表し、Xは0以上2未満である)に相当する
希土類元素のピロけい酸塩から成る結晶相とを含む組成
物の形の酸化第二セリウムがこの発明に適している。
仏国特許出願公開第2549846号公報明細書に記載
されている組成物は下記の化学元素分析に相当する。
a) 酸化物で換算して75〜95重量%の希土類元素
(ただし、希土類元素酸化物の全重量に対する酸化第二
セリウムの百分率は60〜85%である) b)  SiOxに換算して5〜25重量%のけい素 上記組成物は本質的に二つの結晶相、即ち立方晶構造の
Ce Ox型の相と、斜方晶構造の希土類元素のピロけ
い酸塩Ln2−xCexSi9 7(式中、Xは0以上
2未満であり、好ましくは0以上0.2以下である。)
の相とを含んでいる。
同様に、上記組成物は少量ずつの希土類元素の酸化物、
一般に、ふっ素型立方品構造の三二酸化物LntO3と
ガラス状態または結晶状態の二酸化けい素5in2の相
とを含有している。
種々の相の割合は使用する原料と焼成条件とによって変
わる。
一般に、上記割合は下記の通りである。
Ce Ox            30〜80%Ln
2−XCexSi207  I2〜60%Ln、0. 
          0〜15%5102      
     1.5〜8%仏国特許出願公開第25498
.46号公報明細書に記載されている組成物はセリウム
塩溶液、塩基溶液、一種または二種以上の三価の希土類
元素またはイツトリウムの塩の水溶液および希土類元素
の不溶性化合物を形成し易い一種または二種以上のけい
素の酸素含有誘導体の溶液を同時に混合し、得られた沈
澱をろ過し、乾燥し、850℃より高い温度で焼成する
ことから成る方法に従って得られる。
この方法の第一工程では種々の反応体を混合する。
セリウム塩溶液、塩基溶液および三価の希土類元素の塩
の溶液は下記の性質を持つ。
上記塩基溶液とセリウム塩溶液の割合は導入される塩基
の当量数が同時に導入されるセリウムの当量数以上とな
るようにしなければならない。塩基の当量数がセリウム
の当量数に対して5%超過するように使用するのが有利
である。反応媒体のp)(は5〜IOでよい。pHは7
〜9が有利である。p Hをこの範囲内で一定値±0.
IpH単位に調整するのが特に有利である。
セリウム塩溶液と一種または二種以上の三価の希土類元
素の塩の水溶液との割合はセリウム二酸化物と希土類元
素の酸化物の割合(Ceo2  +Ln203)が60
〜85重量%となるようにしなければならない。
一種または二種以上のけい素の酸素含有誘導体の溶液は
希土類元素の不溶性化合物を形成し易いけい素の酸素含
有誘導体の水溶液であればよい。
一種または二種以上のけい素誘導体は水に可溶性でなけ
ればならない。そのような化合物の例としては、二酸化
けい素、けい酸およびアルカリ金属けい酸塩が挙げられ
る。さらに詳しくは、非晶質シリカ、メタけい酸、メタ
ニけい酸、オルトけい酸ナトリウム、式N a 20 
・x HtO(式中、Xは3〜5である。)のけい酸ナ
トリウム、メタけい酸ナトリウム、メタニけい酸ナトリ
ウム、メタけい酸カリウム、メタニけい酸カリウム、四
けい酸カリウムを挙げられる。これらの塩類は無水物ま
たは水和物のいずれの形でも使用できる。
けい酸ナトリウムNano・45i0.を使用するのが
好ましい。
一種または二種以上のけい素の酸素含有誘導体の濃度は
重要な因子ではなく広い範囲で変えられるが、一般に、
S iOtに換算して0.1〜2゜0モル/Qである。
一種または二種以上のけい素の酸素含有誘導体の溶液と
三価の希土類元素の一種または二種以上の塩の水溶液と
の割合はけい酸イオンの当り数と三価の希土類元素(類
)の当量数の比がO,1〜1、好ましくは0.2〜0.
6となるように決められる。
仏国特許出願公開第2549846号公報明細書に記載
の方法では、使用される陰イオン類の当量数が使用され
る陽イオン類の当量数以上であるが、反応体の混合によ
って得られる組成物に吸着する化合物の形成に導く必要
はない。
前記の反応体の種々の溶液を多数の変形例に従って実施
することができる。例えば、セリウム塩溶液、場合によ
って酸化剤溶液、希土類元素(類)の塩(類)の溶液、
けい素の酸素含有誘導体(類)の溶液、および塩基溶液
を連続的に別経路で添加しつつ撹はん下に混合すること
ができる。同様に、セリウム塩溶液と希土類元素(類)
の塩(類)の溶液とを予備混合してこれを他の二つの溶
液と並行して反応媒体に連続添加することらできる。ま
た、けい素の酸素含有誘導体(類)の溶液と塩基溶液と
を予備混合することもできる。酸化剤を使用する場合は
、塩基溶液意外の溶液との混合物、特にセリウム塩溶液
および/または希土類元素(類)の塩(類)の溶液とし
て使用することができる。
混合、ろ過、乾燥の諸操作は上記の条件下で行われる。
乾燥生成物は次いで850℃以上、好ましくは850〜
1050℃、の温度で場合によって連続的に焼成する。
上記温度範囲の上限は重要ではなく 1500℃のよう
な高温にすることもできる。
次いで、焼成生成物を0.2〜5.0μmの大きさの粒
子の集合体になるように粉砕する。一般〜1.5μmで
ある。平均直径は集合体の50重量%が平均直径より大
きいまたは小さい直径を持つような直径として定義され
る。
上記粉砕に伴って粒径選択操作を行うことができるが、
この操作は同時にまたは接続して行うことができる。
仏国特許出願公開第2545830号公報明細書に記載
の酸化第二セリウム組成物は酸化第二セリウムと組み合
わせて他の三価の希土類元素の一種または二種以上の無
色の酸化物を含有しているが、この組成物もこの発明に
おいて使用するのに適している。
無色の希土類元素酸化物の例としては、ランタン、サマ
リウム、ユーロピウム、ガドリニウム、ジスプロシウム
、ツリウム、イブテルビウム、ルテシウムおよびイツト
リウムの酸化物が挙げられる。これらの酸化物は一般に
三二酸化物の形をしている。これらの酸化物の混合物を
使用してもよい。ランタンの三二酸化物を使用するのが
好適で太ス 仏国特許出願公開第2545830号公報明細書に記載
の研磨組成物中の酸化第二セリウムと希土類元素の酸化
物の割合は下記の範囲内である。
酸化第二セリウム  40〜99.5重量%希土類元素
酸化物  0.5〜60重量%好ましくは、下記のもの
を含有する組成物が選ばれる。
酸化第二セリウム  85〜98重爪%希土類元素酸化
物  2〜15重量% 重量持仏出願公開第2545830号公報明細書に記載
の組成物は、セリウム塩溶液、塩基溶液、ならびにラン
タニド類およびイツトリウムより成る群から選ばれる三
価の希土類元素であって酸化物が無色であるものの一種
または二種以上の塩の水溶液を、使用する塩基の当量が
セリウムおよび希土類元素の当量以上であり反応媒体の
pHが6以上であるように、同時に連続的に混合し、得
られた沈澱をろ過し、乾燥し、焼成することから成る方
法に従って調製される。
この方法の第一工程において、種々の反応体を混合する
セリウム塩溶液と塩基溶液は上記の通りである。
仏国特許出願公開第2545830号公報明細書に記載
の方法に従うと、さらに反応媒体に、あるいは単独であ
るいはセリウム塩溶液との混合物として、ランタニド類
およびイツトリウムより成る群から選ばれる一種または
二種以上の三価の希土類元素であって無色の酸化物を形
成する性質を持つものの塩の水溶液を連続添加すること
ができる。この塩はこの発明の条件下で可溶性でなけれ
ばならない。適当な塩類の例としては、特にランタン、
サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、ジスプロシ
ウム、ツリウム、イブテルビウム、ルテシウムおよびイ
ツトリウムの塩化物または硝酸塩が挙げられる。
使用する希土類元素(類)の塩(類)溶液の濃度は重要
な因子ではなく広い範囲で変えられるが、好ましくは0
.2〜4モル/l2である。
セリウム塩溶液と希土類元素(類)の塩(類)溶液の割
合はそれぞれの流量を、各構成成分の重景百分率が上記
の通りである所望の組成物が得られるように、調製する
ことにより決定される。
上記塩基溶液とセリウム塩溶液と希土類元素(類)の塩
(類)溶液の割合は導入される塩基の当量数が同時に導
入されるセリウムと希土類元素(類)の塩(類)溶液の
当量数以上となるようにしなければならない。塩基の当
量数がセリウムと希土類元素(類)の塩(類)溶液の当
量数に対して5%超過するように使用するのが有利であ
る。反応媒体の1) Hは6より高くなければならない
が、約10を超えてはならない。pHは7〜9が有利で
ある。pHをこの範囲内で一定値±0.1pH単位に調
整するのが特に有利である。
前記の反応体の種々の溶液を多数の変形例に従って実施
することができる。例えば、セリウム塩溶液、場合によ
って酸化剤溶液、希土類元素(類)の塩(類)の溶液、
希土類元素(類)の塩(類)の溶液、および塩基溶液を
連続的に別経路で添加しつつ撹はん下に混合することが
できる。同様に、セリウム塩瀉妨と希+暫テ宋(樗)の
進(栢)の溶液とを予備混合してこれを塩基溶液と並行
して反応媒体に連続添加することもできる。酸化剤を使
用する場合は、セリウム塩溶液および/または希土類元
素(類)の塩(類)の溶液と混合して使用することがで
きる。
反応媒体の温度は重要な因子ではなく広い範囲で変えら
れるが1、好ましくは10〜95℃、さらに好ましくは
20〜70℃である。
反応媒体における混合物の滞留時間は重要な因子ではな
く広い範囲で変えられるが、一般に使用される滞留時間
は約30分間〜2時間である。
仏国特許出願公開第2545830号公報明細書に記載
の方法の一変形例に従うと、反応塊すなわち反応混合物
をろ過操作の前に一定時間約lO〜95℃、好ましくは
20〜80℃の温度で熟成してもよい。この場合、熟成
時間は重要な因子ではなく広い範囲で変えられるが、2
時間以内の時間が一般に十分である。熟成操作は撹はん
下に行われる。
仏国特許出願公開第2545830@公報明細書に記載
の組成物を得る方法の第二工程は、反応後、けん濁液の
形の反応塊をろ過することから成る。
次いで、ろ過ケーキを水で洗浄してもよい。
ろ過および場合によって洗浄後に得られる生成物は次い
で場合によって連続的に乾燥する。乾燥温度は好ましく
は1oo−Jeoo℃であり、乾燥時間は重要な因子で
はなくこれらの条件下で好ましくは30分間〜2時間の
範囲で変えられる。
乾燥生成物は次いで600〜1200℃、好ましくは9
50〜1050℃の温度で一般に約30分間〜lO時間
に亙って場合によって連続的に焼成する。
仏国特許出願公開第2549846号公報明細書に記載
されているような方法に従って上記の焼成生成物を粉砕
操作および場合によって粒径選択操作に付す。
仏国特許出願公開第2545830号公報明細書に記載
の方法の別の変形例は第一工程で行われる混合を反応温
度が異なることを除いては全く同じ二つの経路(1)お
よび(2)に従って実施することから成る。すなわち、
経路(1)は熱間での沈澱の収得が行われるのに対して
、経路(2)では冷間で沈澱が得られる。次いで、経路
(1)および(2)に従って得られた沈澱をろ退館また
はろ過少に混合する。
上記変形例の詳細については仏国特許出願公開第254
5830号公報明細書を参照されたい。
この発明に従うと、有機ガラス研磨用の研磨組成物に単
独または組成物の形の酸化第二セリウムと第一セリウム
塩とが含有されている。
第一セリウム塩の例としては、研磨条件下で可溶性のセ
リウム■塩をすべて使用することができる。上記セリウ
ム■塩は水またはpH7未満の弱酸性の水に可溶性でな
ければならない。
この発明に適した第一セリウム塩としては、例えば、セ
リウムIIIの塩化物、硫酸塩、硝酸塩のような無水物
もしくは水和物の形の無機塩あるいは例えば、セリウム
IIIの酢酸塩のような有機塩が挙げられる。
セリウムIIIの硝酸塩を使用するのが好ましい。
構成成分の割合は、セリウムIIIに換算した第一セリ
ウム塩のCe Otに換算した酸化第二セリウムに対す
る重量百分率が0.2〜5%であるような値である。上
限は何等臨界的な特徴を持たないが第一セリウム塩の量
をそれより多くしても何の利益も得られない。好ましく
は、該重量百分率は0.5〜1.5%である。
前記構成成分を含有するこの発明に従う組成物は酸化第
二セリウムの濃度が、例えば50〜600g/ρ、好ま
しくは250〜450g/12の水性けん濁液の形であ
ってもよい。
水性媒体は好ましくは脱イオン水または蒸留水が使用さ
れる。
この発明の研磨組成物は、また、粉末状であってもよい
。このために、酸化第二セリウムと固体状のセリウム■
塩を乾式で混合することにより調製を行うことができる
。構成成分の混合は公知の粉末混合機、例えば、ドラム
型自由シュート混合機、縦型または横型螺旋ねじ式混合
機、遊星歯車式混合機、横型レーディゲ(L6<Jig
e)型混合機等で行うことができる。混合時間は使用す
る装置によって決まるが、均一な混合物が得られるまで
続けられる。
別の変形例は含浸技術を使用して、酸化第二セリウムを
セリウム■塩水溶液で含浸する。
実際的な方法では、例えば溝縁の回転により運動してい
る酸化第二セリウムにセリウム■塩溶液を噴霧すること
により含浸を行うことができる。
同様に、酸化第二セリウムをセリウム■塩溶液に浸漬し
、余分の溶液を水切りして制限し、たいてい室温で乾燥
することにより酸化第二セリウムを含浸することができ
る。
この発明の好適な変形例に従うと、含浸は「乾式」で、
すなわち、使用する溶液の全体積が支持体の持つ全空孔
体積にほぼ等しい状態で行われる。
空孔体積の決定のために水銀ポロシメータ(ASTM 
 0 4284−83)を使用する公知の方法に従って
測定を行うか、あるいは試料の吸収する水の量を測定す
ることができる。
水性けん濁液もしくは粉末状のこの発明の組成物はあら
ゆる有機ガラスの研磨に適用し得る。
また、上記組成物は、セルロース、二酢酸セルロース、
強化アセトブチレート、ポリメチルメタクリレートおよ
びポリスチレンのような熱可塑性重合体またはプラスチ
ック加工したフォルモ−ルー尿素樹脂、ポリジアリルフ
タレート、ポリジアリルグリコールカーボネートのよう
な単独重合体で構成されている有機ガラスを研磨するた
めに使用することができる。
上記組成物はポリジアリルジエチレングリコールカーボ
ネート製有機ガラスの研磨に特に好適である。
この発明の適用領域は眼鏡レンズの研磨に限定されず、
どのような形状をしているかに拘わらず有機ガラスすべ
ての研磨を対象としている。
この発明の組成物のガラスの研磨のための使用は従来の
方法に従って行われる。上記組成物は一般に散水研磨系
に入るので、水にけん濁される。
研磨浴の調製は、単に、粉末状のこの発明の組成物を手
動または公知の撹はん手段(アンクル式、螺旋式、ター
ビン式等の撹はん機)による撹はん下の水性媒体に添加
するか、あるいはこの発明の組成物が水性けん濁液の場
合はそのまま使用することにより実施される。
導入される組成物の爪は、一般に、CeO,に換算した
該組成物の濃度が50〜600g/j浴、好ましくは約
250〜450g/l!浴となるような量である。
研磨浴を調製するために使用する水の水質はなんら重要
な因子ではないが、この発明の組成物のけん濁液を長保
ちさせるには軟水、すなわち、硬度が5°TH未満の水
を使用するのが好適である。
研磨浴に例えばポリシロキサンのような消泡剤を添加す
るとよい。消泡剤の添加量はこの発明の組成物の0.1
〜10重量%でよい。
浴の温度は30℃未満となるように選ばれる。
温度が少しでも上昇すると研磨効率が低下するので1〜
10℃のもっと低い温度で作業するのが有利である。
この発明の研磨組成物は多くの、利点を有することが確
かめられている。すなわち、 a)  けん濁液の保ちがよい。
b) 性能が向上する: 研磨効率がアルミナを使用し
た場合と同様に非常に良好であり、従って研磨速度が速
い(時間の利得は酸化第二セリウム単独使用で得られる
時間の50%に達する)。研磨くずの量が非常に少ない
C) 非常に良い状態の表面が得られる。曇りがなく、
線も筋もない。
d) 調子の低下がなく、アルミナで得られたのと同じ
長さの寿命を持つ。
この発明の有機ガラス研磨用組成物の実施例による説明
に先立って、以下に該組成物の挙動の評価を可能にする
研磨試験について説明する。
種々の試験においてGR39またはORMAloooと
いう商品名で市販されているポリジアリルジエチレング
リコールカーボネート製の有機ガラスを使用した。これ
は直径70mmの小球殻(galees  sph!r
jque)であり凹面(凹面度−−6ジオプトリ、−)
のみを研磨操作に付し、作業をしない他の面は核部を保
護するためと得られた研磨面の観察を用意にするために
黒色艶消し塗料層で被覆する。
脆さと傷付き易さのために有機ガラスは仕上げが必要で
ある。すなわち、小球殻の面を仕上げして定m化のため
にこれを再生可能な表面状態にし、次いで操作された材
料を研磨の間に除去することから成る研ぎである。
1、研ぎ試験を単一ブローチ式で研磨子が均一に散水さ
れ4COBURN  603機で行った。
操作条件は下記の通りである。
研磨子速度  500回転/分 ブローチ速度 ブローチは研磨子に駆動されているので
研磨子と同じ 圧力     40g/am’ 水の硬度   28°TH 温度     20℃ 研磨子    研磨剤(UNI VERSALMP  
10) 被研磨ガラス CR39 タービン流m  1.2〜1.4  Q7分試験時間 
  1分 各試験毎に研磨剤研磨子を交換した。
このように研ぎを行ったガラスを研磨した。
2、この発明の粗製物の研磨効率を下記の方法で測定し
た。
研磨試験を単一ブローチ式で柔らかいビロード製研磨子
が均一に散水されるC0BURN  603機で行った
操作条件は下記の通りである。
研磨子速度  750回転/分 ブローチ速度 ブローチは研磨子に駆動されているので
研磨子と同じ 圧力     300g/cm” けん濁液濃度 400g/Q 水の硬度   5°TH 温度     20℃ 研磨子    柔らかいビロード(ALPHALAP) 被研磨ガラス CR39 タービン流ffi  1.2〜1.4  f2/分試験
時間   7分 研磨試験を行う前に機械を標準製品で調整した。
二つのガラス製小球殻の凹面を7分間加工して材料の剥
がれを重量で測定した。
平均剥がれ電工は次のものに還元される。
重量の単位   mg 表面積の単位  dm2 時間の単位   分 研磨効率は3の試験の平均値として表される。
3、支持体の種類自体から見て、有機ガラスの研磨は研
磨の質と結び付けられた効率をいう場合が含まれている
特に脱イオン水で洗浄し圧縮空気で乾燥するときの表面
の機械的圧力をすべて回避して研磨直後の表面の状態を
観察した。
研磨後、表面の状態を3つの異なった方法により順次観
察した。
あ) 大きな線の有無を調べるために裸眼で観察。
い) 細い線と細粒を確かめるためにルーペで観察。後
者は磨きが残っているためであるから研磨時間が不十分
であることを示している。
う) 集光鏡で観察。光束が表面すれすれに当たると筋
と特に研磨後の曇りの存在が観察可能となる。
以下に実施例を挙げてこの発明をさらに詳細に説明する
が、この発明はこれらの実施例に限定されない。
実施例1〜4は研磨組成物を記載しているが、それらは
次いで実施例5に記載のように有機ガラスの研磨に対し
て試験をした。
実施例6〜8は前記の実施例に対して、あるいは別の出
所の酸化第二セリウム(実施例6)あるいは別の第一セ
リウム塩(実施例7および8)を含有する別の研磨組成
物ならびにそれらの有機ガラスの研磨における使用を説
明する。
実施例中、百分率は重量百分率である。
実施例 1 酸化第二セリウム66%を含有する酸化第二セリウム組
成物から出発して酸化第二セリウムけん濁液を調製した
。仏国特許出願公開第2472601号公報明細書に記
載の方法に従って調製した上記組成物は[セロツクス 
1600j (Cerox  1600)という商品名
で商業的に入手可能である。
さらに詳しくは、「セロツクス 1600Jの特性は下
記の通りである。
化学的組成: 希土類元素酸化物     94% 酸化第二セリウム     66% 酸化ランタン       19% 酸化ネオジム        9% 酸化プラセオジム  <0.0001%ふっ素(F−換
算)     4% りん酸塩(P 、0 、換算)   4%圧縮見掛は密
度:  dA =1.6±0.2比表面積:     
s、s、=6±1  m’/g平均粒径:     d
50=1.jl)±1μm直径が15μmを超える粒子
の%: 0%下記の組成の酸化第ニーセリウムの水性け
ん濁液IQを調製した。
「セロツクス +600J   400g硝酸第一セリ
ウム Ce (No3) s・6 HtOI 2 g脱イオン
水         940cm’実施例 2 酸化第二セリウム92%を含有する酸化第二セリウム組
成物から出発して酸化第二セリウムけん濁液を調製した
。仏国特許出願公開第2545830号公報明細書に記
載の方法に従って調製した上記組成物は「セロツクス 
G、G、J (CaroxG、G−)という商品名でロ
ース・ブーラン社から市販されている。
「セロックス G、G、Jの特性は下記の通りである。
化学的組成: 酸化第二セリウム     94% 三二酸化ランタン      8% 圧縮見掛は密度:  dA =1.6±0.2比表面積
:     s、s、=6±2  m’/g平均粒径:
     d s o ” 1±0.5μm直径が15
μmを超える粒子の%: 0%下記の組成の酸化第二セ
リウムの水性けん濁液1&を調製した。
[セロックス G、G、J   400g硝酸第一セリ
ウム Ce (NO3) 3−6H,012g脱イオン水  
      940cm3実施例 3 この実施例においては、粉末状研磨組成物を調製した。
静電式混合機において1000gの[セロツクス 16
00Jと30gの結晶硝酸第一セリウムCe (NOs
) y・6 HtOとを乾式混合した。混合操作は2時
間行った。
混合物を研磨に必要な濃度、すなわち、400g/12
(CeO,換算)になるように脱イオン水に直接けん濁
した。
実施例 4 この実施例においては、研磨組成物を含浸技術によって
調製した。
1000gの「セロツクス 1600Jを150g/Q
のCe (NO3) s・6 HtOを含有する硝酸第
一セリウム水溶液200cm3と混合した。
混合操作は1時間行った。
混合物を研磨に必要な濃度、すなわち、400g / 
(!  (Ce O2換算)になるように脱イオン水に
直接けん濁した。
実施例 5 実施例1〜4に記載の研磨組成物を上記の条件下で行わ
れた研磨試験に付した。
得られた結果を第1表に示した。
第  1  表 比較のために、第2表に第−妥すウム塩を除去した以外
は実施例1〜4と同じ組成の研磨組成物の研磨効率を示
した。
第  2  表 実施例 6 酸化第二セリウム63%を含有する酸化第二セリウム組
成物から出発して酸化第二セリウムけん濁液を調製した
。仏国特許出願公開第2546846号公報明細書に記
載の方法に従って調製した。
上記組成物は「セロツクス SJ (CeroxS)と
いう商品名でロース・ブーラン社から市販されている。
さらに詳しくは、「セロツクス S」の特性は下記の通
りである。
IしSめ蛸cP:。
酸化第二セリウム     63% 酸化ランタン        27% 希土類元素酸化物     90% シリカ          10% 圧縮見掛は密度:  dA =1.6±0.2比表面積
:     s、s、=5±3  m”/g平均粒径:
     d s o −2比1μm直径が15μmを
超える粒子の%: 0%下記の組成の酸化第二セリウム
の水性けん濁液112を調製した。
「セロツクス Sj      400g硝酸第一セリ
ウム Ce (NO3) 3・6Hto    i 2g脱イ
オン水        940cm’上記組成物で得ら
れた研磨効率は56 m g / dm”7分であった
研磨された有機ガラスの表面には線も曇りもなかった。
実施例 7 この実施例においては、炭酸第一セリウムを塩酸水溶液
に溶解させることにより調製された250g/12のC
e CI 3を含有する塩化第一セリウム溶液を使用し
た。
下記の組成の酸化第二セリウムの水性けん濁液lQを調
製した。
「セロックス 1600J   400g上記溶液27
.2cm’、すなわち、 Ce Cl s          6.8g脱イオン
水        913cm3上記組成物で得られた
研磨効率は48 m g / dm″/分であった。
研磨された有機ガラスの表面には線も曇りも見いだされ
なかった。
実施例 8 この実施例においては、第一セリウム塩として酢酸第一
セリウムを使用した。
下記の組成の酸化第二セリウムの水性けん濁液tCを調
製した。
「セロツクス 16004  400g酢酸第一セリウ
ム Ce  (CH3COO)3− 1.5H109,5g
脱イオン水         940cm″上記組成物
で得られた研磨効率は49 m g / dm”7分で
あった。
研磨後の有機ガラスの表面には線も曇りもなかった。

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)酸化第二セリウムと研磨条件下で可溶性の第一セ
    リウム塩から成ることを特徴とする、酸化第二セリウム
    を含有する有機ガラス研磨用組成物。
  2. (2)酸化第二セリウムを単独でまたは組成物の形で含
    有することを特徴とする、特許請求の範囲第(1)項に
    記載の組成物。
  3. (3)酸化第二セリウムを30重量%以上含有すること
    を特徴とする、特許請求の範囲第(1)または(2)項
    に記載の組成物。
  4. (4)酸化第二セリウムが粒径約20μm未満の粉末状
    態であることを特徴とする、特許請求の範囲第(1)〜
    (3)項のいずれか一項に記載の組成物。
  5. (5)酸化第二セリウム粒子の大きさが0.1〜10μ
    mであることを特徴とする、特許請求の範囲第(4)項
    に記載の組成物。
  6. (6)酸化第二セリウムの比表面積が1〜35m^2/
    gであることを特徴とする、特許請求の範囲第(1)〜
    (5)項のいずれか一項に記載の組成物。
  7. (7)酸化第二セリウムの比表面積が3〜10m^2/
    gであることを特徴とする、特許請求の範囲第(6)項
    に記載の組成物。
  8. (8)酸化第二セリウムが、セリウム塩溶液、塩基溶液
    および陰イオンが希土類元素の不溶性化合物を形成し易
    い一種以上の酸および/または塩基の溶液を、使用塩基
    当量がセリウムの当量以上であり反応媒体のpHが6以
    上であるように、同時に連続的に混合し、得られた沈澱
    をろ過し、乾燥し、焼成することから成る方法に従って
    得られる組成物の形であることを特徴とする、特許請求
    の範囲第(2)項に記載の組成物。
  9. (9)一種または二種以上の三価の希土類元素の水溶液
    を添加することを特徴とする、特許請求の範囲第(8)
    項に記載の組成物。
  10. (10)陰イオンがふっ素イオン、ほう酸イオン、硫酸
    イオンまたはりん酸イオンであることを特徴とする、特
    許請求の範囲第(8)または(9)項に記載の組成物。
  11. (11)該酸化第二セリウムがCeO_2型の結晶相と
    式Ln_2_−_xCe_xSi_2O_7(式中、L
    nはランタニド類およびイットリウムより成る群から選
    ばれる一種または二種以上の元素を表し、xは0以上2
    未満である)に相当する希土類元素のピロけい酸塩から
    成る結晶相とを含む組成物の形をしていることを特徴と
    する、特許請求の範囲第(2)項に記載の組成物。
  12. (12)酸化物に換算して75〜95重量%の希土類元
    素(ただし、希土類元素酸化物の全重量に対する酸化第
    二セリウムの百分率は60〜85%である)およびSi
    O_2に換算して5〜25重量%のけい素を含有する組
    成物から成ることを特徴とする、特許請求の範囲第(1
    1)項に記載の組成物。
  13. (13)該酸化第二セリウムがセリウム塩溶液、塩基溶
    液、一種または二種以上の三価の希土類元素またはイッ
    トリウムの塩の水溶液および希土類元素の不溶性化合物
    を形成し易い一種または二種以上のけい素の酸素含有誘
    導体の溶液を同時に混合し、得られた沈澱をろ過し、乾
    燥し、850℃より高い温度で焼成することから成る方
    法に従って得られる組成物の形をしていることを特徴と
    する、特許請求の範囲第(11)項に記載の組成物。
  14. (14)酸化第二セリウムと他の希土類元素の一種また
    は二種以上の無色酸化物とを含有する組成物から成るこ
    とを特徴とする、特許請求の範囲第(2)項に記載の組
    成物。
  15. (15)酸化第二セリウム40〜99.5重量%と希土
    類元素0.5〜60重量%とを含有する組成物から成る
    ことを特徴とする、特許請求の範囲第(14)項に記載
    の組成物。
  16. (16)該酸化第二セリウムがセリウム塩溶液、塩基溶
    液、ならびにランタニド類およびイットリウムより成る
    群から選ばれる三価の希土類元素であって酸化物が無色
    であるものの一種または二種以上の塩の水溶液を使用す
    る塩基の当量がセリウムの当量以上であり反応媒体のp
    Hが6以上であるように、同時に連続的に混合し、得ら
    れた沈澱をろ過し、乾燥し、焼成することから成る方法
    に従って得られる組成物の形をしていることを特徴とす
    る、特許請求の範囲第(14)項に記載の組成物。
  17. (17)該可溶性第一セリウム塩がセリウムIIIの塩化
    物、硫酸塩、硝酸塩または酢酸塩であることを特徴とす
    る、特許請求の範囲第(1)〜(16)項のいずれか一
    項に記載の組成物。
  18. (18)該セリウムIII塩がセリウムIIIの硝酸塩である
    ことを特徴とする、特許請求の範囲第(17)項に記載
    の組成物。
  19. (19)セリウムIIIに換算した第一セリウム塩のCe
    O_2に換算した酸化第二セリウムに対する重量百分率
    が0.2〜5%であることを特徴とする、特許請求の範
    囲第(1)〜(18)項のいずれか一項に記載の組成物
  20. (20)該重量百分率が0.05〜1.5%であること
    を特徴とする、特許請求の範囲第(19)項に記載の組
    成物。
  21. (21)該組成物が濃度50〜600g/lの水性けん
    濁液の形であることを特徴とする、特許請求の範囲第(
    1)〜(20)項のいずれか一項に記載の組成物。
  22. (22)該濃度が250〜450g/lであることを特
    徴とする、特許請求の範囲第(21)項に記載の組成物
  23. (23)該組成物が粉末の形であることを特徴とする、
    特許請求の範囲第(1)〜(21)項のいずれか一項に
    記載の組成物。
  24. (24)該組成物が酸化第二セリウムと固体状セリウム
    III塩とを乾式混合することにより得られることを特徴
    とする、特許請求の範囲第(23)項に記載の組成物。
  25. (25)該組成物が酸化第二セリウムをセリウムIII塩
    水溶液に含浸させることにより得られることを特徴とす
    る、特許請求の範囲第(23)項に記載の組成物。
  26. (26)該組成物が乾式含浸により得られることを特徴
    とする、特許請求の範囲第(25)項に記載の組成物。
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