JPS62161778A - 置換シクロプロパン誘導体の製造法 - Google Patents

置換シクロプロパン誘導体の製造法

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JPS62161778A
JPS62161778A JP62004211A JP421187A JPS62161778A JP S62161778 A JPS62161778 A JP S62161778A JP 62004211 A JP62004211 A JP 62004211A JP 421187 A JP421187 A JP 421187A JP S62161778 A JPS62161778 A JP S62161778A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、置換シクロプロパン誘導体の製造法に関する
。
まず、本発明の主題は、次式１ ％式％ の３−ホルミル−４−メチルペンタ−３−エン−１−酸
から出発する次式Ｖ （ここでＷは水素原子又はキラルであってよいアルコー
ルＲ１ＯＨの残基Ｒ４を表わす）の化合物を製造する方
法にあり、この方法は、無水条件下に３−ホルミル−４
−メチルペンタ−３−エン−１−酸を有機溶媒中でハロ
ゲン化リチウムＬｉＸの存在下に水素酸ＨＸ（ここでＸ
はハロゲン原子を表わす）と反応させて次式■の化合物
を得、これをアキラルなアルコールＲ１ＯＨと反応させ
て次式■ のラセミ形化合物（これは誘導体■と同様にテトラヒド
ロフランの４と５の置換基の間でｔｒａｎｓ立体配置を
有する）を得るか、成るいはキラルなアルコールＲ１Ｏ
Ｈと反応させて式■の化合物を二つの所期のジアステレ
オマーの混合物の形で得、この混合物は物理的方法によ
ってその成分に分離することができ、次いでＲ１がアキ
ラルであるときはラセミ形態にあり又はＲ１がキシルで
あるときは光学活性形態にある式■の化合物（式■の化
合物は、後者の場合には、ジアステレオマーの一方又は
他方の状態にある）を塩基性試剤と反応させて次式Ｖ の二環式化合物をＲ１がそれぞれアキラルか又はキラル
な残基であるかどうかによってラセミ形態か成るいはそ
のエナンチオマー形の一方又は他方の形態で得（この化
合物の４位置の絶対配置並びにこれから生じる１及び５
位置での立体配置は使用するジアステレオマー■の立体
化学により決定される）、次いで所望により式Ｖのエー
テルを酸性媒体中で、絶対配置を完全に保持して、加水
分解して次式ＶＡ の化合物を得ることを特徴とするものである。
さらに詳しくは、本発明の主題は、弐Ｉの化合物の式■
の化合物への変換が無水エチルエーテル中でＨＢｒ／Ｌ
ｉＢｒ又はＨＣＩ／ＬｉＣ１カップルによって行なわれ
ることを特徴とする使用方法並びにアキラルな又はキラ
ルなアルコールＲ１ＯＨと化合物■をｐ−）ルエンスル
ホン酸の存在下に反応させることを特徴とする方法にあ
る。
本発明の方法によれば、化合物■の２セミ体に対するキ
ラルなアルコールＲ１ＯＨの作用により生ずる二つのジ
アステレオマーはクロマトグラフィー又は結晶化によっ
て分離される。
本発明の好ましい方法によれば、化合物■のシクロプロ
パン化合物Ｖへの変換がブチルリチウムによって行なわ
れる。
本発明の方法によれば、化合物■のシクロプロパン化合
物Ｖへの変換は水酸化アルカリ、水、水不混和性溶媒及
び第四アンモニウムを用いて成るいは水素化ナトリウム
を用いて相転移触媒法によって有利に行なわれる。
相転移触媒法では、水酸化す）　ＩＪウムが有利に用い
られる。
化合物Ｖの化合物ＶＡへの加水分解は、塩酸の存在下に
、そして好ましくは含水アセトン媒体中で行なわれる。
ところで、式ｖＡの６．６−シメチルー４−ヒドロキシ
−３−オキサビシフｏ（ｘｔｏ）ヘキサン−２−オンを
非常に複雑な化合物の菊酸から製造するのを可能にする
半合成法は既に存在していた（例えばフランス国特許第
１．５８Ｇ、４７４号を参照）。
本発明者は、ここに、式Ｉの化合物によって、ラセミ形
又は光学活性形の６，６−シメチルー４−ヒドロキシ−
３−オキサビシクロ（ＸｔＯ）ヘキサン−２−オン又は
そのエーテルの全合成法を完成した。この方法は容易に
入手できる薬剤を使用し、そしてその工程敬は少ないも
のである。
高活性を持つ多くの殺虫性エステルの合成中間体（例え
ば、フランス国特許第２，１８５，６１２号を参照）と
なるベロージメチル−４−ヒドロキシ−３−オキサビシ
クロ〔３，ｔｏ〕ヘキサン−２−オンのような化合物の
全合成法は、特に有益である。
本発明の方法で用いられる式Ｉの化合物は、次式■ ＣＨ。
ＣＨｓ−ＣＨ−Ｚ　　　　　　ＩＩ （ここでＺは求電子性基を表わす） の誘導体を次式■ （ここでＲは、アルコールＲＯＭの残基Ｒを表わす） の誘導体と反応させ、次いで生じた次式■の化合物に塩
基性試剤を作用させることによって製造される。
上記の求電子性基Ｚとしては、特にヒドロキシル基、ニ
トロ基、ｐ−）リルスルホニル基又はハロトリフェニル
ホスホニオ基があげられる。
基ＺがＮｏ２基であるときは、化合物■と■を第二アミ
ン、第三アミン、水酸化第四アンモニウム及び炭酸アル
カリよりなる群から選ばれる塩基の存在下に反応させる
。
化合物■と■を反応させる際に存在させる第三アミンと
しては、トリエチルアミンが有利に用いられる。
また、基Ｚがヒドロキシル基であるときは、化合物■と
■を放射線照射下で又はラジカル開始剤の存在下で反応
させる。
ラジカル開始剤としては、過酸化ベンゾイル、アゾビス
イソブチロニトリル、過酸化ジ−ｔ−ブチル、過安息香
酸ｔ−ブチル又は過酸化ジラウロイルが有利に用いられ
る。
また、基Ｚがアリールスルホニル基であるときは、化合
物■と■を有機溶媒中で強塩基の存在下で反応させる。
アリールスルホニル基のアリール基は、特にｐ−トリル
基である。
また、基２がハロトリアリールホスホニオ基であるとき
は、化合物■と■を有機溶媒中で強塩基の存在下で反応
させる。
ハロトリアリールホスホニオ基は、４１１．ヨードトリ
フェニルホスホニオ基でアル。
化合物■と反応させる塩基性試剤は、特に、含水メタノ
ール媒体中で用いられる炭酸ナトリウムである。
下記の例は本発明を例示するが、これを何ら制限しない
。
例ｔ：３−ホルミルー４−メチルペンタ−３−エン−１
−酸 一オン ９　ＣＣの２−二トロプロパン、７ｇの５−メトキシ−
２，５−ジヒドロフラン−２−オン−３−エン及び１Ｃ
Ｃのトリエチルアミンを２０〜２５℃で７０時間かきま
ぜ、反応混合物をりん酸モノナトリウム水溶液で洗い、
ベンゼンで抽出し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固し、その
残留物をイソプロピルエーテルで溶解し、結晶化を開始
し、かきまぜなから０℃に冷却し、分離し、＆４２，９
の結晶質生成物を得る。ＭＰ：３３℃。
分析：　Ｃ，Ｈ，、Ｎｏ５＝　２０五１８計算：ＣＸ４
７．２９　　ＨＸａ４ｓ　　Ｎ％６８７実測：　　　４
７．１０　　　４５０　　　６７ＯＮＭＲスペクトル ｇｅｍ−メチルの水素に帰する１　６　ｐｐｍのピーク
、シクロペンチルの３及び４位の水素に帰する２、０−
３．１７ｐｐｍのピーク、 シクロペンチルの５位の水素に帰する５、　２５−５、
２８　ｐｐｍのピーク、 メトキシの水素に帰する５、　５　ｐｐｍのピーク。
１＆９Ｉの炭酸ナトリウムを１８０ｃｃの水に溶ＭＬ、
０℃に冷却し、１＆２Ｉの上で得たニトロラクトンを一
度に加え、２５ＣＣのメタノールに溶解する。周囲温度
で１２０時間放置した後、反応混合物をエチルエーテル
で洗い、０℃に冷却し、不活性雰囲気下に注意しながら
若干の濃硫酸をｐＨ＝１まで加え、クロロホルム、次い
で酢酸エチルで抽出し、−緒にした有機相を乾燥し、減
圧下に濃縮乾固して９．５９の粗生成物を得、これを水
から結晶化して７．４ｆｌの純生成物を得る。ＭＰ＝１
０２℃。
１：Ｃ７Ｈ４ｏ０３＝１４２．１５６ 計算：０％５９．１４Ｈ％７．０９ 実測：　　　　５９．２０　　　７．０５位の水素に帰
する２、０ｐｐｍのピーク、４位のメチルの水素に帰す
るＺ　２６　ｐｐｍのピーク、 ２位の水素に帰する五５　Ｂ　ｐｐｍのピーク、ホルミ
ルの水素に帰する１　０．１５　ｐｐｍのピーク。
例ＩＩ：５−ホルミルー４−メチルベンター３−エン−
１−酸 工程Ａ　：　ｄｉ　−ｔｒａｎｓ　−４−（２−ヒドロ
キシ−２五５ｇの５−（５−フェノキシフェニル）メト
キシ−２，ｓ−ジヒドロフラン−２−オンを１００■の
イングロバノール中で不活性雰囲気下にかきまぜながら
加熱還流し、５００■の過酸化ベンゾイルを２５ダづつ
１時間半にわたり規則的に加え、４０〜５０℃で減圧下
に濃縮乾固し、その残留物をシリカでクロマトグラフィ
ーし、次いでベンゼン／酢酸エチル混合物（８：２）で
溶離し、！Ｌ７ｙの粗生成物を回収し、これをイソプロ
ピルエーテルで溶解し、白色結晶を得る。ＭＰ＝５０〜
５５℃。
分析：　Ｃ２ｏＨ２□０３＝　　３４２．３９計算＝Ｃ
％７１０６　　　Ｈ％＆４ 実測：　　　６９．９　　　　　６．５ＮＭＲスペクト
ル メチルの水素に帰するｔ１８及び１２１　ｐｐｍのピー
ク、 シクロペンチルの３及び４位の水素に帰する２、　１６
−２．７５　ｐｐｍのピーク、ベンジルメチレンの水素
に帰する４４８−４．３５及び４．８−５　ｐｐｍのピ
ーク、 シクロペンチルの５位の水素に帰する５、５９−５、５
８　ｐｐｍのピーク、 芳香族核の水素に帰する＆　８５−７．５　ｐｐｍのピ
ーク、 ヒドロキシルの水素に帰する１　５　ｐｐｍのピーク。
この例の開始時で用いた５−（３−フェノキシフェニル
）メトキシ−２，５−ジヒドロフラン−２−オンは次の
ように製造した。
１２Ｊの５−ヒドロキシ−２（５Ｈ）−フラノン、２５
０　ｃｃのベンゼン、２５．９０ｍ−フェノキシベンジ
ルアルコール及び２００ｒｎ９のｐ−トルエンスルホン
酸を混合し、反応混合物中のベンゼンを蒸留し、同一量
の乾燥ベンゼンで数回置換しながらかきまぜ、２時間後
に周囲温度で冷却せしめ、重炭酸ナトリウム飽和溶液で
洗い、次いで水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固し、３
９７Ｉの油状物を得、これをシリカでクロマトグラフィ
ーし、ベンゼン／酢酸エチル混合物（９：１）で溶離し
て精製し、２４．９　Ｉｉの所期化合物を回収する。
ＮＭＲスペクトル フラノンの４位の水素に帰する７、　３−７．４　ｐｐ
ｍのピーク、 ７２ノンの３位の水素に帰するａｌＢ−６，３２ｐｐｍ
のピーク１ フラノンの５位の水素に帰する６、　０３　ｐｐｍのピ
ーク、 メトキシの水素に帰する４、　５８−４．７６及び４．
８５−５．１２　ｐｐｍのピーク、芳香族核に帰する＆
　９２−７．５　ｐｐｍのピーク。
６１９１ｎ９の炭酸ナトリウムを６ｃｃの水に溶解し、
０℃に冷却し、１ｇの上で得られたヒドロキシラクトン
と２ｃｃのメタノールをかきまぜながら加え、周囲温度
で１９時間接触させた後、エチルエーテルで洗い、０℃
に冷却し、若干の濃硫酸をゆつ（りと加え、メタノール
及びクロロホルムで抽出し、有機相を一緒にし、乾燥し
、減圧下に濃縮乾固し、２４５■の粗生成物を得、これ
を再結晶して１０２℃で＠屏する生成物を得る。
例ＩＩ［：３−ホルミル−４−メチルペンタ−３−エン
−１−酸 ５００■のイソプロピルｐ−）リルスルホンとｆＯｃｃ
の無水テトラヒドロ７ランを不活性雰囲気下にかきまぜ
ながら混合し、−７０℃に冷却し、ｔｓｃｃの１９５Ｍ
ブチルリチウムのヘキサン溶液をゆっくりと加え、−７
０℃で半時間かきまぜ、次いで２８７ηの５−メトキシ
−２，５−ジヒドロフラン−２−オンを４ｃｃのテトラ
ヒドロフランに溶解してなるものを１０分間で加え、−
７０℃に１時間保ち、反応混合物を０℃のりん醗モノナ
トリウム水溶液上に注ぎ、塩化メチレンで抽出し、水洗
し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固し、その残留物をイソプ
四ビルエーテルで結晶イシし、４９０！ｎ９の白色結晶
を得る。ＭＰ＝１２９℃。
分析 計算：ＣＸ５７．６７　　ＨＮ６．４５　５Ｘ１（Ｌ２
６実測：　　　５７．ｄ　　　　　４５　　　　１α１
ＮＭＲスペクトル ｇｅｍ−メチルの水素に帰するｔ２７−ｔ３２ｐｐｍの
ピーク、 芳香族上のメチルの水素に帰する２、４６　ｐｐｍ（７
）ピーク、 シクロペンチルの３及び４位の水素ＫＲする２、　７５
　ｐｐｍのピーク、 シクロペンチルの５位の水素に帰する５５８ｐｐｍのピ
ーク、 メトキシの水素に帰するｌ　５１　ｐＩ）ｍのピーク、
芳香族の３及び５位の水素に帰する１２Ｂ−７、４２ｐ
ｐｍのピーク、 芳香族の２及び６位の水素に帰するｚ６６−７、８　ｐ
ｐｍのピーク。
エン−１−酸 ２５０１１Ｉ９の上で得た生成物、４ｃｃの水、α６ｃ
ｃのメタノール及び２５０１１９の炭酸ナトリウムを周
囲温度で２日間かきまぜる。エーテルで洗浄した後、水
性相を１Ｎ、塩酸によりｐＨ３〜五５まで酸性化し、塩
化ナトリウム、で飽和させ、！ロロホルムで抽出し、乾
燥し、減圧下に濃縮乾固し、８７ダの所期生成物を得る
。ＭＰ工１０２℃。
この生成物は、別の方法で得た３−ポルミル−４−メチ
ルペンター３−エン−１−酸と全ての点で同等である。
例ＩＶ：５−ホルミルー４−メチルペンタ−３−エン−
１−ＩＩＲ ニウム ａ）イリドの製造 ３ｇのよう化トリフェニルイソプロビルホスホニウムを
４０ＣＣのテトラヒドロ７ランに加えてなる懸濁液に％
１ｓｅｃの２Ｍブチルリチウムのシクロヘキサン溶液を
一度で加え、周囲温度で１０分間かきまぜ、イリド溶液
（溶液Ａ）を得る。
ｂ）イリドのフラノンに対する付加 α８００ｙの５−メトキシ−２４５−ジ℃ドロ７ランー
２−オンー３−エンを５０ＣＣのテトラヒドロフランに
溶解して一６０℃に冷却した溶液に、−６０℃に冷却し
た溶液Ａを不活性雰囲気下にゆっくりと加える。１０分
間かきまぜ、反応混合物をりん酸モノナトリウム水溶液
と氷との混合物上に注ぎ、エーテルで洗い、塩化メチレ
ンで抽出し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固し、約１４０℃
で融解する１４，９のホスホニウム塩ヲ得ル。
牝Ｌ　：　Ｃ２６Ｈ，ＩＯ，Ｐ　＝　ｓ　４６．ｓ　ｙ
計算：０％５ス１５　　ＨＮ３．１６　　ＩＸ２五２４
　　ＰＸ５．６７実測：　　　５７．３　　　５．２　
　　２２．４　　　５．！ｉＮＭＲスペクトル りんのβ位メチルの水素に帰するｔ６３−ｔａ。
−ｔ　９５−１１０　ｐｐｍのピーク、７．５ノンの３
及び４位炭素上の水素に帰する２．２２−五５３　ｐｐ
ｍのピーク、 メトキシの水素に帰する３、２５　ｐｐｍのピーク、７
ラノンの５位水素に帰する５、　４６−５．５４ｐｐｍ
のピーク、 芳香族核の水素に帰する７、　８１−７．９２　ｐｐｍ
のピーク。
０．７００．９のよう化（１−（５−メトキシ−２−オ
キソ−４，５−ジヒドロ−３Ｈ−フラン−４−イル）−
１−メチル−１−エチル〕トリフェニルホスホニウムを
１ｃｃのメタノールに溶解してなる溶液妊、α７００ｙ
の炭醗ナトリウムを８ＣＣの水に溶解してなる溶液を加
え、２０℃で２時間かきまぜ、生じた不溶物を戸別して
除去し、Ｆ液をｐＨ２まで酸性化し、塩化ナトリウムで
飽和し、クロロホルムで抽出し、濃縮乾固し、イソプロ
ピルエーテルで積段し、０．０９５　、ｐの３−ホルミ
ル−４−メチルペンタ−３−エン−１−酸ヲ４ル。ＭＰ
＝１０２℃。
例ｖ：旧−４６−シメチルー４−ヒドロキシ−３２−オ
ン １ｇの例１．２．３又は４で得た３−ホルミル−４−メ
チルペンタ−３−エン−１−酸、２５ｃｃの無水エチル
エーテル及び１ｇの乾燥塩化リチウムを乾燥塩化水素気
流中で一３０℃で２時間、次いで０℃で２時間かきまぜ
、塩化水素の流れを止め、周囲温度で４８時間かきまぜ
続け、５４時間接触させた後、反応混合物を氷水中に注
ぎ、デカンテーションし、ベンゼンで抽出し、乾燥し、
減圧下に濃縮乾固し、ｔｌｇの粗生成物を得、これをシ
リカでクロマトグラフィーし、ベンゼン／酢醗エチル混
合物（１：１）で溶離し、５４５Ｔｎ９の結晶質生成物
を回収する。ＭＰ＝８０℃。
＋也：　Ｃ，Ｈ，、Ｃｌ０３＝　１ｙ　＆　６１　ｙ計
算：　ＣＸ４７．０７　　ＨＮ３．２　Ｉ　　Ｃ１％１
９８５実測：　　　４Ｚ２　　　　６．２　　　　１９
．５ＨＭＲスペクトル メチルの水素に帰するｔ５５及びｔ　６　ｐｐｍのピー
ク、 環の３及び４位の水素に、帰する２、４２−２．９２ｐ
ｐｍのピーク、 環の５位の水素に帰する５、８２−５．８９１）Ｉ）ｍ
のピーク、 ヒドロキシルの水素に帰する１　８３　ｐｐｍのピーク
。
５９５ｍ９の上で得た生成物、６６８１１９のｍ　−フ
ェノキシベンジルアルコール、２０”Ｆのｐ−トルエン
スルホン酸及び５ＣＣのベンゼンを周囲温度で１９時間
かきまぜ、少量の重炭酸ナトリクムで中和し、乾燥し、
減圧下に濃縮乾固し、ｔ１８ｐの粗生成物を得、これを
シリカでクロマトグラフィーし、ベンゼンで溶離し、４
６７１１１９の生成物を回収する。石油エーテルで再結
晶した後、はハ５０℃の融点を有する。
分析：　Ｃ２，Ｈ２，Ｃｌ０４＝　３６　ＣＬ　８４計
算：　ＣＸ６６．５７　　ＨＮ３．８７　　Ｃ１％９８
３実測：　　　６６．６ｏ　　　　ｓ、ａｏ　　　　ｑ
、ｃｐａＮＭＲスペクトル メチルの水素に帰するｔ５及び１５５　ｐｐｍのピーク
、 シクロペンチルの３及び４位の水素に帰する２、　５５
−２．７２　ｐｐｍのピーク、シクロペンチルの５位の
水素に帰する５、　５２−５．５６　ｐｐｍのピーク、 芳香族核の水素に帰する６、　９２−７．５　ｐｐｍの
ピーク、 ベンジルメチレンの水素に帰する４、４７−４．６６及
び４．７７−４９７　ｐｐｍのピーク。
ン １５５ｃｃの１Ｍジイソグロビルアミンのテトラヒドロ
フラン溶液とＳ　ＣＣのテトラヒドロ７ランを約−２０
℃に冷却し、α２５ｃｃの２　Ｍ　ｎ−ブチルリチウム
のシクロヘキサン溶液を加え、温度を０℃に戻し、次い
で−６０〜−７０℃に冷却し、１８０！Ｉ９の工程Ｂで
得た生成物を一度に加え、０℃に２時間加熱した後、こ
の温度で１時間保ち、反応混合物を冷２Ｎ塩酸中に注ぎ
、強くかきまぜながら２０℃に１７時間放置し、デカン
テーションし、クロロホルムで抽出し、乾燥し、濃縮乾
固し、得られた残留物をイソプロピルエーテル／石油エ
ーテル混合物で溶解し、水で抽出し、水性相を減圧下に
＃縮乾固して３０■の結晶質生成物を得る。ＭＰ＝８０
℃。
２−オン ２．３５．９の例１又は２で得た３−ホルミル−４−メ
チルベンター３−エン−１−酸、２．７ｇの乾燥臭化リ
チウム及び６０（Ａの無水エチルエーテルの混合物を一
５５℃に冷却し、乾燥臭化水素気流下に９０分間かきま
ぜ、次いで温度を−３０〜−４０℃の温度を保ちながら
乾燥窒素の強い気流によって臭化水素を追出し、反応混
合物を氷水中に注ぎ、ベンゼンで抽出し、有機相を乾燥
し、減圧下に加熱せずに濃縮乾固し、１２７９の油状物
を回収し、これは結晶化するが、これを石油エーテルよ
り再結晶し、２．５１の白色結晶を単離する。
ＭＰニア　５℃。
牝Ｊｆｒ　：　Ｃ，Ｈ，、ＢｒＯ，＝　２２１０７　ｓ
計算：　ＣＸ５７．６９　　ＨＮ４．９７　　ＢｒＸ３
５．８２実測：　　　ｓｙ、ｓｏ　　　５．２０　　　
３５．２ＯＮＭＲスペクトル メチルの水素に帰する１７４及びｔ　８６　ｐｐｍのピ
ーク、 環の３及び４位の水素に帰する２、２５−１０ｐｐｍの
ピーク、 環の５位の水素に帰する５、８７及び５．９５　ｐｐｍ
のピーク、 ヒドロキシルの水素に帰するｌ　９２　ｐｐｍのピーク
。
５．５１の上で得られた生成物、ａ２Ｉｉのｍ−フェノ
キシベンジルアルコール、５ｏｃｃのベンゼン及び２７
０■のｐ−）ルエンスルホン酸ヲ周囲温度で２４時間か
きまぜ、反応媒質を重炭酸ナトリウム水溶液で洗い、ベ
ンゼンで抽出し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固し、約１０
．９の油状物を得、この生成物は結晶化するが、これを
イソプロピルエーテルと石油エーテルとの混合物（７ｃ
ｃ　：　５　ｃｃ　）で再結晶し、５．８５ｆｉの生成
物を得る。ＭＰ＝６０℃。母液のりｐマドグラフィーに
より１１の同一純度の生成物を回収する。
と＄ｌ’ｒ、二　Ｃ２ｏＨ２，ＢｒＯ４計算：ＣＸ５９
．２７　　ＨＮ３．２２　　ＢｒＮ１９７２実測＝　　
６Ｑ、１０　　５．６０　　２ｔ５ＯＮＭＲスペクトル メチルの水素に帰するｔ　６７−１７　ｐｐｍのピーク
、 シクロペンチルの３及び４位の水素ＶｃＲする２、２２
−２．９２ｐｒｒｎのピーク、シクロペンチルの５位の
水素に帰する５、５５−ａ　５８　ｐｐｍのピーク、 ベンジルメチレンの水素に帰する４、４８−４．６８及
び４７　Ｂ　−４，９８ｐｐｍのピーク、芳香族核の水
素に帰する６、９２−７．５８　ｐｐｍのピーク。
［１５５ｃｃの１Ｍジイソプロピルアミンのテトラヒド
ロフラン溶液を５ｅＣのテトラヒドロフランで希釈し、
約−２０℃に冷却し、α２５ＣＣの２　Ｍ　ｎ−ブチル
リチウムのシクロヘキサン溶液を加え、この混合物を約
０℃まで加熱させ、次いで一６０’ＣＫ冷却し、２００
■の上で得た臭素化誘導体を一度で加え、この温度で１
５分間反応させた後、ｄｉ−４６−シメチルー４−（（
５−フェノキシフェニル）メトキシツー３−オキサビシ
クロ（３，ｔ０〕ヘキサン−２−オンの溶液を得、これ
を冷２Ｎ塩酸上に注ぎ、強くかきまぜながら２０℃で１
７時間放置し、デカンテーションし、クロロホルムで抽
出し、乾燥し、濃縮乾固し、１７Ｄ１ｎ９の生成物を得
、これをイソプロピルエーテル／石油エーテル混合物で
溶解し、水で抽出し、水性相を減圧下に濃縮乾固して、
５０ｒｎ９の結晶性生成物を得る。ＭＰ＝８０℃。
２−オン この化合物の製造は、例■の工程Ａに記載の通りである
。
ジアステレオマーＡとＢとの混合物並びに別個のジアス
テレオマーＡ及びＢ） ６．０７，９の上で得たブロムラクトン、ｓ、ａ３．ｐ
ノ（Ｓ）α−メチル−３−フェノキシベンジルアルコー
ル、３ＱＯ７ｊｌｐのｐ−トルエンスルホン酸、６０ｃ
ｃのベンゼン及び１０ｇの脱水剤である脱色「アクチゲ
ル」を２０〜２５℃で２４時間かきまぜ、反応混合物を
重炭酸す）　ＩＪクム水溶液で洗い、ベンゼンで抽出し
、乾燥し、減圧下に蒸発乾固し、９．５ｇの粗生成物を
得、この粗生成物をシリカでクロマトグラフィーし、塩
化メチレンで溶離する。
そのようにして得られたジアステレオマーの純混合物の
５１から、３０Ｘの石油エーテルを含有するイソプロピ
ルエーテルより結晶化することＫより９６０１Ｒ９の異
性体Ｂを単離する。ＭＰ’：ｌニア６℃、〔α〕Ｄ＝＋
１８ａ、５０　（１％ベンセン）。母液をシリカでクロ
マトグラフィーし、塩化メチレンで溶離して純異性体Ｂ
を油状物として得る。
３００ダの上で得た結晶質臭素化誘導体（異性体Ｂ）、
３ｃｃの塩化メチレン、３ｃｃの５ｏＸ（Ｗ／Ｗ）水酸
化す）　ＩＪウム水溶液及び約３０′ＩＩｇの塩化トリ
エチルベンジルアンモニウムを周囲温度で２時間３０分
かきまぜ、反応混合物を冷りん酸モノナトリウム水溶液
上に注ぎ、塩化メチレンで抽出し、水洗し、乾燥し、減
圧下に濃縮乾固し、２２１ＷＩｙの粗生成物を得、これ
は結晶化するが、この生成物を４　ｃｃの石油エーテル
／イソプロピルエーテル混合物（７：３）で再結晶し、
１６５■の白色生成物を得る。ＭＰ：１１０℃。母液の
クロマトグラフィーにより１７■の白色結晶を得る。
ＭＰご１１０℃。〔α〕Ｄ＝−２４１°（１％ベンゼン
）。
ＮＭＲスペクトル ｇｅｍ−メチルの水素に帰する１１及び１１３ｐｐｍの
ピーク、 １及び２位の水素に帰する２、　０３　ｐｐｍのピーク
、４位の水素に帰する４、　９６　ｐｐｍのピーク、ベ
ンジル炭素に結合したメチルの水素に帰する１４２及び
１５３　ｐｐｍのピーク、 ベンジル炭素上の水素に帰する４、　７−４．８−４．
９及び５．０　ｐｐｍのピーク、 芳香族核の水素に帰する６、　８３−７．５　ｐｐｍの
ピーク。
１ｇの上で得た生成物、１０ｃｃのアセトン及びＳＣＣ
の１Ｎ塩酸水溶液を２０〜２５℃で２時間かきまぜ、反
応混合物を重炭酸ナトリウムでｐＨ８となし、塩化メチ
レンで洗い、水性相を濃塩酸で酸性化し、酢酸エチルで
抽出し、乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発する。３８４ｒｖ
の結晶を得る。ＭＰ＝１１７℃。
この生成物は、フランス国特許第ｔ　５８０．４７４号
で得られた化合物と同一である。
〔α）１）　＝−１１０’　（ｃ　＝　１％、ジメチル
ホルムアミ　　ド　）　。
例Ｖ’／Ｊ”、ｄｌ−６，６−ジメｆｋ−４−ヒ）’！
：Ｉキシ−３−オキサビシクロ（ＸｔＯ）ヘキサン−２
−オ乙 ２−オン この化合物の製造は、例■の工程人に記載の通りである
。
ｔ９５．９の上で得た臭素化誘導体、２ｃｃのイソフロ
ハノール、１００Ｆ！Ｉｇのｐ−トルエンスルホン酸及
び５０ＣＣのベンゼンを周囲温度で６０時間かきまぜ、
反応媒体を重炭酸ナトリウム水溶液で洗い、ベンゼンで
抽出し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固し、２ｇの油状生成
物を得、これはそのまま次の工程で用いる。
７２８ｒｎ９の上で得た生成物、５ＣＣの無水テトラヒ
ドロフラン及び１ｃｃの無水ジメチルスルホキシドを混
合し、０℃に冷却し、１５０１ｎ９の水素化ナトリウム
を一度で加え、不活性雰囲気下に周囲温度で２０時間か
きまぜた後、りん酸モノナトリウム水溶液中に注ぎ、ベ
ンゼンで抽出し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固し、４５０
■の粗生成物を得、これをシリカでクロマトグラフィー
し、石油エーテル／エチルエーテル溶媒系（７：３）で
溶離し、５５０ｒ１１９の所期生成物を得る。
ＮＭＲスペクトル ６位メチル及びイソプルピルのメチルの水素に帰する１
１７〜１５１　ｐｐｍのピーク、環の１及び５位の水素
に帰する２、　０２　ｐｐｍのピーク、 環の４位の水素に帰する５、　２５　ｐｐｍのピーク、
７’　ａ　？’ルの２位の水素に帰する４、　０５　ｐ
ｐｍのピーク。
±ヱー １５０ダの上で得た生成物を３ｃｃのアセトン及び１ｃ
ｃの１Ｎ塩酸水溶液とともに２０〜２５℃で４時間かき
まぜ、反応混合物に塩化ナトリウムを飽和させ、塩化メ
チレンで抽出し、有機相を乾燥し、減圧下に蒸発乾固し
、９５Ｗ１９の白色結晶を得る。ＭＰフ８０℃。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）次式Ｖ ▲数式、化学式、表等があります▼Ｖ （ここでＷは水素原子又はキラルであつてよいアルコー
    ルＲ＿１ＯＨの残基Ｒ＿１を表わす）の化合物の製造法
    であつて、無水条件下に次式 I ▲数式、化学式、表等
    があります▼ I の３−ホルミル−４−メチルベンダ−３−エン−１−酸
    を有機溶媒中でハロゲン化リチウムＬｉＸの存在下に水
    素酸ＨＸ（ここでＸはハロゲン原子を表わす）と反応さ
    せて次式VI ▲数式、化学式、表等があります▼VI の化合物を得、これをアキラルなアルコールＲ＿１ＯＨ
    と反応させて次式VII ▲数式、化学式、表等があります▼VII のラセミ形化合物（これは化合物VIと同様にテトラヒド
    ロフランの４と５位置の置換基の間でｔｒａｎｓ立体配
    置を有する）を得るか、或るいはキラルなアルコールＲ
    ＿１ＯＨと反応させて式VIIの化合物を二つの所期のジ
    アステレオマーの混合物の形で得、この混合物は物理的
    方法によつてその成分に分離することができ、次いでＲ
    ＿１がアキラルであるときはラセミ形態にあり又はＲ＿
    １がキラルであるときは光学活性形態にある式VIIIの化
    合物（式VIIIの化合物は、後者の場合には、ジアステレ
    オマーの一方又は他方の状態にある）を塩基性試剤と反
    応させて次式Ｖ ▲数式、化学式、表等があります▼Ｖ の二環式化合物をＲ＿１がそれぞれアキラルか又はキラ
    ルな残基であるかどうかによつてラセミ形態か或るいは
    そのエナンチオマー形の一方又は他方の形態で得（この
    化合物の４位置の絶対配置並びにこれから生じる１及び
    ５位置での立体配置は使用するジアステレオマーVIIIの
    立体化学により決定される）、次いで所望により式Ｖの
    エーテルを酸性媒体中で、絶対配置を完全に保持して、
    加水分解して次式Ｖ＿Ａ ▲数式、化学式、表等があります▼Ｖ＿Ａ の化合物を得ることを特徴とする、式Ｖの化合物の製造
    法。
  2. （２）式 I の化合物の式VIの化合物への変換が無水エ
    チルエーテル中でＨＢｒ／ＬｉＢｒ又はＨＣｌ／ＬｉＣ
    ｌカップルによつて行なわれることを特徴とする特許請
    求の範囲第１項記載の方法。
  3. （３）アキラルな又はキラルなアルコールＲ＿１ＯＨと
    化合物VIをｐ−トルエンスルホン酸の存在下に反応させ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。
  4. （４）化合物VIのラセミ体に対するキラルなアルコール
    Ｒ＿１ＯＨの作用により生ずる二つのジアステレオマー
    がクロマトグラフィー又は結晶化によつて分離されるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。
  5. （５）化合物VIIのシクロプロパン化合物Ｖへの変換が
    ブチルリチウムによつて行なわれることを特徴とする特
    許請求の範囲第１項記載の方法。
  6. （６）化合物VIIのシクロプロパン化合物Ｖの変換が水
    酸化アルカリ、水、水不混和性溶媒及び第四アンモニウ
    ムを用いて相転移触媒法によつて行なわれることを特徴
    とする特許請求の範囲第１項記載の方法。
  7. （７）化合物VIIのシクロプロパン化合物Ｖへの変換が
    水素化ナトリウムによつて行なわれることを特徴とする
    特許請求の範囲第１項記載の方法。
  8. （８）化合物Ｖの化合物Ｖ＿Ａへの加水分解が塩酸の存
    在下に、そして必要ならば含水アセトン媒体中で行なわ
    れることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法
    。
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