JPS61129145A - ヒドロキノン誘導体及びその製造方法 - Google Patents
ヒドロキノン誘導体及びその製造方法Info
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- JPS61129145A JPS61129145A JP60258797A JP25879785A JPS61129145A JP S61129145 A JPS61129145 A JP S61129145A JP 60258797 A JP60258797 A JP 60258797A JP 25879785 A JP25879785 A JP 25879785A JP S61129145 A JPS61129145 A JP S61129145A
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- C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
- C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D311/04—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
- C07D311/58—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4
- C07D311/70—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4 with two hydrocarbon radicals attached in position 2 and elements other than carbon and hydrogen in position 6
- C07D311/72—3,4-Dihydro derivatives having in position 2 at least one methyl radical and in position 6 one oxygen atom, e.g. tocopherols
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は(R−R* R)−α−トコフェロール(天然
ビタミンE)並びにラセミ性α−トコフェロールを製造
する際に中間体として適するヒドロキノン誘導体の新規
な製造方法に関する。また、本発明は本方法の新規な生
成物に関する。
ビタミンE)並びにラセミ性α−トコフェロールを製造
する際に中間体として適するヒドロキノン誘導体の新規
な製造方法に関する。また、本発明は本方法の新規な生
成物に関する。
天然ビタミンEのいくつかの製造方法が公知であるが、
しかしこれらの方法は工業的観点から限定された興味が
あるにすぎない、従って、天然ビタミンEはこれまでも
っばら天然源から抽出されていた。従って、天然ビタミ
ンEを良好な収率で且つ高い光学的純度で得ることがで
きる工業的に実現可能な方法に対する要求がある。
しかしこれらの方法は工業的観点から限定された興味が
あるにすぎない、従って、天然ビタミンEはこれまでも
っばら天然源から抽出されていた。従って、天然ビタミ
ンEを良好な収率で且つ高い光学的純度で得ることがで
きる工業的に実現可能な方法に対する要求がある。
本発明による方法は一般式
式中、Rはヒドロキシル保護基を表わす、の化合物をd
”−遷移金属触媒の存在下において5.4−工承キシー
5−メチルー1−1テンと反応させ、そして必要に応じ
て、かくして得られる一般式 式中、Rは上記の意味を有する、 の化合物をクライゼン転位(C1aiaen rea
r−rangement) に付し、これによって一
般式式中、Rは上記の意味を有し、そしてR′は水素ま
たはアシル基を表わす、 小lし^勃nルf月1とL病、L愕ス 「ヒドロキシル保護基」なる用語は、本発明の範囲内で
、開裂させ得る基、即ち、加水分解によって開裂させ得
る基、例えばシリル基、アルコキシメチル基、例えばメ
トキシメチル、テトラヒドロピラニル基またはアシル基
、例えばアセチルのみならず、また酸化的に開裂させ得
る基、例えばC3〜C6−アルキル基、例えばメチルを
表わす。
”−遷移金属触媒の存在下において5.4−工承キシー
5−メチルー1−1テンと反応させ、そして必要に応じ
て、かくして得られる一般式 式中、Rは上記の意味を有する、 の化合物をクライゼン転位(C1aiaen rea
r−rangement) に付し、これによって一
般式式中、Rは上記の意味を有し、そしてR′は水素ま
たはアシル基を表わす、 小lし^勃nルf月1とL病、L愕ス 「ヒドロキシル保護基」なる用語は、本発明の範囲内で
、開裂させ得る基、即ち、加水分解によって開裂させ得
る基、例えばシリル基、アルコキシメチル基、例えばメ
トキシメチル、テトラヒドロピラニル基またはアシル基
、例えばアセチルのみならず、また酸化的に開裂させ得
る基、例えばC3〜C6−アルキル基、例えばメチルを
表わす。
好ましいヒドロキシル保護基Rはアセチルである。
「アシル基」なる用語は脂肪族及び芳香族カルボン酸の
通常のアシル残基、好ましくは炭素原子10個゛までを
含む基、例えばアセチル、グロビオニル、ベンゾイル等
を表わす。
通常のアシル残基、好ましくは炭素原子10個゛までを
含む基、例えばアセチル、グロビオニル、ベンゾイル等
を表わす。
式■はシス−異性体(2−型)、トランス−異性体(E
−型)並びにシス−及びトランス−型の混合物が包含さ
れることを意図する。
−型)並びにシス−及びトランス−型の混合物が包含さ
れることを意図する。
最後に、「dlo−遷移金属触媒」なる用語は、中心金
属原子がdl O−立体配置を有し且つ配位子が金属原
子の酸化度に応じて未帯電で69、そして/′−または
負に帯電した遷移金属錯体を表わす。
属原子がdl O−立体配置を有し且つ配位子が金属原
子の酸化度に応じて未帯電で69、そして/′−または
負に帯電した遷移金属錯体を表わす。
かくして、全体の錯体は未帯電である。考えられる中心
原子はニッケル(0)、銅(I)、”ラジウム(0)、
銀(1)、白金(0)及び金(I)である〔ソエイ・ビ
ー・コルマン(J、P、Collman)及びエル@
ニスaヘインダス(L、S、Hegsdus)s r有
機遷移金属化学の原理及び応用」(″Pr1ncipl
eaand Applieat%one of O
rgano−transiti’on Metal
Chemistry’)%1s1s下、ユニバースイテ
イー6サイエンス・ブツクス(University
5cience Books)、ミル・バレイ(M
ill VILII6F)、カリホルニア(Ca目f
ornia)、1980参照〕、適当な配位子の例はト
リオルガノホスフィン類、例えばトリフェニルホスフィ
ンまたはトリメチルホスフィ/;−酸化炭素;芳香族配
位子、例えばペンゼ/;ノ・ライド、例えばクロライド
;及びスルホネート、例工ばトリフルオロメタンスルホ
ネートである。
原子はニッケル(0)、銅(I)、”ラジウム(0)、
銀(1)、白金(0)及び金(I)である〔ソエイ・ビ
ー・コルマン(J、P、Collman)及びエル@
ニスaヘインダス(L、S、Hegsdus)s r有
機遷移金属化学の原理及び応用」(″Pr1ncipl
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5cience Books)、ミル・バレイ(M
ill VILII6F)、カリホルニア(Ca目f
ornia)、1980参照〕、適当な配位子の例はト
リオルガノホスフィン類、例えばトリフェニルホスフィ
ンまたはトリメチルホスフィ/;−酸化炭素;芳香族配
位子、例えばペンゼ/;ノ・ライド、例えばクロライド
;及びスルホネート、例工ばトリフルオロメタンスルホ
ネートである。
適当な触媒の例として、次のものが挙げられる:ビスー
(トリフェニルホスフィ/)−ニッケル(0)−ノカル
ポニル〔メルク−インデックス(M@rek Ind
@x)ヱ、1527、参照〕、m(I) ) IJフル
オロメタンスルホネート−ベンゼン錯体〔ナト2ヘドロ
ンΦレターズ(T、e t r a −hedron
Latters)Na27.2529−2552(19
75)参照〕、 テトラキス−(トリフェニルホスフィン)−/#ラジウ
ム(0)及び式Pd0(diop)*の化合物、ここで
、rdiopjは光学的活性ホスフィン配位子、即ち、
(2s、5s)−2*5−インプロピリデン−2,5−
ジヒドロキシ−1,4−ビス−(ソフェニルホスフイノ
)−ブタン((+) d i o p ] ’! タけ
< 2 R# s a ) −2t ’ −0−インプ
ロビリデン−2,5−ソヒドロキシ−1,4−ビス−(
ソフェニルホスフイノ)−ブタンC(−) d l o
p ]である〔例えばテトラヘドロン(Tetrah
sdron)36、z15−2649(1977)及び
トピックス・イン・ステレオケミストリー(Toptc
sin 5tereocbs+m1atry)1旦、
175−285(197B)参照、〕、 (トリメチルホスフィン)−塩化銀(I)〔例えば八ぐ
・す・ソ丁@ < II )−デ(Chtam−B@r
、)105.5582−4588(1,972)参照〕
、テトラキス−(トリフェニルホスフィン)−白金(0
) C例、tバインオーガニックOシンセシス(Ino
rganic 5ynthesis)11.105−
108(1968)参照〕及び () リフェニルホスフィン)−塩化1) c ?lL
tばケミストリー・アンド・インダストリー(Chem
istry and Induatry)1959
.1628参照〕。
(トリフェニルホスフィ/)−ニッケル(0)−ノカル
ポニル〔メルク−インデックス(M@rek Ind
@x)ヱ、1527、参照〕、m(I) ) IJフル
オロメタンスルホネート−ベンゼン錯体〔ナト2ヘドロ
ンΦレターズ(T、e t r a −hedron
Latters)Na27.2529−2552(19
75)参照〕、 テトラキス−(トリフェニルホスフィン)−/#ラジウ
ム(0)及び式Pd0(diop)*の化合物、ここで
、rdiopjは光学的活性ホスフィン配位子、即ち、
(2s、5s)−2*5−インプロピリデン−2,5−
ジヒドロキシ−1,4−ビス−(ソフェニルホスフイノ
)−ブタン((+) d i o p ] ’! タけ
< 2 R# s a ) −2t ’ −0−インプ
ロビリデン−2,5−ソヒドロキシ−1,4−ビス−(
ソフェニルホスフイノ)−ブタンC(−) d l o
p ]である〔例えばテトラヘドロン(Tetrah
sdron)36、z15−2649(1977)及び
トピックス・イン・ステレオケミストリー(Toptc
sin 5tereocbs+m1atry)1旦、
175−285(197B)参照、〕、 (トリメチルホスフィン)−塩化銀(I)〔例えば八ぐ
・す・ソ丁@ < II )−デ(Chtam−B@r
、)105.5582−4588(1,972)参照〕
、テトラキス−(トリフェニルホスフィン)−白金(0
) C例、tバインオーガニックOシンセシス(Ino
rganic 5ynthesis)11.105−
108(1968)参照〕及び () リフェニルホスフィン)−塩化1) c ?lL
tばケミストリー・アンド・インダストリー(Chem
istry and Induatry)1959
.1628参照〕。
IJ?ラジウム(0)触媒の場合、このものを、例えば
還元によってその場で反応混合物中のパラジウム(11
′)塩から、例えば還元剤、例えばギ酸、ヒドラソン水
和物、第三アミン、例えばトリエチルアミン、或いは脂
肪族または環式エーテル、例えばテトラヒドロフランの
存在下において酢酸パラジウム(It)及びノ9ラジウ
ム(0)によって配位子を生ずる化合物、例えばトリフ
ェニルホスフィンから生成させることができる。
還元によってその場で反応混合物中のパラジウム(11
′)塩から、例えば還元剤、例えばギ酸、ヒドラソン水
和物、第三アミン、例えばトリエチルアミン、或いは脂
肪族または環式エーテル、例えばテトラヒドロフランの
存在下において酢酸パラジウム(It)及びノ9ラジウ
ム(0)によって配位子を生ずる化合物、例えばトリフ
ェニルホスフィンから生成させることができる。
パラジウム(0)−含有錯体が好ましいd”−遷移金属
触媒である。
触媒である。
式■の化合物と3.4−エポキシ−3−メチル−1−ブ
テンとの反応は不活性希釈剤、特に有機溶媒、例えば脂
肪族または環式エーテル、例えばジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテルtiはテトラヒFロフラン;芳香
族炭化水素、例えばベンゼン、トルエンまたはキシレン
;或いはハロダン化された脂肪族炭化水素、例えば塩化
メチレ/またはクロロホルム中で有利に行われる。エー
テルの場合、このものは度々用いるノイラジウム(ID
のパラジウム(0)への転化に対する還元剤として作用
する。かくして穐例えばジエチルエーテル及びテトラヒ
ドロフランは、パラジウム(ID塩を用いる本発明によ
る全ての方法において、適当な溶媒であるのみならず、
また適当な還元剤であることがわかった。
テンとの反応は不活性希釈剤、特に有機溶媒、例えば脂
肪族または環式エーテル、例えばジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテルtiはテトラヒFロフラン;芳香
族炭化水素、例えばベンゼン、トルエンまたはキシレン
;或いはハロダン化された脂肪族炭化水素、例えば塩化
メチレ/またはクロロホルム中で有利に行われる。エー
テルの場合、このものは度々用いるノイラジウム(ID
のパラジウム(0)への転化に対する還元剤として作用
する。かくして穐例えばジエチルエーテル及びテトラヒ
ドロフランは、パラジウム(ID塩を用いる本発明によ
る全ての方法において、適当な溶媒であるのみならず、
また適当な還元剤であることがわかった。
この反応は一般に0℃乃至50℃間の温度、好ましくは
室温で行われる。
室温で行われる。
d”−遷移金属触媒または存在する)々ラジウム(n)
塩の量は一般に式■の化合物の量を基準にして少なくと
も101モルチ、殊に(LO5〜100モルチ、−好ま
しくは約α3モルチである。
塩の量は一般に式■の化合物の量を基準にして少なくと
も101モルチ、殊に(LO5〜100モルチ、−好ま
しくは約α3モルチである。
式■の化合物の弐■の化合物への任意の転化を一般にそ
れ自体公知のり2イゼン転位条件下で行うことができる
。かくして、本発明における転位は不活性希釈剤、特に
有機溶媒、例えば脂肪族または芳香族炭化水素、例えば
n−へブタン、ベンゼン、トルエンまたはキシレン;ヘ
テロ芳香族、例えばビリソン;ハロr)化された脂肪族
または芳香族炭化水素、例えば塩化メチレン、クロロホ
ルム中たはクロロベンゼン;脂肪族または環式エーテル
、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは
ソオキサン;エステル、例えば酢酸エチル;ニトロ化さ
れた溶媒、例えばニトロメタ/;或いはホルムアミド、
例えばジメチルホルムアミド中で有利に行われる1反応
温度は広い範囲で、例えば−10℃〜140℃に変える
ことができる。
れ自体公知のり2イゼン転位条件下で行うことができる
。かくして、本発明における転位は不活性希釈剤、特に
有機溶媒、例えば脂肪族または芳香族炭化水素、例えば
n−へブタン、ベンゼン、トルエンまたはキシレン;ヘ
テロ芳香族、例えばビリソン;ハロr)化された脂肪族
または芳香族炭化水素、例えば塩化メチレン、クロロホ
ルム中たはクロロベンゼン;脂肪族または環式エーテル
、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは
ソオキサン;エステル、例えば酢酸エチル;ニトロ化さ
れた溶媒、例えばニトロメタ/;或いはホルムアミド、
例えばジメチルホルムアミド中で有利に行われる1反応
温度は広い範囲で、例えば−10℃〜140℃に変える
ことができる。
この転位は好ましくは低温、即ち、−10℃乃至+30
℃の温度範囲で行われ、この場合、該転位はプロトン酸
、例えば酢酸、塩化水素酸、トリフルオロ酢酸、リン酸
もしくは硫酸の存在下において、無水カルボン酸もしく
はノ)ライド、例えば無水酢酸もしくはアセチルクロラ
イドの存在下において、またはルイス(I、awls)
酸、例えば塩化鉄(ト)もしくは三フッ化ホウ素または
かかる酸の錯体、例えばエーテレートの存在下において
有利に行われるか、或いは該転位は昇温下で、即ち、8
0℃〜140℃の温度範囲、特に約100℃で行われ、
この場合、必要に応じて、該転位は塩基、例えばピリジ
ノ、ピペリジノまたはソメチルアミンビリソンの存在下
において行われる。
℃の温度範囲で行われ、この場合、該転位はプロトン酸
、例えば酢酸、塩化水素酸、トリフルオロ酢酸、リン酸
もしくは硫酸の存在下において、無水カルボン酸もしく
はノ)ライド、例えば無水酢酸もしくはアセチルクロラ
イドの存在下において、またはルイス(I、awls)
酸、例えば塩化鉄(ト)もしくは三フッ化ホウ素または
かかる酸の錯体、例えばエーテレートの存在下において
有利に行われるか、或いは該転位は昇温下で、即ち、8
0℃〜140℃の温度範囲、特に約100℃で行われ、
この場合、必要に応じて、該転位は塩基、例えばピリジ
ノ、ピペリジノまたはソメチルアミンビリソンの存在下
において行われる。
無水カルボン酸またはカルゲン酸ノーライドの存在下に
おけるクライゼン転位により、R1がアシル基を表わす
式■の化合物が誘導されろう残りの場合 R/が水素を
表わす弐mの化合物が得られる。
おけるクライゼン転位により、R1がアシル基を表わす
式■の化合物が誘導されろう残りの場合 R/が水素を
表わす弐mの化合物が得られる。
一般に上記の転位生成物は、もっばらいずれか一方の異
性体型よりも一般式 の異性体化合物の混合物の状態で存在する。転位の反応
条件に応じて、E−W(Illa):Z−型(II[b
)の比は特にso:so乃至はとんど100:Oになる
1例えば転位を塩化メチレン中の塩化水素を用いて、酸
性媒質中で行った場合、はとんど排他的に生成物のE型
(トランス−異性体)が得られることがわかった。一方
、トルエン中のツメチルアミノビリソ/を用いて塩基性
媒質中での転位は生成物のZ−ffi(シス−異性体)
を生ずるが、しかしながら、シス2)ニドランス(ト)
)の比は塩基の量を減少させることによって増加する。
性体型よりも一般式 の異性体化合物の混合物の状態で存在する。転位の反応
条件に応じて、E−W(Illa):Z−型(II[b
)の比は特にso:so乃至はとんど100:Oになる
1例えば転位を塩化メチレン中の塩化水素を用いて、酸
性媒質中で行った場合、はとんど排他的に生成物のE型
(トランス−異性体)が得られることがわかった。一方
、トルエン中のツメチルアミノビリソ/を用いて塩基性
媒質中での転位は生成物のZ−ffi(シス−異性体)
を生ずるが、しかしながら、シス2)ニドランス(ト)
)の比は塩基の量を減少させることによって増加する。
かくして製造した式■及び■の化合物の単離及び精製は
それ自体公知の方法に従って行うことができる1式■の
化合物の純粋なE−型及び2−型、即ち、式11aの純
粋な化合物及び式111bの純粋な化合物をそれ自体公
知の方法、例えばカラムクロマトグラフィーによって単
離することができる。
それ自体公知の方法に従って行うことができる1式■の
化合物の純粋なE−型及び2−型、即ち、式11aの純
粋な化合物及び式111bの純粋な化合物をそれ自体公
知の方法、例えばカラムクロマトグラフィーによって単
離することができる。
一般式If、III、ff1a及びmbの化合物は新規
なものであり、そして上記の如く、同様に本発明の一目
的である。これらの式において、R及びgJは好ましく
はアセチルである。
なものであり、そして上記の如く、同様に本発明の一目
的である。これらの式において、R及びgJは好ましく
はアセチルである。
一般式DI、l11m及び1ltbの化合物を例えば下
記の反応式1に従って(R,R,R)−α−トコフェロ
ール(天然ビタミンE)に転化することができる。この
反応式はE−型(式111aの化合物)から出発してい
るが、しかしまた、出発物質として異性体混合物(式1
[1a及びmbの化合物)または2−型(弐mbの化合
物)を用いる場合にも、この反応工程を適用する。この
過程により、各々の場合に所望の異性体、即ち、(R,
R,R)−α−トコフェロールが誘導される1反応式に
おいて、くさび形の記号(−)は対応する残基が分子の
面の上に位置することを表わし、一方、点線は対応する
残基が分子の面の下に位置することを表わす。
記の反応式1に従って(R,R,R)−α−トコフェロ
ール(天然ビタミンE)に転化することができる。この
反応式はE−型(式111aの化合物)から出発してい
るが、しかしまた、出発物質として異性体混合物(式1
[1a及びmbの化合物)または2−型(弐mbの化合
物)を用いる場合にも、この反応工程を適用する。この
過程により、各々の場合に所望の異性体、即ち、(R,
R,R)−α−トコフェロールが誘導される1反応式に
おいて、くさび形の記号(−)は対応する残基が分子の
面の上に位置することを表わし、一方、点線は対応する
残基が分子の面の下に位置することを表わす。
式[1amの化合物の式■の化合物への転化(ヒドロキ
シル保護基Rの開裂)は、保護基Rの性質に応じて、こ
れに関連する条件下で行うことができる。保護基Rが加
水分解によって開裂され得る場合には、これを簡単な方
法において、例えば醗で処理して(Rが例えばシリル、
アルコキシメチルまたはテトラヒドロピラニルを表わす
)、または塩基で処理して(Rが例えばアシルを表わす
)行うことができる。保護基Rが酸化的に開裂され得る
場合には、またこの転化は簡単な方法において、例えば
硝酸第二セリウムアンモニウムC(Ce (NH4)z
(NOx)s )で処理し、次に得られるキノンの還元
的環式化によって行われる。
シル保護基Rの開裂)は、保護基Rの性質に応じて、こ
れに関連する条件下で行うことができる。保護基Rが加
水分解によって開裂され得る場合には、これを簡単な方
法において、例えば醗で処理して(Rが例えばシリル、
アルコキシメチルまたはテトラヒドロピラニルを表わす
)、または塩基で処理して(Rが例えばアシルを表わす
)行うことができる。保護基Rが酸化的に開裂され得る
場合には、またこの転化は簡単な方法において、例えば
硝酸第二セリウムアンモニウムC(Ce (NH4)z
(NOx)s )で処理し、次に得られるキノンの還元
的環式化によって行われる。
また式■の化合物の式Vの化合物への選択的〇−メチル
化はそれ自体公知の反応条件下で、例えばメチル化剤と
して硫酸ツメチル、溶媒として塩化メチレン/水、塩基
例えば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム及び相間
移動触媒、例えば臭化テトラブチルアンモニウムを用い
て、相間移動条件下で行うことができる。
化はそれ自体公知の反応条件下で、例えばメチル化剤と
して硫酸ツメチル、溶媒として塩化メチレン/水、塩基
例えば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム及び相間
移動触媒、例えば臭化テトラブチルアンモニウムを用い
て、相間移動条件下で行うことができる。
式Vの化合物の式■の化合物への続いてのシャープレス
・エポキシド化はそれ自体公知の反応であり、通常の条
件下で、例えば塩化メチレン中のチタンテトラインプロ
ポキシド及びD−酒石酸ソブチルの存在下において、酸
化剤としてtert。
・エポキシド化はそれ自体公知の反応であり、通常の条
件下で、例えば塩化メチレン中のチタンテトラインプロ
ポキシド及びD−酒石酸ソブチルの存在下において、酸
化剤としてtert。
−ブチルヒドロパーオキシドを用いて一20℃乃至室温
の温度範囲で行うことができる。
の温度範囲で行うことができる。
式■の化合物の式■の化合物への還元はラネーニッケル
の存在下における水素を用いて、または水素化リチウム
アルミニウムを用いて行うことができる。最初に述べた
方法は水性有機溶媒中で有利に行われ、溶媒の有機部分
として、適当には水和性有機溶媒が考えられる。好まし
い有機溶媒は低級アルカノール、例えばメタノール、エ
タノール及びプロ/jノール;脂肪族または環式エーテ
ル、例えばソエチルエーテル、テトラヒドロフラン及び
ソオキサン;或いはケトン、例えばアセトンである。更
に、還元は中性乃至弱アルカリ性pH範囲、特に約7〜
10のpH範囲で且つ約り0℃〜約100℃の温度、好
ましくは反応混合物の還流温度で有利に行われる。10
0℃にできるだけ近い沸点を有する溶媒混合物が特に好
ましい、水素化リチウムアルミニウムによる還元は脂肪
族または環式エーテル、飼えばソエチルエーテル、テト
ラヒドロフランまたはジオキサン中にて室温で有利に行
われる。
の存在下における水素を用いて、または水素化リチウム
アルミニウムを用いて行うことができる。最初に述べた
方法は水性有機溶媒中で有利に行われ、溶媒の有機部分
として、適当には水和性有機溶媒が考えられる。好まし
い有機溶媒は低級アルカノール、例えばメタノール、エ
タノール及びプロ/jノール;脂肪族または環式エーテ
ル、例えばソエチルエーテル、テトラヒドロフラン及び
ソオキサン;或いはケトン、例えばアセトンである。更
に、還元は中性乃至弱アルカリ性pH範囲、特に約7〜
10のpH範囲で且つ約り0℃〜約100℃の温度、好
ましくは反応混合物の還流温度で有利に行われる。10
0℃にできるだけ近い沸点を有する溶媒混合物が特に好
ましい、水素化リチウムアルミニウムによる還元は脂肪
族または環式エーテル、飼えばソエチルエーテル、テト
ラヒドロフランまたはジオキサン中にて室温で有利に行
われる。
式■の化合物の式■のエポキシドへの転化はそれ自体公
知の方法において行うことができる。この目的のために
、式■の化付物における第一ヒドロキシ基をまず離脱性
基、例えばノ・ライド()・ロケ゛ンとして塩素、臭素
またはヨウ素が考えられる)、またはスルホン酸エステ
ル(例えばトシレートまたはメシレート)等に転化する
。この転化はそれ自体公知の方法において行うことがで
きる1次にかくして得られる化合物をまたそれ自体公知
の方法において塩基で処理する。塩基として、無機頃基
のみならず、また有機塩基も適当であり、好ましくは無
機塩基、例えば特に水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等が適当である。
知の方法において行うことができる。この目的のために
、式■の化付物における第一ヒドロキシ基をまず離脱性
基、例えばノ・ライド()・ロケ゛ンとして塩素、臭素
またはヨウ素が考えられる)、またはスルホン酸エステ
ル(例えばトシレートまたはメシレート)等に転化する
。この転化はそれ自体公知の方法において行うことがで
きる1次にかくして得られる化合物をまたそれ自体公知
の方法において塩基で処理する。塩基として、無機頃基
のみならず、また有機塩基も適当であり、好ましくは無
機塩基、例えば特に水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等が適当である。
寸た式■のエポキシドと式■のグリニアール化合物との
反応はそれ自体公知の方法において行うことができる。
反応はそれ自体公知の方法において行うことができる。
しかしながら、銅(Iまたは■)触媒、特に銅(I)
n−グロビルアセチリドまたは銅(1)ハライド−ジメ
チルスルファイド錯体の存在下における反応が好ましい
、グリニアール反応の場合に通常考えられる全ての溶媒
がこの反応に対する適当な溶媒である。
n−グロビルアセチリドまたは銅(1)ハライド−ジメ
チルスルファイド錯体の存在下における反応が好ましい
、グリニアール反応の場合に通常考えられる全ての溶媒
がこの反応に対する適当な溶媒である。
式Xの化合物は公知のものでラシ、公知の方法において
(R,R,R)−α−トコフェロール(■)に転化する
ことができる。この転化は例えば簡単な方法において、
例えば硝酸第二セリウムアンモニウム((Ce (NH
+)t (N0s)a )で処理し、次に得られるキノ
ンの還元的環式化によって行うことができる。
(R,R,R)−α−トコフェロール(■)に転化する
ことができる。この転化は例えば簡単な方法において、
例えば硝酸第二セリウムアンモニウム((Ce (NH
+)t (N0s)a )で処理し、次に得られるキノ
ンの還元的環式化によって行うことができる。
Rzがアシル基を表わす弐■の化合物を、側鎖における
アシル基を選択的に開裂させた後、式Vの化合物に対す
る方法と同様にして、更に反応させることができる。ア
シル基の開裂をそれ自体公知の方法に従って、例えば三
フフ化ホウ素、チタン(IV)塩、トリエチルアミンま
たは水酸化ナトリウムの存在下において行うことができ
る。
アシル基を選択的に開裂させた後、式Vの化合物に対す
る方法と同様にして、更に反応させることができる。ア
シル基の開裂をそれ自体公知の方法に従って、例えば三
フフ化ホウ素、チタン(IV)塩、トリエチルアミンま
たは水酸化ナトリウムの存在下において行うことができ
る。
しかしながら、また一般式■の化合物を例えば次の反応
式2に従って、ラセミ性α−トコフェロールに転化する
ことができる。
式2に従って、ラセミ性α−トコフェロールに転化する
ことができる。
匡 Q
;s Q弐meの化合物の式刈の化合物へ
の転化(離脱性基Yの導入)を、離脱性基Yの性質に応
じて、これに関するそれ自体公知の反応条件下で、例え
ば弐■の化合物をピリジン中のメタンスルホニルクロラ
イドtた1dp−)ルエンスルホニルクロライドで処理
することによって行うことができる。
;s Q弐meの化合物の式刈の化合物へ
の転化(離脱性基Yの導入)を、離脱性基Yの性質に応
じて、これに関するそれ自体公知の反応条件下で、例え
ば弐■の化合物をピリジン中のメタンスルホニルクロラ
イドtた1dp−)ルエンスルホニルクロライドで処理
することによって行うことができる。
また弐刈の化合物と式■′の化合物との続いての反応を
それ自体公知の反応条件下で行うことができる。ラセミ
性α−トコフェロールを誘導する最後の反応工程は有利
には有機希釈剤、好ましくはトルエン、酢fL 1s
z−ソクロロエタンまたはn−へブタン中で、水性無機
酸、例えば塩化水素酸もしくは臭化水素酸の存在下にお
いて及び/まだはルイス酸例えば三塩化アルミニウムも
しくは三フフ化ホウ素の存在下において行われる。
それ自体公知の反応条件下で行うことができる。ラセミ
性α−トコフェロールを誘導する最後の反応工程は有利
には有機希釈剤、好ましくはトルエン、酢fL 1s
z−ソクロロエタンまたはn−へブタン中で、水性無機
酸、例えば塩化水素酸もしくは臭化水素酸の存在下にお
いて及び/まだはルイス酸例えば三塩化アルミニウムも
しくは三フフ化ホウ素の存在下において行われる。
上記反応式1及び2に示した全ての反応生成物の単離及
び精製をそれ自体公知の方法に従って行うことができる
。
び精製をそれ自体公知の方法に従って行うことができる
。
本発明による方法を以下の実施例1.2及び10によっ
て説明し、一方、弐■の生成物の(R,R,R)−α−
トコフェロールへの段階的転化を以下の実施例3〜9及
び11によって説明する。
て説明し、一方、弐■の生成物の(R,R,R)−α−
トコフェロールへの段階的転化を以下の実施例3〜9及
び11によって説明する。
実施例 1
亀)塩化メチレン40−中の2.5.6−ドリメチルヒ
ドロキノンー1−モノアセテート(式■、R=CH,C
o)10 Fの溶液に室温でテトラキス−() IJフ
ェニルホスフィン)−ノ々ラジウム(0120rIIg
、次に5.4−エポキシ−3−メチル−1−ブテン5.
Ofを加えた。室温で30分間1町ギした後、反応混合
物を重炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、次に有機相を無
水硫酸す) IJウム上で乾燥し、そして蒸発させた。
ドロキノンー1−モノアセテート(式■、R=CH,C
o)10 Fの溶液に室温でテトラキス−() IJフ
ェニルホスフィン)−ノ々ラジウム(0120rIIg
、次に5.4−エポキシ−3−メチル−1−ブテン5.
Ofを加えた。室温で30分間1町ギした後、反応混合
物を重炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、次に有機相を無
水硫酸す) IJウム上で乾燥し、そして蒸発させた。
残渣から、カラムクロマトグラフィーによシ(シリカグ
ル、ジエチルエーテル/n−ヘキサン)、無色の油状物
として純粋な生成物、2,5.6−)リメチル−4−(
1’−ヒドロキシメチル−11−メチル−アリルオキシ
)−フェニルアセテート12Fが得られた。
ル、ジエチルエーテル/n−ヘキサン)、無色の油状物
として純粋な生成物、2,5.6−)リメチル−4−(
1’−ヒドロキシメチル−11−メチル−アリルオキシ
)−フェニルアセテート12Fが得られた。
b)方法a)をくシ返し行うが、但し、異なる点として
、溶媒としてソエチルエーテルを用い、テトラキス−(
トリフェニルホスフィン)−パラソウz(o)ノ代り
lIC1酢rMtハラソウAaI) (116’%’)
及ヒドリフェニルホスフィン(s4oy*)t[いた。
、溶媒としてソエチルエーテルを用い、テトラキス−(
トリフェニルホスフィン)−パラソウz(o)ノ代り
lIC1酢rMtハラソウAaI) (116’%’)
及ヒドリフェニルホスフィン(s4oy*)t[いた。
この場合、)2ソウム(0)触媒をかくしてその場で生
成させた。方法a)と同様の生成物が得られた。
成させた。方法a)と同様の生成物が得られた。
C)方法色)をくり返し行うが、但し、異なる点として
、テトラキス−(トリフェニルホスフィン)−・ぐラジ
ウム(0)の代シに酢酸ノfラジウム(If)(116
mg)、トリフェニルホスフィン(680〜)及びギヒ
(50WIf、還元剤)を用いた。この場合、またかく
して、・ソラジウム(0)触媒をその場で生成させた。
、テトラキス−(トリフェニルホスフィン)−・ぐラジ
ウム(0)の代シに酢酸ノfラジウム(If)(116
mg)、トリフェニルホスフィン(680〜)及びギヒ
(50WIf、還元剤)を用いた。この場合、またかく
して、・ソラジウム(0)触媒をその場で生成させた。
方法a)と同様の生成物が得られた。
d)方法a)をくり返し行うが、但し、異なる点として
、触媒として銅(I) )リフルオロメタンスして混合
物を4時間攪拌した。方法a)と同様の生成物が得られ
た。
、触媒として銅(I) )リフルオロメタンスして混合
物を4時間攪拌した。方法a)と同様の生成物が得られ
た。
C)方法亀)をくシ返し行うが、但し、異なる点として
、触媒としてビス−(トリフェニルホスフィン)−ニッ
ケル(0)−ジカルボニル(9soI!v)を用い、そ
して混合物を還流温度に約16時間加熱した。方法a)
と同様の生成物が得られた。
、触媒としてビス−(トリフェニルホスフィン)−ニッ
ケル(0)−ジカルボニル(9soI!v)を用い、そ
して混合物を還流温度に約16時間加熱した。方法a)
と同様の生成物が得られた。
f)方法&)をく9返し行うが、但し、異なる点として
、触媒としてテトラキス−(トリフェニルホスフィン)
−パラジウム(0)lso■)ヲ用いた。方法a)と同
様の生成物が得られた。
、触媒としてテトラキス−(トリフェニルホスフィン)
−パラジウム(0)lso■)ヲ用いた。方法a)と同
様の生成物が得られた。
実施例 2
a)塩化メチレン80−中の2.s、b−トリメチル−
4−(1’−ヒドロキシメチル−1/−メチル−アリル
オキシ)−フェニルアセテート52の溶液中に0℃で塩
化水素の弱い気流を導入し+ nで中入「−へU煽性1
4μ ÷114U柵偽ル重炭酸す) IJウム水溶液に
注いだ、有機相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、残渣
(4,9f )から、カラムクロマドグ2フイーによシ
(シリカク°ル、ジエチルエーテル/n−へキサン)、
&を点144〜146℃のE−型として4−ヒドロキシ
−5−(4′−ヒドロキシ−51−メチル−2I−ブテ
ニル) −2e s I 6− ト1jメチル−フェニ
ルアセテート4.5gが得られた。
4−(1’−ヒドロキシメチル−1/−メチル−アリル
オキシ)−フェニルアセテート52の溶液中に0℃で塩
化水素の弱い気流を導入し+ nで中入「−へU煽性1
4μ ÷114U柵偽ル重炭酸す) IJウム水溶液に
注いだ、有機相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、残渣
(4,9f )から、カラムクロマドグ2フイーによシ
(シリカク°ル、ジエチルエーテル/n−へキサン)、
&を点144〜146℃のE−型として4−ヒドロキシ
−5−(4′−ヒドロキシ−51−メチル−2I−ブテ
ニル) −2e s I 6− ト1jメチル−フェニ
ルアセテート4.5gが得られた。
b) トルエン150tnt中の2 m 5 * 6
− トリメチル−4−(1/−ヒドロキシメチル−11
−メチル−アリルオキシ)−フェニルアセテート&52
の溶液を還流温度で6時間加熱した。その後、反応混合
物を蒸発させ、生じた残渣をクロマトグラフィーにかけ
た(シリカゲル、ソエチルエーテル/n−ヘキサン/メ
タノール)、融点144〜146℃のE−型における4
−ヒドロキシ−5−(4I−ヒドロキシ−31−メチル
−2′−ブテニル)−2,s、6−トリメfルーフェニ
ルアセテート4.72及び融点158〜159℃の2−
型における対応する生成物r:L7fを単離した。
− トリメチル−4−(1/−ヒドロキシメチル−11
−メチル−アリルオキシ)−フェニルアセテート&52
の溶液を還流温度で6時間加熱した。その後、反応混合
物を蒸発させ、生じた残渣をクロマトグラフィーにかけ
た(シリカゲル、ソエチルエーテル/n−ヘキサン/メ
タノール)、融点144〜146℃のE−型における4
−ヒドロキシ−5−(4I−ヒドロキシ−31−メチル
−2′−ブテニル)−2,s、6−トリメfルーフェニ
ルアセテート4.72及び融点158〜159℃の2−
型における対応する生成物r:L7fを単離した。
実施例 5
4−ヒドロキシ−5−(4/−ヒドロキシ−3′−メチ
ル−21−ブテニル)−2,5,6−ドリメチルーフエ
ニルアセテート’2−91を水性エタノール(エタノー
ル50−1水10d)中の水酸化カリウム2.Ofの溶
液に加え、この混合物をアルゴン下にて還流山鹿に2時
間加熱した。その後、反応混合物を室温に冷却し、そし
て水に注いだ。
ル−21−ブテニル)−2,5,6−ドリメチルーフエ
ニルアセテート’2−91を水性エタノール(エタノー
ル50−1水10d)中の水酸化カリウム2.Ofの溶
液に加え、この混合物をアルゴン下にて還流山鹿に2時
間加熱した。その後、反応混合物を室温に冷却し、そし
て水に注いだ。
水性混合物をジエチルエーテルで抽出し、エーテル相を
順次重炭酸ナトリウム溶液及び塩化す) IJウム溶液
で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして蒸発
乾固させた。得られた粗製の生成物(五〇F)を塩化メ
チレンから再結晶させた。
順次重炭酸ナトリウム溶液及び塩化す) IJウム溶液
で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして蒸発
乾固させた。得られた粗製の生成物(五〇F)を塩化メ
チレンから再結晶させた。
融点149℃(分解)の黄色結晶状で4− (2’。
5′−ジヒドロキシ−51,41,61−トリメチルフ
エニル)−2−メチル−2−ブチノール1、52 Fが
得られた。
エニル)−2−メチル−2−ブチノール1、52 Fが
得られた。
実施例 4
4− (21、5/−ヅヒドロキシー5/、47゜6r
−トリメチルフェニル)−2−メチル−2−ブチノール
io?、塩化メチレン40−1水6−1水酸化ナトリウ
ムs、6t、炭酸カリウムα61゜硫酸ツメチル1.6
v及びtart*−ブチルアンモニウムブロマイドCL
25fの混合物をアルゴン下にて50℃で5時間中分に
攪拌し、その彼、水に注いだ、水性混合物をジエチルエ
ーテルで抽出し、エーテル相を順次重炭酸ナトリウム溶
液及び塩化ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、蒸発乾固させた。残If(x7y)から
、カラムクロマトグラフィーによシ(シリカゲル、ジエ
チルエーテル/n−ヘキサン)、融点87〜88℃の白
色結晶状で4−(2/、5’−ジメトキシ−5’、4’
、6’−トリメチルフエニル)−2−メチル−2−ブチ
ノール1.62が得られた。
−トリメチルフェニル)−2−メチル−2−ブチノール
io?、塩化メチレン40−1水6−1水酸化ナトリウ
ムs、6t、炭酸カリウムα61゜硫酸ツメチル1.6
v及びtart*−ブチルアンモニウムブロマイドCL
25fの混合物をアルゴン下にて50℃で5時間中分に
攪拌し、その彼、水に注いだ、水性混合物をジエチルエ
ーテルで抽出し、エーテル相を順次重炭酸ナトリウム溶
液及び塩化ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、蒸発乾固させた。残If(x7y)から
、カラムクロマトグラフィーによシ(シリカゲル、ジエ
チルエーテル/n−ヘキサン)、融点87〜88℃の白
色結晶状で4−(2/、5’−ジメトキシ−5’、4’
、6’−トリメチルフエニル)−2−メチル−2−ブチ
ノール1.62が得られた。
実施例 5
製造
チタンテトライソグロポキシド(15q4mtt−乾燥
塩化メチレン10−に溶解した1次にD−酒石酸ジブチ
ル524mを滴下し、この混合物を一20℃で10分間
放置した6次に4−(21゜5I−ジメトキシ−51,
41,6’−トリメチ゛ルフエニル)−2−メチル−2
−ブチノール197キt−加、t、続いてに@rts−
ブチルヒドロパーオキシド(80%)1809を滴下し
た(塩化メチレ/α5−中の溶液として)、かくして得
られた黄色溶液を一20℃で4〜5日間放置し、次に1
N水酸化ナトリウム溶液5−で処理し、放置して室温に
加温し、そして1時間攪拌した1次に相を分離し、水相
を塩化メチレンで2回洗浄した1合液した有機相を無水
硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濃縮した。かくして
得られた無色の油をジエチルエーテル20−に溶解し、
1N水酸化ナトリウム溶液5−と共に1時間攪拌した。
塩化メチレン10−に溶解した1次にD−酒石酸ジブチ
ル524mを滴下し、この混合物を一20℃で10分間
放置した6次に4−(21゜5I−ジメトキシ−51,
41,6’−トリメチ゛ルフエニル)−2−メチル−2
−ブチノール197キt−加、t、続いてに@rts−
ブチルヒドロパーオキシド(80%)1809を滴下し
た(塩化メチレ/α5−中の溶液として)、かくして得
られた黄色溶液を一20℃で4〜5日間放置し、次に1
N水酸化ナトリウム溶液5−で処理し、放置して室温に
加温し、そして1時間攪拌した1次に相を分離し、水相
を塩化メチレンで2回洗浄した1合液した有機相を無水
硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濃縮した。かくして
得られた無色の油をジエチルエーテル20−に溶解し、
1N水酸化ナトリウム溶液5−と共に1時間攪拌した。
再び相を分離し、水相をジエチルエーテルで2回洗浄し
、有機相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濃縮
した@ (2Resn)−a−C2’*5′−ジメトキ
シ−51,41,61−トリメチルフェニル)−2,5
−エポキシ−2−メチルプIt/−ル1881119(
9896)が得られた、〔a〕D +1&2°(e =
2 %、CHCl s−) *実施例 6 a ) (2R* 5 R) −4−(2’ −5’
−’) メトキシ−51,41,61−トリメチルフ
ェニル)−2,3−エポキシ−2−メチルブタノール1
85#IFをメタノール5−に溶解し、次にこの溶液を
水5−で希釈した1次にラネーニッケルを加え、混合物
を水素下にて2時間還流温度に加熱した。水素吸収の終
了後、混合物を濾過し、濾過残渣をメタノール及び塩化
メチレンで洗浄し、合液した戸液及び洗液を回転蒸発機
でa縮した。残っている水を塩化メチレンの添加によっ
て共沸的に留去した。得られた油をn−ヘキサン/ジエ
チルエーテルから再結晶させ、55チ(S)−4−(2
’。
、有機相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濃縮
した@ (2Resn)−a−C2’*5′−ジメトキ
シ−51,41,61−トリメチルフェニル)−2,5
−エポキシ−2−メチルプIt/−ル1881119(
9896)が得られた、〔a〕D +1&2°(e =
2 %、CHCl s−) *実施例 6 a ) (2R* 5 R) −4−(2’ −5’
−’) メトキシ−51,41,61−トリメチルフ
ェニル)−2,3−エポキシ−2−メチルブタノール1
85#IFをメタノール5−に溶解し、次にこの溶液を
水5−で希釈した1次にラネーニッケルを加え、混合物
を水素下にて2時間還流温度に加熱した。水素吸収の終
了後、混合物を濾過し、濾過残渣をメタノール及び塩化
メチレンで洗浄し、合液した戸液及び洗液を回転蒸発機
でa縮した。残っている水を塩化メチレンの添加によっ
て共沸的に留去した。得られた油をn−ヘキサン/ジエ
チルエーテルから再結晶させ、55チ(S)−4−(2
’。
5I−ジメトキシ−51,41,61−トリメチルフエ
ニル)−2−メチル−1,2−ブタンジオール1611
9を得た(収率49%:アセトニドのGC分析)、純物
質のデータニ融点86−87℃;〔αコD+2.55°
(e=5−5%、CHCl、)。
ニル)−2−メチル−1,2−ブタンジオール1611
9を得た(収率49%:アセトニドのGC分析)、純物
質のデータニ融点86−87℃;〔αコD+2.55°
(e=5−5%、CHCl、)。
b)(2R,5R)−4−(27,5/−ジメトキシ−
5’、4#、6#−トリメチルフエニル〕−2,3−エ
ポキシ−2−メチルブタノール1、10 fをピリジン
2−に溶解し、次にトリメチルクロロシラン[L5+d
を加え、この混合物を室温で1時間放置した1次に重炭
酸ナトリウム溶液を加え、混合物をトルエンで抽出した
1合液した有機相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、そ
して濃縮した。かくして得られた(2R,3R)−4−
(2#、5#−ジメトキシ−51,41,61−トリメ
チルフエニル)−2,5−エポキシ−2−メチル−1−
(トリメチルシリルオキシ)−ブタンをジエチルエーテ
ル1ONtに溶解し、水素化リチウムアルミニウム40
■で処理し、室温で16時間攪拌した1次にニフッ化水
素アンモニウム溶液を加え、混合物を酢酸エチルで抽出
した1合液した有機相を無水硫酸す) IJウム上で乾
燥し、濃縮し、残渣を高真空下で更に乾燥した。771
<して、(S)−4−(2’、5’−ジメトキシ−51
,41゜6#−トリメチルフェニル)−2−メチル−1
,2−ブタンジオール804■(73%)が得られた、
融点86〜87℃、[α] o + 155゜(e
= 5.5 %、CHCig )@実施例 7 トシルクロライド257〜及び(S)−4−(2’#5
1−ソメトキシー5 ’ @ 4 ’ −6’−)リメ
チルフェニル)−2−メチル−1,2−ブタンジオール
550キを塩化メチレン1−に溶解した1次Ic ヒI
) シyα180−を0℃で滴下し、この混合物を0℃
で1時間、次に室温で16時間放置した。
5’、4#、6#−トリメチルフエニル〕−2,3−エ
ポキシ−2−メチルブタノール1、10 fをピリジン
2−に溶解し、次にトリメチルクロロシラン[L5+d
を加え、この混合物を室温で1時間放置した1次に重炭
酸ナトリウム溶液を加え、混合物をトルエンで抽出した
1合液した有機相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、そ
して濃縮した。かくして得られた(2R,3R)−4−
(2#、5#−ジメトキシ−51,41,61−トリメ
チルフエニル)−2,5−エポキシ−2−メチル−1−
(トリメチルシリルオキシ)−ブタンをジエチルエーテ
ル1ONtに溶解し、水素化リチウムアルミニウム40
■で処理し、室温で16時間攪拌した1次にニフッ化水
素アンモニウム溶液を加え、混合物を酢酸エチルで抽出
した1合液した有機相を無水硫酸す) IJウム上で乾
燥し、濃縮し、残渣を高真空下で更に乾燥した。771
<して、(S)−4−(2’、5’−ジメトキシ−51
,41゜6#−トリメチルフェニル)−2−メチル−1
,2−ブタンジオール804■(73%)が得られた、
融点86〜87℃、[α] o + 155゜(e
= 5.5 %、CHCig )@実施例 7 トシルクロライド257〜及び(S)−4−(2’#5
1−ソメトキシー5 ’ @ 4 ’ −6’−)リメ
チルフェニル)−2−メチル−1,2−ブタンジオール
550キを塩化メチレン1−に溶解した1次Ic ヒI
) シyα180−を0℃で滴下し、この混合物を0℃
で1時間、次に室温で16時間放置した。
次に氷1f及び濃塩酸α5−を加えた。混合物を塩化メ
チレンで抽出し、抽出液を乾燥し、そして濃縮した*C
5)−a−<2t*5’−ジメトキシ−3’、4’、6
’−)リメチルフェニル)−2−メチル−1−トルイル
スルホニルオキシ−2−ブタノール511119(95
チ)が得られた、〔α〕D+1.26Cc=2.6%、
CHCl s ) @(S)−4−(2’、5’−ソメ
トキシー3′。
チレンで抽出し、抽出液を乾燥し、そして濃縮した*C
5)−a−<2t*5’−ジメトキシ−3’、4’、6
’−)リメチルフェニル)−2−メチル−1−トルイル
スルホニルオキシ−2−ブタノール511119(95
チ)が得られた、〔α〕D+1.26Cc=2.6%、
CHCl s ) @(S)−4−(2’、5’−ソメ
トキシー3′。
41.6I−トリメチルフェニル)−2−メチル−1−
トルイルスルホニルオキシ−2−ブタノール17711
9をエタノールldl/(溶解し、アルコール性水酸化
ナトリウム溶液(1,5N)α5dで処理した。混合物
を室温で10分間放置し、次に塩化メチレン50−を加
え、混合物を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして渉
縞した@(S)−4−(21,51−ジメトキシ−51
,41,61−トリメチルフェニル)−2−メチル−1
,2−二Iキシ−ブタン105ηが得られた、融点47
−48℃、〔α]D+4.91°(e = 2.2 %
、C)I Cl s ) * 実施例 8 (sR,7R)−s、7.11−)リメチルードデシル
プロマイド18ミリモルをジエチルエーテル2〇−中で
、エツチングしたマグネシウムと共に1/4時間還流下
で加熱した1次に(S) −4−(21,57−ジメト
キシ−51,41,61−トリメチルフエニル)−2−
メチル−1,2−エポキシ−ブタン1を及び銅(I)2
−グロビルアセチリド[L12(または臭化銅(1)ニ
ジメチルスルファイド錯体t 2 r)を0℃で加えた
1反応混合物の温度を放置して室温に上昇させ、混合物
を約16時間攪拌した。次に塩化アンモニウム1(ld
を加え、混合物をジエチルエーテルで抽出した。抽出液
を乾燥し、濃縮し、そして球管中で蒸留した(沸点α0
1=140℃)、無色の油として(5R−7R,11R
)−1−(2’、5/−ジメトキシ−51,41,bl
−トリメチルフエニル)−5,7,11,15−テトラ
メチル−ヘキサデカン−5−オール1.213 f (
72チ)〔または1.41f(79%〕〕が得られた、 〔α〕D =−167°(c = (L 91%、CH
Cl、)。
トルイルスルホニルオキシ−2−ブタノール17711
9をエタノールldl/(溶解し、アルコール性水酸化
ナトリウム溶液(1,5N)α5dで処理した。混合物
を室温で10分間放置し、次に塩化メチレン50−を加
え、混合物を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして渉
縞した@(S)−4−(21,51−ジメトキシ−51
,41,61−トリメチルフェニル)−2−メチル−1
,2−二Iキシ−ブタン105ηが得られた、融点47
−48℃、〔α]D+4.91°(e = 2.2 %
、C)I Cl s ) * 実施例 8 (sR,7R)−s、7.11−)リメチルードデシル
プロマイド18ミリモルをジエチルエーテル2〇−中で
、エツチングしたマグネシウムと共に1/4時間還流下
で加熱した1次に(S) −4−(21,57−ジメト
キシ−51,41,61−トリメチルフエニル)−2−
メチル−1,2−エポキシ−ブタン1を及び銅(I)2
−グロビルアセチリド[L12(または臭化銅(1)ニ
ジメチルスルファイド錯体t 2 r)を0℃で加えた
1反応混合物の温度を放置して室温に上昇させ、混合物
を約16時間攪拌した。次に塩化アンモニウム1(ld
を加え、混合物をジエチルエーテルで抽出した。抽出液
を乾燥し、濃縮し、そして球管中で蒸留した(沸点α0
1=140℃)、無色の油として(5R−7R,11R
)−1−(2’、5/−ジメトキシ−51,41,bl
−トリメチルフエニル)−5,7,11,15−テトラ
メチル−ヘキサデカン−5−オール1.213 f (
72チ)〔または1.41f(79%〕〕が得られた、 〔α〕D =−167°(c = (L 91%、CH
Cl、)。
元素分析’ CaIHisOs (476,79)に対
する計算値:C=7a09%、)I−11,84%実測
値:C=77.92%、1(=11.59チ実施例 9 (2R,4’R,8’R)−α−トコフェロールの製造 水5+d中の硝酸第二セリウムNV)アンモニウム1゜
58?をアセトニトリル50d中の(3R07R,11
R)l−(27,5’−ソメトキシ+ 5 / 、 4
1 、61−トリメチルフェニル)−5,7,11,1
5−テトラメチルへキサデカン−5−オール550■(
112ミリモル)の溶液に攪拌しながら加え、この混合
物を室温で1時間撹拌した0反応混合物を塩化メテレ/
各20−で5回抽出し、合液した有機相を無水硫酸ナト
リウム上で乾燥し、回転蒸発機中で蒸発させた。
する計算値:C=7a09%、)I−11,84%実測
値:C=77.92%、1(=11.59チ実施例 9 (2R,4’R,8’R)−α−トコフェロールの製造 水5+d中の硝酸第二セリウムNV)アンモニウム1゜
58?をアセトニトリル50d中の(3R07R,11
R)l−(27,5’−ソメトキシ+ 5 / 、 4
1 、61−トリメチルフェニル)−5,7,11,1
5−テトラメチルへキサデカン−5−オール550■(
112ミリモル)の溶液に攪拌しながら加え、この混合
物を室温で1時間撹拌した0反応混合物を塩化メテレ/
各20−で5回抽出し、合液した有機相を無水硫酸ナト
リウム上で乾燥し、回転蒸発機中で蒸発させた。
<5’R,71Ft、j1’R)−2−(51−ヒドロ
キシ−3’、7/、11’、15’−テトラメチル−ヘ
キサデカン−11−イル)−5m’e5−トリメチルー
1.4−ベンゾキノン480■が得られた、 この生成物をメタノール100−に溶解し、10%/#
ラソウム/炭素上で水素添加した1次濃塩酸(L 5
mlを加え、混合物を5R℃に2時間加熱した。その後
、混合物を固体の炭醒水素ナトリウムの添加によって中
和し、次に濾過した。F液を蒸発させ、残渣をシリカゲ
ル上で、トルエン/酢酸エチル(2:1)を用いてクロ
マトグラフィーにかけた。この方法において、やや帯黄
色消として(2R* ” Rs 8 ’ R)−α−ト
コフェロール(天然ビタミンE)5751119<90
チ)が得られた。この方法で得られた( 2 n e
4′a *8’R)−α−トコフェロールのエナンチオ
マー純度は95チであった。
キシ−3’、7/、11’、15’−テトラメチル−ヘ
キサデカン−11−イル)−5m’e5−トリメチルー
1.4−ベンゾキノン480■が得られた、 この生成物をメタノール100−に溶解し、10%/#
ラソウム/炭素上で水素添加した1次濃塩酸(L 5
mlを加え、混合物を5R℃に2時間加熱した。その後
、混合物を固体の炭醒水素ナトリウムの添加によって中
和し、次に濾過した。F液を蒸発させ、残渣をシリカゲ
ル上で、トルエン/酢酸エチル(2:1)を用いてクロ
マトグラフィーにかけた。この方法において、やや帯黄
色消として(2R* ” Rs 8 ’ R)−α−ト
コフェロール(天然ビタミンE)5751119<90
チ)が得られた。この方法で得られた( 2 n e
4′a *8’R)−α−トコフェロールのエナンチオ
マー純度は95チであった。
実施例 10
2− s * b −)ジエチル−4−(11−ヒドロ
キシメチル−1′−メチルアリルオキシ)−フェニルア
セテート(実施例1に従って製造したもの)S、Otを
無水酢酸50−に浴解し、ツメチルアミノピリジン(L
lFで処理した。室温で5時間攪拌した後、混合物を1
00℃に7時間保持し、次に室温に冷却し、重炭酸す)
IJウム水溶液に注いだ。
キシメチル−1′−メチルアリルオキシ)−フェニルア
セテート(実施例1に従って製造したもの)S、Otを
無水酢酸50−に浴解し、ツメチルアミノピリジン(L
lFで処理した。室温で5時間攪拌した後、混合物を1
00℃に7時間保持し、次に室温に冷却し、重炭酸す)
IJウム水溶液に注いだ。
水性混合物をジエチルエーテルで抽出し、エーテル相を
順次重炭酸ナトリウム溶液及び塩化ナトリウム溶液で洗
浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして蒸発乾固
させた。4−(2’、5/−ソアセトキシ−5’ *
4 ’ * 6 ’ −)リメテルフ工二ル)−2−メ
チル−2−ブテニルアセテートの結晶s、atが得られ
、このものはE−異性体生成物約70%及び2−異性体
生成物的30%からなっていた。純粋なE−異性体(融
点128〜130℃)をジイソプロピルエーテルから再
結晶させて製造することができた。
順次重炭酸ナトリウム溶液及び塩化ナトリウム溶液で洗
浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして蒸発乾固
させた。4−(2’、5/−ソアセトキシ−5’ *
4 ’ * 6 ’ −)リメテルフ工二ル)−2−メ
チル−2−ブテニルアセテートの結晶s、atが得られ
、このものはE−異性体生成物約70%及び2−異性体
生成物的30%からなっていた。純粋なE−異性体(融
点128〜130℃)をジイソプロピルエーテルから再
結晶させて製造することができた。
実施例 11
(匂−4−(21,51−ソアセトキシ−51゜41.
6I−トリメチルフェニル)−2−メチル−2−ブテニ
ルアセテート&Ofをメタノール50mに溶解し、三フ
ッ化ホウ素エーテレート[L12で処理した。この混合
物を還流下で4時間沸騰させ、次に室温に冷却し、重炭
酸ナトリウム水溶液中に注いだ、水溶液をソエチルエー
テルで抽出し、水相を順次重炭酸ナトリウム溶液及び塩
化ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾
燥し、そして蒸発乾固させた。残渣(46f)から、カ
ラムクロマトグラフィーによって(シリカグル、ジエチ
ルエーテル/n−ヘキサン/メタノール)、融点118
〜120℃の白色結晶状で@−4−(ip、5I−ジア
セト中シー51.41.bl−トリメチルフェニル)−
2−メチル−2−ブチノール4.02が得られた。
6I−トリメチルフェニル)−2−メチル−2−ブテニ
ルアセテート&Ofをメタノール50mに溶解し、三フ
ッ化ホウ素エーテレート[L12で処理した。この混合
物を還流下で4時間沸騰させ、次に室温に冷却し、重炭
酸ナトリウム水溶液中に注いだ、水溶液をソエチルエー
テルで抽出し、水相を順次重炭酸ナトリウム溶液及び塩
化ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾
燥し、そして蒸発乾固させた。残渣(46f)から、カ
ラムクロマトグラフィーによって(シリカグル、ジエチ
ルエーテル/n−ヘキサン/メタノール)、融点118
〜120℃の白色結晶状で@−4−(ip、5I−ジア
セト中シー51.41.bl−トリメチルフェニル)−
2−メチル−2−ブチノール4.02が得られた。
この生成物を実施例5tたはオーガニック・シンセシス
(Org、5ynth、)62.66(1984)と同
様の方法においてエポキシド化し、このエポキシドをそ
れ自体公知の方法において、水素化物(例えばジボラン
)を用いて、エステル官能基の同時開裂に伴って還元し
、得られたヒドロキノンアルコールを公知の方法に従っ
て(2R,4’R,8’R)−α−に転化することがで
きた。
(Org、5ynth、)62.66(1984)と同
様の方法においてエポキシド化し、このエポキシドをそ
れ自体公知の方法において、水素化物(例えばジボラン
)を用いて、エステル官能基の同時開裂に伴って還元し
、得られたヒドロキノンアルコールを公知の方法に従っ
て(2R,4’R,8’R)−α−に転化することがで
きた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I 式中、Rはヒドロキシル保護基を表わす、 の化合物をd^1^0−遷移金属触媒の存在下において
3,4−エポキシ−3−メチル−1−ブテンと反応させ
、そして必要に応じて、かくして得られる一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼II 式中、Rは上記の意味を有する、 の化合物をクライゼン転位に付し、これによつて一般式
III 式中、Rは上記の意味を有し、そしてR′は水素または
アシル基を表わす、 の化合物を得ることを特徴とするヒドロキノン誘導体の
製造方法。 2、ヒドロキシル保護基Rがアセチルである特許請求の
範囲第1項記載の方法。 3、d^1^0−遷移金属触媒がビス−(トリフェニル
ホスフィン)−ニッケル(O)−ジカルボニル;銅(
I )トリフルオロメタンスルホネート−ベンゼン錯体;
テトラキス−(トリフェニルホスフィン)−パラジウム
(O);式Pd^0(diop)_2の化合物、ここで
、diopは(2S、2S)−2,3−O−イソプロピ
リデン−2,3−ジヒドロキシ−1,4−ビス−(ジフ
エニルホスフイノ)−ブタンまたは(2R,3R)−2
,3−O−イソプロピリデン−2,3−ジヒドロキシ−
1,4−ビス−(ジフエニルホスフイノ)−ブタンであ
る;(トリメチルホスフィン)−塩化銀( I );テト
ラキス−(トリフェニルホスフィン)−白金(O);ま
たは(トリフェニルホスフィン)−塩化金( I )であ
る特許請求の範囲第1項または第2項記載の方法。 4、d^1^0−遷移金属触媒がパラジウム(O)−含
有錯体である特許請求の範囲第1〜3項のいずれかに記
載の方法。 5、d^1^0−遷移金属触媒またはパラジウム(O)
触媒を生ずるパラジウム(II)塩の量が一般式 I の化
合物の量を基準にして0.05〜100モル%である特
許請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の方法。 6、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼II 式中、Rはヒドロキシル保護基を表わす、 の化合物。 7、ヒドロキシル保護基Rがアセチルである特許請求の
範囲第6項記載の化合物。 8、異性体混合物として或いは分離されたE−またはZ
−型における一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼III 式中、Rはヒドロキシル保護基を表わし、そしてR′は
水素またはアシル基を表わす、 の化合物。 9、Rがアセチルであり、そしてR′が水素またはアセ
チルである特許請求の範囲第8項記載の化合物。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH5558/84-0 | 1984-11-21 | ||
CH555884 | 1984-11-21 | ||
CH3927/85-1 | 1985-09-11 | ||
CH392785 | 1985-09-11 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61129145A true JPS61129145A (ja) | 1986-06-17 |
JPH075500B2 JPH075500B2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
ID=25694195
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60258797A Expired - Lifetime JPH075500B2 (ja) | 1984-11-21 | 1985-11-20 | ヒドロキノン誘導体及びその製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4689427A (ja) |
EP (1) | EP0183042B1 (ja) |
JP (1) | JPH075500B2 (ja) |
CN (1) | CN1006063B (ja) |
DE (1) | DE3573598D1 (ja) |
DK (1) | DK167352B1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006515280A (ja) * | 2002-11-21 | 2006-05-25 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | トコフェリルアセタートの製造 |
CN110975940A (zh) * | 2019-12-12 | 2020-04-10 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种复合金属光催化体系及其制备方法和应用 |
Families Citing this family (7)
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---|---|---|---|---|
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EP0380578B1 (en) * | 1987-09-28 | 1993-03-17 | EASTMAN KODAK COMPANY (a New Jersey corporation) | A process for the preparation of 1,4-disubstituted 2-butenes |
US5484736A (en) * | 1994-09-19 | 1996-01-16 | Midwest Research Institute | Process for producing large grain cadmium telluride |
AU6886896A (en) * | 1996-08-28 | 1998-03-19 | Farmacon, Inc. | Phenylbutanol derivatives, methods for their preparation and pharmaceutical compositions thereof |
WO2005026181A2 (en) * | 2003-09-15 | 2005-03-24 | Dsm Ip Assets B.V. | A NEW ROUTE TO α-TOCOPHEROL, α-TOCOPHERYL ALKANOATES AND PRECURSORS THEREOF |
US7622591B2 (en) | 2003-09-15 | 2009-11-24 | Dsm Ip Assets B.V. | Route to α- tocopheryl alkanoates and percursors thereof |
US8048981B2 (en) * | 2005-09-20 | 2011-11-01 | General Electric Company | Thermally curable compositions and method |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ES147912A1 (es) * | 1939-02-16 | 1941-10-01 | Hoffmann La Roche | PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACIoN DE UN PRODUCTO DE CONDENSACIoN |
GB1426769A (en) * | 1972-12-04 | 1976-03-03 | Eisai Co Ltd | Process for the production of hydroquinone derivatives |
DE2909601A1 (de) * | 1979-03-12 | 1980-09-25 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von chromanderivaten |
DE3010504A1 (de) * | 1980-03-19 | 1981-10-01 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von 2-hydroxyalkylchromanen |
CA1175058A (en) * | 1980-04-07 | 1984-09-25 | James E. Lyons | Selective production of phenylene diacetate |
-
1985
- 1985-10-21 EP EP85113322A patent/EP0183042B1/de not_active Expired
- 1985-10-21 DE DE8585113322T patent/DE3573598D1/de not_active Expired
- 1985-11-15 US US06/798,510 patent/US4689427A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-11-15 DK DK531085A patent/DK167352B1/da not_active IP Right Cessation
- 1985-11-20 CN CN85108407.9A patent/CN1006063B/zh not_active Expired
- 1985-11-20 JP JP60258797A patent/JPH075500B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006515280A (ja) * | 2002-11-21 | 2006-05-25 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | トコフェリルアセタートの製造 |
JP4932158B2 (ja) * | 2002-11-21 | 2012-05-16 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | トコフェリルアセタートの製造 |
CN110975940A (zh) * | 2019-12-12 | 2020-04-10 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种复合金属光催化体系及其制备方法和应用 |
CN110975940B (zh) * | 2019-12-12 | 2022-09-20 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种复合金属光催化体系及其制备方法和应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0183042B1 (de) | 1989-10-11 |
JPH075500B2 (ja) | 1995-01-25 |
CN85108407A (zh) | 1986-05-10 |
DK167352B1 (da) | 1993-10-18 |
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