JPS60226870A - 3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エン類およびその製造法 - Google Patents
3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エン類およびその製造法Info
- Publication number
- JPS60226870A JPS60226870A JP8190384A JP8190384A JPS60226870A JP S60226870 A JPS60226870 A JP S60226870A JP 8190384 A JP8190384 A JP 8190384A JP 8190384 A JP8190384 A JP 8190384A JP S60226870 A JPS60226870 A JP S60226870A
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- Japan
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- hydroxy
- methylnon
- enes
- acid
- producing
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
a、産業上の利用分野
本発明は、医薬品製造に有用な中間体である3(S)−
ヒトaキシ−5−メチルノナ−1−エン類およびその製
造法に関する。更に詳細には本発明はプロスタグラノジ
ン類の合成中間体として有用な光学活性体である3(S
l−ヒドロキシ−5(81又は■−メチルノナー1−エ
ン類およびその製造法に関する。
ヒトaキシ−5−メチルノナ−1−エン類およびその製
造法に関する。更に詳細には本発明はプロスタグラノジ
ン類の合成中間体として有用な光学活性体である3(S
l−ヒドロキシ−5(81又は■−メチルノナー1−エ
ン類およびその製造法に関する。
b、従来技術
3(S)−ヒドロキシ−1−ヨード−5(S)−メチル
ノナ−1−エンおよび3(S)−ヒFc+−rシー1−
ヨード−51RI−メチルノナ−1−エンは特開昭58
−32834号公報に記載されている。特開昭58−3
2834号公報によれば、該化合物はフa−シート−1
に示されるように、光学活性なビナフトール より得られる不斉還元剤を用い、5−メチル−1−ヨー
ド−ノナ−1−エフ−3−オンより得られる。
ノナ−1−エンおよび3(S)−ヒFc+−rシー1−
ヨード−51RI−メチルノナ−1−エンは特開昭58
−32834号公報に記載されている。特開昭58−3
2834号公報によれば、該化合物はフa−シート−1
に示されるように、光学活性なビナフトール より得られる不斉還元剤を用い、5−メチル−1−ヨー
ド−ノナ−1−エフ−3−オンより得られる。
一方、61体から分割により該化合物を得ることも可能
であり、たとえばJ、H,Fr1ed(J、Am、Ch
em−8ac、、 J9.7827 (1972))ら
の方法によれば、アルコールのへミッタレートと(−1
−α−メチルベンジルアミンとの塩を分別再結晶により
わけとる方法があるが、収率が低い(lo〜15チ)。
であり、たとえばJ、H,Fr1ed(J、Am、Ch
em−8ac、、 J9.7827 (1972))ら
の方法によれば、アルコールのへミッタレートと(−1
−α−メチルベンジルアミンとの塩を分別再結晶により
わけとる方法があるが、収率が低い(lo〜15チ)。
上記の如き3(S)−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1
−エン類はその中に不斉炭素を2個ふくんでおり、本発
明者が知るかぎり、このような鎖状アルコールの分割法
は知られていない。
−エン類はその中に不斉炭素を2個ふくんでおり、本発
明者が知るかぎり、このような鎖状アルコールの分割法
は知られていない。
また、特開昭54−130556号公報には、下記式1
,2で表わされる化合物を用いた光学分割法が記載され
ており、Peatic、Sci +11.188(19
80)にJ、J、Martelらの分割法として下記式
1,2,3.4を用いた光学分割法が記載されており、
Chem、 Ber、115 。
,2で表わされる化合物を用いた光学分割法が記載され
ており、Peatic、Sci +11.188(19
80)にJ、J、Martelらの分割法として下記式
1,2,3.4を用いた光学分割法が記載されており、
Chem、 Ber、115 。
1591(1982)にC,R,Noeの分割法として
下記式5の化合物を用いた光学分割法が記載されている
。
下記式5の化合物を用いた光学分割法が記載されている
。
これらの化合物を用いる数種のアルコールの光学分割法
については上記の文献に記載されているが、前述した3
−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エン類に関しては
何ら記載されてはいない。
については上記の文献に記載されているが、前述した3
−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エン類に関しては
何ら記載されてはいない。
C8発明の目的
本発明者らは、上記した如き点f注目し、分割により3
(S)−ヒトaキシ−5(S)又は(2)−メチルノナ
−1−エン類を得る方法について鋭意研究した結果、新
規な分割法がかかる目的を達成し得ることを見出し本発
明に到達したものである。
(S)−ヒトaキシ−5(S)又は(2)−メチルノナ
−1−エン類を得る方法について鋭意研究した結果、新
規な分割法がかかる目的を達成し得ることを見出し本発
明に到達したものである。
しかして、本発明の目的は、プロスタグランジノの合成
中間体として有用な3(S)−ヒドロキシ−5(S)−
又は−5(R1−メチルノナ−1−二)類を提供するこ
とにある。
中間体として有用な3(S)−ヒドロキシ−5(S)−
又は−5(R1−メチルノナ−1−二)類を提供するこ
とにある。
d0発明の構成及び作用効果
本発明によれば、下記式(1)
で表わされる3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エ
ン類の3 (81、5+81体、3(81,5卸体、3
(8)、5(81体、3(R1,5(R1体もしくはそ
れらの任意の混合物である3−ヒトaキシー5−メチル
ノナ−1−エン類が提供される。
ン類の3 (81、5+81体、3(81,5卸体、3
(8)、5(81体、3(R1,5(R1体もしくはそ
れらの任意の混合物である3−ヒトaキシー5−メチル
ノナ−1−エン類が提供される。
これらの中でもプロスタグランジン類の中間体として用
いることを考慮すれば、%1’C3(81゜5(S)体
、3(81,5■体が好ましい。
いることを考慮すれば、%1’C3(81゜5(S)体
、3(81,5■体が好ましい。
Xはハロゲン原子を表わし、フッ素、塩素。
臭素、ヨウ素などが挙げられるが、%にプロスタグラ/
ジン類を合成する中間体として用いろことを考慮に入れ
れば、ヨウ素が好ましい。また上記式mにおいて、Aを
含む次式〔ここでAおよびYは上記定義に同じである〕
は好ましくは、(IR14R,58)−6,6−シメチ
ルー2−オキソ−3−オキサビシクロ(3,1,0)ヘ
キサ−4−イルオキシ基。
ジン類を合成する中間体として用いろことを考慮に入れ
れば、ヨウ素が好ましい。また上記式mにおいて、Aを
含む次式〔ここでAおよびYは上記定義に同じである〕
は好ましくは、(IR14R,58)−6,6−シメチ
ルー2−オキソ−3−オキサビシクロ(3,1,0)ヘ
キサ−4−イルオキシ基。
(l5148,5R)−6,6−シメチルー2−オキソ
−3−オキサビンクロ(3,1,0〕〕ヘキサー4−イ
/Lオキシ基、(3R+aaR+48+7R,7aS)
−1−オキソ−3814* 747 a−テトラヒドロ
−4,7−メタノ−(3H)−インベンゾフラン−3−
イルオキシ&、(3S。
−3−オキサビンクロ(3,1,0〕〕ヘキサー4−イ
/Lオキシ基、(3R+aaR+48+7R,7aS)
−1−オキソ−3814* 747 a−テトラヒドロ
−4,7−メタノ−(3H)−インベンゾフラン−3−
イルオキシ&、(3S。
3 a S + 4 R+ 7 b + 7 a R)
−1−オキシー38+4.7 +7a−テトラヒトe
ff−4,7−メタノ−(3H)−インペアシフラン−
3−イルオキシ基+ (2S (2d H3a d +
4 CE H7ct 17 a (f ) )2 H
3,3a 、4.516 + 717 &−オクタヒト
’ 7 + 8 + 8 )ジメチル−4,フーメタツ
ベ/シフラン−2−イルオキシ基などが挙げられる。
−1−オキシー38+4.7 +7a−テトラヒトe
ff−4,7−メタノ−(3H)−インペアシフラン−
3−イルオキシ基+ (2S (2d H3a d +
4 CE H7ct 17 a (f ) )2 H
3,3a 、4.516 + 717 &−オクタヒト
’ 7 + 8 + 8 )ジメチル−4,フーメタツ
ベ/シフラン−2−イルオキシ基などが挙げられる。
しかして本発明の3−ヒトaキシ−5−メチルノナ−1
−エン類は下記式〔■〕 〔式中、Xは上記定義シζ同じである。〕で表わされる
3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エン類と下記式
(III) で表わされる化付物とを酸の存在下に反応せしめるか、
あるいは脱水法により反応せしめることによって製造さ
れる。ここで用いられる原料化合物である3−ヒドロキ
シ−5−メチルノナ−1−エンは、特開昭58−328
34号公報にも記載されているように、以下のフローシ
ート2で示される方法で製造される。
−エン類は下記式〔■〕 〔式中、Xは上記定義シζ同じである。〕で表わされる
3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エン類と下記式
(III) で表わされる化付物とを酸の存在下に反応せしめるか、
あるいは脱水法により反応せしめることによって製造さ
れる。ここで用いられる原料化合物である3−ヒドロキ
シ−5−メチルノナ−1−エンは、特開昭58−328
34号公報にも記載されているように、以下のフローシ
ート2で示される方法で製造される。
かかる原料化合物は、3位と5位に不介炭素をもつこと
により、2つに分離することが可能である。すなわち、
3 (81、5■体1”(R’。
により、2つに分離することが可能である。すなわち、
3 (81、5■体1”(R’。
5(S)体の混合物および3(8)、5(W体、3(S
l。
l。
5(S)体の混合物に分離され、この分離された混合物
を用いて反応に供してもよい。
を用いて反応に供してもよい。
これらの化合物を反応せしめる際に用いる酸としては、
塩酸、硫酸1次亜塩素酸9強酸性イオン交換樹脂、パラ
トルエンスルホ7酸。
塩酸、硫酸1次亜塩素酸9強酸性イオン交換樹脂、パラ
トルエンスルホ7酸。
メタンスルホ/酸、カンファースルホノ酸。
三フッ化ホウ素などの酸性化合物またはそのピリジン塩
などが好ましく挙げられるが、特にパラトルエンスルホ
ノ酸およびそのピリジン塩が好ましい。脱水法としては
共沸類しゃ法を用いるかまたは脱水剤を用いるが脱水剤
とl−では例えば、硫酸マグネシウム、モレキュラーシ
ーブ、活性無水硫酸カルシウムなどが好ましく挙げられ
るが、これらのものに限定されるものではない。
などが好ましく挙げられるが、特にパラトルエンスルホ
ノ酸およびそのピリジン塩が好ましい。脱水法としては
共沸類しゃ法を用いるかまたは脱水剤を用いるが脱水剤
とl−では例えば、硫酸マグネシウム、モレキュラーシ
ーブ、活性無水硫酸カルシウムなどが好ましく挙げられ
るが、これらのものに限定されるものではない。
酸の使用層は、3−ヒドロキシ−5−メチルノナー1−
エン類に対して0.01当量から1当量であり、特に0
.1当量から0.3当量が好ましい。また上記式(m)
で示される分割剤の使用量は3−ヒドロキシ−5−メチ
ルノナ−1−エン類に対して、0.3当量から3当量で
あり、特に0.6当量から1.3当量が好ましい。
エン類に対して0.01当量から1当量であり、特に0
.1当量から0.3当量が好ましい。また上記式(m)
で示される分割剤の使用量は3−ヒドロキシ−5−メチ
ルノナ−1−エン類に対して、0.3当量から3当量で
あり、特に0.6当量から1.3当量が好ましい。
反応せしめる際の溶媒としては例えば、エーテル、テト
ラヒドロフラン、アセトン、クロロホルム、ジクaロメ
タン、ジクロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン
、石油エーテル、ヘキサンなど一般的な有機溶媒が用い
られる。特に共沸軸しゃ法を用いる場合には、ベンゼン
、トルエンが好ましい。
ラヒドロフラン、アセトン、クロロホルム、ジクaロメ
タン、ジクロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン
、石油エーテル、ヘキサンなど一般的な有機溶媒が用い
られる。特に共沸軸しゃ法を用いる場合には、ベンゼン
、トルエンが好ましい。
反応温度は、0℃から150℃であり、好ましくは室温
から90℃である。反応時間は、用いる触媒や反応温度
によって異なるが、通常5分から120時間であり、好
ましくは2時間から10時間である。かくして上記式%
式% 反応路T後、目的化合物を得るにはクロマトグラフィー
等により3−ヒトaキシ−5−メチルノナ−1−エン類
骨格の5位の水酸基が結合した不整炭素原子由来のジア
ステレオマー、すなわち下記式CI−a) 〔式中、X、A、Yは上記定義に同じ。〕および下記式
CI−b) で表わされる化合物をそれぞれ分離することが可能であ
る。かかる分離法は具体的にはシリカゲルクロマトグラ
フィー、アルミナクロマトグラフィー、ドライクロマト
グラフィー。
から90℃である。反応時間は、用いる触媒や反応温度
によって異なるが、通常5分から120時間であり、好
ましくは2時間から10時間である。かくして上記式%
式% 反応路T後、目的化合物を得るにはクロマトグラフィー
等により3−ヒトaキシ−5−メチルノナ−1−エン類
骨格の5位の水酸基が結合した不整炭素原子由来のジア
ステレオマー、すなわち下記式CI−a) 〔式中、X、A、Yは上記定義に同じ。〕および下記式
CI−b) で表わされる化合物をそれぞれ分離することが可能であ
る。かかる分離法は具体的にはシリカゲルクロマトグラ
フィー、アルミナクロマトグラフィー、ドライクロマト
グラフィー。
液体クロマトグラフィー、薄層りaマドグラフィーなど
が好ましく用いられる。
が好ましく用いられる。
このような分離法によって、天然型のプロスタグランジ
ン@に導き得る上記式(1−8)で表わされる化合物及
び上記式CI−b)で表わされる化合物が容易に得られ
る。しかして上記式rI−8)で表わされる化合物を中
性もしくは酸剤の存在下において、水もしくはアルコー
ル存在下において反応せしめ、必要に応じて分離摺装を
行ない下記式〔■′〕で表わされる光学活性な3(S)
−ヒトaキシ−5−メチルノナ−1−エン類が得られる
。反応は中性で行うことも可能であるが、酸剤を用いて
もよい。酸剤としては、塩酸、硫酸。
ン@に導き得る上記式(1−8)で表わされる化合物及
び上記式CI−b)で表わされる化合物が容易に得られ
る。しかして上記式rI−8)で表わされる化合物を中
性もしくは酸剤の存在下において、水もしくはアルコー
ル存在下において反応せしめ、必要に応じて分離摺装を
行ない下記式〔■′〕で表わされる光学活性な3(S)
−ヒトaキシ−5−メチルノナ−1−エン類が得られる
。反応は中性で行うことも可能であるが、酸剤を用いて
もよい。酸剤としては、塩酸、硫酸。
次亜塩素酸、バラトルエンスルホノ酸、カッファースル
ホン酸などの酸性化合物またはそのピリジノ塩などが好
ましく挙げられるが、特にパラトルエンスルホン酸およ
びそのピリジン塩が好ましい。
ホン酸などの酸性化合物またはそのピリジノ塩などが好
ましく挙げられるが、特にパラトルエンスルホン酸およ
びそのピリジン塩が好ましい。
反応は水、もしくはアルコール存在下において反応せし
めるが、アルコールとしてはメタノール、エタノールが
好ましい。反応せしめる際の溶媒は、水溶性のものが好
ましく、たとえばジオキサン、テトラヒドロフラン。
めるが、アルコールとしてはメタノール、エタノールが
好ましい。反応せしめる際の溶媒は、水溶性のものが好
ましく、たとえばジオキサン、テトラヒドロフラン。
アセト/、メタノール、エタノール、エチレングリコー
ル、DMSOなどが好ましく挙げることができる6Xは
ノヘロゲノ原子であるが、特にプロスタグランジン類を
合成する中間体として用いることを考慮に入れればヨウ
素が好ましい。反応温度は0℃から150℃であり、好
ましくは室温から90℃である。反応時間は、中性であ
るかまたは用いる酸剤や反応温度によって異なるが、通
常5分から120時間であり、好ましくは2時間から1
0時間である。
ル、DMSOなどが好ましく挙げることができる6Xは
ノヘロゲノ原子であるが、特にプロスタグランジン類を
合成する中間体として用いることを考慮に入れればヨウ
素が好ましい。反応温度は0℃から150℃であり、好
ましくは室温から90℃である。反応時間は、中性であ
るかまたは用いる酸剤や反応温度によって異なるが、通
常5分から120時間であり、好ましくは2時間から1
0時間である。
反応後、通常の後処理後カラムクロマドグラフイーにて
単離精製されるが、ここで原料化合物として、上記式(
n)でその5位の不斉炭素が光学活性であるものを用い
た時には、3(S)−ヒドロキシ−5(S)−又は−5
(8)−メチルノナ−1−エン類が得られるが、原料化
合物として5位の不斉炭素が光学活性でないものを用い
た時には反応後K 3 (81−ヒトaキシ−5−メチ
ルノナ−1−エン類が得られるため、その5位の立体異
性体を分離する必要がある。かかる分離は通常カラムク
ロマトグラフィー、すなわちシリカゲルクロマトグラフ
ィー、アルミナカラムクロマドグラフイー。
単離精製されるが、ここで原料化合物として、上記式(
n)でその5位の不斉炭素が光学活性であるものを用い
た時には、3(S)−ヒドロキシ−5(S)−又は−5
(8)−メチルノナ−1−エン類が得られるが、原料化
合物として5位の不斉炭素が光学活性でないものを用い
た時には反応後K 3 (81−ヒトaキシ−5−メチ
ルノナ−1−エン類が得られるため、その5位の立体異
性体を分離する必要がある。かかる分離は通常カラムク
ロマトグラフィー、すなわちシリカゲルクロマトグラフ
ィー、アルミナカラムクロマドグラフイー。
ドライカラムクロマトグラフィー、液体クロマトグラフ
ィー、薄層クロマトグラフィーなどが好ましく用いられ
る。
ィー、薄層クロマトグラフィーなどが好ましく用いられ
る。
このような分離によって、天然型のプロスタグラノジ7
類に導きうる3(S)−ヒトaキシ−1−ヨード−5(
S)−メチルノナ−1−エンおよび3(S)−ヒドロキ
シ−1−ヨ・−ト−5(R1−メチルノナ−1−エンが
得られる。そしてかかる化合物は下記)a−シート−3
に示したごとく、シリル基により水酸素が保繰され、次
の反応に用いられる。
類に導きうる3(S)−ヒトaキシ−1−ヨード−5(
S)−メチルノナ−1−エンおよび3(S)−ヒドロキ
シ−1−ヨ・−ト−5(R1−メチルノナ−1−エンが
得られる。そしてかかる化合物は下記)a−シート−3
に示したごとく、シリル基により水酸素が保繰され、次
の反応に用いられる。
このように本発明の3(S)−ヒトaキシ−5(S)又
は(8)−メチルノナ−1−エン類は光学活性なプaス
タグランジ7類に導くことが可能である。そして上記の
如きプロスタグランジン類は、平哨筋、血圧、脂質代謝
、血小板凝集等忙作用する医薬品として有用であり、そ
れ故に本発明により得られる3(Sl−ヒトaキシ−5
(Sl又は(8)−メチルノナ−1−エン類は有用な化
合物である。
は(8)−メチルノナ−1−エン類は光学活性なプaス
タグランジ7類に導くことが可能である。そして上記の
如きプロスタグランジン類は、平哨筋、血圧、脂質代謝
、血小板凝集等忙作用する医薬品として有用であり、そ
れ故に本発明により得られる3(Sl−ヒトaキシ−5
(Sl又は(8)−メチルノナ−1−エン類は有用な化
合物である。
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。
参考例−1
l−ヨード−5−メチルノナ−1−エン−3−才ン8.
4J/ (30mmol)13o#ltのエタノールに
とかし、0℃において水素化ホウ素ナトリウム570
IQ (15mmol )の101+l/エタノール溶
液に加えた。45分攪拌後溶媒を留去し、飽和塩化アン
モニウム水を加え酢酸エチルにて抽出を行ない、無水硫
酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を減圧下留去し、カ
ラムクロマドグラフイー(シリカゲル、溶媒:n−ヘキ
サン/酢酸エチル=1971 )にて分離精製を行ない
、3(S)−ヒドロキシ−1−ヨード−5(R1−メチ
ルノナ−1−エン及びa (R1−ヒトaキシ−1−ヨ
ード−5(S)−メチルノナ−1−エンの混合物(TL
C; Rf==Q、42.溶媒1− ヘキサノ/酢酸エ
チル−9、/ 1 、シリカゲルプレート)を4.9(
47%)及び3(S)−ヒトa+シー1−ヨード−5(
S)−メチルノナ−1−エン及び3(R)−ヒドロキシ
−1−ヨード−5(沁−メチルノナ−1−エンの混合物
(TLC; Rf=o、3g、溶媒n−ヘキサン/酢酸
エチル=9/1.シリカゲルプレート)を3.8 pi
(45憾)を得た。
4J/ (30mmol)13o#ltのエタノールに
とかし、0℃において水素化ホウ素ナトリウム570
IQ (15mmol )の101+l/エタノール溶
液に加えた。45分攪拌後溶媒を留去し、飽和塩化アン
モニウム水を加え酢酸エチルにて抽出を行ない、無水硫
酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を減圧下留去し、カ
ラムクロマドグラフイー(シリカゲル、溶媒:n−ヘキ
サン/酢酸エチル=1971 )にて分離精製を行ない
、3(S)−ヒドロキシ−1−ヨード−5(R1−メチ
ルノナ−1−エン及びa (R1−ヒトaキシ−1−ヨ
ード−5(S)−メチルノナ−1−エンの混合物(TL
C; Rf==Q、42.溶媒1− ヘキサノ/酢酸エ
チル−9、/ 1 、シリカゲルプレート)を4.9(
47%)及び3(S)−ヒトa+シー1−ヨード−5(
S)−メチルノナ−1−エン及び3(R)−ヒドロキシ
−1−ヨード−5(沁−メチルノナ−1−エンの混合物
(TLC; Rf=o、3g、溶媒n−ヘキサン/酢酸
エチル=9/1.シリカゲルプレート)を3.8 pi
(45憾)を得た。
NMR(δpImin CDCA’! ’) (同一ス
ペクトル)6 、55 (I HHdd + J−14
)Lz 、5 Hz )+6.2(1H,d、J−=1
4Hz)、、4.1(IH,rn)、1.2〜l、r+
(7H+m)。
ペクトル)6 、55 (I HHdd + J−14
)Lz 、5 Hz )+6.2(1H,d、J−=1
4Hz)、、4.1(IH,rn)、1.2〜l、r+
(7H+m)。
o、ss (3H,d +J=6Hz)、0.8(3H
+m)I R(cWL−’ 、 neat ) (同一
スペクトル)3350、 2950. 2900. 1
610. 1460゜1380、 1 170. 95
0 施例−1 参考例−1で得られた3(S)−ヒドロキシ−1−ヨー
ド−5(2)−メチルノナ−1−二ノ及び3(2)−ヒ
ドロキシ−1−ヨード−5(S)−メチルノナ−1−エ
ンの混合物208〜(0,74mmol )および(l
R14R158)−6,6−ノメチルー4−ヒドロキシ
−3−オキサビシクロ(3,t、o :lヘキサン−2
−オン115■(o、81mmol)を301IItの
ベンゼンにとかし、PPTS (ビリジニウムパラトル
エンスルホネー) ) 40Q(0,16mmol)を
加え、この混合物を加熱環流する。生成した水を共沸傾
しゃ系でとりのぞきながら6時間反応させる。反応後、
酢酸エチルを加え、水により洗浄することによりPPT
Sをのぞき、乾燥後、溶媒を留去する。
+m)I R(cWL−’ 、 neat ) (同一
スペクトル)3350、 2950. 2900. 1
610. 1460゜1380、 1 170. 95
0 施例−1 参考例−1で得られた3(S)−ヒドロキシ−1−ヨー
ド−5(2)−メチルノナ−1−二ノ及び3(2)−ヒ
ドロキシ−1−ヨード−5(S)−メチルノナ−1−エ
ンの混合物208〜(0,74mmol )および(l
R14R158)−6,6−ノメチルー4−ヒドロキシ
−3−オキサビシクロ(3,t、o :lヘキサン−2
−オン115■(o、81mmol)を301IItの
ベンゼンにとかし、PPTS (ビリジニウムパラトル
エンスルホネー) ) 40Q(0,16mmol)を
加え、この混合物を加熱環流する。生成した水を共沸傾
しゃ系でとりのぞきながら6時間反応させる。反応後、
酢酸エチルを加え、水により洗浄することによりPPT
Sをのぞき、乾燥後、溶媒を留去する。
カラムクロマドグラフイー(シリカゲル、@媒;ベンゼ
ン/酢酸エチル=20/l)により、+81−3 ((
IR,4R,58)−6,6−シメチルー2−オキソ−
3−オキサビシフa(a、1.03ヘキサン−4−イル
オキシ〕−1−ヨード−5(2)−メチル/カー1−y
−エン(1ess polar ;TLC(シリカゲル
)、Rf=o、ss、溶媒ヘンゼン/酢1俊エチル−1
0/1 ) 130〜(43チ)および(R’ ” (
(IR+4R158) 6+6−シメチルー2−オキソ
−3−オキサビシクa(3,1,0)ヘキサ−4−イル
オキシ〕−1−ヨー)’ −5(S)−メチル7カーl
−エン(morepolar ; TLC(シリカゲル
) r Rf−0,56。
ン/酢酸エチル=20/l)により、+81−3 ((
IR,4R,58)−6,6−シメチルー2−オキソ−
3−オキサビシフa(a、1.03ヘキサン−4−イル
オキシ〕−1−ヨード−5(2)−メチル/カー1−y
−エン(1ess polar ;TLC(シリカゲル
)、Rf=o、ss、溶媒ヘンゼン/酢1俊エチル−1
0/1 ) 130〜(43チ)および(R’ ” (
(IR+4R158) 6+6−シメチルー2−オキソ
−3−オキサビシクa(3,1,0)ヘキサ−4−イル
オキシ〕−1−ヨー)’ −5(S)−メチル7カーl
−エン(morepolar ; TLC(シリカゲル
) r Rf−0,56。
溶媒ベンゼン/酢酸エチル=10/1)325ダ(42
チ)を倚だ。
チ)を倚だ。
NMR(aIIpmin CDCl、 )0.7〜1.
0 (6H+nl)、 1.1 (6H+ 8 )。
0 (6H+nl)、 1.1 (6H+ 8 )。
1.0〜1.8(9H+mJ、2.0(2H,s)。
4 、2 (1kl + m ) + 5.1 (l
H+ 8 ) 。
H+ 8 ) 。
34(zH+m)
I RCan= 、 neat )
2950.2900.17B0,1600,1460゜
13B0. 1350. 1280 NMR(δIIF in CDC4) 0.7〜1.0(6H+m)、1.1(6H,s)。
13B0. 1350. 1280 NMR(δIIF in CDC4) 0.7〜1.0(6H+m)、1.1(6H,s)。
1 、 O〜1 、8 (9H+ m ) 、2 、0
(2H+ 8 ) +4.15(II、m)、5.15
(IH,s)IR(cm 、neat ) 2950、 2900. 1780. 1600. 1
460゜13130、 1350. 1280 実施例−2 υ 参考例−1で得られた3(S)−ヒドロキシ−1−ヨー
ド−5(S)−メチルノナ−1−エン及び3(8)−ヒ
ドロキシ−1−ヨード−5(R1−メチルノナ−1−エ
ンの混合物i ji (3,s mmol )および(
IR,4R,5S)−6,6−シメチルー4−ヒドロキ
シ−3−オキサビシクロ(a、1.o )ヘキサン−2
−オン5 a OTki(3,9mmol) HよびP
PTS 200119 (0,8mmol )の100
#I/ベンゼン溶液より、実施例1と同様にして、(S
t −3−((IRT4R,58)−6,6−シメチル
ー2−才キソー3−オキサビシクロ〔3,1,0〕ヘキ
サ−4−イルオキシコ−1−ヨード−5(S)−メチル
ノナ−1−x y (1ess polar ; TL
C(シリカゲル)Rf=0.58.溶媒ベンゼン/酢酸
エチ/l−= 10 / 1 ) 600 Iv(42
% )および■−3−((IR,4R,5S)−6,6
−シメチルー2−オキソ−3−オキサビシクロ(3,1
,0)ヘキサ−4−イルオキシツー1−ヨード−5(R
1−メチルノナ−1−工y (more polar
; TLC(シリカゲル)Rf=0.50.溶媒ベンゼ
ン/酢酸エチル−10/1)585■(41%)を得た
。
(2H+ 8 ) +4.15(II、m)、5.15
(IH,s)IR(cm 、neat ) 2950、 2900. 1780. 1600. 1
460゜13130、 1350. 1280 実施例−2 υ 参考例−1で得られた3(S)−ヒドロキシ−1−ヨー
ド−5(S)−メチルノナ−1−エン及び3(8)−ヒ
ドロキシ−1−ヨード−5(R1−メチルノナ−1−エ
ンの混合物i ji (3,s mmol )および(
IR,4R,5S)−6,6−シメチルー4−ヒドロキ
シ−3−オキサビシクロ(a、1.o )ヘキサン−2
−オン5 a OTki(3,9mmol) HよびP
PTS 200119 (0,8mmol )の100
#I/ベンゼン溶液より、実施例1と同様にして、(S
t −3−((IRT4R,58)−6,6−シメチル
ー2−才キソー3−オキサビシクロ〔3,1,0〕ヘキ
サ−4−イルオキシコ−1−ヨード−5(S)−メチル
ノナ−1−x y (1ess polar ; TL
C(シリカゲル)Rf=0.58.溶媒ベンゼン/酢酸
エチ/l−= 10 / 1 ) 600 Iv(42
% )および■−3−((IR,4R,5S)−6,6
−シメチルー2−オキソ−3−オキサビシクロ(3,1
,0)ヘキサ−4−イルオキシツー1−ヨード−5(R
1−メチルノナ−1−工y (more polar
; TLC(シリカゲル)Rf=0.50.溶媒ベンゼ
ン/酢酸エチル−10/1)585■(41%)を得た
。
υ
mp、56〜58℃
NMR(δ−in CDCl5 )
0.7〜+、o(sH,m)、t、1(6H+s)。
1、 o 〜1.7(9H+ m ) 、 2 、0
(2H+ s ) +4 、2 (I H+ m )
、 5 、15 (I H、a ) 。
(2H+ s ) +4 、2 (I H+ m )
、 5 、15 (I H、a ) 。
34(2H+m)
IR(傭 、KBr)
2950.2!100.1770,1600,1460
゜1400.13B0,1350.1280mp、 5
1〜56°C N M R(a pI” r n CDC15)0 、
8〜l 、O(6H+ m ) ! 1 、1 (6H
+ m ) 。
゜1400.13B0,1350.1280mp、 5
1〜56°C N M R(a pI” r n CDC15)0 、
8〜l 、O(6H+ m ) ! 1 、1 (6H
+ m ) 。
1 、 O〜1.8 (9H+ m ) 、2.0 (
2H+ 8 ) 。
2H+ 8 ) 。
4.15 (I H+ m ) 、5.2 (11(+
8 ) +6 、45 (2H+ m ) IR(cIn 、KBr) 2950.2900. 176’5. 1610. 1
460゜1400、 13B0. 1340. 128
0. 1240実施例−3 参考例−1で得られた3(S)−ヒドロキシ−1−ヨー
ド−5■−メチルノナ−1−エン及び3(R)−ヒドロ
ヤシ−1−ヨード−5(S)−メチルノナ−1−エンの
混合物2 s omg (1mmol)および(1s+
43,5R)−6,6−ジメチル−4−ヒトロキシー3
−オキサビシクロI’ 3.1.0 )ヘキサン−2−
オy 1s s my (1,1mmol)およびPP
TS s O# (0,2mmol )の20dベン七
ノ溶液より、実施例−1と同様にして、(S) −3−
((IS14SI5R)−6,6−シメチルー2−オキ
ソ−3−オキサビシフo (3,z、o )ヘキサノ−
4−イルオキシツー1−ヨード−5(8)−メチルノナ
−s −x y (more polar ; TLC
(シリカゲル)Rf=0.50.溶媒ベンセノ/酢酸エ
チル=lo / l) ls s rq (4s %
)および(R)−3−C(IS、4S、5R)−6,6
−ジメチル−2−オキソ−3−オキサビシクロ(3,1
,0)ヘキサン−4−イルオキシ〕−1−ヨード−5(
S)−メチルノナ−1−エン(1ess polar
;TLC(シリカゲル)Rf=0.58.溶媒ベンゼノ
/酢酸エチル=10/1)173ダ(43%)を得た。
8 ) +6 、45 (2H+ m ) IR(cIn 、KBr) 2950.2900. 176’5. 1610. 1
460゜1400、 13B0. 1340. 128
0. 1240実施例−3 参考例−1で得られた3(S)−ヒドロキシ−1−ヨー
ド−5■−メチルノナ−1−エン及び3(R)−ヒドロ
ヤシ−1−ヨード−5(S)−メチルノナ−1−エンの
混合物2 s omg (1mmol)および(1s+
43,5R)−6,6−ジメチル−4−ヒトロキシー3
−オキサビシクロI’ 3.1.0 )ヘキサン−2−
オy 1s s my (1,1mmol)およびPP
TS s O# (0,2mmol )の20dベン七
ノ溶液より、実施例−1と同様にして、(S) −3−
((IS14SI5R)−6,6−シメチルー2−オキ
ソ−3−オキサビシフo (3,z、o )ヘキサノ−
4−イルオキシツー1−ヨード−5(8)−メチルノナ
−s −x y (more polar ; TLC
(シリカゲル)Rf=0.50.溶媒ベンセノ/酢酸エ
チル=lo / l) ls s rq (4s %
)および(R)−3−C(IS、4S、5R)−6,6
−ジメチル−2−オキソ−3−オキサビシクロ(3,1
,0)ヘキサン−4−イルオキシ〕−1−ヨード−5(
S)−メチルノナ−1−エン(1ess polar
;TLC(シリカゲル)Rf=0.58.溶媒ベンゼノ
/酢酸エチル=10/1)173ダ(43%)を得た。
NMR(δpya in CDCl5 )0 、7〜1
、0 (6H+ m ) 、1 +1 (6H,8)
+1、o 〜+、5(9H,m)、2.0(2H,8
)。
、0 (6H+ m ) 、1 +1 (6H,8)
+1、o 〜+、5(9H,m)、2.0(2H,8
)。
4 、15 (I H+ m ) 、 5.15 (I
H+ 8 ) 16.4(zH+m) IR(cm 、neat) 2950、2900.1780.1600.1460゜
13B0,1350.1280 υ NMR(δ−in CDCIB ) 0 、7 ”−1、0(6H+ m ) 、1.1 (
6H+ 8 ) 。
H+ 8 ) 16.4(zH+m) IR(cm 、neat) 2950、2900.1780.1600.1460゜
13B0,1350.1280 υ NMR(δ−in CDCIB ) 0 、7 ”−1、0(6H+ m ) 、1.1 (
6H+ 8 ) 。
1.0〜1.8(9HIm)、2.0(2H+8)+4
、2 (I H+ m ) 、5.1 (I HHa
) 。
、2 (I H+ m ) 、5.1 (I HHa
) 。
6.4 (2H+ m )
1
1R(CIll 、neat)
2950、 2900. 1 780. 1 600.
1460゜1380、 1350. 1280 実施例−4 3(S)−ヒトaキシ−1−ヨード−5■−メチルノナ
−1−エン及び3■−ヒ)’−1−?シー1−ヨーF
−5(81−メチルノナ−1−エンの混合物228 W
9(0,8mmol)および(2R,2R’−(2a。
1460゜1380、 1350. 1280 実施例−4 3(S)−ヒトaキシ−1−ヨード−5■−メチルノナ
−1−エン及び3■−ヒ)’−1−?シー1−ヨーF
−5(81−メチルノナ−1−エンの混合物228 W
9(0,8mmol)および(2R,2R’−(2a。
z’a、3aa、3a’α14a、4’a、7a、y’
a、’7aa17a’α))−2,2’−オキシビス(
2+ 3 + 38 +’+5+I+、7.7B−オク
タヒドc17.8.8’−)リフチル−4,フーメタノ
ベンゾフラン(MBF−0−MBFと略す) 1164
(o、at mmol)を1odの乾燥エーテルにと
かし、モレキュラーシープ(4A)tpを加え、p−)
ルエンスルホノ酸10■(0,06mmol)を加え、
室温にて1時間攪拌する。反応後溶媒を留去し、直接薄
1−クロマトグラフィー(溶媒;n−へキサン/エーテ
ル= 3071 、シリカゲル)にて分離精製を行ない
、O−MBF−3(R1−ヒトaキシ−1−ヨード−5
(S)−メチルノナ−1−エン121!(43%)(T
LC;Rf=o、6.溶媒n−ヘキサン/エーテル−1
971シリカゲル)およびO−M B F −a (S
t −ヒトaキシ−1−ヨード−5(2)−メチルノナ
−1−工/93〜(33%)(TLC; Rf=0.5
.溶媒y1− ヘキサン/エーテル= 19 / 1シ
リカゲル)を得た。
a、’7aa17a’α))−2,2’−オキシビス(
2+ 3 + 38 +’+5+I+、7.7B−オク
タヒドc17.8.8’−)リフチル−4,フーメタノ
ベンゾフラン(MBF−0−MBFと略す) 1164
(o、at mmol)を1odの乾燥エーテルにと
かし、モレキュラーシープ(4A)tpを加え、p−)
ルエンスルホノ酸10■(0,06mmol)を加え、
室温にて1時間攪拌する。反応後溶媒を留去し、直接薄
1−クロマトグラフィー(溶媒;n−へキサン/エーテ
ル= 3071 、シリカゲル)にて分離精製を行ない
、O−MBF−3(R1−ヒトaキシ−1−ヨード−5
(S)−メチルノナ−1−エン121!(43%)(T
LC;Rf=o、6.溶媒n−ヘキサン/エーテル−1
971シリカゲル)およびO−M B F −a (S
t −ヒトaキシ−1−ヨード−5(2)−メチルノナ
−1−工/93〜(33%)(TLC; Rf=0.5
.溶媒y1− ヘキサン/エーテル= 19 / 1シ
リカゲル)を得た。
NMR(δ−4n CDC14)
0.7〜1.0(6R1m)、o、5s(3H+s)。
o、9(3H+s)、0.95(3H+s)。
1.0〜1.9(16H,m)。
2.65〜3 、2 (I H+ m ) 、 4.2
(2H+ m ) 。
(2H+ m ) 。
s、a(IH+m)、 6.a(2H,m)IR(cI
L、 neat) 2950.2900,1600,1450,1370゜
1170.1090,1070,1040,990゜9
5 O NMR(δP in CDCll5 ) 。
L、 neat) 2950.2900,1600,1450,1370゜
1170.1090,1070,1040,990゜9
5 O NMR(δP in CDCll5 ) 。
0.7〜1.0 (6H+ m ) 、0 、85 (
3H+ 8 ) 。
3H+ 8 ) 。
0.9(3H+a)、0+95(3H,8)。
1.0〜1.9 (16H+ m ) 。
2.6〜3.1 (tH,m)、4.1 (IH+m)
。
。
4、z(tH+m)、s、3s(IH,m)。
6.25(IH,d、J=15Hz)。
6.5(tH+dd+ J=15)IZ15Hz)1
1R(α 、neat)
2970、 2950. 2900. 1610. +
460゜1390、 1370. 1320. 121
0. 1180゜] 100. 1080. 1040
. 1010. 1000゜ 60 実施例−5 3(S)−ヒトaキシ−1−ヨード−5(81−メ−)
ルノナーl−エン及び3 (R1−ヒドロキシ−1−ヨ
ード−5(2)−メチルノナ−1−エンの混合物157
# (0,56mmol)およびMBF−0−MBF
96 yg (0,26mmol)をtoazの乾燥エ
ーテルにとかし、モレキュラーシープ(4A)1.fを
加え、p−)ルエンスルホンI!1tlO〜(0,06
mmol )を加え、室温にて1時間攪拌する。溶媒を
情夫し、そのまま直接薄層りaマドグラフィー(溶媒;
n−へキサノ/エーテル−30/1゜シリカゲル)にて
分離精製を行ないO−MBF−3■−ヒトaキシ−1−
ヨード−5■−メチルノナ−1−エン85〜(43チ)
(TLC;Rf−0,6,溶媒n−ヘキサン/エーテル
−19/1シリカゲル)8よびO−MBF −3(81
−ヒトaキン−1−ヨード−5(S)−メチル7カー1
−エン67吋(34憾) (Tt、c;Rt=o、s、
溶媒n−ヘキサン/エーテル= 19 / sシリカゲ
ル)を得た。
460゜1390、 1370. 1320. 121
0. 1180゜] 100. 1080. 1040
. 1010. 1000゜ 60 実施例−5 3(S)−ヒトaキシ−1−ヨード−5(81−メ−)
ルノナーl−エン及び3 (R1−ヒドロキシ−1−ヨ
ード−5(2)−メチルノナ−1−エンの混合物157
# (0,56mmol)およびMBF−0−MBF
96 yg (0,26mmol)をtoazの乾燥エ
ーテルにとかし、モレキュラーシープ(4A)1.fを
加え、p−)ルエンスルホンI!1tlO〜(0,06
mmol )を加え、室温にて1時間攪拌する。溶媒を
情夫し、そのまま直接薄層りaマドグラフィー(溶媒;
n−へキサノ/エーテル−30/1゜シリカゲル)にて
分離精製を行ないO−MBF−3■−ヒトaキシ−1−
ヨード−5■−メチルノナ−1−エン85〜(43チ)
(TLC;Rf−0,6,溶媒n−ヘキサン/エーテル
−19/1シリカゲル)8よびO−MBF −3(81
−ヒトaキン−1−ヨード−5(S)−メチル7カー1
−エン67吋(34憾) (Tt、c;Rt=o、s、
溶媒n−ヘキサン/エーテル= 19 / sシリカゲ
ル)を得た。
NMR(δrIPin CDCl5)
0.7〜” −0(6H+ m ) 、 0.85 (
3H+ lI) 。
3H+ lI) 。
0 、9 (3H+ lI) + 0.95 (3H+
!l ) 。
!l ) 。
】、o 〜1.9 (1sH,m)。
2 、65〜3.2 (I H+ m ) 。
4.2(2H,m)、5.3(IH+m)。
6.3(2H,m)
l
IR(m 、neat)
2970、2950.2900.1600.1490゜
1450、1390.1370.1310.1270゜
1260.1210.11B0,1110,1090゜
1070、 1030. 10 10. 990. 9
5 ONMR(δP in CDCl5) 0.7〜1+0 (681m)、0.85 (aHl
8 )。
1450、1390.1370.1310.1270゜
1260.1210.11B0,1110,1090゜
1070、 1030. 10 10. 990. 9
5 ONMR(δP in CDCl5) 0.7〜1+0 (681m)、0.85 (aHl
8 )。
0.9(3H,8)、0.95(3H+8)。
1.0〜1.9 (16H+ ITI ) 。
2.65〜3.2(lH9m)、 4.0(IH+m)
。
。
4、z(IH+m)、s、3s(lH+m)。
6.35 (2H+m)
実施例−1で得られた+8l−3−((IR。
4R,58)−6,6−シメチルー2−オキソ−3−オ
キサビシクO(3,1,0)ヘキサン−4−イルオキシ
)−1−ヨード−5(8)−メチルノナ−1−エン12
0 m9(0,3mmol)を3−のジオキサンにとか
し、3dの水を加える。p−)ルエンスルホン諺を5■
加え、80℃に加熱し2時間攪拌する。反応後減圧下溶
媒を留去し、反応混合物を酢酸エチルにとかし、飽和型
ソウ水で洗浄を行う。水層を塩酸により酸性化し、酢酸
エチルにより抽出を行うことにより(IR94R,58
)−6,6−シメチルー2−オキソ−3−オキサビシフ
o (a、1.o )ヘキサン−4−オール40〜(9
sl)が回収される。
キサビシクO(3,1,0)ヘキサン−4−イルオキシ
)−1−ヨード−5(8)−メチルノナ−1−エン12
0 m9(0,3mmol)を3−のジオキサンにとか
し、3dの水を加える。p−)ルエンスルホン諺を5■
加え、80℃に加熱し2時間攪拌する。反応後減圧下溶
媒を留去し、反応混合物を酢酸エチルにとかし、飽和型
ソウ水で洗浄を行う。水層を塩酸により酸性化し、酢酸
エチルにより抽出を行うことにより(IR94R,58
)−6,6−シメチルー2−オキソ−3−オキサビシフ
o (a、1.o )ヘキサン−4−オール40〜(9
sl)が回収される。
有機層をさらに飽和食塩水VC″′C洗浄を行い、乾燥
後溶媒を減圧下留去し、シリカゲルクロマドグラフイー
(溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル= 971 )によ
り3 (81−ヒトaキシ−1−ヨード−5(8)−メ
チルノナ−1−エン761v(90チ)を得た。
後溶媒を減圧下留去し、シリカゲルクロマドグラフイー
(溶媒;n−ヘキサン/酢酸エチル= 971 )によ
り3 (81−ヒトaキシ−1−ヨード−5(8)−メ
チルノナ−1−エン761v(90チ)を得た。
((1)” −t 、64° (C= 0.4 MeO
H)実施例−7 υ 実施例−2で得られた(St−3−C(I R。
H)実施例−7 υ 実施例−2で得られた(St−3−C(I R。
4R,58)−6,6−シメチルー2−オキソ−3−オ
キサビシフ、、x (3,1,0)ヘキサン−4−イル
オキシ〕−1−ヨード−5(81−メチルノナ−1−:
x−7250# (0,62mmol )を5Nのジオ
キサンおよび5dの水にとがし、p−トルエンスルホン
酸10W9を加え、8(3℃[加熱する。
キサビシフ、、x (3,1,0)ヘキサン−4−イル
オキシ〕−1−ヨード−5(81−メチルノナ−1−:
x−7250# (0,62mmol )を5Nのジオ
キサンおよび5dの水にとがし、p−トルエンスルホン
酸10W9を加え、8(3℃[加熱する。
2時間攪拌後、実施例−6と同様にして(lR14RI
58 )−6,6−シメチルー2−オキソ−3−オキサ
ビシクロ(3,1,0)ヘキサ−4−オール81〜(9
2%)を回収し、3(s)−ヒドロキシ−1−ヨード−
5(s)−メチルノナ−1−エン160ダ(95チ)を
得た。
58 )−6,6−シメチルー2−オキソ−3−オキサ
ビシクロ(3,1,0)ヘキサ−4−オール81〜(9
2%)を回収し、3(s)−ヒドロキシ−1−ヨード−
5(s)−メチルノナ−1−エン160ダ(95チ)を
得た。
(a)” + s、eso(C= 0.9 MeOH)
実施例−8 実施例−5で得られた0−MBF−3(81−ヒドロキ
シ−1−ヨード−5(s)−メチルノナ−1−エンs
59(0,t4mmol)を2dのメタノールにとかし
、p−トルエンスルホン酸な加え、10時間攪拌する。
実施例−8 実施例−5で得られた0−MBF−3(81−ヒドロキ
シ−1−ヨード−5(s)−メチルノナ−1−エンs
59(0,t4mmol)を2dのメタノールにとかし
、p−トルエンスルホン酸な加え、10時間攪拌する。
反応波酢酸エチルを加え、飽和型ソウ水で洗浄後、溶媒
を留去し、薄層クロマトグラフィー溶媒n−ヘキサン/
酢酸エチtL、 = 9 / 1シリカゲル)により3
(s)−ヒドロキシ−1−ヨード−5(s)−メチルノ
ナ−1−二7361119(90%、 Rf = 0.
36 )および0−MBF−メタノール25a&(ss
%、Rf=0.9)ヲ得た。
を留去し、薄層クロマトグラフィー溶媒n−ヘキサン/
酢酸エチtL、 = 9 / 1シリカゲル)により3
(s)−ヒドロキシ−1−ヨード−5(s)−メチルノ
ナ−1−二7361119(90%、 Rf = 0.
36 )および0−MBF−メタノール25a&(ss
%、Rf=0.9)ヲ得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 l 下記式CI) で表わされる3−ヒトクキシー5−メチルノナ−1−エ
ン類の3 (81、5(61体、3 (Sl、5 (R
1体、3(和、5(81体、3■、5■体もしくはそれ
らの任意の混合物である3−ヒドロキシ−5−メチルノ
ナ−1−エン類。 λ 上記式(I) VCおいて、Xがヨウ素原子である
特許請求の範囲第1項記載の3−ヒドロキシ−5−メチ
ルノナ−1−エン類。 3 上記式CI)において、Aを含む次式(ここでAお
よびYは上記定義に同じである)が (IR+4R+58) 6.6−シメチルー2−オキソ
−3−オキサビシフa (3,1,0)ヘキサ−4−イ
ルオキシ基。 (t8.it8+5R,) s、e−ジメチル−2−オ
キソ−3−オキサビシクex (3,1,03ヘキサ−
4−イルオキシ基。 υH (3R,3aR14s17R1yas)−t−オキソ−
3a、4.フ、フローテトラヒドcl −4,7=メタ
ノ−(3H)−インベンゾフラン−3−イルオキシ基。 (38,3aS14R17S17aR)−1−オキソ3
a + 4 + 7 + 78−テトラヒトcl −
4,7−メタノ−(3H)−イソベンゾフラン−3−イ
ルオキシ基。 (28−(2111+3a(1+4CI+7(1+71
(1):] −2,3,3a、4.5,6,7,7a−
オクタヒトa−7,8,8−)ジメチル−4,フーメタ
ツベンゾフランー2−イルオキシ基のいずれかである特
許請求の範囲第1項又は第2項記載の3−ヒトet−?
シー5−メチルー1−エン類。 4、 下記式(n) H 〔式中、Xは上記定義に同じである。〕で表わされる3
−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エン類と下記式[
1[I) で表わされる化合物とを酸の存在下に反応せしめるか、
あるいは脱水法により反応せしめることを特徴とする下
記式CI) で表わされる3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エ
ン類の製造法。 5 下記式(n) XソYY” 、、、、、、、、Cn。 H 〔式中、Xは上記定義に同じである。〕において、3位
、5位の炭素の立体化学の組み合せが3(Sl、5(R
1体と3(6)、5fS1体の混合物又は3 (81、
5+81体と3(ル、5(8)体の混合物を用いて行な
う特許請求の範囲第4項記載の3−ヒドロキシ−5−メ
チルノナ−1−エン類の製造法。 6 式(In)で示される化合物が、(IR,4R15
S)−6,6−シメチルー4−ヒドロキシ−3−オキサ
ビシクロ(3,1,0)ヘキサン−2−オン、又は(I
S14S15R) 6.6−シメチルー4−ヒドロキシ
−3−オキサビシフc+(3゜1.0〕ヘキサン−2−
オン、又は(3R13a R,4S + 7 R+ 7
a S ) 3−ヒドロキシ−3a、4,7.7ロー
テトラヒドロー4,7−メタノ−(3H)−イソベンゾ
フラン−1−オン。 又は(3S 、 3 a S + 4 RT 7 S
+ 7 a R) 3−ヒドロキシ−3a、4.7.7
a−テトラヒドロ−4,7−メタノ−(3H)−イソベ
ンゾフラン−1−オン、又は(28−(2a、3aa、
4a。 7α、7aα )) 2+3+3a14+!++6+7
+71−才クタヒド口−7,8,8−)ジメチル−4,
フーメタツペンゾフランー2−オール。 又は(2R12’R−(2a、2’a、3aa+3a’
a。 4α、4′α、7α、7′α、7aα、7a′α))−
2,2’−オキシビ人(2,3,3a+4.5,6,7
.7a−才クタヒド口−7,8,8−)ジメチル−4,
フーメタノベンゾフラン)である特許請求の範囲第4項
〜5項のいずれか1項記載の3−ヒドロヤシ−5−メチ
ル−1−エン類の製造法。 7、 酸が、塩酸、硫酸からなる群より選ばれた少なく
とも一種である特許請求の範囲第4項〜第6項のいずれ
か1項記載の3−ヒトaキシ−5−メチルノナ−1−エ
ン類の製造法。 8 酸が、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸
、カンファースルホンfl!、それらのピリジン塩から
なる群より選ばれた少なくとも1mである特許請求の範
囲第4項〜第6項のいずれか1項記載の3−ヒドロキシ
−5−メチルノナ−1−エン類の製造法。 9、 脱水法を共佛傾しゃ法を用いて行なう特許請求の
範囲第4項〜第8項記載の3−ヒトaキシ−5−メチル
ノナ−1−エン類の製造法。 lO脱水法を、モレキュラーシープ、活性無水硫酸カル
シウム、無水meマグネシウムからなる群より選ばれた
少なくとも1種を用いて行なう特許請求の範囲第4項〜
第8項のいずれか1項記載の3−ヒトσキシー5−メチ
ル/ナー1−エン類の製造法。 11 下記式(1−a) 〔式中、A、X、Yは上記定義に同じつ〕で表わされる
光学活性な3(S)−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1
−エン類を相当するジアステレオマーである3■体から
公知の方法を用いて分離なし、中性もしくは酸の存在下
において、水もしくはアルコール存在下反応せしめ、必
要に応じて分離精製を行ない下記式で表わされる光学活
性な3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エン類を分
割により得る製造法。 lλ 酸が、塩酸、硫酸からなる群より選ばれた少なく
とも一種である特許請求の範囲第11項記載の3−ヒド
ロキシ−5−メチルノナ−1−エン類の製造法。 13 酸カ、バラトルエンスルホノ酸、メタンスルホ7
酸、力/ファースルホン酸、またはそれらのピリジン塩
からなる群より選ばれた少なくとも1棟である特許請求
の範囲第11項記載の3−ヒドロキシ−5−メチルノナ
−1−エン類の製造法。 14 アルコールがメタノール、エタノールである特許
請求の範囲第11項〜13項のいずれか1項記載の3−
ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エン類の製造法。 15 式〔■′〕中、Xがヨウ素である特許請求の範囲
第11sj4〜14項のいずれか1項記載の3−ヒトa
キシ−5−メチルノナ−1−エン類の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8190384A JPS60226870A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エン類およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8190384A JPS60226870A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エン類およびその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60226870A true JPS60226870A (ja) | 1985-11-12 |
JPH0570631B2 JPH0570631B2 (ja) | 1993-10-05 |
Family
ID=13759398
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8190384A Granted JPS60226870A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 3−ヒドロキシ−5−メチルノナ−1−エン類およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60226870A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016133020A1 (ja) * | 2015-02-16 | 2016-08-25 | 日産化学工業株式会社 | 光学活性アリルアルコール化合物の製造方法 |
-
1984
- 1984-04-25 JP JP8190384A patent/JPS60226870A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016133020A1 (ja) * | 2015-02-16 | 2016-08-25 | 日産化学工業株式会社 | 光学活性アリルアルコール化合物の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0570631B2 (ja) | 1993-10-05 |
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