JPS63168831A - 磁気記録担体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録担体及びその製造方法Info
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- JPS63168831A JPS63168831A JP62324210A JP32421087A JPS63168831A JP S63168831 A JPS63168831 A JP S63168831A JP 62324210 A JP62324210 A JP 62324210A JP 32421087 A JP32421087 A JP 32421087A JP S63168831 A JPS63168831 A JP S63168831A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/727—Inorganic carbon protective coating, e.g. graphite, diamond like carbon or doped carbon
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は円盤状の可撓性非磁性担持体材料と、その上に
形成された垂直方向記録に適するコバルト／クロム合金
層と、この配合層上に形成された減摩層とから成る磁気
記録担体ならびにその製造方法に関するものである。
形成された垂直方向記録に適するコバルト／クロム合金
層と、この配合層上に形成された減摩層とから成る磁気
記録担体ならびにその製造方法に関するものである。
長く使用されている磁気記録技術は、磁化し得る層に相
違する磁化帯域を形成し、次いで記録帯域の減衰後に生
ずる残留磁化を記録することを基礎とする、公知の磁気
記録担体においては、ピグメント／結合剤の磁気層にも
均斉金属層にも、層平面中に情報担持磁化の磁気優勢方
向が存在する。しかしながら、この長手方向記録方法は
記録密度が著しく高くなると、磁化範囲の対向面への影
響により非磁化消滅が生起するという欠点があり、これ
は磁性層厚さを技術的に可能な範囲まで薄（しても十分
には限定され得ない。
違する磁化帯域を形成し、次いで記録帯域の減衰後に生
ずる残留磁化を記録することを基礎とする、公知の磁気
記録担体においては、ピグメント／結合剤の磁気層にも
均斉金属層にも、層平面中に情報担持磁化の磁気優勢方
向が存在する。しかしながら、この長手方向記録方法は
記録密度が著しく高くなると、磁化範囲の対向面への影
響により非磁化消滅が生起するという欠点があり、これ
は磁性層厚さを技術的に可能な範囲まで薄（しても十分
には限定され得ない。
（従来技術）
そこで磁性層の磁化方向を垂直方向にする提案がすでに
なされている（例えばＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ、Ｍａｇ。
なされている（例えばＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ、Ｍａｇ。
１９７７年Ｎａｇ−１３巻、５号、１２７２−１２７７
頁Ｓ、イワサキらの論稿参照）。この垂直方向データ記
録の利点は磁化範囲の対向面への影響が小さく、従って
磁化範囲、すなわちビット領域が著しく減縮され得る。
頁Ｓ、イワサキらの論稿参照）。この垂直方向データ記
録の利点は磁化範囲の対向面への影響が小さく、従って
磁化範囲、すなわちビット領域が著しく減縮され得る。
ことに可視性記録担体の場合に、このようにして記録密
度の著しい増大を期待できる。この記録担体はクロム含
量１５乃至２５原子％のコバルト／クロム合金を真空蒸
着させて製造される。これによる合金の柱状成長により
、１１００ｎの平均径を有する六方晶構造柱体が対向面
に対する磁気的結合を断ち、磁化により金属層面に対し
垂直に強力な磁気異方性がもたらされる。
度の著しい増大を期待できる。この記録担体はクロム含
量１５乃至２５原子％のコバルト／クロム合金を真空蒸
着させて製造される。これによる合金の柱状成長により
、１１００ｎの平均径を有する六方晶構造柱体が対向面
に対する磁気的結合を断ち、磁化により金属層面に対し
垂直に強力な磁気異方性がもたらされる。
この記録担体は環状磁気ヘッドによっても、また特殊な
単極ヘッドによっても操作される。このような記録担体
の全記憶容量を完全に利用し得るようにするためには、
慣用の可撓性記録担体におけると同様に接触法で使用し
なければならない。
単極ヘッドによっても操作される。このような記録担体
の全記憶容量を完全に利用し得るようにするためには、
慣用の可撓性記録担体におけると同様に接触法で使用し
なければならない。
しかしながら、この方法では薄いコバルト／クロム層で
は極めて早く摩滅をもたらす。この記録媒体の有効寿命
を長くするため、層表面上に液状オリゴマーを塗布する
方法が提案されている（上記文献ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ
、Ｍａｇ、１９８５年Ｎａｇ−２１巻、５号、１５３３
頁ブッタファバ（Ｂｕｔｔａｆａｖａ ）らの論稿参照
）しかしながら、この液体は金属層表面に対する接着性
が弱く、更に使用量が臨界的である。余りに厚い塗布層
は粘着性であり、ヘッドのよごれをもたらす。また界面
の部分酸化により金属層表面を硬化させる方法が、１９
８８年フェニックスにおけるインターマグ、コンファレ
ンス（Ｉｎｔｅｒｍａｇ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ ）に
おいてＹ、ナカマツ等により報告されているが、これに
より酸化層は高い摩擦係数をもたらす点において好まし
くない。更にまた磁性層をコバルト／クロムをベースと
して硬化させる方法がジャーナル、オブ、アプライド、
フィジックス５７巻４０１９頁（１９８５年）に記載さ
れている。これによればジルコニウム及びタンタルの合
金により金属性磁気層としてその機械的特性を改善する
。しかしながらこの処理により層の磁気特性は劣化せし
められる。
は極めて早く摩滅をもたらす。この記録媒体の有効寿命
を長くするため、層表面上に液状オリゴマーを塗布する
方法が提案されている（上記文献ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ
、Ｍａｇ、１９８５年Ｎａｇ−２１巻、５号、１５３３
頁ブッタファバ（Ｂｕｔｔａｆａｖａ ）らの論稿参照
）しかしながら、この液体は金属層表面に対する接着性
が弱く、更に使用量が臨界的である。余りに厚い塗布層
は粘着性であり、ヘッドのよごれをもたらす。また界面
の部分酸化により金属層表面を硬化させる方法が、１９
８８年フェニックスにおけるインターマグ、コンファレ
ンス（Ｉｎｔｅｒｍａｇ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ ）に
おいてＹ、ナカマツ等により報告されているが、これに
より酸化層は高い摩擦係数をもたらす点において好まし
くない。更にまた磁性層をコバルト／クロムをベースと
して硬化させる方法がジャーナル、オブ、アプライド、
フィジックス５７巻４０１９頁（１９８５年）に記載さ
れている。これによればジルコニウム及びタンタルの合
金により金属性磁気層としてその機械的特性を改善する
。しかしながらこの処理により層の磁気特性は劣化せし
められる。
従って、この分野における技術的課題は、円盤状の可撓
性非磁性担持体材料上に垂直方向記録に適するコバルト
／クロム合金層を設け、この合金層上に減摩層を設けて
成る磁気記録担体であって、上述した諸欠点をもたらさ
ず、ことに長い使用寿命を有する磁気記録担体と、これ
を製造するための方法を提供することである。
性非磁性担持体材料上に垂直方向記録に適するコバルト
／クロム合金層を設け、この合金層上に減摩層を設けて
成る磁気記録担体であって、上述した諸欠点をもたらさ
ず、ことに長い使用寿命を有する磁気記録担体と、これ
を製造するための方法を提供することである。
（発明の要約）
しかるに、上記減摩層が５乃至１１００ｎの厚さををす
る、スパッタリング処理により形成された非晶質炭化水
素層であることを特徴とする本発明による磁気記録担体
により解決され得ることが見出されるに至った。
る、スパッタリング処理により形成された非晶質炭化水
素層であることを特徴とする本発明による磁気記録担体
により解決され得ることが見出されるに至った。
本発明の対象は、また、このような特殊の磁気記録担体
の製造方法である。このために非晶質炭化水素層はＤＣ
マグネトロンスパッタリング処理により形成され、その
際のＲＫＰ値を１乃至１０ｌことに２乃至５とすること
が好ましい。このＲＫＰ値はアルゴン分圧（パスカル）
と比蒸着電力（Ｗａｔｔ／ ｃ−）の積として定義され
る。この比蒸着電力はターゲットにおける電力（Ｗａｔ
ｔ）対ターゲット全面積（ｃ−）で得られる。１乃至１
０のＲＫＰ値で、好ましい平滑性及び耐摩耗性を有する
非晶質炭化水素層が得られる。
の製造方法である。このために非晶質炭化水素層はＤＣ
マグネトロンスパッタリング処理により形成され、その
際のＲＫＰ値を１乃至１０ｌことに２乃至５とすること
が好ましい。このＲＫＰ値はアルゴン分圧（パスカル）
と比蒸着電力（Ｗａｔｔ／ ｃ−）の積として定義され
る。この比蒸着電力はターゲットにおける電力（Ｗａｔ
ｔ）対ターゲット全面積（ｃ−）で得られる。１乃至１
０のＲＫＰ値で、好ましい平滑性及び耐摩耗性を有する
非晶質炭化水素層が得られる。
（発明の構成）
垂直方向記録に適当なコバルト／クロム合金層を有する
円盤状磁気記録担体自体は公知である。
円盤状磁気記録担体自体は公知である。
これはＤＣマグネトロンスパッタリング処理により製造
される。この処理方法は公知であり、例えば１９７８年
アカデミツク、プレス刊、し、ジョーン、フォラセン及
びウニルナ−、ケルン著、「シン、フィルム、プロセス
ズＪ （Ｔｈｆｎ Ｆｉｌｍ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ
） １３１−１７３頁に記載されている。このスパッタ
リング法乃至蒸着法は層成長速度が著しく早い点におい
て有利である。真空室内には陰極及び陽極が設けられ、
陽極は基体により構成され、陰極は所望のＣｏＣｒ合金
から成る厚い円盤でターゲットに取り付けられる。調節
可能のアルゴン導入弁を経て、所望の蒸着圧がもたらさ
れるまで蒸着ガスが真空室内に導入される。アルゴンガ
スはフィラメントからのエレクトロンでイオン化される
。その正電荷によりアルゴンイオンが陰極化ターゲット
に向けて加速され、その運動力学的エネルギーで基体上
に蒸着される粉末としての中性ターゲット原子表面に噴
霧される。この一旦励起された状態は、物理的処理によ
りアルゴンプラズマ内に保持される。
される。この処理方法は公知であり、例えば１９７８年
アカデミツク、プレス刊、し、ジョーン、フォラセン及
びウニルナ−、ケルン著、「シン、フィルム、プロセス
ズＪ （Ｔｈｆｎ Ｆｉｌｍ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ
） １３１−１７３頁に記載されている。このスパッタ
リング法乃至蒸着法は層成長速度が著しく早い点におい
て有利である。真空室内には陰極及び陽極が設けられ、
陽極は基体により構成され、陰極は所望のＣｏＣｒ合金
から成る厚い円盤でターゲットに取り付けられる。調節
可能のアルゴン導入弁を経て、所望の蒸着圧がもたらさ
れるまで蒸着ガスが真空室内に導入される。アルゴンガ
スはフィラメントからのエレクトロンでイオン化される
。その正電荷によりアルゴンイオンが陰極化ターゲット
に向けて加速され、その運動力学的エネルギーで基体上
に蒸着される粉末としての中性ターゲット原子表面に噴
霧される。この一旦励起された状態は、物理的処理によ
りアルゴンプラズマ内に保持される。
このような処理により、１７０℃で例えば厚さ７５μｍ
の基体としてのポリイミドシート両面に３６０ａｍのＣ
０５ｏＣｒｚｏが蒸着される。まずシートは放電され、
ＤＣマグネトロン法による磁性層形成が行われる。アル
ゴン蒸着圧は２Ｘ１０３）ルとするが、この場合処理開
始前の基礎減圧を２Ｘ１０’）ルとすることが重要であ
る。秀れた結晶特性及び磁気特性はこのような製造パラ
メータでもたらされる。典型的なデータは以下の通りで
ある。
の基体としてのポリイミドシート両面に３６０ａｍのＣ
０５ｏＣｒｚｏが蒸着される。まずシートは放電され、
ＤＣマグネトロン法による磁性層形成が行われる。アル
ゴン蒸着圧は２Ｘ１０３）ルとするが、この場合処理開
始前の基礎減圧を２Ｘ１０’）ルとすることが重要であ
る。秀れた結晶特性及び磁気特性はこのような製造パラ
メータでもたらされる。典型的なデータは以下の通りで
ある。
Ｈｅ ７０００ｅ 保磁力
Ｈｋ ３６０００ｅ 異方性磁界強度Ｍｓ ６
５０ ｍＴ 飽和磁化 シータ３．５度 結晶学的（００２）コバルト反射幅 このような記録担体に本発明による非晶質炭化水素層を
設ける。このためコバルト／クロム層を存する可撓性基
板は直ちに同じ装置において後処理される。ターゲット
としては単にグラファイト性炭素のみを使用するターゲ
ット電力密度は１乃至１０ Ｗａｔｔ ／ ａｍとし、
アルゴン蒸着圧は０．２乃至１．５パスカルとする。本
発明方法により通常の使用態様において改善された使用
寿命を存する磁気記録担体が得られる。
５０ ｍＴ 飽和磁化 シータ３．５度 結晶学的（００２）コバルト反射幅 このような記録担体に本発明による非晶質炭化水素層を
設ける。このためコバルト／クロム層を存する可撓性基
板は直ちに同じ装置において後処理される。ターゲット
としては単にグラファイト性炭素のみを使用するターゲ
ット電力密度は１乃至１０ Ｗａｔｔ ／ ａｍとし、
アルゴン蒸着圧は０．２乃至１．５パスカルとする。本
発明方法により通常の使用態様において改善された使用
寿命を存する磁気記録担体が得られる。
本発明方法を実施する場合、ＲＫＰ値を１乃至１０こと
に２乃至５とすることが望ましい。このＲＫＰ値は蒸着
圧（パスカル）、例えばアルゴン（分圧及び比蒸着電力
（ｆａｔｔ／ Ｃ１１）の積として定義される。比蒸着
電力はターゲットにおける電力（Ｗａｔｔ対ターゲタ−
ゲット全面積−）得られる。
に２乃至５とすることが望ましい。このＲＫＰ値は蒸着
圧（パスカル）、例えばアルゴン（分圧及び比蒸着電力
（ｆａｔｔ／ Ｃ１１）の積として定義される。比蒸着
電力はターゲットにおける電力（Ｗａｔｔ対ターゲタ−
ゲット全面積−）得られる。
例えば５．２５インチ径でポリイミドシート両面上に厚
さ３５０ｎｍのコバルト／クロム磁性層を設けて成る可
撓性ディスクを３００ Ｕｐｍの標準回転数、１８ｐの
ヘッド圧のＦＤ磁気ヘッドを使用し、伸び計、すなわち
エクステンソメータで計測した所、０．２７乃至０．３
２の摩擦係数を示した。７分間のテスト回転後、磁性層
傷害のためにテストを中止しなければならなかった。し
かるに、同様の記録担体に本発明により厚さ４０ｎｍの
炭化水素層を形成して、同様の方法で試験した所摩擦係
数は０．１１で始まり０．２２で飽和値に達した。しか
も磁性層の傷害をもたらすことなく６０分間のテストを
終了することができた。
さ３５０ｎｍのコバルト／クロム磁性層を設けて成る可
撓性ディスクを３００ Ｕｐｍの標準回転数、１８ｐの
ヘッド圧のＦＤ磁気ヘッドを使用し、伸び計、すなわち
エクステンソメータで計測した所、０．２７乃至０．３
２の摩擦係数を示した。７分間のテスト回転後、磁性層
傷害のためにテストを中止しなければならなかった。し
かるに、同様の記録担体に本発明により厚さ４０ｎｍの
炭化水素層を形成して、同様の方法で試験した所摩擦係
数は０．１１で始まり０．２２で飽和値に達した。しか
も磁性層の傷害をもたらすことなく６０分間のテストを
終了することができた。
また高速使用寿命シュミレーションテストにおいても炭
化水素層を設けた記録担体は秀れた結果を示した。この
場合１００ Ｕｐｍの回転数で慣用の駆動装置に記録担
体を回転させ、これに４０ｐの押圧力で磁気へラドダミ
ーとして２５．、径のＡｌＴｉＣピンを負荷した。炭化
水素層を設けないコバルト／クロム層は６秒後にすてに
担持体シートが露出するまで摩滅したが、炭化水素層を
設けたディスクは磁気層の傷害をもたらすことなく、１
５００秒後にテストを終了した。
化水素層を設けた記録担体は秀れた結果を示した。この
場合１００ Ｕｐｍの回転数で慣用の駆動装置に記録担
体を回転させ、これに４０ｐの押圧力で磁気へラドダミ
ーとして２５．、径のＡｌＴｉＣピンを負荷した。炭化
水素層を設けないコバルト／クロム層は６秒後にすてに
担持体シートが露出するまで摩滅したが、炭化水素層を
設けたディスクは磁気層の傷害をもたらすことなく、１
５００秒後にテストを終了した。
Claims (3)
- （１）円盤状の可撓性非磁性担持体材料と、その上に形
成された垂直方向記録に適するコバルト／クロム合金層
と、この配合層上に形成された減摩層とから成る磁気記
録担体であって、上記減摩層が５乃至１００ｎｍの厚さ
を有する、スパッタリング処理により形成された非晶質
炭化水素層であることを特徴とする磁気記録担体。 - （２）円盤状の可撓性非磁性担持体材料と、その上に形
成された垂直方向記録に適するコバルト／クロム合金層
と、この合金層上に形成された減摩層とから成る磁気記
録担体の製造方法であって、減摩層としてＤＣマグネト
ロンスパッタリング処理により厚さ５乃至１００ｎｍの
非晶質炭化水素層を形成することを特徴とする方法。 - （３）特許請求の範囲（２）による製造方法であって、
上記ＤＣマグネトロンスパッタリング処理が１乃至１０
のＲＫＰ値で行われることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3644823.0 | 1986-12-31 | ||
| DE19863644823 DE3644823A1 (de) | 1986-12-31 | 1986-12-31 | Magnetische aufzeichnungstraeger |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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