JPS6234027B2 - - Google Patents

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JPS6234027B2
JPS6234027B2 JP55075690A JP7569080A JPS6234027B2 JP S6234027 B2 JPS6234027 B2 JP S6234027B2 JP 55075690 A JP55075690 A JP 55075690A JP 7569080 A JP7569080 A JP 7569080A JP S6234027 B2 JPS6234027 B2 JP S6234027B2
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JP55075690A
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Maruteru Jatsuku
Teshe Jan
Pieeru Domuuto Jan
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Roussel Uclaf SA
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Publication date
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Publication of JPS6234027B2 publication Critical patent/JPS6234027B2/ja
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D307/26—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
    • C07D307/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D307/32—Oxygen atoms
    • C07D307/33—Oxygen atoms in position 2, the oxygen atom being in its keto or unsubstituted enol form
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C59/00—Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
    • C07C59/40—Unsaturated compounds
    • C07C59/74—Unsaturated compounds containing —CHO groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D307/93—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with a ring other than six-membered

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Furan Compounds (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、置換ペンテン酸、その製造法に関す
る。
まず、本発明の主題は、次式 の３−ホルミル−４−メチルペンタ−３−エン−
１−酸にある。
また、本発明の主題は、次式 （ここでＺは求電子性基を表わす） の誘導体を次式 （ここでＲは、アルコールROHの残基Ｒを表わ
す） の誘導体と反応させ、次いで生じた次式 の化合物に塩基性試剤を作用させることを特徴と
する式の３−ホルミル−４−メチルペンタ−３
−エン−１−酸の製造法にある。
さらに詳しくは、本発明の主題は、基ＺがNO2
基であり、そして化合物とを第二アミン、第
三アミン、水酸化第四アンモニウム及び炭酸アル
カリよりなる群から選ばれる塩基の存在下に反応
させることを特徴とする前記の製造法にある。
化合物とを反応させる際に存在させる第三
アミンとしては、トリエチルアミンが有利に用い
られる。
また、本発明の主題は、基Ｚがヒドロキシル基
であり、そして化合物とを放射線照射下で又
はラジカル開始剤の存在下で反応させることを特
徴とする製造法にある。
ラジカル開始剤としては、過酸化ベンゾイル、
アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ジ−ｔ−ブ
チル、過安息香酸ｔ−ブチル又は過酸化ジラウロ
イルが有利に用いられる。
また、本発明の主題は、基Ｚがアリールスルホ
ニル基であり、そして化合物とを有機溶媒中
で強塩基の存在下で反応させることを特徴とする
製造法にある。
アリールスルホニル基のアリール基は、特にｐ
−トリル基である。
また、本発明の主題は、基Ｚがハロトリアリー
ルスホニオ基であり、そして化合物とを有機
溶媒中で強塩基の存在下で反応させることを特徴
とする上記の製造法にある。
ハロトリアリールホスホニオ基は、特に、ヨー
ドトリフエニルホスホニオ基である。
また、本発明の主題は、基Ｚがアリールスルホ
ニル基又はハロトリアリールホスホニオ基であ
り、そして強塩基がアルキルリチウム誘導体、ア
ルカリアミド、水素化アルカリ及びアルカリアル
コラートよりなる群から選ばれ、使用する溶媒が
テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、ジ
メトキシエタン、ジメチルホルムアミド、ヘキサ
メチルホスホルアミド、芳香族炭化水素及びシク
ロアルカンよりなる群から選ばれることを特徴と
する上記の製造法にある。
Ｚがアリールスルホニル基又はハロトリアリー
ルホスホニオ基であるときは、化合物ととの
間の反応は、テトラヒドロフランとシクロヘキサ
ンとの混合物中でブチルリチウムの存在下で行な
われる。
本発明の方法に従えば、化合物と反応させる
塩基性試剤は、特に、含水メタノール媒体中で用
いられる炭酸ナトリウムである。
本発明の式の３−ホルミル−４−メチルペン
タ−３−エン−１−酸は、殺虫性エステルの合成
中間体である次式 （ここでＷは水素原子又はアキラルであつてよい
アルコールR1OHの残基R1を表わす） の化合物の製造に使用することができる。このよ
うな製造法は、無水条件下に３−ホルミル−４−
メチルペンタ−３−エン−１−酸を有機溶媒中で
ハロゲン化リチウムLiXの存在下に水素酸HX
（ここでＸはハロゲン原子を表わす）と反応させ
て次式 の化合物を得、これをアキラルなアルコール
R1OHと反応させて次式 のラセミ形化合物（これは誘導体と同様にテト
ラヒドロフランの４と５の置換基の間でtrans立
体配置を有する）を得るか、或るいはキラルなア
ルコールR1OHと反応させて式の化合物を二つ
の所期のジアステレオマーの混合物の形で得、こ
の混合物は物理的方法によつてその成分に分離す
ることができ、次いでR1がアキラルであるとき
はラセミ形態にあり又はR1がキラルであるとき
は光学活性形態にある式の化合物（式の化合
物は、後者の場合には、ジアステレオマーの一方
又は他方の状態にある）を塩基性試剤と反応させ
て次式 の二環式化合物をR1がそれぞれアキラルか又は
キラルな残基であるかどうかによつてラセミ形態
か或るいはそのエナンチオマー形の一方又は他方
の形態で得（この化合物の４位置の絶対配置並び
にこれから生じる１及び５位置での立体配置は使
用するジアステレオマーの立体化学により決定
される）、次いで所望により式のエーテルを酸
性媒体中で、絶対配置を完全に保持して、加水分
解して次式ＶA の６・６−ジメチル−４−ヒドロキシ−３−オキ
サビシクロ〔３・１・０〕ヘキサン−２−オンを
得ることを特徴とするものである。
このような製造の例を実施例の部に示す。
ところで、６・６−ジメチル−４−ヒドロキシ
−３−オキサビシクロ〔３・１・０〕ヘキサン−
２−オンを非常に複雑な化合物の菊酸から製造す
るのを可能にする半合成法は既に存在していた
（例えばフランス国特許第1580474号を参照）。
本発明者は、ここに、式の化合物によつて、
ラセミ形又は光学活性形の６・６−ジメチル−４
−ヒドロキシ−３−オキサビシクロ〔３・１・
０〕ヘキサン−２−オン又はそのエーテルの全合
成法を完成した。この方法は容易に入手できる薬
剤を使用し、そしてその工程数は少ないものであ
る。
高活性を持つ多くの殺虫性エステルの合成中間
体（例えば、フランス国特許第2185612号を参
照）となる６・６−ジメチル−４−ヒドロキシ−
３−オキサビシクロ〔３・１・０〕ヘキサン−２
−オンのような化合物の全合成法は、特に有益で
ある。
下記の例は本発明を例示するが、これを何ら制
限しない。
例 １ ３−ホルミル−４−メチルペンタ−３−エン−
１−酸 工程Ａ：dl−trans−４−（２−ニトロ−２−プロ
ピル）−５−メトキシテトラヒドロフラン−２
−オン ９c.c.の２−ニトロプロパン、７ｇの５−メトキ
シ−２・５−ジヒドロフラン−２−オン−３−エ
ン及び１c.c.のトリエチルアミンを20〜25℃で70時
間かきまぜ、反応混合物をりん酸モノナトリウム
水溶液で洗い、ベンゼンで抽出し、乾燥し、減圧
下に濃縮乾固し、その残留物をイソプロピルエー
テルで溶解し、結晶化を開始し、かきまぜながら
０℃に冷却し、分離し、8.24ｇの結晶質生成物を
得る。MP33℃。
分析：C8H13NO5＝203.18 計算：Ｃ％47.29 Ｈ％6.45 Ｎ％6.87 実測： 47.10 6.50
6.70 MNRスペクトル gem−メチルの水素に帰する1.6ppmののピー
ク、シクロペンチルの３及び４位の水素に帰する
2.0−3.17ppmのピーク、 シクロペンチルの５位の水素に帰する5.25−
5.28ppmのピーク、 メトキシの水素に帰する3.5ppmのピーク。
工程Ｂ：３−ホルミル−４−メチルペンタ−３−
エン−１−酸 18.9ｇの炭酸ナトリウムを180c.c.の水に溶解
し、０℃に冷却し、18.2ｇの上で得たニトロラク
トンを一度に加え、25c.c.のメタノールに溶解す
る。周囲温度で120時間放置した後、反応混合物
をエチルエーテルで洗い、０℃に冷却し、不活性
雰囲気下に注意しながら若干の濃硫酸をPH１ま
で加え、クロロホルム、次いで酢酸エチルで抽出
し、一緒にした有機相を乾燥し、減圧下に濃縮乾
固して9.5ｇの粗生成物を得、これを水から結晶
化して7.4ｇの純生成物を得る。MP＝102℃。
分析：C7H10C3＝142.156 計算：Ｃ％59.14 Ｈ％7.09 実測： 59.20 7.0 NMRスペクトル ５位の水素に帰する2.0ppmのピーク、 ４位のメチルの水素に帰する2.26ppmのピー
ク、 ２位の水素に帰する3.38ppmのピーク、 ホルミルの水素に帰する10.13ppmのピーク。
例 ３−ホルミル−４−メチルペンタ−３−エン−
１−酸 工程Ａ：dl−trans−４−（２−ヒドロキシ−２−
プロピル）−５−（３−フエノキシフエニル）メ
トキシテトラヒドロフラン−２−オン 3.5ｇの５−（３−フエノキシフエニル）メトキ
シ−２・５−ジヒドロフラン−２−オンを100c.c.
のイソプロパノール中で不活性雰囲気下にかきま
ぜながら加熱還流し、300mgの過酸化ベンゾイル
を25mgづつ１時間半にわたり規則的に加え、40〜
50℃で減圧下に濃縮乾固し、その残留物をシリカ
でクロマトグラフイーし、次いでベンゼン／酢酸
エチル混合物（８：２）で溶離し、3.7ｇの粗生
成物を回収し、これをイソプロピルエーテルで溶
解し、白色結晶を得る。MP＝50〜55℃。
分析：C20H22O3＝342.39 計算：Ｃ％70.06 Ｈ％6.4 実測： 69.9 6.5 NMRスペクトル メチルの水素に帰する1.18及び1.21ppmのピー
ク、 シクロペンチルの３及び４位の水素に帰する
2.16−2.75ppmのピーク、 ベンジルメチレンの水素に帰する4.48−4.35及
び4.8−5ppmのピーク シクロペンチルの５位の水素に帰する5.59−
5.58ppmのピーク、 芳香族核の水素に帰する6.85−7.5ppmのピー
ク、 ヒドロキシルの水素に帰する1.5ppmのピー
ク。
この例の開始時で用いた５−（３−フエノキシ
フエニル）メトキシ−２・５−ジヒドロフラン−
２−オンは次のように製造した。
12ｇの５−ヒドロキシ−２（5H）−フラノン、
250c.c.のベンゼン、25ｇのｍ−フエノキシベンジ
ルアルコール及び200mgのｐ−トルエンスルホン
酸を混合し、反応混合物中のベンゼンを蒸留し、
同一量の乾燥ベンゼンで数回置換しながらかきま
ぜ、２時間後に周囲温度で冷却せしめ、重炭酸ナ
トリウム飽和溶液で洗い、次いで水洗し、乾燥
し、減圧下に濃縮乾固し、39.7ｇの油状物を得、
これをシリカでクロマトグラフイーし、ベンゼ
ン／酢酸エチル混合物（９：１）で溶離して精製
し、24.9ｇの所期化合物を回収する。
NMRスペクトル フラノンの４位の水素に帰する7.3−7.4ppmの
ピーク、 フラノンの３位の水素に帰する6.18−6.32ppm
のピーク、 フラノンの５位の水素に帰する6.03ppmのピー
ク、 メトキシの水素に帰する4.58−4.76及び4.85−
5.12ppmのピーク、 芳香族核に帰する6.92−7.5ppmのピーク。
工程Ｂ：３−ホルミル−４−メチルペンタ−３−
エン−１−酸 619mgの炭酸ナトリウムを６c.c.の水に溶解し、
０℃に冷却し、１ｇの上で得られたヒドロキシラ
クトンと２c.c.のメタノールをかきまぜながら加
え、周囲温度で19時間接触させた後、エチルエー
テルで洗い、０℃に冷却し、若干の濃硫酸をゆつ
くりと加え、メタノール及びクロロホルムで抽出
し、有機相を一緒にし、乾燥し、減圧下に濃縮乾
固し、245mgの粗生成物を得、これを再結晶して
102℃で融解する生成物を得る。
例 ３−ホルミル−４−メチルペンタ−３−エン−
１−酸 工程Ａ：dl−trans−４−（２−ｐ−トルエンスル
ホニル−２−プロピル）−５−メトキシテトラ
ヒドロフラン−２−オン 500mgのイソプロピルｐ−トリルスルホンと10
c.c.の無水テトラヒドロフランを不活性雰囲気下に
かきまぜながら混合し、−70℃に冷却し、1.3c.c.の
1.95Mのブチルリチウムのヘキサン溶液をゆつく
りと加え、−70℃で半時間かきまぜ、次いで287mg
の５−メトキシ−２・５−ジヒドロフラン−２−
オンを４c.c.のテトラヒドロフランに溶解してなる
ものを10分間で加え、−70℃に１時間保ち、反応
混合物を０℃のりん酸モノナトリウム水溶液上に
注ぎ、塩化メチレンで抽出し、水洗し、乾燥し、
減圧下に濃縮乾固し、その残留物をイソプロピル
エーテルで結晶化し、490mgの白色結晶を得る。
MP＝129℃。
分 析 計算：Ｃ％57.67 Ｈ％6.45 Ｓ％10.26 実測： 57.6 6.5
10.1 NMRスペクトル gem−メチルの水素に帰する1.27−1.32ppmの
ピーク、 芳香族上のメチルの水素に帰する2.46ppmのピ
ーク、 シクロペンチルの３及び４位の水素に帰する
2.75ppmのピーク、 シクロペンチルの５位の水素に帰する5.58ppm
のピーク、 メトキシの水素に帰する3.51ppmのピーク、 芳香族の３及び５位の水素に帰する7.28−
7.42ppmのピーク、 芳香族の２及び６位の水素に帰する7.66−
7.8ppmのピーク。
工程Ｂ：３−ホルミル−４−メチルペンタ−３−
エン−１−酸 250mgの上で得た生成物、４c.c.の水、0.8c.c.のメ
タノール及び250mgの炭酸ナトリウムを周囲温度
で２日間かきまぜる。エーテルで洗浄した後、水
性相を1N塩酸によりPH３〜3.5まで酸性化し、塩
化ナトリウムで飽和させ、クロロホルムで抽出
し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固し、87mgの所期生
成物を得る。MP＝102℃。
この生成物は、別の方法で得た３−ホルミル−
４−メチルペンタ−３−エン−１−酸と全ての点
で同等である。
例 ３−ホルミル−４−メチルペンタ−３−エン−
１−酸 工程Ａ：よう化〔１−（５−メトキシ−２−オキ
ソ−４・５−ジヒドロ−3H−フラン−４−イ
ル）−１−メチル−１−エチル〕トリフエニル
ホスホニウム (a) イリドの製造 ３ｇのよう化トリフエニルイソプロピルホス
ホニウムを40c.c.のテトラヒドロフランに加えて
なる懸濁液に、3.5c.c.の2Mブチルリチウムのシ
クロヘキサン溶液を一度で加え、周囲温度で10
分間かきまぜ、イリド溶液（溶液Ａ）を得る。
(b) イリドのフラノンに対する付加 0.800ｇの５−メトキシ−２・５−ジヒドロ
フラン−２−オン−３−エンを50c.c.のテトラヒ
ドロフランに溶解して−60℃に冷却した溶液
に、−60℃に冷却した溶液Ａを不活性雰囲気下
にゆつくりと加える。10分間かきまぜ、反応混
合物をりん酸モノナトリウム水溶液と氷との混
合物上に注ぎ、エーテルで洗い、塩化メチレン
で抽出し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固し、約
140℃で融解する3.4ｇのホスホニウム塩を得
る。
分析：C26H8IO3P＝546.37 計算： Ｃ％57.15 Ｈ％5.16 Ｉ％23.24 Ｐ％5.67 実測：
57.3 5.2 22.4
5.3 NMRスペクトル りんのβ位メチルの水素に帰する1.63−1.80−
1.95−2.10ppmのピーク、 フラノンの３及び４位炭素上の水素に帰する
2.22−3.33ppmのピーク、 メトキシの水素に帰する3.23ppmのピーク、 フラノンの５位水素に帰する5.46−5.54ppmの
ピーク、 芳香族核の水素に帰する7.81−7.92ppmのピー
ク。
工程Ｂ：３−ホルミル−４−メチルペンタ−３−
エン−１−酸 0.700ｇのよう化〔１−（５−メトキシ−２−オ
キソ−４・５−ジヒドロ−3H−フラン−４−イ
ル）−１−メチル−１−エチル〕トリフエニルホ
スホニウムを１c.c.のメタノールに溶解してなる溶
液に、0.700ｇの炭酸ナトリウムを８c.c.の水に溶
解してなる溶液を加え、20℃で２時間かきまぜ、
生じた不溶物を別して除去し、液をPH２まで
酸性化し、塩化ナトリウムで飽和し、クロロホル
ムで抽出し、濃縮乾固し、イソプロピルエーテル
で精製し、0.095ｇの３−ホルミル−４−メチル
ペンタ−３−エン−１−酸を得る。MP＝102℃。
例 dl−６・６−ジメチル−４−ヒドロキシ−３−
オキサビシクロ〔３・１・０〕ヘキサン−２−
オン 工程Ａ：dl−trans−４−（２−クロル−２−プロ
ピル）−５−ヒドロキシテトラヒドロフラン−
２−オン １ｇの例１、２、３又は４で得た３−ホルミル
−４−メチルペンタ−３−エン−１−酸、25c.c.の
無水エチルエーテル及び１ｇの乾燥塩化リチウム
を乾燥塩化水素気流中で−30℃で２時間、次いで
０℃で２時間かきまぜ、塩化水素の流れを止め、
周囲温度で48時間かきまぜ続け、54時間接触させ
た後、反応混合物を氷水中に注ぎ、デカンテーシ
ヨンし、ベンゼンで抽出し、乾燥し、減圧下に濃
縮乾固し、1.1ｇの粗生成物を得、これをシリカ
でクロマトグラフイーし、ベンゼン／酢酸エチル
混合物（１：１）で溶離し、545mgの結晶質生成
物を回収する。MP＝80℃。
分析：C7H11ClO3＝178.617 計算：Ｃ％47.07 Ｈ％6.21 Cl％19.85 実測： 47.2 6.2
19.5 NMRスペクトル メチルの水素に帰する1.55及び1.6ppmのピー
ク、 環の３及び４位の水素に帰する2.42−2.92ppm
のピーク、 環の５位の水素に帰する5.82−5.89ppmのピー
ク、 ヒドロキシルの水素に帰する3.83ppmのピー
ク。
工程Ｂ：４−（２−クロル−２−プロピル）−５−
〔（３−フエノキシフエニル）メトキシ〕テトラ
ヒドロフラン−２−オン 393mgの上で得た生成物、668mgのｍ−フエノキ
シベンジルアルコール、20mgのｐ−トルエンスル
ホン酸及び５c.c.のベンゼンを周囲温度で19時間か
きまぜ、少量の重炭酸ナトリウムで中和し、乾燥
し、減圧下に濃縮乾固し、1.18ｇの粗生成物を
得、これをシリカでクロマトグラフイーし、ベン
ゼンで溶離し、467mgの生成物を回収する。石油
エーテルで再結晶した後、ほぼ50℃の融点を有す
る。
分析：C20H21ClO4＝360.84 計算：Ｃ％66.57 Ｈ％5.87 Cl％9.83 実測： 66.60 5.80
9.90 NMRスペクトル メチルの水素に帰する1.5及び1.55ppmのピー
ク、 シクロペンチルの３及び４位の水素に帰する
2.55−2.72ppmのピーク、 シクロペンチルの５位の水素に帰する5.52−
5.56ppmのピーク、 芳香族核の水素に帰する6.92−7.5ppmのピー
ク、 ベンジルメチレンの水素に帰する4.47−4.66及
び4.77−4.97ppmのピーク。
工程Ｃ：dl−６・６−ジメチル−４−ヒドロキシ
−３−オキサビシクロ〔３・１・０〕ヘキサン
−２−オン 0.55c.c.の1Mジイソプロピルアミンのテトラヒ
ドロフラン溶液と５c.c.のテトラヒドロフランを約
−20℃に冷却し、0.25c.c.の2Mn−ブチルリチウム
のシクロヘキサン溶液を加え、温度を０℃に戻
し、次いで−60〜−70℃に冷却し、180mgの工程
Ｂで得た生成物を一度に加え、０℃に２時間加熱
した後、この温度で１時間保ち、反応混合物を冷
2N塩酸中に注ぎ、強くかきまぜながら20℃に17
時間放置し、デカンテーシヨンし、クロロホルム
で抽出し、乾燥し、濃縮乾固し、得られた残留物
をイソプロピルエーテル／石油エーテル混合物で
溶解し、水で抽出し、水性相を減圧下に濃縮乾固
して30mgの結晶質生成物を得る。MP＝80℃。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 次式 の３−ホルミル−４−メチルペンタ−３−エン−
    １−酸。 ２ 次式 （ここでＺは求電子性基を表わす） の誘導体を次式 （ここでＲは、アルコールROHの残基Ｒを表わ
    す） の誘導体と反応させ、次いで生じた次式 の化合物に塩基性試剤を作用させることを特徴と
    する式 の３−ホルミル−４−メチルペンタ−３−エン−
    １−酸の製造法。 ３ 基ＺがNO2基であり、そして化合物とを
    第二アミン、第三アミン、水酸化第四アンモニウ
    ム及び炭酸アルカリよりなる群から選ばれる塩基
    の存在下に反応させることを特徴とする特許請求
    の範囲第２項記載の方法。 ４ 基Ｚがヒドロキシル基であり、そして化合物
    とを放射線照射下で又はラジカル開始剤の存
    在下で反応させることを特徴とする特許請求の範
    囲第２項記載の方法。 ５ 基Ｚがアリールスルホニル基であり、そして
    化合物とを有機溶媒中で強塩基の存在下で反
    応させることを特徴とする特許請求の範囲第２項
    記載の方法。 ６ 基Ｚがハロトリアリールスルホニル基であ
    り、そして化合物とを有機溶媒中で強塩基の
    存在下で反応させることを特徴とする特許請求の
    範囲第２項記載の方法。 ７ 強塩基がアルキルリチウム誘導体、アルカリ
    アミド、水素化アルカリ及びアルカリアルコラー
    トよりなる群から選ばれ、使用する溶媒がテトラ
    ヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、ジメトキ
    シエタン、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチル
    ホスホルアミド、芳香族炭化水素及びシクロアル
    カンよりなる群から選ばれることを特徴とする特
    許請求の範囲第５又は６項記載の方法。 ８ 塩基性試剤が含水メタノール媒体中で用いら
    れる炭酸ナトリウムであることを特徴とする特許
    請求の範囲第２項記載の方法。
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