JPS6266990A - 記録媒体の記録方法 - Google Patents
記録媒体の記録方法Info
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- JPS6266990A JPS6266990A JP60206563A JP20656385A JPS6266990A JP S6266990 A JPS6266990 A JP S6266990A JP 60206563 A JP60206563 A JP 60206563A JP 20656385 A JP20656385 A JP 20656385A JP S6266990 A JPS6266990 A JP S6266990A
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- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 239000004986 Cholesteric liquid crystals (ChLC) Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 16
- 230000003098 cholesteric effect Effects 0.000 claims description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 16
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 4
- -1 aromatic diol Chemical class 0.000 description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 9
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- WHBMMWSBFZVSSR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxybutyric acid Chemical compound CC(O)CC(O)=O WHBMMWSBFZVSSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDBUZIKSJGRBJP-UHFFFAOYSA-N 4-acetoxy benzoic acid Chemical compound CC(=O)OC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 GDBUZIKSJGRBJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- LPJXPACOXRZCCP-VIFPVBQESA-N (2s)-2-benzamidopentanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC[C@@H](C(O)=O)NC(=O)C1=CC=CC=C1 LPJXPACOXRZCCP-VIFPVBQESA-N 0.000 description 1
- SYEOWUNSTUDKGM-RXMQYKEDSA-N (3r)-3-methylhexanedioic acid Chemical compound OC(=O)C[C@H](C)CCC(O)=O SYEOWUNSTUDKGM-RXMQYKEDSA-N 0.000 description 1
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWCBGWLCXSUTHK-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutane-1,4-diol Chemical compound OCC(C)CCO MWCBGWLCXSUTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDBZEBXYXWWDPJ-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylphenoxy)propanoic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1OCCC(O)=O WDBZEBXYXWWDPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBXBTMSZEOQQDU-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxyisobutyric acid Chemical compound OCC(C)C(O)=O DBXBTMSZEOQQDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASNHGEVAWNWCRQ-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)oxolane-2,3,4-triol Chemical compound OCC1(O)COC(O)C1O ASNHGEVAWNWCRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAYWCADKXYCKCG-UHFFFAOYSA-N 5-pyridin-3-yl-1,2-dihydro-1,2,4-triazole-3-thione Chemical compound N1NC(=S)N=C1C1=CC=CN=C1 GAYWCADKXYCKCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYEOWUNSTUDKGM-UHFFFAOYSA-N beta-methyladipic acid Natural products OC(=O)CC(C)CCC(O)=O SYEOWUNSTUDKGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarboxylate;hydron Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCCC1 QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000001261 hydroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 description 1
- OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-[2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-(2-methoxy-2-oxoethyl)amino]ethyl]amino]acetate Chemical compound C=1C=CC=C(OC(C)=O)C=1CN(CC(=O)OC)CCN(CC(=O)OC)CC1=CC=CC=C1OC(C)=O OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N naphthalene-acid Natural products C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002790 naphthalenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は熱により画像、文字等の記録を行うのに適した
新規な記録媒体に関する。
新規な記録媒体に関する。
従来の技術
近年、光と電気の変調システムの急激な進歩により光学
的に読みとった情報や記憶装置に貯えられた情報を熱や
レーザー等の出力に変換し記録を行う方法が盛んに用い
られている。
的に読みとった情報や記憶装置に貯えられた情報を熱や
レーザー等の出力に変換し記録を行う方法が盛んに用い
られている。
例えば信号をレーザー光に変調してアモルファスメタル
や感光剤含有有機層を有する記録媒体に照射し、記録媒
体の物理的変化や変色により記録する方法等がある。
や感光剤含有有機層を有する記録媒体に照射し、記録媒
体の物理的変化や変色により記録する方法等がある。
が解′しようとする問題1、
しかしこれ等の従来の方法は蒸着等の高価かつ複雑なプ
ロセスを経ろ必要があることや、高価な感光剤の使用が
必須である等の理由から製造コストが非常に高い等の欠
点を有する。
ロセスを経ろ必要があることや、高価な感光剤の使用が
必須である等の理由から製造コストが非常に高い等の欠
点を有する。
本発明の目的はこれら欠点のない新規記録媒体を提供す
ることにあり、特に比較的安価な材料を用いた簡便な方
法で製造可能であり、熱を必要部分に供給することによ
り、その熱により透明化された記録層の部分と不透明な
部分とのコントラス1−によって記録を行うものであっ
て、記録の保存が半永久的であり、かつ書き換えが可能
な新規な記録媒体を提供することにある。
ることにあり、特に比較的安価な材料を用いた簡便な方
法で製造可能であり、熱を必要部分に供給することによ
り、その熱により透明化された記録層の部分と不透明な
部分とのコントラス1−によって記録を行うものであっ
て、記録の保存が半永久的であり、かつ書き換えが可能
な新規な記録媒体を提供することにある。
問題点を解決するための手段
本発明はコレステリック液晶性ポリエステルを記録層と
する記録媒体に関する。
する記録媒体に関する。
すなわち本発明は支持体と該支持体上に設けられた記録
層被膜とを有する記録媒体に於て、該記録層被膜がコレ
ステリック液晶性ポリエステルからなり、常温付近にお
いてポリドメイン状態コレステリック液晶または結晶化
状態で不透明であり、液晶形成温度領域でコレステリッ
ク液晶性ポリエステルを融解してモノドメイン化し、次
いで急冷してモノドメイン化状態を常温で保持すること
によって該記録層被膜を透明化することができろことを
特徴とする書き換えが可能な記録媒体に関するものであ
る。
層被膜とを有する記録媒体に於て、該記録層被膜がコレ
ステリック液晶性ポリエステルからなり、常温付近にお
いてポリドメイン状態コレステリック液晶または結晶化
状態で不透明であり、液晶形成温度領域でコレステリッ
ク液晶性ポリエステルを融解してモノドメイン化し、次
いで急冷してモノドメイン化状態を常温で保持すること
によって該記録層被膜を透明化することができろことを
特徴とする書き換えが可能な記録媒体に関するものであ
る。
本発明の記録媒体の支持体としては、例えばポリカーボ
ネート樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリイミド樹脂
等のプラスチックフィルムもしく1、tシートやガラス
板等、あるいはこれらのフィルムもしくはシート等に蒸
着、メッキ等の方法によって反射層を設けたものまたは
鏡面を有する金属等のフィルムもしくはシート等を用い
ることができる。
ネート樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリイミド樹脂
等のプラスチックフィルムもしく1、tシートやガラス
板等、あるいはこれらのフィルムもしくはシート等に蒸
着、メッキ等の方法によって反射層を設けたものまたは
鏡面を有する金属等のフィルムもしくはシート等を用い
ることができる。
該支持体上に設けられろ記録層被膜はコレステリック液
晶性ポリエステルであって公知の方法で1〜100μm
の膜厚で該支持体上に被膜を形成することができろ。記
録媒体上にはさらにこれを保護すべく透明フィルムでお
おうことも可能である。
晶性ポリエステルであって公知の方法で1〜100μm
の膜厚で該支持体上に被膜を形成することができろ。記
録媒体上にはさらにこれを保護すべく透明フィルムでお
おうことも可能である。
本発明におけろコレステリック液晶性ポリエステルはネ
マチックあるいはスメクチック液晶性ポリエステルに光
学活性成分を共重合させることによって合成されろ。か
かるネマチックまたはスメクチック液晶性ポリエステル
はメソゲンとして通常法の構造単位から選ばれろ構造単
位を有する。
マチックあるいはスメクチック液晶性ポリエステルに光
学活性成分を共重合させることによって合成されろ。か
かるネマチックまたはスメクチック液晶性ポリエステル
はメソゲンとして通常法の構造単位から選ばれろ構造単
位を有する。
芳香族ジオールから誘導される構造単位としてニ−(O
hoト (X、Yはそれぞれ独立に、水素、へOゲン、炭素数4
以下のアルキル基を表わす) (Xは水素、ハロゲン、または炭素数4以下のアルキル
基を表わす) −(0−()=(D−0)− 一%0−(ジーCH= C−(D−01−晶 ↑ −(O−6D−N=N−(D−0ト 芳香族ジカルボン酸あるいはシクロヘキサンジカルボン
酸から誘導されろ構造単位として:量し一ベゴノーし片 (Xは水素、ハロゲンまたは炭素数4以下のアルキル基
を表わす) 芳香族ヒドロキシカルボン酸から誘導されろ構造単位と
して: (Xは水素、ハロゲンまたは炭素数4以下のアルキル基
を表わす) −(QooCト O −(0−(D−CH= CHCト コレステリック液晶性ポリエステルはかかる構造単位を
メソゲンとする芳香族ボIJエステ、しζこ対し光学活
性成分を共重合させろことによって合成されろ。光学活
性成分としてはかかる構造単位と共重合可能な光学活性
物質が用いられろ。光学活性成分として二官能性化合物
を選ぶことはポリマー鎖中に任意の量を導入できる点で
好ましい。−官能性化合物であってポリマー末端にしか
導入できない場合であってもコレステリック液晶性を示
すならば本発明で用いることができる。
hoト (X、Yはそれぞれ独立に、水素、へOゲン、炭素数4
以下のアルキル基を表わす) (Xは水素、ハロゲン、または炭素数4以下のアルキル
基を表わす) −(0−()=(D−0)− 一%0−(ジーCH= C−(D−01−晶 ↑ −(O−6D−N=N−(D−0ト 芳香族ジカルボン酸あるいはシクロヘキサンジカルボン
酸から誘導されろ構造単位として:量し一ベゴノーし片 (Xは水素、ハロゲンまたは炭素数4以下のアルキル基
を表わす) 芳香族ヒドロキシカルボン酸から誘導されろ構造単位と
して: (Xは水素、ハロゲンまたは炭素数4以下のアルキル基
を表わす) −(QooCト O −(0−(D−CH= CHCト コレステリック液晶性ポリエステルはかかる構造単位を
メソゲンとする芳香族ボIJエステ、しζこ対し光学活
性成分を共重合させろことによって合成されろ。光学活
性成分としてはかかる構造単位と共重合可能な光学活性
物質が用いられろ。光学活性成分として二官能性化合物
を選ぶことはポリマー鎖中に任意の量を導入できる点で
好ましい。−官能性化合物であってポリマー末端にしか
導入できない場合であってもコレステリック液晶性を示
すならば本発明で用いることができる。
二官能性光学活性モノマーとしては、例えば(R)また
は(S)の3−メチルアジピン酸、ベンゾイルグルタミ
ン酸などのジカルボン酸、1.2−ブロー(ンジオール
、2−メチル−1,4ブタンジオール等のジオールまた
はβ−ヒドロキシ酪酸、β−ヒドロキシイソ酪酸等のヒ
ドロキシ酸などが挙げられろ。
は(S)の3−メチルアジピン酸、ベンゾイルグルタミ
ン酸などのジカルボン酸、1.2−ブロー(ンジオール
、2−メチル−1,4ブタンジオール等のジオールまた
はβ−ヒドロキシ酪酸、β−ヒドロキシイソ酪酸等のヒ
ドロキシ酸などが挙げられろ。
これらは単独で用いてもよくまた混合物で用いて共重合
に供してもよい。また光学的純度は必ずしも100%で
ある必要はないが、混合物の場合にはコレステリック液
晶におけろ螺旋ピッチが純(R)体または純tS1体か
らのものに比へると大きくなり、コレステリックの効率
は悪くなる。一般に(R1体含有率と(S1体含有率の
差が15%以上であればよいが、30%以上であること
が好ましい。光学活性成分は全モノマー皇位の1〜10
モル%、好ましくは2〜8モル%の割合で存在する。
に供してもよい。また光学的純度は必ずしも100%で
ある必要はないが、混合物の場合にはコレステリック液
晶におけろ螺旋ピッチが純(R)体または純tS1体か
らのものに比へると大きくなり、コレステリックの効率
は悪くなる。一般に(R1体含有率と(S1体含有率の
差が15%以上であればよいが、30%以上であること
が好ましい。光学活性成分は全モノマー皇位の1〜10
モル%、好ましくは2〜8モル%の割合で存在する。
本発明のコレステリック液晶性ポリエステルには融点を
調節するために次のユニットを導入することも可能であ
る。すなわち などのm−置換ベンゼン誘導体、2.7−fi換ナフタ
レン訊導体などのモンクユニット、あるいは一段(ここ
にXはO,CH2,C(CH,)2.SO2を表わす)
などの芳香族環の間に自由回転できる基を含んだモノマ
ーユニット、あるいは一般式(ここにm、nは2から1
2の整数)で表わされろ脂肪族ジオール、脂肪族ジカル
ボン酸から誘導されるユニットなどが挙げられる。
調節するために次のユニットを導入することも可能であ
る。すなわち などのm−置換ベンゼン誘導体、2.7−fi換ナフタ
レン訊導体などのモンクユニット、あるいは一段(ここ
にXはO,CH2,C(CH,)2.SO2を表わす)
などの芳香族環の間に自由回転できる基を含んだモノマ
ーユニット、あるいは一般式(ここにm、nは2から1
2の整数)で表わされろ脂肪族ジオール、脂肪族ジカル
ボン酸から誘導されるユニットなどが挙げられる。
本発明のコレステリック液晶性ポリエステルは公知の方
法で合成することができる。例えば酸クロリドとジオー
ルを原料に用いて脱塩酸しながら重縮合させる方法、ジ
カルボン酸ジメチルエステルあるいはジフェニルエステ
ルとジオールを高t=、高真空下に重縮合させる方法、
ジカルボン酸とジオールのジアセトキシ化物を高温、高
真空下に重縮合させる方法さらには燐化合物の如き縮合
剤の存在下にジカルボン酸とジオールを直接重縮合させ
ろ方法などが挙げられろ。またヒドロキシカルボン酸を
用いる場合には上記重合方法に準じて共重縮合させるこ
とが可能である。
法で合成することができる。例えば酸クロリドとジオー
ルを原料に用いて脱塩酸しながら重縮合させる方法、ジ
カルボン酸ジメチルエステルあるいはジフェニルエステ
ルとジオールを高t=、高真空下に重縮合させる方法、
ジカルボン酸とジオールのジアセトキシ化物を高温、高
真空下に重縮合させる方法さらには燐化合物の如き縮合
剤の存在下にジカルボン酸とジオールを直接重縮合させ
ろ方法などが挙げられろ。またヒドロキシカルボン酸を
用いる場合には上記重合方法に準じて共重縮合させるこ
とが可能である。
本発明のコレステリック液晶性ポリエステルは狡厚を1
〜100μm1好ましくは2〜50μmとし150〜3
50℃、好ましくは200〜300℃の液晶形成温度領
域で加熱融解させろことによってポリドメイン状態から
モノドメインあるいはモノドメインに近い積層構造に変
化させることができろ。この状態から結晶化温度以下(
結晶化しない場合はTg温度以下)に急冷することによ
ってモノドメイン化された状態を室温で保持することが
できろ。
〜100μm1好ましくは2〜50μmとし150〜3
50℃、好ましくは200〜300℃の液晶形成温度領
域で加熱融解させろことによってポリドメイン状態から
モノドメインあるいはモノドメインに近い積層構造に変
化させることができろ。この状態から結晶化温度以下(
結晶化しない場合はTg温度以下)に急冷することによ
ってモノドメイン化された状態を室温で保持することが
できろ。
ここでポリドメインとは微結晶状態のコレステリック液
晶が集合した状態であってコレステリック液晶の螺旋軸
の方向は一定しておらず、光は結晶界面で散乱して不透
明なフィルムを与又ろ。これに対しモノドメインあるい
はモノドメインに近い積l!!構造とは、微結晶状態の
コレステリック液晶が加熱融解状態で合一してゆきつい
にはフイルム全面がいわば単結晶に近いWi肋槽構造有
するようになった状態をZい、螺旋軸はフィルム表面に
垂直になる。この時、螺旋軸のピッチ長が可視光の波長
に近ければ、次式 λ。=nP (ここにnは平均屈折率、Pば螺旋軸ピッチ長)に従っ
て波長λ に相当する光を選択反射し透明で着色してみ
える。λ。が可視光の波長をはずれていれば無色透明に
みえろ。
晶が集合した状態であってコレステリック液晶の螺旋軸
の方向は一定しておらず、光は結晶界面で散乱して不透
明なフィルムを与又ろ。これに対しモノドメインあるい
はモノドメインに近い積l!!構造とは、微結晶状態の
コレステリック液晶が加熱融解状態で合一してゆきつい
にはフイルム全面がいわば単結晶に近いWi肋槽構造有
するようになった状態をZい、螺旋軸はフィルム表面に
垂直になる。この時、螺旋軸のピッチ長が可視光の波長
に近ければ、次式 λ。=nP (ここにnは平均屈折率、Pば螺旋軸ピッチ長)に従っ
て波長λ に相当する光を選択反射し透明で着色してみ
える。λ。が可視光の波長をはずれていれば無色透明に
みえろ。
逆に透明状態から不透明状態にするには融解したコレス
テリック液晶を徐冷すれば結晶化が起こり達成されろ。
テリック液晶を徐冷すれば結晶化が起こり達成されろ。
また溶融状態の液晶に電場、磁場をかけて液晶の配向を
乱し、乱した状態で急冷してポリドメイン状の不透明状
態を得ろことも可能である。このように本発明のコレス
テリック液晶性ポリエステルを用いれば透明、不透明の
変化を可逆的に行わせることが可能であり、書き込み消
去の可能な記録用媒体として適したものである。
乱し、乱した状態で急冷してポリドメイン状の不透明状
態を得ろことも可能である。このように本発明のコレス
テリック液晶性ポリエステルを用いれば透明、不透明の
変化を可逆的に行わせることが可能であり、書き込み消
去の可能な記録用媒体として適したものである。
コレステリック液晶性ポリエステルを融解させろ手段と
して(オレーザー光、キセノンランプ光、高周波等の熱
源を必要な部分に当てることによって達成される。
して(オレーザー光、キセノンランプ光、高周波等の熱
源を必要な部分に当てることによって達成される。
記録の取り出しは光を用い、光の透過率の差又は支持体
もしくは記録層に蒸着等の方法によって反射層をもうけ
て光の反射率の差をもって行うことができろ。
もしくは記録層に蒸着等の方法によって反射層をもうけ
て光の反射率の差をもって行うことができろ。
かかる原理によって本発明の記録媒体は光ディスクや製
版、電子回路作成の為のフォトマスクに利用することが
できる。
版、電子回路作成の為のフォトマスクに利用することが
できる。
衷厘1
以下、実施例に従って本発明を更に詳細に説明する。
実施例 1
フェノール/テトラクqルエタン=60740(重景比
)の混合溶媒を用い、30℃で0.5wt%の濃度で測
定した対数粘度(r) 1nh)が0.37dl/g(
以下のηinhの測定法はこの方法による)であるポリ
エチレンテレフタレート15.55g5p−アセトキシ
安息香酸34.02g、 (R) −3−メチルアジピ
ン酸4.33g1 ジアセトキレヒドロキノン524g
を攪拌機のついた重合管中に仕込み窒素でパージした後
重合管を220℃の油浴にっけ攪拌しながら窒素雰囲気
中で1時間反応させ、次いで230℃に昇記し更に1時
間反応させた。230℃で窒素の流通を開始して1時間
反応させ、さらに減圧下に1時間反応させた。反応1度
を230℃から270℃に約30分かけて昇渇し、27
0℃で1時間真空度を0.2mmHgに保って重合を完
了させた。ポリマーのr) 1nhlf 0.45dl
/gテあった。
)の混合溶媒を用い、30℃で0.5wt%の濃度で測
定した対数粘度(r) 1nh)が0.37dl/g(
以下のηinhの測定法はこの方法による)であるポリ
エチレンテレフタレート15.55g5p−アセトキシ
安息香酸34.02g、 (R) −3−メチルアジピ
ン酸4.33g1 ジアセトキレヒドロキノン524g
を攪拌機のついた重合管中に仕込み窒素でパージした後
重合管を220℃の油浴にっけ攪拌しながら窒素雰囲気
中で1時間反応させ、次いで230℃に昇記し更に1時
間反応させた。230℃で窒素の流通を開始して1時間
反応させ、さらに減圧下に1時間反応させた。反応1度
を230℃から270℃に約30分かけて昇渇し、27
0℃で1時間真空度を0.2mmHgに保って重合を完
了させた。ポリマーのr) 1nhlf 0.45dl
/gテあった。
このポリマーをp−クロルフェノールに溶解させて10
重量%溶液とし厚さ80μmのポリイミドフィルム上に
ロールコータ−を用いて塗布し常温で12時間、100
℃真空下に3時間乾燥して厚さが65μmの本発明の記
録媒体を得た。記録媒体の透過率は分光光度計を用いて
波長800nmの単色光により測定した。この記録媒体
を250℃に加熱し急冷した場合の透過率は905%で
あった。再び記録媒体を250℃に加熱し、20℃/1
nで徐冷した場合の透過率は245%であった。これを
再び250℃に加熱し急冷すると透過率は90゜1%に
回復した。透明、不透明さの度合は常温で3ケ月経過後
も全く変化がなかった。
重量%溶液とし厚さ80μmのポリイミドフィルム上に
ロールコータ−を用いて塗布し常温で12時間、100
℃真空下に3時間乾燥して厚さが65μmの本発明の記
録媒体を得た。記録媒体の透過率は分光光度計を用いて
波長800nmの単色光により測定した。この記録媒体
を250℃に加熱し急冷した場合の透過率は905%で
あった。再び記録媒体を250℃に加熱し、20℃/1
nで徐冷した場合の透過率は245%であった。これを
再び250℃に加熱し急冷すると透過率は90゜1%に
回復した。透明、不透明さの度合は常温で3ケ月経過後
も全く変化がなかった。
実施例 2
実施例1のポリエチレンテレフタレートを7.88g。
p−アセトキシ安息香酸を32.40g、(R1−3−
メチルアジピン酸を3.20g%ジアセトキシヒドロキ
ノンを384gに変え他は同一条件で重合させてワin
hが0.48dl/gのポリマーを1J8な。このポリ
マーを実施例1と同じ操作でポリイミドフィルム上に塗
布して厚さが6.5μmの本発明の記録媒体を得た。こ
の記録媒体を290℃に加熱し急冷した場合の透過率は
901%であった。再び記録媒体を290℃に加熱し、
20℃/manで徐冷した場合の透過率は21.3%で
あった。これを再び290℃に加熱し急冷すると透過率
は92.3%に回復した。透明、不透明さの度合は常温
で3ケ月経過後も全く変化がなかった。
メチルアジピン酸を3.20g%ジアセトキシヒドロキ
ノンを384gに変え他は同一条件で重合させてワin
hが0.48dl/gのポリマーを1J8な。このポリ
マーを実施例1と同じ操作でポリイミドフィルム上に塗
布して厚さが6.5μmの本発明の記録媒体を得た。こ
の記録媒体を290℃に加熱し急冷した場合の透過率は
901%であった。再び記録媒体を290℃に加熱し、
20℃/manで徐冷した場合の透過率は21.3%で
あった。これを再び290℃に加熱し急冷すると透過率
は92.3%に回復した。透明、不透明さの度合は常温
で3ケ月経過後も全く変化がなかった。
発明の効果
本発明の記録媒体は熱を供給することによって透明化さ
れた部分と不透明な部分をつくり出すことができ、かつ
その相互の変化は可逆的であり、常温付近において半永
久的に保存できる。記録の取り出した光を用いて行うこ
とができるので、光ディスク、製版、あるいはフォトマ
スクに適した記録媒体である。
れた部分と不透明な部分をつくり出すことができ、かつ
その相互の変化は可逆的であり、常温付近において半永
久的に保存できる。記録の取り出した光を用いて行うこ
とができるので、光ディスク、製版、あるいはフォトマ
スクに適した記録媒体である。
Claims (1)
- 支持体と該支持体上に設けられた記録層被膜とを有す
る記録媒体に於て、該記録層被膜がコレステリック液晶
性ポリエステルからなり、常温付近においてポリドメイ
ン状態コレステリック液晶または結晶化状態で不透明で
あり、液晶形成温度領域でコレステリック液晶性ポリエ
ステルを融解してモノドメイン化し、次いで急冷してモ
ノドメイン化状態を常温で保持することによつて該記録
層被膜を透明化することができることを特徴とする書き
換えが可能な記録媒体。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60206563A JPS6266990A (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 記録媒体の記録方法 |
DE8686307250T DE3675726D1 (de) | 1985-09-20 | 1986-09-19 | Aufzeichnungstraeger. |
EP86307250A EP0216619B1 (en) | 1985-09-20 | 1986-09-19 | Recording medium |
US07/233,852 US4933243A (en) | 1985-09-20 | 1988-08-15 | Recording medium |
US07/495,499 US5110698A (en) | 1985-09-20 | 1990-04-09 | Method of recording |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60206563A JPS6266990A (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 記録媒体の記録方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6266990A true JPS6266990A (ja) | 1987-03-26 |
JPH0453193B2 JPH0453193B2 (ja) | 1992-08-25 |
Family
ID=16525464
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60206563A Granted JPS6266990A (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 記録媒体の記録方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4933243A (ja) |
EP (1) | EP0216619B1 (ja) |
JP (1) | JPS6266990A (ja) |
DE (1) | DE3675726D1 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0216082A (ja) * | 1988-07-04 | 1990-01-19 | Sony Corp | 消去可能型熱記録方式 |
JPH02269097A (ja) * | 1988-12-29 | 1990-11-02 | Sony Corp | 情報記録表示カード |
US5066107A (en) * | 1988-06-16 | 1991-11-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display medium, liquid crystal display method and liquid crystal display apparatus for outputting color images |
EP2100743A1 (en) | 2008-02-13 | 2009-09-16 | Ricoh Company, Ltd. | Image processing method and image processing apparatus |
EP2159063A2 (en) | 2008-08-28 | 2010-03-03 | Ricoh Co., Ltd. | Image processing method and image processing apparatus |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2566787B2 (ja) * | 1987-09-04 | 1996-12-25 | 日本石油株式会社 | カイラルスメクチックc液晶性ポリエステルおよび光学フィルター |
GB8803416D0 (en) * | 1988-02-15 | 1988-03-16 | Minnesota Mining & Mfg | Polymeric polymethine dyes & optical data storage media containing same |
JP2631015B2 (ja) * | 1989-06-06 | 1997-07-16 | 株式会社リコー | 液晶性高分子の配向方法 |
US5200845A (en) * | 1989-10-31 | 1993-04-06 | University Of Hawaii At Manoa | Color liquid crystal display consisting of polymer-dispersed chiral liquid crystal having negative dielectric anisotropy |
US5339306A (en) * | 1990-04-26 | 1994-08-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Detecting interferential diffraction of a reflected beam from a polymer liquid crystal recording medium |
EP0615234A3 (en) * | 1990-09-24 | 1994-10-05 | Akzo Nobel N.V. | Infrared-sensitive liquid-crystalline polyesters suitable for use in optical data storage, processes for the preparation of same, and an apparatus containing an infrared-sensitive liquid-crystalline polyester |
JP3100450B2 (ja) * | 1991-01-11 | 2000-10-16 | 株式会社リコー | 画像記録方法及びこれに用いる装置 |
US6001519A (en) * | 1997-01-22 | 1999-12-14 | Industrial Technology Research Institute | High molecular weight information recording medium and related data writing method |
US5943067A (en) | 1997-04-28 | 1999-08-24 | Hewlett-Packard Company | Reusable media inkjet printing system |
JP2936137B1 (ja) * | 1998-07-31 | 1999-08-23 | 工業技術院長 | フルカラー感熱記録材料 |
JP2006317656A (ja) * | 2005-05-12 | 2006-11-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 異方性光学素子 |
CN105549319B (zh) * | 2016-02-25 | 2019-10-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版及掩膜曝光方法、掩膜系统和图形控制装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58125247A (ja) * | 1982-01-21 | 1983-07-26 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
JPS58142314A (ja) * | 1982-02-18 | 1983-08-24 | Oki Electric Ind Co Ltd | 光記録用媒体 |
JPS5910930A (ja) * | 1982-07-10 | 1984-01-20 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 情報記録媒体 |
JPS5994733A (ja) * | 1982-11-22 | 1984-05-31 | Oki Electric Ind Co Ltd | 光記録用媒体 |
JPS59104625A (ja) * | 1982-12-08 | 1984-06-16 | Oki Electric Ind Co Ltd | 光記録用媒体 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3655971A (en) * | 1969-08-12 | 1972-04-11 | Xerox Corp | Imaging system |
US3654864A (en) * | 1970-01-16 | 1972-04-11 | Energy Conversion Devices Inc | Printing employing materials with variable volume |
DE2831909A1 (de) * | 1978-07-20 | 1980-02-07 | Basf Ag | Fluessig-kristalline polymerphase mit cholesterischer struktur, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
US4412059A (en) * | 1980-08-20 | 1983-10-25 | Duke University | High modulus cholesteric mesophase polymers |
US4384016A (en) * | 1981-08-06 | 1983-05-17 | Celanese Corporation | Mutiaxially oriented high performance laminates comprised of uniaxially oriented sheets of thermotropic liquid crystal polymers |
US4394498A (en) * | 1981-08-24 | 1983-07-19 | Celanese Corporation | Method for providing particulates of liquid crystal polymers and particulates produced therefrom |
EP0153729B1 (en) * | 1984-02-27 | 1989-05-10 | TDK Corporation | Optical recording medium |
DE3429438A1 (de) * | 1984-08-10 | 1988-06-23 | Basf Ag | Optisches aufzeichnungsmedium |
JPS61198125A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-09-02 | Canon Inc | 画像記録装置 |
JPS61197629A (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-01 | Nippon Oil Co Ltd | コレステリック液晶性ポリエステルの製造法 |
-
1985
- 1985-09-20 JP JP60206563A patent/JPS6266990A/ja active Granted
-
1986
- 1986-09-19 DE DE8686307250T patent/DE3675726D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-09-19 EP EP86307250A patent/EP0216619B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-08-15 US US07/233,852 patent/US4933243A/en not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-04-09 US US07/495,499 patent/US5110698A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58125247A (ja) * | 1982-01-21 | 1983-07-26 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
JPS58142314A (ja) * | 1982-02-18 | 1983-08-24 | Oki Electric Ind Co Ltd | 光記録用媒体 |
JPS5910930A (ja) * | 1982-07-10 | 1984-01-20 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 情報記録媒体 |
JPS5994733A (ja) * | 1982-11-22 | 1984-05-31 | Oki Electric Ind Co Ltd | 光記録用媒体 |
JPS59104625A (ja) * | 1982-12-08 | 1984-06-16 | Oki Electric Ind Co Ltd | 光記録用媒体 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5066107A (en) * | 1988-06-16 | 1991-11-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display medium, liquid crystal display method and liquid crystal display apparatus for outputting color images |
JPH0216082A (ja) * | 1988-07-04 | 1990-01-19 | Sony Corp | 消去可能型熱記録方式 |
JPH02269097A (ja) * | 1988-12-29 | 1990-11-02 | Sony Corp | 情報記録表示カード |
EP2100743A1 (en) | 2008-02-13 | 2009-09-16 | Ricoh Company, Ltd. | Image processing method and image processing apparatus |
EP2159063A2 (en) | 2008-08-28 | 2010-03-03 | Ricoh Co., Ltd. | Image processing method and image processing apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0453193B2 (ja) | 1992-08-25 |
US4933243A (en) | 1990-06-12 |
US5110698A (en) | 1992-05-05 |
EP0216619A1 (en) | 1987-04-01 |
DE3675726D1 (de) | 1991-01-03 |
EP0216619B1 (en) | 1990-11-22 |
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