JPH11271529A - 光選択透過性素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 可視から赤外領域の光の透過、反射、反射幅
を任意に調整でき、しかも透過領域の透過率を８０％以
上に保ちながら、選択反射領域の透過率を５０〜６０％
または０〜１０％の範囲で選択できる光選択透過性素子
を提供する。 【解決手段】 波長５９０ｎｍにおける複屈折率（Δ
ｎ）が０．２０〜０．５０の範囲にある少なくとも１層
のコレステリック配向フィルムを光選択透過性素子とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、可視から赤外領域
の光の透過、反射、反射幅を任意に調整でき、しかも透
過領域の透過率を８０％以上に保ちながら、選択反射領
域の透過率を５０〜６０％または０〜１０％の範囲で選
択できる光選択透過性素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】熱線反射フィルムや日照調整フィルムは
建物の窓等に適用して冷暖房エネルギー節約を目的とし
て近年精力的に研究開発が行われている。ここで熱線反
射フィルムは、太陽エネルギー分布の中で人間の目には
感じないが、熱線の５０％が存在する近赤外線部（７６
０〜２５００ｎｍ）の透過特性を低下させ、可視光線部
（４００〜７６０ｎｍ）の透過特性を向上させることが
断熱に有効であるとされている。また当該フィルムは、
透視性を何ら損なうことがないために周囲環境および安
全性に影響を与えることなく各種の分野に応用が可能で
ある。例えば、当該フィルムのような特性をもつ可撓性
プラスチックフィルムをガラスもしくはポリメチルメタ
クリレートなどの硬い透明板の間に挟んだ積層体として
安全ガラス型構成をとらせることにより、窓、自動車の
フロントガラス、航空機の天蓋、風除けガラスなどの破
砕抵抗を著しく高め得ることも可能であり、光選択透過
性を有する部材として有効である。

【０００３】近年、上記の如き光選択透過性を有する部
材としてコレステリック液晶が着目されている。コレス
テリック液晶には、円偏光を選択的に反射する性質があ
り、螺旋ピッチと複屈折率に応じて波長領域が、ねじれ
方向によって左右一方の円偏光のみが、反射するという
特異な選択性をもつことが知られている。従って、コレ
ステリック液晶を光選択透過性部材として使用すれば所
望の波長領域を自由かつシャープに遮断できることから
今までにない優れた部材となり得る。

【０００４】通常コレステリック液晶性を示す液晶をフ
ィルム化・薄膜化すると当該液晶分子は、フィルム面に
平行に配向し、コレステリック層もフィルム面に平行と
なる。このフィルム面にある角度で光が入射すると、コ
レステリックピッチに応じて、ある特定波長の円偏光の
みが選択的に反射される。すなわちコレステリック液晶
を固定化して得られるフィルム・薄膜は、本質的に選択
反射フィルターとなり得る。選択反射の中心波長（λ
ｓ）はコレステリック液晶の螺旋ピッチ（Ｐ：３６０°
ねじれた時の膜厚）と平均屈折率（Ｎ）によって規定さ
れるが、その選択反射帯域幅（Δλ）はコレステリック
液晶の複屈折率（Δｎ）に依存する。

【０００５】

【数１】

【０００６】液晶の複屈折率Δｎの値は、通常０．１〜
０．３程度であり、５９０ｎｍにおける選択反射帯域幅
Δλは、通常３０〜１００ｎｍ（Ｎ＝１．７と仮定）と
なるが、これを大きく上回る値を得るためには、特異な
分子構造によってΔｎを高める必要がある。Δｎは、分
子の分極率と配向秩序パラメーターに依存することか
ら、光学的に異方性を生じさせる分極率の高い分子や、
電子密度の高い共役系分子であるベンゼン環、多環芳香
族、エチレン−アセチレン連鎖基、末端シアノ基などの
化合物によって向上することが知られている。このよう
な低分子液晶は、Ｍ．Ｈｉｒｄらによって報告されてい
る（Ｍ．Ｈｉｒｄ ｅｔ．ａｌ，Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙ
ｓｔａｌｓ，１９９３，１５，１２３）。しかしながら
高分子液晶においては、このようなΔｎが高く、広い選
択反射帯域幅を有するものについては知られておらず、
ゆえにコレステリック液晶性高分子を用いた広い選択帯
域幅を有する光選択透過性部材も知られていない状況に
あった。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上述のよ
うな状況を鑑み、複屈折率が０．２〜０．５の範囲にあ
るコレステリック配向フィルムを開発したことにより、
可視から赤外領域の光の透過、反射、反射幅を任意に調
整でき、しかも透過領域の透過率を８０％以上に保ちな
がら、選択反射領域の透過率を５０〜６０％または０〜
１０％の範囲で選択できる光選択透過性素子を発明する
に至った。

【０００８】すなわち本発明の第１は、波長５９０ｎｍ
における複屈折率（Δｎ）が０．２０〜０．５０の範囲
にある少なくとも１層のコレステリック配向フィルムか
ら形成されることを特徴とする光選択透過性素子に関す
る。さらに本発明の第２は、コレステリック配向フィル
ムが、下記の液晶性ポリエステル ５０〜９９．５重量
％、及び光学活性な液晶性ポリエステル ０．５〜５０
重量％より成る液晶性ポリエステル組成物をフィルム化
して得たフィルムからなることを特徴とする上記第１の
光選択透過性素子に関する。 〔液晶性ポリエステル〕下記構造単位（Ａ）、（Ｂ）お
よび（Ｃ）を必須構造単位として有し、所望により構造
単位（Ｄ）、（Ｅ）および（Ｆ）から選ばれる少なくと
も１種の構造単位を有する液晶性ポリエステル。

【０００９】

【化９】

【００１０】

【化１０】

【００１１】

【化１１】

【００１２】

【化１２】

【００１３】

【化１３】

【００１４】

【化１４】

【００１５】〔光学活性な液晶性ポリエステル〕下記構
造単位（Ｇ）および（Ｈ）より構成される光学活性な液
晶性ポリエステル。

【００１６】

【化１５】

【００１７】

【化１６】

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明の光選択透過性素子に用い
られるコレステリック配向フィルムは、波長５９０ｎｍ
における複屈折率が０．２０〜０．５０、好ましくは
０．２３〜０．４７、さらに好ましくは０．２５〜０．
４５の範囲である。また光選択透過性素子は、少なくと
も１層の当該フィルムにより形成されるものである。当
該フィルムは、コレステリック配向を固定化したフィル
ムであり、且つ上記複屈折値を満足するものであれば本
質的には特に限定されない。コレステリック配向を固定
化できる当該フィルム材料としては、溶融時に液晶性を
示し、且つ液晶転移温度以下に冷却した際に該液晶相の
固定化が可能であるコレステリック配向性液晶性高分子
が望ましい。コレステリック配向性液晶性高分子として
は、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド、ポリカー
ボネート、ポリエステルイミドなどが挙げられる。なか
でも合成の容易性、配向固定化の容易性、得られたフィ
ルムの取扱い性の面から、液晶性ポリエステルが望まし
い。さらに液晶性ポリエステルとしては、液晶性ポリエ
ステルと光学活性な低分子・高分子との組成物、なかで
も液晶性ポリエステルと光学活性な液晶性ポリエステル
との組成物が特に望ましい。

【００１９】当該組成物として、さらに好ましくは主鎖
方向に共役系の延びた分極率の高い特定のモノマー単
位、およびカテコール単位を必須構造単位として有する
液晶性ポリエステルと、光学活性な液晶性ポリエステル
との組成物が本発明には好適に使用される。上記液晶性
ポリエステルとしては、前記した構造単位（Ａ）、
（Ｂ）および（Ｃ）を必須構造単位とし、所望により構
造単位（Ｄ）、（Ｅ）および（Ｆ）から選ばれる少なく
とも１種の構造単位を有する液晶性ポリエステルが最も
好ましい。

【００２０】構造単位（Ａ）は、高い複屈折率を発現す
るための成分であり、４’−ヒドロキシ−４−スチルベ
ンカルボン酸を基本骨格とする、アルキル置換体、アル
コキシ置換体、ハロゲン置換体、α−アルキル置換体、
α、α’−ジアルキル置換体、または該カルボン酸の機
能性誘導体から誘導される単位である。ここで該カルボ
ン酸の各種置換体とは、４’−ヒドロキシ−３’−メト
キシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジメトキシ−４−スチルベンカルボン酸、
４’−ヒドロキシ−３’−エトキシ−４−スチルベンカ
ルボン酸、４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジエトキシ
−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−３’
−メトキシ−５’−エトキシ−４−スチルベンカルボン
酸、４’−ヒドロキシ−３−メトキシ−４−スチルベン
カルボン酸、４’−ヒドロキシ−３−エトキシ−４−ス
チルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−３’−メチル
−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−３’
−エチル−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキ
シ−３’，５’−ジメチル−４−スチルベンカルボン
酸、４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジエチル−４−ス
チルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−２’−フルオ
ロ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−
２’−クロロ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒド
ロキシ−３’−クロロ−４−スチルベンカルボン酸、
４’−ヒドロキシ−２’−ブロモ−４−スチルベンカル
ボン酸、４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジフルオロ−
４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−３’，
５’−ジクロロ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒ
ドロキシ−３’，５’−ジブロモ−４−スチルベンカル
ボン酸、α−メチル−４’−ヒドロキシ−４−スチルベ
ンカルボン酸、α−メチル−４’−ヒドロキシ−３’−
メトキシ−４−スチルベンカルボン酸、α−エチル−
４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸、α−エ
チル−４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチル
ベンカルボン酸、α、α’−ジメチル−４’−ヒドロキ
シ−４−スチルベンカルボン酸、α、α’−ジエチル−
４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸、などで
ある。

【００２１】構造単位（Ａ）と同種の機能を示す該単位
以外のヒドロキシカルボン酸成分、具体的には構造単位
（Ｅ）として４−（４’−ヒドロキシフェニル）安息香
酸、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸、４−
ヒドロキシ安息香酸またはそれぞれの機能性誘導体（例
えばアセトキシ化合物、メチルエステル等のアルキルエ
ステル）から誘導される単位を必要に応じて含むことが
できる。構造単位（Ａ）は、液晶性ポリエステル中、通
常２０〜８０モル％、好ましくは２５〜７５モル％、さ
らに好ましくは３０〜７０モル％の割合で存在する。ま
た構造単位（Ｅ）を含む場合、構造単位（Ａ）、（Ｅ）
の組成比（モル比）は、（Ａ）／（Ｅ）として通常１／
１９〜７９／１、好ましくは１０／２０〜６９／１の範
囲で決定されるが、当該ポリエステル中に構造単位
（Ａ）を少なくとも２０モル％以上含むことが本発明で
は望ましい。

【００２２】構造単位（Ｂ）は、液晶性を発現するため
のメソーゲンとしての役割を果たす成分であり、具体的
には４，４’−スチルベンジカルボン酸、４，４’−ビ
フェニルジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン
酸、４，４’−ジカルボキシジフェニルエーテル、テレ
フタル酸、ブロモテレフタル酸またはこれらジカルボン
酸の機能性誘導体（例えばジメチルエステル等のジアル
キルエステルやジクロリドのような酸クロリド）から誘
導される単位である。構造単位（Ｂ）においては、該単
位以外の単官能カルボン酸成分、具体的には構造単位
（Ｆ）として４’−アルコキシ−４−スチルベンカルボ
ン酸、３’，４’−ジアルコキシ−４−スチルベンカル
ボン酸、４−（４’−アルコキシフェニル）安息香酸、
４−（３’，４’−ジアルコキシフェニル安息香酸、６
−アルコキシ−２−ナフタレンカルボン酸、４−アルコ
キシ安息香酸，３，４−ジアルコキシ安息香酸またはそ
れぞれの機能性誘導体（例えばメチルエステル等のアル
キルエステルやクロリドのような酸クロリド）から誘導
される単位を必要に応じて含むことができる。ここで該
単官能カルボン酸に置換したアルコキシ基とは、Ｃ₁ 〜
Ｃ₂₀までの直鎖型または側鎖型単位であり、具体的には
メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、
ｎ−ペンチルオキシ、ｎ−ヘキシルオキシ、ｎ−ヘプチ
ルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、ｎ−ノニルオキシ、ｎ
−デシルオキシ、ｎ−オクタデシルオキシ、２−エチル
ヘキシルオキシ、ｉ−プロポキシ等である。構造単位
（Ｂ）は液晶性ポリエステル中に、通常１０〜４０モル
％、好ましくは１５〜３５モル％、さらに好ましくは２
０〜３５モル％の割合で存在する。また構造単位（Ｆ）
を含む場合、構造単位（Ｂ）、（Ｆ）の組成比（モル
比）は、（Ｂ）／２（Ｆ）として通常１／９〜３９／
１、好ましくは５／１０〜３４／１の範囲で決定される
が、当該ポリエステル中に構造単位（Ｂ）を少なくとも
１０モル％以上含むことが本発明では望ましい。

【００２３】次いで構造単位（Ｃ）は、冷却下で液晶相
を固定化するための役割を果たす成分であり、具体的に
はカテコールまたはカテコールの機能性誘導体（例えば
ジアセトキシ化合物などの誘導体）から誘導される単位
である。また該単位以外のジオール成分、具体的には構
造単位（Ｄ）として４，４’−ジヒドロキシスチルベ
ン、４，４’−ビフェノール、２，６−ジヒドロキシナ
フタレン、ヒドロキノン、メチルヒドロキノンまたはそ
れぞれの機能性誘導体（例えばジアセトキシ化合物など
の誘導体）から誘導される単位を必要に応じて含むこと
ができる。構造単位（Ｃ）は、液晶性ポリエステル中、
通常１０〜４０モル％、好ましくは１５〜３５モル％、
さらに好ましくは２０〜３５モル％の割合で存在する。
また構造単位（Ｄ）を含む場合、構造単位（Ｃ）、
（Ｄ）の組成比（モル比）は、（Ｃ）／（Ｄ）として通
常１／９〜３９／１、好ましくは５／１０〜３４／１の
範囲で決定されるが、当該ポリエステル中に構造単位
（Ｃ）を少なくとも１０モル％以上含むことが本発明で
は望ましい。なお構造単位（Ｂ）、（Ｃ）また必要に応
じ構造単位（Ｄ）を含んだ場合における組成比（モル
比）は、（Ｂ）／（Ｃ）または（Ｂ）＋２（Ｆ）／
（Ｃ）＋（Ｄ）として概略１であり、通常４５／５５〜
５５／４５、好ましくは４８／５２〜５２／４８の範囲
である。当該液晶性ポリエステルの具体例としては、次
のものを例示することができる：

【００２４】

【化１７】

【００２５】

【化１８】

【００２６】

【化１９】

【００２７】

【化２０】

【００２８】

【化２１】

【００２９】

【化２２】

【００３０】

【化２３】

【００３１】

【化２４】

【００３２】

【化２５】

【００３３】

【化２６】

【００３４】

【化２７】

【００３５】

【化２８】

【００３６】

【化２９】

【００３７】

【化３０】

【００３８】

【化３１】

【００３９】

【化３２】

【００４０】

【化３３】

【００４１】

【化３４】

【００４２】

【化３５】

【００４３】上記の液晶性ポリエステルは、上記の構造
単位に対応するモノマー成分を縮合共重合して得ること
ができる。重合方法は特に制限されるものではなく、当
該分野で公知の重合法、例えば溶融重合法または溶液重
合法を適用することにより合成することができる。溶融
重合法により上記の液晶性ポリエステルを合成する場
合、例えば所定量の４’−アセトキシ−３’−メトキシ
−４−スチルベンカルボン酸（構造単位（Ａ）形成モノ
マー）、４，４’−スチルベンジカルボン酸（構造単位
（Ｂ）形成モノマー）、カテコールジアセテート（構造
単位（Ｃ）形成モノマー）を高温、減圧下または高真空
下で重合させることによって、容易に目的のポリエステ
ルを得ることができる。ここで構造単位（Ａ）、
（Ｂ）、（Ｃ）および任意に（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）か
ら選ばれる少なくとも１種の構造単位を構成するモノマ
ー成分の仕込み比（モル比）としては、Ａ／（Ｂ＋
Ｃ）、Ａ／（Ｂ＋Ｃ＋Ｄ）、Ａ／（Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋２
Ｆ）、（Ａ＋Ｅ）／（Ｂ＋Ｃ）、（Ａ＋Ｅ）／（Ｂ＋Ｃ
＋Ｄ）、または（Ａ＋Ｅ）／（Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋２Ｆ）の値
として通常２０／８０〜８０／２０、好ましくは２５／
７５〜７５／２５、さらに好ましくは３０／７０〜７０
／３０の範囲である。またＡ／Ｅの値としては、１／１
９〜７９／１、好ましくは１０／２０〜６９／１の範囲
である。またＢ／２Ｆの値としては１／９〜３９／１、
好ましくは５／１０〜３４／１の範囲である。またＢ／
Ｃまたは（Ｂ＋２Ｆ）／（Ｃ＋Ｄ）の値としては概略１
であり、通常４５／５５〜５５／４５、好ましくは４８
／５２〜５２／４８の範囲である。さらにＣ／Ｄの値と
しては、１／９〜３９／１、好ましくは５／１０〜３４
／１の範囲である。

【００４４】重合条件は特に限定されないが、通常、温
度１５０〜３５０℃、好ましくは２００〜３００℃、反
応時間は３０分以上、好ましくは１時間〜４０時間程度
である。また常圧下において重合反応を行うことが望ま
しい。なお重合反応を促進させるために、１−メチルイ
ミダゾール、４−ジメチルアミノピリジン等のアミン、
アルカリ金属塩、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｓｂ、Ｓｎ
などの金属塩を単独もしくは組み合わせて使用してもよ
い。また液晶性ポリエステルの分子量は、重合時間をコ
ントロールすること等により通常の縮合反応同様容易に
調整しうる。ここで液晶性ポリエステルの分子量は、フ
ェノール／テトラクロロエタン混合溶媒（６０／４０重
量比）中、３０℃で測定した対数粘度〔ηｉｎｈ〕で、
通常０．０５〜０．５、好ましくは０．０７〜０．４、
より好ましくは０．１〜０．３である。ηｉｎｈの値が
０．０５より低い場合には、強度が弱くなる恐れがあ
り、実用上問題となることがある。また０．５より高い
場合、液晶状態における流動性が低下することがあり、
均一な配向を得ることが困難となる恐れがある。

【００４５】さらに溶液重合法により液晶性ポリエステ
ルを製造する場合は、例えば所定量の４’−ヒドロキシ
−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸（構造単
位（Ａ）形成モノマー）、４，４’−スチルベンジカル
ボン酸（構造単位（Ｂ）形成モノマー）、カテコール
（構造単位（Ｃ）形成モノマー）を溶媒に溶解し加熱す
る。またはピリジン等に溶解し塩化アリールスルホニル
／ジメチルホルムアミドもしくはクロロリン酸ジフェニ
ル／ジメチルホルムアミドの存在下に加熱することによ
り、容易に目的のポリエステルを得ることができる。

【００４６】また溶液重合法により当該液晶性ポリエス
テルを合成する際における、構造単位（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）および任意に（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）から選ばれ
る少なくとも１種の構造単位を構成するモノマー成分の
仕込み比（モル比）は、上記溶融重合法と同様であり、
具体的にはＡ／（Ｂ＋Ｃ）、Ａ／（Ｂ＋Ｃ＋Ｄ）、Ａ／
（Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋２Ｆ）、（Ａ＋Ｅ）／（Ｂ＋Ｃ）、（Ａ
＋Ｅ）／（Ｂ＋Ｃ＋Ｄ）、または（Ａ＋Ｅ）／（Ｂ＋Ｃ
＋Ｄ＋２Ｆ）の値として通常２０／８０〜８０／２０、
好ましくは２５／７５〜７５／２５、さらに好ましくは
３０／７０〜７０／３０の範囲である。またＡ／Ｅの値
としては、１／１９〜７９／１、好ましくは１０／２０
〜６９／１の範囲である。またＢ／２Ｆの値としては１
／９〜３９／１、好ましくは５／１０〜３４／１の範囲
である。またＢ／Ｃまたは（Ｂ＋２Ｆ）／（Ｃ＋Ｄ）の
値としては概略１であり、通常４５／５５〜５５／４
５、好ましくは４８／５２〜５２／４８の範囲である。
さらにＣ／Ｄの値としては、１／９〜３９／１、好まし
くは５／１０〜３４／１の範囲である。

【００４７】溶液重合する際に用いる溶媒は特に限定さ
れないが、例えばｏ−ジクロロベンゼン、ジクロロエタ
ン、テトラクロロエタンなどのハロゲン系溶媒、ジメチ
ルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）などの極
性溶媒、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサンな
どのエーテル系溶媒などが挙げられる。また酸受容体と
しては、特に限定されないが、例えばピリジン、トリエ
チルアミン、トリプロピルアミンなどが挙げられる。溶
液重合の際の反応条件は特に限定されないが、通常温度
５０〜２００℃、好ましくは６０〜１５０℃、反応時間
は通常１時間以上、好ましくは２時間〜１０時間程度で
ある。

【００４８】次いで光学活性な液晶性ポリエステルにつ
いて説明する。該ポリエステルは、前記した構造単位
（Ｇ）および（Ｈ）とから構成される光学活性な液晶性
ポリエステルが望ましい。構造単位（Ｇ）は、液晶性を
発現するためのメソーゲンとしての役割を果たす必須成
分であり、具体的には４，４’−スチルベンジカルボン
酸、４，４’−ビフェニルジカルボン酸、２，６−ナフ
タレンジカルボン酸、テレフタル酸またはそれぞれの機
能性誘導体（例えばジメチルエステル等のジアルキルエ
ステルやジクロリドのような酸クロリド）から誘導され
る単位である。構造単位（Ｇ）は光学活性な液晶性ポリ
エステル中、通常３０〜６０モル％、好ましくは３０〜
５０モル％、さらに好ましくは３５〜５０モル％の割合
で含まれる。なお構造単位（Ｇ）は、２種以上の異なる
ものを当該ポリエステル中に含んでもよい。具体的には
構造単位（Ｇ）形成モノマーとして、例えば４，４’−
スチルベンジカルボン酸と４，４’−ビフェニルジカル
ボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、またはテレ
フタル酸とを後述する当該ポリエステルの合成の際に供
することにより、構造単位（Ｇ）を２種以上含む光学活
性な液晶性ポリエステルを得ることができる。

【００４９】また構造単位（Ｈ）は、コレステリック液
晶相を発現するための必須成分であり、具体的には光学
活性な２−メチル−１，４−ブタンジオール、２，４−
ペンタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−ク
ロロ−１，４−ブタンジオール、２−フルオロ−１，４
−ブタンジオール、２−ブロモ−１，４−ブタンジオー
ル、２−エチル−１，４−ブタンジオール、２−プロピ
ル−１，４−ブタンジオールまたはそれぞれの機能性誘
導体（例えばジアセトキシ化合物などの誘導体）から形
成される単位である。上記ジオール類はＲ体、Ｓ体のい
ずれでも良く、またＲ体およびＳ体の混合物であっても
よい。ここでＲ体およびＳ体の混合物である場合、両者
の差が少なくとも１％以上、好ましくは１０％以上、さ
らに好ましくは２０％以上であることが必要である。Ｒ
体、Ｓ体の差が１％未満の場合には、コレステリック液
晶相を呈しない恐れがあり望ましくない。また構造単位
（Ｈ）は、光学活性な液晶性ポリエステル中に通常４０
〜７０モル％、好ましくは５０〜７０モル％、さらに好
ましくは５０〜６５モル％の割合で含む。したがって当
該液晶性ポリエステルは、構造単位（Ｈ）を構造単位
（Ｇ）より過剰に含むために該ポリエステルの分子鎖構
造としては、両末端に水酸基が残った分子鎖構造を通常
形成している。上記の如き光学活性な液晶性ポリエステ
ルとしては具体的には、次のものを例示することができ
る。

【００５０】

【化３６】

【００５１】

【化３７】

【００５２】

【化３８】

【００５３】

【化３９】

【００５４】

【化４０】

【００５５】

【化４１】

【００５６】

【化４２】

【００５７】上記の光学活性な液晶性ポリエステルは、
上記の構造単位に対応するモノマー成分を共重合して得
ることができる。重合方法は特に制限されるものではな
く、公知の溶融重合法または溶液重合法を適用すること
により製造することができる。溶液重合法により光学活
性な液晶性ポリエステルを合成する場合、例えば所定量
の４，４’−スチルベンジカルボン酸ジメチル（構造単
位（Ｇ）形成モノマー）、光学活性な２−メチル−１，
４−ブタンジオール（構造単位（Ｈ）形成モノマー）を
高温、減圧下または高真空下で重合させることによっ
て、容易に目的のポリエステルを得ることができる。こ
こで構造単位（Ｇ）、（Ｈ）の仕込み比（モル比）とし
ては、Ｇ／Ｈの値として通常３０／７０〜６０／４０、
好ましくは３０／７０〜５０／５０、さらに好ましくは
３５／６５〜５０／５０の範囲である。重合条件は特に
限定されないが、通常、温度１５０〜３５０℃、好まし
くは２００〜３００℃、反応時間は３０分以上、好まし
くは１時間〜４０時間程度である。また常圧下において
重合反応を行うことが望ましい。なお重合反応を促進さ
せるために、１−メチルイミダゾール、４−ジメチルア
ミノピリジン等のアミン、アルカリ金属塩、Ｆｅ、Ｍ
ｎ、Ｃｄ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｓ
ｂ、Ｓｎなどの金属塩を単独もしくは組み合わせて使用
してもよい。また分解抑制剤としてリン化合物などを添
加してもよい。また光学活性な液晶性ポリエステルの分
子量は、重合時間をコントロールすることなどにより通
常の縮合反応同様容易に調整しうる。

【００５８】ここで当該液晶性ポリエステルの分子量
は、フェノール／テトラクロロエタン混合溶媒（６０／
４０重量比）中、３０℃で測定したηｉｎｈの値で、通
常０．０５〜０．５、好ましくは０．０７〜０．４、よ
り好ましくは０．１〜０．３である。ηｉｎｈの値が
０．０５より低い場合、前述した第１成分の液晶性ポリ
エステルとの組成物の強度が低くなる恐れがあり、実用
上問題である。またηｉｎｈの値が０．５より高い場合
には、第１成分の液晶性ポリエステルとの組成物とした
際、該組成物の液晶状態での流動性が低くなる可能性が
あり、均一な配向を得ることが困難となる恐れがある。
さらに溶液重合法により光学活性な液晶性ポリエステル
を製造する場合は、例えば所定量の４，４’−スチルベ
ンジカルボン酸ジハライド（構造単位（Ｇ）形成モノマ
ー）、光学活性な２−メチル−１，４−ブタンジオール
（構造単位（Ｈ）形成モノマー）を溶媒に溶解し、ピリ
ジンなどの酸受容体の存在下に加熱することにより、容
易に目的のポリエステルを得ることができる。ここで
４，４’−スチルベンジカルボン酸ジハライドとして
は、４，４’−スチルベンジカルボン酸ジクロリド、
４，４’−スチルベンジカルボン酸ジブロミドなどが挙
げられる。

【００５９】また溶液重合法により当該液晶性ポリエス
テルを合成する際における、構造単位（Ｇ）および
（Ｈ）を構成するモノマー成分の仕込み比（モル比）
は、上記溶融重合法と同様であり、具体的にはＧ／Ｈの
値として通常３０／７０〜６０／４０、好ましくは３０
／７０〜５０／５０、さらに好ましくは３５／６５〜５
０／５０の範囲である。溶融重合する際に用いる溶媒は
特に限定されないが、例えばｏ−ジクロロベンゼン、ジ
クロロエタン、テトラクロロエタンなどのハロゲン系溶
媒、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ジメチルホル
ムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）
などの極性溶媒、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオ
キサンなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。また酸
受容体としては、特に限定されないが、例えばピリジ
ン、トリエチルアミン、トリプロピルアミンなどが挙げ
られる。溶液重合の際の反応条件は特に限定されない
が、通常温度５０〜２００℃、好ましくは６０〜１５０
℃、反応時間は通常１時間以上、好ましくは２時間〜１
０時間程度である。

【００６０】本発明に用いられるコレステリック配向フ
ィルムは、前述した第１成分の液晶性ポリエステルを５
０〜９９．５重量％、好ましくは６０〜９０重量％、さ
らに好ましくは７０〜８０重量％および光学活性な液晶
性ポリエステルを０．５〜５０重量％、好ましくは１０
〜４０重量％、さらに好ましくは２０〜３０重量％とか
ら成る。第１成分の液晶性ポリエステルが５０％未満で
あると、ガラス転移温度の低下を招く恐れがあり、耐熱
性の上で望ましくない。また９９．５％より多く含む場
合、螺旋ピッチが広くなりすぎる恐れがあり実用的な選
択反射を示さない可能性がある。なお本発明に供される
液晶性ポリエステル組成物の組成を決定するうえで、各
ポリエステルの組成によっても変わり得るが、第１成分
の液晶性ポリエステルが約８５％以上の場合には、選択
反射は赤外領域に移動する。また約６５％以下の場合に
は、紫外領域に移動する。これらのことを勘案し、当該
組成物の組成を決定する。また第１成分の液晶性ポリエ
ステルと光学活性な液晶性ポリエステルとの混合方法は
特に制限されるものではない。例えば両者を融点以上に
加熱し混合、または適当な溶媒に溶解したのち混合する
方法を採用することができる。本発明では、２００〜２
７０℃の高温で混合する加熱混合を好ましい混合方法と
して推奨する。

【００６１】以上のようにして得られる液晶性ポリエス
テル組成物は、液晶状態にある当該組成物を任意の冷却
速度にて冷却した際、結晶相への相転移が実質的に発生
しない。また本発明に供される液晶性ポリエステル組成
物は、液晶状態においてはモノドメインなコレステリッ
ク配向性を示し、かつその配向状態を容易に固定化でき
る。コレステリック配向の安定した固定化を行うために
は、液晶の相系列で見た場合、コレステリック相より低
温部に結晶相を持たないことが重要である。コレステリ
ック相より低温部に結晶相が存在する場合、固定化のた
めに冷却するときに必然的に結晶相を通過することにな
り、結果的に一度得られたコレステリック配向が破壊さ
れてしまう。さらに本発明に供される液晶性ポリエステ
ル組成物は、基本的に液晶状態においてモノドメインな
コレステリック配向を形成し、液晶転移温度以下ではガ
ラス状態を呈する。したがって当該組成物は、液晶転移
温度（ガラス転移温度）以下においては、液晶状態にお
ける分子配向状態、具体的にはコレステリック配向状態
をそのまま保持しうる特徴を有する。該特徴を利用する
ことにより本発明に好適なコレステリック配向フィルム
を製造することができる。

【００６２】当該フィルムは、以下に説明する配向基板
および各工程を踏むことが本発明においては好ましい。
配向基板としては、具体的にはポリイミド、ポリイミド
アミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテ
ルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスル
フォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネー
ト、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコ
ール、フェノール樹脂などのプラスチックフィルム基
板、表面にラビング処理が施された上記プラスチックフ
ィルム基板および表面をスリット状にエッチング加工し
たアルカリガラス、ホウ珪酸ガラス、フリントガラスな
どのガラス基板などの面内の異方性を有しているものが
好ましく用いられる。コレステリック配向フィルムは、
上記の如き配向基板上に均一に液晶性ポリエステル組成
物を塗布し、次いで均一配向過程、配向状態の固定化過
程を経て得られる。該ポリエステル組成物の配向基板へ
の塗布は、通常、該組成物を各種溶媒に溶解した溶液状
態または該組成物を溶融した溶融状態で行うことができ
る。製造プロセス上、液晶性ポリエステル組成物を溶媒
に溶解した溶液を用いて塗布する、溶液塗布が望まし
い。

【００６３】溶液塗布について説明する。液晶性ポリエ
ステル組成物を溶媒に溶かし、所定濃度の溶液を調製す
る。フィルムの膜厚（液晶性ポリエステル組成物より形
成される層の膜厚）は、該組成物を基板に塗布する段階
で決まるため、精密に濃度、塗布膜の膜厚などの制御を
する必要がある。上記溶媒としては、液晶性ポリエステ
ル組成物の組成比などによって異なるため一概には言え
ないが、通常はクロロホルム、ジクロロメタン、四塩化
炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロ
ロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、
オルソジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、
フェノール、パラクロロフェノールなどのフェノール
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼ
ン、１，２−ジメトキシベンゼンなどの芳香族炭化水素
類、アセトン、酢酸エチル、ｔｅｒｔ−ブチルアルコー
ル、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレング
リコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、エチルセルソル
ブ、ブチルセルソルブ、２−ピロリドン、Ｎ−メチルピ
ロリドン、ピリジン、トリエチルアミン、テトラヒドロ
フラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ブチロニ
トリル、二硫化炭素など、およびこれらの混合溶媒、例
えばハロゲン化炭化水素類とフェノール類との混合溶媒
などが用いられる。

【００６４】溶液の濃度は、用いる液晶性ポリエステル
組成物の溶解性や最終的に目的とする光学フィルムの膜
厚に依存するため一概には言えないが、通常３〜５０重
量％の範囲で使用され、好ましくは７〜３０重量％の範
囲である。上記の濃度に調節することにより、通常０．
１μｍ以上２０μｍ以下、好ましくは０．２μｍ以上１
０μｍ以下、さらに好ましくは０．３μ以上５μｍ以下
の膜厚を有するコレステリック配向フィルムを得ること
ができる。上記の溶媒を用いて所望の濃度に調整した液
晶性ポリエステル組成物の溶液を、次に上述にて説明し
た配向基板上に塗布する。塗布の方法としては、スピン
コート法、ロールコート法、ダイコート法、プリント
法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法などを採用でき
る。塗布後、溶媒を除去し、配向基板上に膜厚の均一な
該組成物の層を形成させる。溶媒除去条件は、特に限定
されず、溶媒がおおむね除去でき、該組成物の層が流動
したり、流れ落ちたりさえしなければ良い。通常、室温
での乾燥、乾燥炉での乾燥、温風や熱風の吹き付けなど
を利用して溶媒を除去する。

【００６５】乾燥した後、通常５０℃から３００℃、好
ましくは１００℃から２６０℃の範囲において熱処理を
行い、コレステリック配向を形成させる。また熱処理時
間は、液晶性ポリエステル組成物の組成比などによって
異なるため一概にはいえないが、通常１０秒から１２０
分、好ましくは３０秒から６０分の範囲である。１０秒
より短い場合はコレステリック配向が不十分となる恐れ
がある。また１２０分より長い場合は、生産性が低下す
る恐れがあり望ましくない。このようにして、まず液晶
状態で配向基板上全面にわたって均一なコレステリック
配向を得ることができる。なお、上記の熱処理工程にお
いて、液晶性ポリエステル組成物をコレステリック配向
させるために磁場や電場を利用しても特に構わない。

【００６６】熱処理によって形成したコレステリック配
向を、次に該ポリエステル組成物の液晶転移点以下の温
度に冷却することにより、該配向の均一性を全く損なわ
ずに固定化することができる。上記冷却温度は、液晶転
移点以下の温度であれば特に制限はない。たとえば液晶
転移点より１０℃低い温度において冷却することによ
り、均一なコレステリック配向を固定化することができ
る。冷却の手段は、特に制限はなく、熱処理工程におけ
る加熱雰囲気中から液晶転移点以下の雰囲気中、例えば
室温中に出すだけで固定化される。また、生産の効率を
高めるために、空冷、水冷などの強制冷却、徐冷を行っ
てもよい。以上の工程によって、コレステリック配向フ
ィルムを得ることができる。

【００６７】当該フィルムを光選択透過性素子として使
用する際の使用形態としては、 上述の配向基板を該フィルムから剥離して、コレス
テリック配向フィルム単体で用いる、 配向基板上に形成したそのままの状態で用いる、 配向基板とは異なる別の基板にコレステリック配向
フィルムを積層して用いる、 ということが挙げられる。

【００６８】フィルム単体として用いる場合には、配向
基板をコレステリック配向フィルムとの界面で、ロール
などを用いて機械的に剥離する方法、構造材料すべてに
対する貧溶媒に浸漬した後機械的に剥離する方法、貧溶
媒中で超音波をあてて剥離する方法、配向基板と該フィ
ルムとの熱膨張係数の差を利用して温度変化を与えて剥
離する方法、配向基板そのもの、または配向基板上の配
向膜を溶解除去する方法などによって、フィルム単体を
得る。剥離性は、用いる液晶性ポリエステル組成物の組
成比などと配向基板との密着性によって異なるため、そ
の系に最も適した方法を採用すべきである。なおコレス
テリック配向フィルム単体で光学素子として用いる場
合、膜厚によっては自己支持性のないことがあるが、そ
の際には光学性質上好ましい基板、例えばポリメタクリ
レート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポ
リエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリアリレー
ト、ポリイミド、アモルファスポリオレフィン、トリア
セチルセルロースなどのプラスチック基板上に接着剤ま
たは粘着剤を介して固定して用いるほうが、コレステリ
ック配向フィルムを有する光選択透過性素子としての強
度、信頼性などのために望ましい。

【００６９】次に、配向基板上に形成した状態でコレス
テリック配向フィルムを用いる場合について説明する。
配向基板が透明で光学的に等方であるか、あるいは光選
択透過性素子として用いる際に該配向基板が該素子にと
って必要な部材である場合には、そのまま目的とする光
選択透過性素子として使用することができる。さらに配
向基板上のコレステリック配向フィルムは、該基板から
剥離して、光選択透過性素子としての用途により適した
別の基板上に積層して使用することもできる。すなわ
ち、該フィルムと配向基板とは異なる別の基板とから少
なくとも構成される積層体を光選択透過性素子として使
用することができる。目的とする光選択透過性素子に適
した基板（以下、第２の基板という）と配向基板上のコ
レステリック配向フィルムとを、例えば接着剤または粘
着剤を用いて貼りつける。次いで、配向基板をコレステ
リック配向フィルムとの界面で剥離し、該フィルムを光
選択透過性素子に適した第２の基板側に転写して当該素
子を得ることができる。

【００７０】転写に用いられる第２の基板としては、適
度な平面性を有するものであれば特に限定されないが、
ガラス基板や透明で光学的等方性を有するプラスチック
フィルムが好ましく用いられる。かかるプラスチックフ
ィルムの例としては、ポリメチルメタクリレート、ポリ
スチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルフォ
ン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ア
モルファスポリオレフィン、トリアセチルセルロースあ
るいはエポキシ樹脂などをあげることができる。また光
学的に異方性であっても、光選択透過性素子にとって必
要な部材である場合には、光学的異方性フィルムなども
用いることができる。このような例としては、ポリカー
ボネートやポリスチレンなどのプラスチックフィルムを
延伸して得られる光学フィルムなどがある。さらに上記
の如き第２の基板には、例えば熱線吸収剤などを適宜配
向したものであってもよい。転写に用いられる第２の基
板と、コレステリック配向フィルムとを貼り付ける接着
剤または粘着剤としては、光学グレードのものが好まし
く、アクリル系、エポキシ系、エチレン−酢酸ビニル共
重合体系、ゴム系、ウレタン系、およびこれらの混合系
などを使用することができる。また接着剤としては、熱
硬化型、光硬化型、電子線硬化型などのいずれの接着剤
でも光学的等方性を有していれば問題なく使用すること
ができる。

【００７１】またコレステリック配向フィルムを光選択
透過性素子に適した第２の基板への転写は、第２の基板
をコレステリック配向フィルムに接着した後、配向基板
を該フィルムとの界面で剥離することにより行える。剥
離方法は、上述でも説明したが、ロールなどを用いて機
械的に剥離する方法、貧溶媒中で超音波をあてて剥離す
る方法、配向基板と該フィルムとの熱膨張係数の差を利
用して温度変化を与えて剥離する方法、配向基板そのも
の、または配向基板上の配向膜を溶解除去する方法など
を例示することができる。剥離性は、用いる液晶性ポリ
エステル組成物の組成比などと配向基板との密着性によ
って異なるため、その系にもっとも適した方法を採用す
べきである。またコレステリック配向フィルムは、表面
保護、強度増加、環境信頼性向上などの目的のために透
明プラスチックフィルムなどの保護層を設けることもで
きる。上記の如くして得られるコレステリック配向フィ
ルムは、波長５９０ｎｍにおける複屈折率が通常０．２
以上、また波長５９０ｎｍにおけるコレステリック選択
反射スペクトルの帯域幅が１００ｎｍ以上という物性値
を有する。上記複屈折率、コレステリック選択反射スペ
クトルの帯域幅は当該公知の手法によって測定すること
ができる。

【００７２】本発明に用いられるコレステリック配向フ
ィルムは、従来の自己配向型高分子液晶からなるフィル
ムでは得ることが困難であった高複屈折率、広選択反射
帯域幅を有しているため、光選択透過性部材として好適
に用いることができる。さらにコレステリック配向フィ
ルムの複屈折率、選択反射帯域幅は、該液晶性ポリエス
テル組成物の組成比、ポリエステルの種類を変えること
により、所望の値に調整することが可能である。さらに
目的、用途などに応じ当該コレステリック配向フィルム
に対して、他の液晶性低分子・高分子からなるコレステ
リックフィルム、液晶性低分子化合物が均一分散した透
明フィルム、熱線反射フィルム、熱線吸収フィルムなど
に代表される種々の光学フィルムを積層し光選択透過性
素子として用いることもできる。なお積層方法などは、
特に制限されるものではない。以上、本発明の光選択透
過性素子は、紫外線の透過を実質上防止し、可視から赤
外領域の光の透過、反射および反射幅を任意に調整でき
ることから、汎用分野、光学および光エレクトロニクス
分野への応用が大いに期待できるものであり工業的価値
が極めて高い。

【００７３】本発明の光選択透過性素子に用いられるコ
レステリック配向フィルムは、主鎖方向に共役系の延び
た分極率の高い特定のモノマー単位が含まれているた
め、それ自身で４００ｎｍまでの紫外光をほぼ吸収する
性質を有している。それ以上の可視、近赤外領域で任意
の波長幅をもつ光線を透過、反射させるには、光学活性
ポリエステルの含有量と、液晶性ポリエステルの複屈折
率を変えて調整する必要がある。光学活性ポリエステル
組成物の含有量が多い場合には、螺旋ピッチが小さくな
り短波長側に選択反射の中心波長がシフトし、光学活性
ポリエステル組成物の含有量が少ない場合には、螺旋ピ
ッチが大きくなり長波長側に選択反射の中心波長がシフ
トする。このように選択反射は、４００〜２５００ｎｍ
の波長領域で自在にシフト可能である。一方の選択反射
幅はコレステリック液晶の複屈折率によって規定される
ので、ポリエステルの種類、各構造単位の組成割合や組
成物の組成割合を調整することにより０．２〜０．５の
範囲で制御可能であり、その選択反射幅は４００〜２５
００ｎｍの波長領域で３０〜６００ｎｍと任意に制御可
能である。従って、螺旋ピッチと複屈折率の異なるコレ
ステリック配向フィルムや他の光学フィルムを積層すれ
ばより広範囲の波長を正確にカバーすることが可能であ
る。例えば、複屈折率：０．４５のコレステリック配向
フィルムの螺旋ピッチをそれぞれ０．５μｍ、０．６９
μｍ、０．９１μｍ、１．２２μｍと変化させた、厚さ
５〜１２μｍのフィルムを積層すると波長７８０〜２４
８０ｎｍの円偏光を全反射することができる。一方、選
択反射領域の反射率は、螺旋ピッチ数とフィルム層数に
よって４０〜５０％、９０〜１００％の範囲で制御可能
である。反射率は、螺旋ピッチ数によって変化し、通常
１０ピッチ以上あれば一方の円偏光のほとんどを反射す
る。従って十分な厚み（３〜１５μｍ）があれば、螺旋
ピッチとねじれ方向に応じた波長領域の円偏光を１００
％選択反射することができる。厚みが十分であれば、左
ねじれのコレステリック配向フィルムは左円偏光を全反
射するので、全光線の５０％を、さらにその上に右ねじ
れの例えばコレステリック配向フィルムを積層すれば右
円偏光が全反射されるのでトータルとしてピッチに対応
する光線が１００％反射されることになる。以下に具体
的な実施例を述べさらに詳細に本発明について説明する
が、本発明はこれらに制限されるものではない。なお、
実施例で用いた各分析法は以下のとおりである。

【００７４】１．対数粘度 ウベローデ型粘度計を用いフェノール／１，１，２，２
−テトラクロロエタン＝６０／４０（重量比）を溶媒と
してポリマー濃度０．５ｇ／ｄｌ、３０℃において測定
した。 ２．ガラス転移温度 Ｄｕｐｏｎｔ ９９０ Ｔｈｅｒｍａｌ Ａｎａｌｉｚ
ｅｒを用い２０℃／ｍｉｎ．の昇温速度にて測定した。 ３．光学組織観察 メトラー社製ホットステージＦＰ８０／８２及びオリン
パス光学社製ＢＨ−２偏光顕微鏡を用いて観察した。

【００７５】４．フィルム化と複屈折率の測定 ネマチック液晶ポリマーの複屈折率Δｎの測定法 ポリマーの１５ｗｔ％ＮＭＰ溶液を調整し、配向処理
（ラビング処理）を施した基板上にスピンコーターを用
いて該溶液を塗布する。次いで該基板をホットプレート
上にて乾燥後オーブンを用いて熱処理を施した後、放冷
することにより均一ネマチック配向状態を固定化したフ
ィルムを得る。得られたフィルムについて回転ステージ
付き偏光顕微鏡によりクロスニコル下、消光軸の確認を
行い、ラビング処理方向に沿った消光軸の屈折率をｎ
ｅ、垂直な消光軸の屈折率をｎｏとする。 ｎｅ＜１．８、ｎｏ＜１．８の場合、 アッベの屈折計を用いＮａＤ線（５９０ｎｍ）にてｎ
ｅ、ｎｏを測定し複屈折率Δｎ（５９０ｎｍ）＝ｎｅ
（５９０ｎｍ）−ｎｏ（５９０ｎｍ）として導いた。 ｎｅ≧１．８、ｎｏ＜１．８の場合 アッベの屈折計を用いＮａＤ線（５９０ｎｍ）にてｎｏ
を測定した。次に干渉膜厚計によりフィルム消光軸に沿
った偏光を用い、それぞれ直交する５９０ｎｍにおける
ｎｅ×ｄ（５９０ｎｍ）、ｎｏ×ｄ（５９０ｎｍ）を測
定した。ここでｄはフィルム膜厚である。アッベの屈折
計から得られたｎｏ（５９０ｎｍ）よりフィルム膜厚ｄ
を ｄ＝ｎｏ×ｄ（５９０ｎｍ）／ｎｏ（５９０ｎｍ） として算出した。得られたフィルム膜厚ｄを用いて ｎｅ＝ｎｅ×ｄ（５９０ｎｍ）／ｄ を算出し複屈折率Δｎ（５９０ｎｍ）＝ｎｅ−ｎｏを求
めた。

【００７６】 コレステリック液晶ポリマー組成物の
複屈折率Δｎの測定法 ポリマーの１５ｗｔ％ＮＭＰ溶液を調整し、配向処理
（ラビング処理）を施した基板上にスピンコーターを用
いて該溶液を塗布する。該基板をホットプレート上にて
乾燥後オーブンを用いて熱処理を施した後、放冷するこ
とにより均一コレステリック配向状態を固定化したフィ
ルムを得る。得られたフィルムについて紫外可視近赤外
分光スペクトルの測定を行い、選択反射帯域幅Δλと、
選択反射の中心波長λｓを実測する。これらの実測値を
もとに、以下の式からシミュレーションを行い、実測の
Δλに最も近似するｎｅ値を算出した。

【００７７】

【数２】

【００７８】求めたｎｅ値からΔｎを以下の式によって
算出した。 Δｎ＝ｎｅ−ｎｏ ここで、計算に用いたｎｏは測定に用いたコレステリッ
ク液晶ポリマー組成物のほとんどを占めるネマチック液
晶ポリマーの実測値である。

【００７９】合成例 １ 攪拌装置、窒素導入管、液体トラップを備えた重合反応
器に、４’−アセトキシ−３’−メトキシ−４−スチル
ベンカルボン酸１８．７４ｇ（６０ｍｍｏｌ）、６−ア
セトキシ−２−ナフトエ酸３．４５ｇ（１５ｍｍｏ
ｌ）、カテコールジアセテート６．１２ｇ（３１．５ｍ
ｍｏｌ）、スチルベンジカルボン酸５．３６ｇ（２０ｍ
ｍｏｌ）及び４’−メトキシ−４−スチルベンカルボン
酸５．０９ｇ（２０ｍｍｏｌ）を仕込み反応器内を窒素
置換した。窒素雰囲気下、発生する酢酸を留去しながら
２４０℃で２時間、２６０℃で２時間、さらに２８０℃
で２４時間反応を実施した。得られたポリエステルの対
数粘度は０．２１、ガラス転移温度は１１０℃であっ
た。また偏光顕微鏡観察の結果、このポリエステルはガ
ラス転移温度以上でネマチック液晶相を示し、かつガラ
ス転移温度以下に冷却しても結晶相への転移は認められ
ずネマチック液晶状態を固定化可能であった。複屈折率
測定の結果、本ポリエステルの液晶固定化状態における
５９０ｎｍでの複屈折率（Δｎ）は０．４６４（ｎｅ：
２．０４３、ｎｏ：１．５７９）であった。なお、紫外
可視分光スペクトルから４１０ｎｍ、４００ｎｍ、３９
０ｎｍのそれぞれの透過率は８２％、３８％、０％であ
った。

【００８０】合成例 ２ メチルヒドロキノンジアセテート７．２８ｇ（３５ｍｍ
ｏｌ）、カテコールジアセテート１２．６２ｇ（６５ｍ
ｍｏｌ）、及びテレフタル酸１６．６１ｇ（１００ｍｍ
ｏｌ）を用いた他は、合成例１と同様の手法により反応
を実施した。得られたポリエステルの対数粘度は０．１
５、ガラス転移温度は１０８℃であった。また偏光顕微
鏡観察の結果、このポリエステルはガラス転移温度以上
でネマチック液晶相を示し、かつガラス転移温度以下に
冷却しても結晶相への転移は認められずネマチック液晶
状態を固定化可能であった。複屈折率測定の結果、本ポ
リエステルの液晶固定化状態における５９０ｎｍでの複
屈折率は０．２００（ｎｅ：１．７５０、ｎｏ：１．５
５０）であった。

【００８１】合成例 ３〜１０ モノマー仕込み比を変えた以外は、合成例１と同様の手
法を用いて反応を実施した。結果を表１に示す。また、
これらのポリエステルは全て偏光顕微鏡観察の結果、ガ
ラス転移温度以上でネマチック液晶相を示し、かつガラ
ス転移温度以下に冷却しても結晶相への転移は認められ
ずネマチック液晶状態を固定化可能であった。

【００８２】合成例 １１ 攪拌装置、窒素導入管、液体トラップを備えた重合反応
器に、（Ｓ）−２−メチル−１，４−ブタンジオール
（ｅｎａｎｔｉｏｔｒｏｐｉｃ ｅｘｅｓｓ，ｅ，ｅ＝
９３％）６．１５ｇ（５９．０６ｍｍｏｌ）、４，４’
−スチルベンジカルボン酸ジメチル１０．０ｇ（３３．
７５ｍｍｏｌ）、テレフタル酸ジメチル１．６４ｇ
（８．４４ｍｍｏｌ）、及びテトラブトキシチタン１滴
を仕込み反応器内を窒素置換した。窒素雰囲気下、発生
するメタノールを留去しながら２１０℃で２時間反応さ
せた。得られたポリエステルの対数粘度は０．１２、ガ
ラス転移温度は９７℃、アイソトロピック転移温度は１
７８℃であった。

【００８３】合成例 １２ （Ｓ）−２−メチル−１，４−ブタンジオール（ｅ，ｅ
＝９３％）８．１０ｇ（７７．８ｍｍｏｌ）、４，４’
−ビフェニルジカルボン酸ジメチル１３．５１ｇ（５０
ｍｍｏｌ）、テレフタル酸ジメチル１．０８ｇ（５．５
６ｍｍｏｌ）、及びテトラブトキシチタン１滴を用いた
以外は、合成例３と同様の手法により反応を実施した。
得られたポリエステルの対数粘度は０．１１、ガラス転
移温度は６０℃、アイソトロピック転移温度は１８２℃
であった。

【００８４】合成例 １３ （Ｒ）−２−メチル−１，４−ブタンジオール（ｅ，ｅ
＝９３％）６．１５ｇ（５９．０６ｍｍｏｌ）、４，
４’−スチルベンジカルボン酸ジメチル１０．０ｇ（３
３．７５ｍｍｏｌ）、テレフタル酸ジメチル１．６４ｇ
（８．４４ｍｍｏｌ）、及びテトラブトキシチタン１滴
を用いた以外は、合成例３と同様の手法により反応を実
施した。得られたポリエステルの対数粘度は０．１２、
ガラス転移温度は９７℃、アイソトロピック転移温度は
１７８℃であった。

【００８５】実施例 １ 合成例３で得られたポリエステル７．１２ｇ、合成例１
１から得られたポリエステル２．８９ｇを反応器内に仕
込み、窒素雰囲気下、２５０℃で１時間溶融ブレンドを
行った。得られたポリエステルの１５ｗｔ％ＮＭＰ溶液
（含界面活性剤：０．０３ｗｔ％対ポリエステル）を調
整し、配向処理（ラビング処理）を施した基板上にスピ
ンコーターを用いて該溶液を塗布した。該基板を６０℃
のホットプレート上にて３０分間乾燥後、２２０℃のオ
ーブンを用いて１０分間熱処理を施した後、放冷するこ
とにより均一コレステリック配向状態を固定化したフィ
ルムを得た。当該フィルムのコレステリック選択反射帯
域の測定を行った結果、液晶固定化状態における帯域幅
は１１２ｎｍ（４９０ｎｍ）、Δｎは０．４１、螺旋ピ
ッチは０．２９μｍ、膜厚は２．０μｍであった。

【００８６】実施例 ２ 合成例３で得られたポリエステル７．６２ｇ、合成例１
１から得られたポリエステル２．３８ｇを反応器内に仕
込み、窒素雰囲気下、２５０℃で１時間溶融ブレンドを
行った。得られたポリエステル組成物の１５ｗｔ％ＮＭ
Ｐ溶液（含界面活性剤：０．０３ｗｔ％対ポリエステ
ル）を調整し、配向処理（ラビング処理）を施した基板
上にスピンコーターを用いて該溶液を塗布した。該基板
を６０℃のホットプレート上にて３０分間乾燥後、２２
０℃のオーブンを用いて１０分間熱処理を施した後、放
冷することにより均一コレステリック配向状態を固定化
したフィルムを得た。当該フィルムのコレステリック選
択反射帯域の測定を行った結果、液晶固定化状態におけ
る帯域幅は１３５ｎｍ（５９０ｎｍ）、Δｎは：０．４
１、螺旋ピッチは０．３５μｍ、膜厚は２．２μｍであ
った。

【００８７】実施例 ３ 合成例４で得られたポリエステル７．７０ｇ、合成例１
１から得られたポリエステル２．３０ｇを反応器内に仕
込み、窒素雰囲気下、２５０℃で１時間溶融ブレンドを
行った。得られたポリエステル組成物の１５ｗｔ％ＮＭ
Ｐ溶液（含界面活性剤：０．０３ｗｔ％対ポリエステ
ル）を調整し、配向処理（ラビング処理）を施した基板
上にスピンコーターを用いて該溶液を塗布した。該基板
を６０℃のホットプレート上にて３０分間乾燥後、２２
０℃のオーブンを用いて１０分間熱処理を施した後、放
冷することにより均一コレステリック配向状態を固定化
したフィルムを得た。当該フィルムのコレステリック選
択反射帯域の測定を行った結果、液晶固定化状態におけ
る帯域幅は１３７ｎｍ（６０５ｎｍ）、Δｎは：０．４
１、螺旋ピッチは０．３６μｍ、膜厚は２．１μｍであ
った。

【００８８】実施例 ４ 合成例４で得られたポリエステル７．５１ｇ、合成例１
１から得られたポリエステル２．４９ｇを反応器内に仕
込み、窒素雰囲気下、２５０℃で１時間溶融ブレンドを
行った。得られたポリエステル組成物の１５ｗｔ％ＮＭ
Ｐ溶液（含界面活性剤：０．０３ｗｔ％対ポリエステ
ル）を調整し、配向処理（ラビング処理）を施した基板
上にスピンコーターを用いて該溶液を塗布した。該基板
を６０℃のホットプレート上にて３０分間乾燥後、２２
０℃のオーブンを用いて１０分間熱処理を施した後、放
冷することにより均一コレステリック配向状態を固定化
したフィルムを得た。当該フィルムのコレステリック選
択反射帯域の測定を行った結果、液晶固定化状態におけ
る帯域幅は１３５ｎｍ（５９０ｎｍ）、Δｎは：０．４
１、螺旋ピッチは０．３５μｍ、膜厚は１．８μｍであ
った。

【００８９】実施例 ５ 合成例５で得られたポリエステル７．２１ｇ、合成例１
１から得られたポリエステル２．７９ｇを反応器内に仕
込み、窒素雰囲気下、２５０℃で１時間溶融ブレンドを
行った。得られたポリエステル組成物の１５ｗｔ％ＮＭ
Ｐ溶液（含界面活性剤：０．０３ｗｔ％対ポリエステ
ル）を調整し、配向処理（ラビング処理）を施した基板
上にスピンコーターを用いて該溶液を塗布した。該基板
を６０℃のホットプレート上にて３０分間乾燥後、２１
０℃のオーブンを用いて１０分間熱処理を施した後、放
冷することにより均一コレステリック配向状態を固定化
したフィルムを得た。当該フィルムのコレステリック選
択反射帯域の測定を行った結果、液晶固定化状態におけ
る帯域幅は１１７ｎｍ（５０３ｎｍ）、Δｎは：０．３
９、螺旋ピッチは０．３０μｍ、膜厚は１．９μｍであ
った。

【００９０】実施例 ６ 合成例５で得られたポリエステル７．７２ｇ、合成例１
１から得られたポリエステル２．２８ｇを反応器内に仕
込み、窒素雰囲気下、２５０℃で１時間溶融ブレンドを
行った。得られたポリエステル組成物の１５ｗｔ％ＮＭ
Ｐ溶液（含界面活性剤：０．０３ｗｔ％対ポリエステ
ル）を調整し、配向処理（ラビング処理）を施した基板
上にスピンコーターを用いて該溶液を塗布した。該基板
を６０℃のホットプレート上にて３０分間乾燥後、２１
０℃のオーブンを用いて１０分間熱処理を施した後、放
冷することにより均一コレステリック配向状態を固定化
したフィルムを得た。当該フィルムのコレステリック選
択反射帯域の測定を行った結果、液晶固定化状態におけ
る帯域幅は１３６ｎｍ（６０８ｎｍ）、Δｎは：０．３
９、螺旋ピッチは０．３６μｍ、膜厚は２．１μｍであ
った。

【００９１】実施例 ７ 合成例５で得られたポリエステル７．４９ｇ、合成例１
１から得られたポリエステル２．５１ｇを反応器内に仕
込み、窒素雰囲気下、２５０℃で１時間溶融ブレンドを
行った。得られたポリエステル組成物の１５ｗｔ％ＮＭ
Ｐ溶液（含界面活性剤：０．０３ｗｔ％対ポリエステ
ル）を調整し、配向処理（ラビング処理）を施した基板
上にスピンコーターを用いて該溶液を塗布した。該基板
を６０℃のホットプレート上にて３０分間乾燥後、２１
０℃のオーブンを用いて１０分間熱処理を施した後、放
冷することにより均一コレステリック配向状態を固定化
したフィルムを得た。当該フィルムのコレステリック選
択反射帯域の測定を行った結果、液晶固定化状態におけ
る帯域幅は１２９ｎｍ（５９０ｎｍ）、Δｎは：０．３
９、螺旋ピッチは０．３５μｍ、膜厚は２．１μｍであ
った。

【００９２】実施例 ８ 合成例６で得られたポリエステル７．５０ｇ、合成例１
１から得られたポリエステル２．５０ｇを反応器内に仕
込み、窒素雰囲気下、２５０℃で１時間溶融ブレンドを
行った。得られたポリエステル組成物の１５ｗｔ％ＮＭ
Ｐ溶液（含界面活性剤：０．０３ｗｔ％対ポリエステ
ル）を調整し、配向処理（ラビング処理）を施した基板
上にスピンコーターを用いて該溶液を塗布した。該基板
を６０℃のホットプレート上にて３０分間乾燥後、２０
０℃のオーブンを用いて１０分間熱処理を施した後、放
冷することにより均一コレステリック配向状態を固定化
したフィルムを得た。当該フィルムのコレステリック選
択反射帯域の測定を行った結果、液晶固定化状態におけ
る帯域幅は１１１ｎｍ（５９０ｎｍ）、Δｎは：０．３
３、螺旋ピッチは０．３４μｍ、膜厚は２．２μｍであ
った。

【００９３】実施例 ９ 合成例７で得られたポリエステル７．５０ｇ、合成例１
１から得られたポリエステル２．５０ｇを反応器内に仕
込み、窒素雰囲気下、２５０℃で１時間溶融ブレンドを
行った。得られたポリエステル組成物の１５ｗｔ％ＮＭ
Ｐ溶液（含界面活性剤：０．０３ｗｔ％対ポリエステ
ル）を調整し、配向処理（ラビング処理）を施した基板
上にスピンコーターを用いて該溶液を塗布した。該基板
を６０℃のホットプレート上にて３０分間乾燥後、２１
０℃のオーブンを用いて１０分間熱処理を施した後、放
冷することにより均一コレステリック配向状態を固定化
したフィルムを得た。当該フィルムのコレステリック選
択反射帯域の測定を行った結果、液晶固定化状態におけ
る帯域幅は１１７ｎｍ（５９０ｎｍ）、Δｎは：０．３
５、螺旋ピッチは０．３３μｍ、膜厚は２．２μｍであ
った。

【００９４】実施例 １０ 合成例８で得られたポリエステル７．５０ｇ、合成例１
１から得られたポリエステル２．５０ｇを反応器内に仕
込み、窒素雰囲気下、２５０℃で１時間溶融ブレンドを
行った。得られたポリエステル組成物の１５ｗｔ％ＮＭ
Ｐ溶液（含界面活性剤：０．０３ｗｔ％対ポリエステ
ル）を調整し、配向処理（ラビング処理）を施した基板
上にスピンコーターを用いて該溶液を塗布した。該基板
を６０℃のホットプレート上にて３０分間乾燥後、１９
０℃のオーブンを用いて１０分間熱処理を施した後、放
冷することにより均一コレステリック配向状態を固定化
したフィルムを得た。当該フィルムのコレステリック選
択反射帯域の測定を行った結果、液晶固定化状態におけ
る帯域幅は１０２ｎｍ（５９０ｎｍ）、Δｎは：０．３
０、螺旋ピッチは０．３４μｍ、膜厚は２．１μｍであ
った。

【００９５】実施例 １１ 合成例１０で得られたポリエステル７．５０ｇ、合成例
１１から得られたポリエステル２．５０ｇを反応器内に
仕込み、窒素雰囲気下、２５０℃で１時間溶融ブレンド
を行った。得られたポリエステル組成物の１５ｗｔ％Ｎ
ＭＰ溶液（含界面活性剤：０．０３ｗｔ％対ポリエステ
ル）を調整し、配向処理（ラビング処理）を施した基板
上にスピンコーターを用いて該溶液を塗布した。該基板
を６０℃のホットプレート上にて３０分間乾燥後、１９
０℃のオーブンを用いて１０分間熱処理を施した後、放
冷することにより均一コレステリック配向状態を固定化
したフィルムを得た。当該フィルムのコレステリック選
択反射帯域の測定を行った結果、液晶固定化状態におけ
る帯域幅は１１１ｎｍ（５９０ｎｍ）、Δｎは：０．３
３、螺旋ピッチは０．３４μｍ、膜厚は１．９μｍであ
った。

【００９６】実施例 １２ コレステリックポリマー
Ａ・フィルムＡの調整 攪拌装置、液体トラップを備えた重合反応器に、合成例
１で得られたポリエステル８．８８ｇ、合成例１１で得
られた光学活性ポリエステル１．１２ｇを仕込み、反応
器内を窒素置換し、窒素雰囲気下、２５０℃で１時間溶
融ブレンドを行った。得られたポリエステル組成物（コ
レステリックポリマーＡ）を偏光顕微鏡観察した結果、
ガラス転移温度以上でコレステリック液晶相を示し、か
つガラス転移温度以下に冷却しても結晶相への転移は認
められずコレステリック液晶状態を固定化可能であっ
た。当該組成物の１５ｗｔ％ＮＭＰ溶液（含界面活性
剤：０．０３ｗｔ％対ポリエステル）を調整し、配向処
理（ラビング処理）を施した基板上にスピンコーターを
用いて該溶液を塗布した。該基板を６０℃のホットプレ
ート上にて３０分間乾燥後、２２０℃のオーブンを用い
て１０分間熱処理を施した後、放冷することにより均一
コレステリック配向状態を固定化したフィルムを得た。
コレステリック選択反射帯域の測定を行った結果、フィ
ルムＡの液晶固定化状態における帯域幅は、３３８ｎｍ
（１３６０ｎｍ）、５９０ｎｍでのΔｎは０．４５、膜
厚は２．２μｍであった。なお、紫外可視分光スペクト
ルから４１０ｎｍ、４００ｎｍ、３９０ｎｍのそれぞれ
の透過率は８４％、３９％、０％であった。

【００９７】実施例 １３ コレステリックポリマー
Ｂ・フィルムＢの調整 合成例２で得られたポリエステル９．１７ｇ、合成例１
２から得られた光学活性ポリエステル０．８３ｇを反応
器内に仕込み、窒素雰囲気下、２５０℃で１時間溶融ブ
レンドを行った。得られた組成物（コレステリックポリ
マーＢ）の１５ｗｔ％ＮＭＰ溶液（含界面活性剤：０．
０３ｗｔ％対ポリエステル）を調整し、配向処理（ラビ
ング処理）を施した基板上にスピンコーターを用いて該
溶液を塗布した。該基板を６０℃のホットプレート上に
て３０分間乾燥後、２００℃のオーブンを用いて１０分
間熱処理を施した後、放冷することにより均一コレステ
リック配向状態を固定化したフィルムを得た。当該フィ
ルムＢのコレステリック選択反射帯域の測定を行った結
果、液晶固定化状態における帯域幅は１６２ｎｍ（１３
６０ｎｍ）、５９０ｎｍでのΔｎは０．２０、膜厚は
２．１μｍであった。

【００９８】実施例 １４ コレステリックポリマー
Ｃ・フィルムＣの調整 攪拌装置、液体トラップを備えた重合反応器に、合成例
１で得られたポリエステル８．８８ｇ、合成例１３から
得られた光学活性ポリエステル１．１２ｇを仕込み、反
応器内を窒素置換し、窒素雰囲気下、２５０℃で１時間
溶融ブレンドを行った。得られたポリエステル組成物
（コレステリックポリマーＣ）の偏光顕微鏡観察の結
果、ガラス転移温度以上でコレステリック液晶相を示
し、かつガラス転移温度以下に冷却しても結晶相への転
移は認められずコレステリック液晶状態を固定化可能で
あった。当該組成物の１５ｗｔ％ＮＭＰ溶液（含界面活
性剤：０．０３ｗｔ％対ポリエステル）を調整し、配向
処理（ラビング処理）を施した基板上にスピンコーター
を用いて該溶液を塗布した。該基板を６０℃のホットプ
レート上にて３０分間乾燥後、２２０℃のオーブンを用
いて１０分間熱処理を施した後、放冷することにより均
一コレステリック配向状態を固定化したフィルムを得
た。当該フィルムＣのコレステリック選択反射帯域の測
定を行った結果、液晶固定化状態における帯域幅は、３
３８ｎｍ（１３６０ｎｍ）、５９０ｎｍでのΔｎは０．
４５、膜厚は２．０μｍであった。

【００９９】実施例 １５ 実施例１２で得られたフィルムＡと実施例１４で得られ
たフィルムＣを積層して透過スペクトルを測定したとこ
ろ（構成：フィルムＡ／配向基板／フィルムＣ／配向基
板）、１３６０ｎｍにおける反射率は９７％であった。
透過領域（１０００ｎｍ）の透過率は８４％であった。

【０１００】実施例 １６ 実施例１３で得られたコレステリックポリマーＡと実施
例１４で得られたコレステリックポリマーＢの混合割合
を、複屈折率が０．２０〜０．４５の間となるように当
該割合を変化させた組成物を調整し、当該組成物をフィ
ルム化した。得られたフィルムについて、選択反射帯域
幅と反射率の関係を表２に示した。

【０１０１】実施例 １７ 合成例１０で得られた光学活性ポリエステルの量を変化
させて、合成例１で得られたポリエステルにブレンドし
た組成物を調整し、当該組成物をフィルム化した。得ら
れたフィルムの選択反射の中心波長、反射帯域幅、およ
び螺旋ピッチの関係を表３に示した。

【０１０２】

【表１】

【０１０３】

【表２】

【０１０４】

【表３】

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 波長５９０ｎｍにおける複屈折率（Δ
   ｎ）が０．２０〜０．５０の範囲にある少なくとも１層
   のコレステリック配向フィルムから形成されることを特
   徴とする光選択透過性素子。
2. 【請求項２】 コレステリック配向フィルムが、下記の
   液晶性ポリエステル５０〜９９．５重量％、及び光学活
   性な液晶性ポリエステル ０．５〜５０重量％より成る
   液晶性ポリエステル組成物をフィルム化して得たフィル
   ムからなることを特徴とする請求項１記載の光選択透過
   性素子。 〔液晶性ポリエステル〕下記構造単位（Ａ）、（Ｂ）お
   よび（Ｃ）を必須構造単位として有し、所望により構造
   単位（Ｄ）、（Ｅ）および（Ｆ）から選ばれる少なくと
   も１種の構造単位を有する液晶性ポリエステル。 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】 【化６】 〔光学活性な液晶性ポリエステル〕下記構造単位（Ｇ）
   および（Ｈ）より構成される光学活性な液晶性ポリエス
   テル。 【化７】 【化８】