JPH03123780A - 2H―ベンゾ[b]キノリジン誘導体 - Google Patents

2H―ベンゾ[b]キノリジン誘導体

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JPH03123780A
JPH03123780A JP25999489A JP25999489A JPH03123780A JP H03123780 A JPH03123780 A JP H03123780A JP 25999489 A JP25999489 A JP 25999489A JP 25999489 A JP25999489 A JP 25999489A JP H03123780 A JPH03123780 A JP H03123780A
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JP
Japan
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methoxy
added
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acid
solvent
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Application number
JP25999489A
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English (en)
Inventor
Atsuro Terajima
孜郎 寺島
Shoichi Saito
斉藤 昭一
Fuyuhiko Matsuda
松田 冬彦
Kazuhiko Nakatani
和彦 中谷
Katsunori Tanaka
克典 田中
Kaoru Yamada
薫 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sagami Chemical Research Institute
Original Assignee
Sagami Chemical Research Institute
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は制癌活性を有する新規な2H−ベンゾ(b)キ
ノリジン誘導体に関する。
〔従来の技術〕
優れた制癌剤の開発には社会からの強力な要請があり、
強力な制癌活性を有する新規な化合物を剥製することは
優れた制癌剤開発におい゛ζ大変重要な位置を占めてい
る。−最に化合物の制癌活性と制癌スペクトルはその化
学構造に大きく依存することから、既知のものとは異な
る新規な構造を有する制癌活性化合物から現在、実用に
供せられている制癌剤より優れた特徴を有する制癌剤が
開発されるoJ能性は極めて大きい。
(本発明が解決しようとする課題〕 本発明の目的は、制癌剤としての用途が期待される新規
な化合物であるZH−ベンゾ(b’3キノリジン誘導体
を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は−饅式 記式(1) の対掌体が得られる (参考例および実 施例参照) (式中、Rは水素原子又は炭素数1から5の直鎖状もし
くは分枝状低級アシル基である。)で表される新規な2
日−ベンゾ(blキノリジン誘導体およびその対掌体に
関する。
前記−数式(1)で表される2 [(−ベンゾrb)キ
ノリジン誘導体及びその対7体は以下の反応式にkって
合成することができる0便宜上、前記式N)で表される
2 H−一、ンゾ(b)キノリジン誘導体の合成につい
てのみ説明するが、第6エ程で4−0−ベンジル−2,
3−0−イソプロピリデン−し−スレオースの代わりに
その対掌体である4−0−ベンジル−2,3−イソプロ
ピリデンD−スL/」−スを用いれば、式(■)、(I
X)、(X)、(Xり、(XI)の幻7体を経て、前(
Vl) CHs (■) CHs (■) ■ (式中、R+は炭素数1から5の直鎖状あるいは分枝状
低級アシル基である)。
〔第1工程〕 本工程は、前記−喰式(II)で表される2−ブロモ−
1−メチル−3−メトキシベンゼンのベンジル位を臭素
化し、ついでベンジル位臭素を置換することにより、ニ
トリル基を導入するものである。本工程の原料である2
−ブロモー1−メチル−3−メトキシベンゼンは公知の
方法により合成できる化合物である(S、Inoue+
et al、+J、Ches+、5oc−Perkin
 trans、I、2097(1’174))、本工程
の臭素化は、臭素化剤として例えばN−プ【コモサクシ
ンイミド、臭素等を用いることができる。臭素化を行う
には溶媒中で行うことが望ましく、例えば、ジクロロメ
タン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒を用い
ることができる0反応温度は一20℃〜100℃で円滑
に進行する。得られた臭素化物のベンジル位臭素のニト
リル基による置換は例えばシアン化ナトリウム、シアン
化カリウム等を用いることができる0本置換反応は溶媒
中で行うことが望ましく、例えばジメチルスルホキシド
、N。
N−ジメチルホルム°1ミド等の非プロトン性i媒を用
いることができる0反応は0℃〜100℃で円滑に進行
する。
〔第2工程〕 本工程は、前記第1工程で得られる前記式(m)で表さ
れる2−ブロモー3−メトキシ−フェニルアセトニトリ
ルのニトリル基を加水分解後、エステル化し、前記式(
rV)で表される2−ブロモ−3−メトキシ−フェニル
酢酸メチルを製造するものである0本工程の加水分解は
、塩基として例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等を用いることができる。加水分解は溶媒中で行うこ
とが望ましく、例えば、メタノール、エタノール等の含
水アルコール系溶媒を用いることができる。得られたカ
ルボン酸誘導体のエステル化は、エステル化剤としてメ
タノールと塩酸、硫酸、p−)ルエンスルホン酸などの
酸触媒、ジアゾメタン等を用いることができる。エステ
ル化は溶媒中で行うことが望ましく、例えば、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒を用
いることができる0反応は0℃〜100℃で円滑に進行
する。
〔第3工程〕 本工程は、前記第2工程で得られる前記式(IV)で表
される2−ブロモ−3−メトキシ−フェニル酢酸メチル
のリチウム塩に5−ペンジルオキシペンタナールを付加
させ、前記式(V)で表される7−ベンジルオキシ−2
−((2−ブロモー3−メトキシ)フェニルツー3−ヒ
ドロキシ−へブタン酸メチルを製造するものである9本
工程の原料である5−ベンジルオキシペンタナールは公
知の方法により合成できる化合物である(H,Naga
oka。
et al、、Tetrahedron Lett、+
 26+5053(1985)L2−ブロモー3−メト
キシ−フェニル酢酸メチルのリチウム塩は、2−ブロモ
−3−メトキシ−フェニル酢酸メチルにリチウムジイソ
プロピルアミドなどを反応させることにより、容易に調
整できる。リチウム塩の調整およびそれに引き続いた付
加反応は溶媒中で行うことが望ましく、例えば、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒を
用いることができる。いずれの反応も一78℃〜0℃で
円滑に進行する。
〔第4工程〕 本工程は、前記第3工程で得られる前記式(V)で表さ
れる7−ベンジルオキシ−2−((2−ブロモ−3−メ
トキシ)フェニルツー3−ヒドロキシ−へブタン酸メチ
ルを酸化後、脱メトキシカルボニル化して、前記式(V
l)で表される6−ベンジルオキシ−1−((2−ブロ
モ−3−メトキシ)フェニルゴー2−ヘキサノンを製造
するものである。
本工程の酸化は、酸化剤として、例えば、クロム酸、三
酸化クロム/ピリジン混合系酸化剤等を用いることがで
きる。酸化は溶媒中で行うことが望ましく、例えば、ク
ロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン系炭化水素溶
媒を用いることができる0反応温度は0℃〜50℃で円
滑に進行する。
引き続いて行われる脱メトキシカルボニル化は塩化ナト
リウム−水−ジメチルスルホキシドの混合物、シアン化
ナトリウム−水−ジメチルスルホキシドの混合物等を用
いて行うことができる0反応温度は100℃〜200℃
で円滑に進行する。
〔第5工程〕 本工程は前記第4工程で得られる前記式(VT)で表さ
れる6−ベンジルオキシ−1−((2−ブロモー3−メ
トキシ)フェニルゴー2−ヘキサノンをエノール化させ
、前記式(■)で表される6−ベンジルオキシ−1−(
(2−ブロモ−3−メトキシ)フェニルツー2−メトキ
シ−1(E)−ヘキセンを製造するものであるエノール
化はオルトギ酸メチルとメタノールの混合物中、酸触媒
として例えば、p−トルエンスルホン酸、dl−カンフ
ァー−10−スルホン酸等を用いて行うことができる0
反応温度は0℃〜80℃で円滑に進行す〔第6エ程〕 本工程は前記第5工程で得られる前記式(■)で表され
る6−ベンジルオキシ−1−((2−ブロモー3−メト
キシ)フェニルツー2−メトキシ−1(E)−ヘキセン
のリチウム塩に4−0−ベンジル−2,3−0−イソプ
ロピリデン−スレオースを付加させ、前記式(■)で表
される1−[(2−((43,53)−5−ベンジルオ
キシ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−
ヒドロキシメチルツー3−メトキシ〕フエニル]−6−
ベンジルオキシ−2−メトキシ−1(E)−ヘキセンを
製造するものである0本工程の原料である4−0−ベン
ジル−2,3−0−イソプロピリデン−L−スレオース
は公知の方法によりL−酒石酸より合成できる化合物で
ある(T、Mukaiyama+at al、、Che
m、Lett、、929(1978)、) 、 6−ベ
ンジルオキシ−1−((2−ブロモ−3−メトキシ)フ
ェニルツー2−メトキシ−1(E)ヘキセンリチラム塩
は、6−ベンジルオキシ−1−((2−プロモー3−メ
トキシ)フェニルツー2−メトキシ1 (E)−ヘキセ
ンにn−ブチルリチウム、S −ブチルリチウム、t−
ブチルリチウムなどを反応させることにより容易にal
整できる。リチウム塩の副整とそれに引き続いた付加反
応は、溶媒中で行うことが望ましく、例えば、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル系溶媒を用いることができる。いずれの反応も一78
℃〜0℃で円滑に進行する。
本工程において、4−0−ベンジル−2,3イソプロピ
リデン−L−スレオースのかわりに公知の方法により(
T、Mukalyamat et al、+chem、
Lett、。
929(197B)、) D−酒石酸より合成した4−
0−ベンジル−2,3−0−イソプロピリデン−D−ス
レオースを用いれば、前記式(■)で表される化合物の
対掌体を得ることができる(参考例7参照)。
〔第7エ程〕 本工程は、前記第6エ程で得られる前記式(■)で表さ
れる1−[(2−((43,53)−5−ベンジルオキ
シ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−ヒ
ドロキシメチル〕−3−メトキシ〕フェニルコー6−ペ
ンジルオキシ−2−メトキシ−1(E)−ヘキセンを酸
化後、エノールエーテル基を加水分解し、次いで環化さ
せることにより前記式(IX)で表される3−(4−ベ
ンジルオキシブチル”)−1−((4S、53)−5−
ベンジルオキシ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソ
ラン−4−イル〕−8−メトキシイソキノリンを製造す
るものである。
本工程の酸化は、酸化剤として、例えば、クロム酸、二
酸化クロム−ピリジン混合系酸化剤、ジメチルスルホキ
シド−オキザリルクロリド−トリエチルアミン混合系酸
化剤などを用いることができる。酸化は溶媒中で行うこ
とが望ましく、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン
等のハロゲン化炭化水素系溶媒を用いることができる0
反応温度は一78℃〜30℃で円滑に進行する。
本工程のエノールエーテルの加水分解は希塩酸、希硫酸
、p−トルエンスルホン酸などの酸触媒を用いて行われ
る0反応は溶媒中で行われ、好適には、含水メタノール
、含水エタノール、含水テトラヒドロフラン、含水ジオ
キサンなどの含水溶媒が用いられる0反応は0゛C〜3
0℃で円滑に進行する。
本工程のイソキノリン誘導体への環化反応は、アンモニ
ア、酢酸アンモニウム等を用いて行われる。W化反応は
溶媒中で行うことが望ましく、例えば、メタノール、エ
タノール等のアルコール系溶媒、エーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒中で行うこ
とができる。
反応は0℃〜30℃で円滑に進行する。
本工程を前記式(■)で表される化合物の対掌体を用い
て行うと、前記式(IX)で表される化合物の対掌体を
全く同様にして得ることができる(参考例9#照)。
〔第8工程] 本工程は、前記第7エ程で得られる前記式(IX)で表
される3−(4−ベンジルオキシブチル)−1−[(4
S、5S)−5−ベンジルオキシ−2゜2−ジメチル−
1,3−ジオキソラン−4−イルツー8−メトキシイソ
キノリンを還元後アミノ基の保護基を導入し、次いでジ
オールの保m基を除去することにより、前記式(X)で
表される3−(4−ベンジルオキシブチル)−1−((
IS。
2S)−1,2−ジヒドロキシ−3−ベンジルオキシ−
1−プロピルゴー8−メトキシ−3,4−ジヒドロ−2
(IH) −イソキノリンカルボン酸1.1−ジメチル
エチルを製造するものである。
本工程の還元は、還元剤としては、例えば水素化ホウ衆
ナトリウム、シアン化水素化ホウ素ナトリウム等を用い
て行うことができる。還元は酸性溶媒中で行うことが望
ましく、例えば、塩酸、硫酸などを少是含有するメタノ
ール、エタノール等のアルコール系溶媒中で行われる。
本工程のアミノ基の保護に用いられる保!i基としては
、次の第9工程、第1O工程で脱離することなく安定に
存在し、第11工程に於いて、他の部位を頃なうことな
く除去できるものが用いられる0本目的に合致したもの
としては、t−ブトキシカルボニル基を選択することが
できる。アミノ基のt−ブトキシカルボニル基による保
護は炭酸t−ブチル無水物、2−(t−ブトキシカルボ
ニルオキシイミノ)−2−フェニルアセトニトリルなど
を用いて行われる0反応は溶媒中で行うことが望ましく
、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン
化炭化水素系溶媒、又はこれらハロゲン化炭化水素系溶
媒と水との混合溶媒系を用いることができる0反応は5
0℃〜100℃で円滑に進行する。
本工程のジオールの保護基の除去は希塩酸、酢酸、p 
−トルエンスルホン酸等を用いることができる0反応は
溶媒中で行うことが望ましく、例えば、メタノール、エ
タノール等のアルコール系溶媒を用いることができる0
反応は室温〜6o℃で円滑に進行する。
本工程を前記式(LX) で表される化合物の対7体を
用いて行うと、前記式(X)で表される化合物の対掌体
を全く同様に得ることができる(参考例11参照)。
〔第9工程〕 本工程は前記第8工程で得られる(X)で表される3−
(4−ベンジルオキシブチル)−1−((Is、23)
 ・−1,2−ジヒドロキシ−3−ベンジルオキシ−1
−プロピルツー8−メトキシ−3,4−ジヒドロ−2(
IH)−イソキノリンカルボン酸−1,1−ジメチルエ
チルを酸化的に切断し、次いで還元することにより、前
記式(XI)で表される(Is、33)−3−(4−ベ
ンジルオキシブチル)−1−ヒドロキシメチル−8−メ
トキシ−3,4−ジヒドロ−2(LH)−イソキノリン
カルボン酸−1,1−ジメチルエチルを製造するもので
ある。
本工程の酸化的切断は、酸化剤として例えば、過ヨウ素
酸、過ヨウ素酸ナトリウム、クロム酸、四節酸鉛等用い
て行うことができる0反応は溶媒中で行うことが望まし
く、例えば酸化剤として過ヨウ素酸ナトリウムを用いる
場合にはメタノール、エタノール等の含水アルコール系
溶媒を、また、酸化剤としてクロム酸、四節酸鉛を用い
る場合には、アセトン、酢酸などを用いることができる
反応は0℃〜室温で円滑に進行する。
本工程の還元は還元剤として、例えば、水素化ホウ素ナ
トリウム、シアン化水素化ホウ素ナトリウム等を用いる
ことができる0反応シよ溶媒中で行うことが望ましく、
例えばメタノール、エタノール等の含水アルコール系溶
媒を用いることができる0反応はO℃〜室温で円滑に進
行する。
本工程を前記式(X>で表される化合物の対掌体を用い
て行うと、前記式(Xi)で表される化合物の対掌体を
全(同様に得ることができる(参考例13参照)。
〔第10工程〕 本工程は前記第9工程で得られる前記式(XI)で表さ
れる(Is、3S)−3−(4−ベンジルオキシブチル
)−1−ヒドロキシメチル−8−メトキシ−3,4−ジ
ヒドロ−2(IH)−イソキノリンカルボン酸−1,1
−ジメチルエチルの1位側鎖水酸基を保護することによ
り、前記式(XI[)で表される(Is、3S)  −
3−(4−ペンジルオキシブチル)−1−((メトキシ
メトキシ)メチルツー8−メトキシ−3,4−ジヒドロ
−2(IH)イソキノリンカルボン酸−1,1−ジメチ
ルエチルを製造するものである。
水酸基の保護基としては次の第11工程において、3位
側鎖上のベンジル基の除去及び生成した1級アルコール
のアルデヒドの酸化の工程中は、脱離することな(安定
に存在し、かつ2位のむ一ブトキシカルボニルと同時に
他の部位を損なうことなく除去できるものが用いられる
0本目的に合致した水酸基の保護基としては、メトキシ
メチル基を選択することができる。保fl!基の導入は
トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミンなどの
3級アミン存在下塩化メトキシメチル客を用いて行われ
る0反応は溶媒中で行うことが望ましく、例えばジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系IIを
用いることができる0反応は0℃〜室温で円滑に進行す
る。
本工程を前記式(Xりで表される化合物の対車体を用い
て行うと、前記式(X11)で表される化合物の体重体
を全く同様に得ることができる(参考例15参照)。
〔第11工程〕 本工程は前記第10工程で得られる前記式(XII)で
表される(13.33)−3−(4−ベンジルオキシブ
チル)−1−((メトキシメトキシ)メチルツー8−メ
トキシ−3,4−ジヒドロ−2(IH)−イソキノリン
カルボン酸−1,1−ジメチルエチルの3位側鎖水酸基
の保護基であるベンジル基を除去し、生成した1級アル
コールをアルデヒドに酸化後、1位側鎖上の水酸基の保
!!!基であるメトキシメチル基と2位アミノ基の保1
1基であるt−ブトキシカルボニル基を同時に除去し、
次いでニトリルを付加することにより本発明の前記式(
Ia)で表される2H−ベンゾ(b)キノリジン誘導体
を製造するものである。
3位側鎖水a基の保護基であるベンジル基の除去は、パ
ラジウム炭素等を触媒に用いた加水素分解により行うこ
とができる0反応は溶媒中で行うことが望ましく、例え
ばエタノール、メタノール等のアルコール系溶媒、酢酸
エチル等の酢酸エステル系溶媒を用いることができる0
反応は室温で円滑に進行する。
3位側鎖水M基のアルデヒド基への酸化は、例えばジメ
チルスルホキシド−オキザリルクロリド−トリエチルア
ミン混合系酸化剤、二酸化クロム−ピリジン混合系酸化
剤等を用いることができる。
反応は溶媒中で行うことが望ましく、例えばクロロホル
ム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒を用
いることができる0反応は一り8℃〜室温で円滑に進行
する。
2位側鎖水酸基の保護基であるメトキシメチル基および
2位アミノ基の保am基であるt−ブトキシカルボニル
基を同時に除去するにあたっては、トリメチルブロモシ
ラン、トリメチルロードシラン等を用いることができる
0本反応は溶媒中で行うことが望ましく、例えばクロロ
ホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒
を用いることができる0反応は0℃〜室温で円滑に進行
する。
ニトリルの導入はシアン化カリウム、シアン化ナトリウ
ム等を用いることができる0反応は溶媒中で行うことが
望ましく、例えばメタノール、エタノール等のアルコー
ル系溶媒を用いることができる0反応温度は一20〜5
0℃で円滑に進行する。
本工程を前記式(XI[)で表される化合物の対掌体を
用いて行うと、前記式(Ia)で表される化合物の対掌
体を全く同様に得ることができる〔第12工程〕 本工程は前記第11工程で得られる前記式(I a)で
表される2H−ベンゾ(b)キノリジン誘導体の6位ヒ
ドロキシメチル基をアシル化し、本発明の前記式(lb
)で表される2H−ベンゾ(b)キノリジン誘導体を製
造するものである。
アシル化はアルコールから対応するエステルを製造する
のに通常用いられる方法によって行われ、例えば、ギ酸
酢酸無水物、酢酸炭酸モノメチル無水物、無水酢酸、無
水プロピオン酸、無水酪酸などの酸無水物とピリジン、
4−N、N−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミ
ン、エチルジイソプロピルアミンなどの3級塩基を用い
る方法、塩化アセチル、臭化アセチル、塩化プロピオニ
ル、塩化ブチリル、塩化3−メチルブチリル、塩化ベニ
タノイルなどの酸塩化物とピリジン、4−N。
N−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、エチ
ルジイソプロピルアミンなどの3級塩基を用いる方法、
ギ酸、酢酸、プロピオン酸、2−メチルプロピオン酸、
酪酸、2−メチル酪酸、3−メチル酪酸、ペンタン酸、
2,2−ジメチルプロピオン酸などのカルボン酸とN、
N−ジシクロへキシルカルボジイミド、アシルジイミダ
ゾールなどの縮合剤を用いる方法などによって行われる
。アシル化は無溶媒又は溶媒中で行われ、溶媒としては
反応に関与しないものであればいがなるものも使用でき
るが、好適には、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンなどのエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロ
メタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒が用いられる0
反応は一20t〜50℃で円滑に進行する。
本工程を前記式(I a)で表される化合物の対掌体を
用いて行うと、前記式(Ib)で表される化合物の対掌
体を全く同様に得ることができる(実施例4参照)。
以上の如くして得られる前記式(I a)および<lb
)で表される2H−ベンゾ(b)キノリジン誘導体およ
びそれらの対掌体について悪性腫瘍細胞増殖抑制試験を
行い、それらの化合物が制癌剤としてのを用件を有する
ことを確認した。
試験はマウスのリンパ性白血病細胞(P2S5)を用い
、常法に従って実施し、抑制率を求めた。
以下参考例、実施例、および試験例により本発明の詳細
な説明するが、本発明はこれに限定されるものではない
参考例1 II3 文献記載(J、Chem、Soc、Perkin tr
ans I+2097(1974))の方法で合成した
2−ブロモ−1−メチル−3−メトキシベンゼン37.
3gを四塩化炭素300 m lに溶かしN−ブロムコ
ハク酸イミド33.2gと触媒量の過酸化ベンゾイルを
加え、13時間加熱還流した。不溶物を濾別後、亜硫酸
ナトリウム溶液で洗浄、水洗を行い硫酸マグネシウムで
乾燥し濃縮した。残留物をジメチルスルホキシド200
m1に溶解し、シアン化ナトリウム9.6gを室温で加
え一時間攪拌後水にあけ、エーテル抽出した。有機僧を
硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮して得た粗ニトリル体
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すること
により15.3g(36,4%)の2−ブロム−3−メ
トキシフエニルアセトニトリルを得た。
’H−NMR(9011Hz、CDCl5)   63
.85(2R,s)、3.90(38,s)、 6.9
0(IH,dd)、7.13(IH,dd)、7.03
(IH,t)。
参考例2 2−ブロム−3−メトキシフェニルアセトニトリ・ル1
5.3gをメタノール200m1に溶かし、6N−Na
OH水を100m1加え12時間加熱還流した。冷却後
、濃塩酸を加えpH2とし、そのままtailし酢酸エ
チルで抽出した。飽和食塩水で洗浄後fJEfiマグネ
シウムで乾燥し、濃縮して15.6g (94,1%)
の2−ブロム−3−メトキシフェニル酢酸を得た。これ
をエーテル400 m lに溶解し、あらかじめエーテ
ル150m1、水50m1.可性ソーダ20g中に0℃
でメチルニトロソウレア15gを加えて調製しておいた
ジアゾメタンのエーテル溶液をピペットを用いて0℃で
滴下した。徐々に室温として1時間攪拌してから黄色が
消えるまで酢酸を加えて過剰のジアゾメタンをつぶした
。そのまま反応液を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製した。
CHax:Ac0Bt−4:1) 2−ブロム−3−メトキシフェニル酢酸メチル14.9
gを無色結晶として得た(90.1!)li) 。
’H−NMR(90MHz、CDCl5)  δ3.7
1(31,s)、3.83(2H。
s)+ 3.90(3H,s)、 6.84(IH,d
)、6.92(1B、d)。
7.26(IN、 t)。
参考例3 ジイソプロピルアミン0.47m1をテトラヒドロフラ
ン10m1に溶解し、−78℃でn−ブチルリチウム(
1,6Mへキサン溶液)1.65m1を滴下してリチウ
ムジイソプロピルアミドを&lli製し、そこに2−ブ
ロム−3−メトキシフェニル酢酸メチル0.565gの
10m!テトラヒドロフラン溶液を一78℃で滴下した
。1時間攪拌した後、テトラメチルエチレンジアミンを
一78℃で加えさらに30分撹拌した。そこに文献記@
 (TtstrahedronLett  26.50
53(1985))の方法で合成した5−ベンジルオキ
シペンタナール4mlテトラヒドロフラン溶液を一78
℃で滴下して2時間攪拌した。そこに少量の飽和食塩水
を滴下し、エーテル100m1を加え徐々に室温とした
。エーテル層は3N−塩酸、飽和食塩水で洗浄後硫酸マ
グネシウムで乾燥し濃縮した。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製することにより(Hex+
Ac0Et−5:l)目的とする7−ベンジルオキシ−
2−〔(2−ブロモー3−メトキシ)フェニルツー3−
ヒドロキシ−へブタン酸メチル0.765 g (77
,8%)がジアステレオマーの混合物として得られた。
’H−NMR(90MIiz、CDCl5)  1.1
〜1.8(6H,s+)、2.55゜3.15(IH,
d)、3.3〜3.5(2H,−)、3.66(3H,
s)。
3.89(3B、a)、4.45.4.48(21,s
)、6.7〜7.0(2H。
働)、7.1〜7.4(6H,m)。
参考例4 7−ベンジルオキシ−2−((2−ブロモ−3−メトキ
シ)フェニルツー3−ヒドロキシ−へブタン酸メチル2
.OOgをアセトン60m1に溶解し室温でJons’
a試薬3ml試薬3九l反応液はオレンジ色が残るまで
加えTLCにおいて反応を追跡する0反応終了後、イソ
プロピルアルコールを加え酸化剤を分解した後、重曹を
加えセライト濾過を行った。濃縮後、DMS020ml
に溶解し塩化ナトリウム0.29gを加え真空ポンプを
用いて脱気する。その後、水0.16gを加えアルゴン
雰囲気中140℃〜160℃で2時間攪拌した。
冷却後エーテルを加え水、飽和食塩水で洗浄後硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、濃縮して得られた残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(H1!X:^cOEt−
10:1)で精製し1.56gの6−ベンジルオキシ−
1−((2−ブロモ−3−メトキシ)フェニルツー2−
ヘキサノンを無色のオイルとして得た。
’H−NMR(90MIlz、CDCIg)  1.5
〜1.9(4Lm)、2.3〜2.7(2H,m)、3
.46(211,t(J−9Hz))、3.86(28
,s)。
3.89(3H,s)、4.49(3H,s)、6.8
0(2H,d(J−8Hz))。
7.23(IH,t(J−8Hz))、7.32(58
,a)。
参考例5 OCU。
6−ベンジルオキシ−1−((2−ブロモー3−メトキ
シ)フェニルツー2−ヘキ?/71.515gをメタノ
ール30m1に溶解しオルトギ酸メチル15m1を加え
0℃でdi−カルフy−LO−スルホン酸を0.18g
加え室温で72時間攪拌した0反応液をta縮して得ら
れたアセタールにオルトギ酸メチル15m1を加え3時
間加熱還流した。
冷却後エーテルを加え飽和重曹水で洗浄し硫酸マグネシ
ウムで乾燥後濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで分離精製することにより目的とする6
−ベンジルオキシ−1−((2−ブロモ−3−メトキシ
)フェニル〕−2−メトキシ−1(E)−ヘキセン97
7■(62%)が得られた。また(Z)体も363mg
 (23%)で副生じた。
’II−NMR(δCDC15,90MHz)(E)体
1.4〜1.8(4)1.■)、2.1〜2.4(21
+、s+)。
3.3〜3.5(2H,+s)、3.70(3H,s)
、3.89(3H,s)。
4.45(2H,s)、5.58(IH,s)、6.7
3(III、d(J−91(z))。
6.85(III、d(J−9Hz))、7.19(I
H,t(J−9Hz))。
7.31(5H,s)。
(Z)体1.5〜1.9(4Lm)、2.1〜2.5(
2L鵠)。
3.4〜3.6(21,m)、3.56(3H,s)、
3.87(311,s)。
4.52(2H,s)、5.72(18,s)、6.7
0(IH,dd)。
7.16(IFI、 t)、7.31(5H,s)、7
.45(IH,dd)。
参考例6 CHz 6−ベンジルオキシ−1−((2−ブロモ−3−メトキ
シ)フェニル〕−2−メトキシ−1(E)−ヘキセン2
92■をエーテル50m1に溶解し、−78℃でn−ブ
チルリチウム(1,6M 5olu 1nRexana
)  1.07 m lを滴下し、30分攪拌した。
そこに文献記載(Ches、Latt、 929(19
82)、)の方法で合成した4−0−ベンジル−2,3
−0−イソプロピリデン−L−スレオース447■のエ
ーテル10 m l溶液を一78℃で加えそのまま30
分攪拌後0℃に昇温しさらに1時間攪拌した。その後水
3mlを加え過剰のアルデヒドがなくなるまで水素化ホ
ウ素ナトリウムを加えエーテルで希釈し、水、飽和食塩
水で洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥しtieした。残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (Hex:
Ac0Ht−5:1)で分離精製し、1− [(2−(
(4S、5S)−5−ベンジルオキシ−2,2−ジメチ
ル−1,3−ジオキソラン−4−ハイドロキシメチル〕
−3−メトキシ〕フェニル]−6−ベンジルオキシ−2
−メトキシ−1(E)−ヘキセンを2種のジアステレオ
マーとして41Mした。それぞれの収率は182■(4
2,8%)および57.6■(13,9%)であった。
’!(−NMR(400MHz CDC1*  δ)(
主成績体) 7.2 〜7.4CION、s)、7.15(IIl、
t、J−7,911z)。
6.77(2H,d、J−7,9)1x)、5.62(
18,s)、4.95(1N。
dd、 J−8,6Hz、 11.0)1g) 、 4
.64 (2H,s) 、 4.44 (2H。
a) 、4.35(IR,ddd、JJ、0.2.8.
6.2Hz) 、4.23(IH,t、J−8,0Hz
)+3.85(IH,d、J−11,0Hz)+3.8
0(3)1.s)、3.80(IH,dd、J−2,8
,10,311z)、3.68(18,dd、 J−6
,2,10,3112) 、 3.61 (38,s)
 、 3.37〜3.42(211,醜)、2.08 
〜2.20(2H,m)、1.54 〜1.62(4H
,m)、1.33(3H,s)、1.38(3H,a)
(副成繊体) 7.15〜7.36(lOH,s+)、7.13(IH
,t、J−8,0Hz)。
6.73(IH1d+J−8,014z)+6.69(
IHod、J−8,011z)。
5.58(IH,s)、5.07(IH,dd、J−1
0,3,7,5Hz)。
4.44(2H,s)、4.33(LH,t、J−7,
511z)、4.337(LH。
d、J−12,411z)、4.330(IH,d、J
−12,4Hz)、3.89(IH,ddd、J−7,
5,2,3,4,8Hz)、3.74(3H,a)。
3.72(1B、d、J−10,3Hz)、3.60(
3H,s)、3.39(2H。
−)、2.96 〜3.04(2M4)、2.10 〜
2.16(2H,s)。
1.52〜1.62(4H,m)、1.46(3jl、
s)、1.45(3H,s)。
IR(neat) (主成績体) 3550、2950.2875.1640.1590.
15?5.1450゜1370 (ロー1)6 (副成繊体) 3550.295G、28T5.1640.1590.
15’75.1450゜1370(c漏■−−1)。
Mass軸/z) (主成績体) 56MM” −OH5) 、 545(M” −OH5
O)(副成繊体) 577(M” +l)1545(M”−0CHs)比旋
光度 (主成績体) (α)g’−+52.3°(C−1,01、CHCld
(副成繊体) 〔α〕6°−+38.9°(C= 1.05 、CHC
l*)参考例7 OCI(t 6−ベンジルオキシ−1−((2−プロモー3−メトキ
シ)フェニル〕−2−メトキシ−1(E)−ヘキセン3
90確と、4−0−ベンジル−2゜3−インプロピリデ
ン−D−スレオース610■を参考例6と同様の条件で
反応し、1−[(2((4R,5R)−5−ベンジルオ
キシ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−
ハイドロキシメチル〕−3−メトキシ〕フェニル]−6
−ベンジルオキシ−2−メトキシ−1(E)−ヘキセン
を2種のジアステレオマーとして単離した。
それぞれ335* (60%i)および81■(14%
)であった、 ’II−NMR,fR,およびMass
スペクトルは参考例6と一致した。
比旋光度 (主成績体) 〔α〕も’−−48.7゜ (副成繊体) (C= 1.04 、ClIC1s) 参考例8 二酸化クロム2.265gを塩化メチレン60m1に溶
解しピリジン5.05gを室温で加えさらにモレキエシ
ーシーブス3Aの粉末を2.2g加えた。
そコニ、1−[(2−((43,53)−5−ベンジル
オキシ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4
−ハイドロキシメチルツー3−メトキシ〕フエニル]−
6−ベンジルオキシ−2−メトキシ−1(E)−ヘキセ
ン651.7■の塩化メチレン22m1溶液を加え室温
で30分攪拌後フロリジルを加えエーテル希釈しセライ
ト濾過をした。濾液を濃縮しテトラヒドロフラン60m
1に再度溶解させIN−塩酸5mlを室温で加え1時間
攪拌した。そこにアンモニア水I Q m 1を加えさ
らに室温で5時間攪拌した。エーテルを加え飽和食塩水
で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を濃縮した。残
留物はシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精
製し、278■(45,4%)の3−(4−ベンジルオ
キシブチル)−1=((43,53)−5−ベンジルオ
キシ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−
イルツー8−メトキシ−イソキノリンを得た。
直H−NMR(400MHz  CDCl5    δ
  )1.59(311,s)、1.56(3H,s)
、1.67(2H,m)、1.88(2H,m)、2.
85(2H,dt(J−14,9Hz、J−7,5Hz
)。
2.93(2[1,dt(J−14,9Hz、J−7,
511z) 、3.49(2M。
t、J−6,5Hz)、3.70(18,dd(J−6
,2Hz、J−10,7Hz))。
3.77(IH,dd(J−2,9Hz、J−10,7
tlz))、3.95(3B。
s)、4.48(2H,s)、4.59(2H,s)、
5.22(IH,ddd(J−2,9Hz、J−6,2
tlx、J−8,2Hz))、6.07(LH,d。
(J−8,2Hz))、6.84(IH,d、 (J−
7,9Hz))、7.16〜7.36(12H4) 、
7.48(1B、 it (J−7,9Hz))。
Mass(m/z)  542(M”+1)、 526
(M’−CD5)。
IR(neat) 2950.28?5.1620,1
565,1455,1370゜1310cm−’ 〔α〕も0噛−60,4° (C−1,01、ClIC
l5)参考例9 1− [(2−((4R,5R)−5−ベンジルオキシ
−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−ハイ
ドロキシメチルツー3−メトキシ〕フエニル]−6−ベ
ンジルオキシ−2−メトキシ−1(E)−ヘキセン33
5■より、参考例8に従い、130g(42%)の3−
(4−ベンジルオキシブチル)−1−((4R,5R)
−5−ベンジルオキシー2.2−ジメチル−1,3−ジ
オキソラン−4−イルツー8−メトキシイソキノリンを
得た。
’H−N)’IR,IRおよびMaasスペクトルは参
考例8と一致した。
比旋光度 (α)”−+59.7° (C= 1.01 、CHC
l5)参考例10 1         0Bn 3−(4−ベンジルオキシブチル)−1−((43,5
3)−5−ベンジルオキシ−2,2−ジメチル−1,3
−ジオキソラン−4−イルツー8−メトキシイソキノリ
ン295■を0.IN−塩酸メタノールに溶解し、シア
ン化水素化ホウ素ナトリウムを原料が薄層クロマトグラ
フィーで見えなくなるまで加えた0次に濃塩酸3 m 
lを加え室温で一晩攪拌した。溶媒を濃縮し5 m l
の水を加え重曹で中和後、3N−水酸化ナトリウム水溶
液をpH10になるまで加えクロロホルム15m1を加
え攪拌した。そこに炭酸t−ブチル無水物297■を加
え加熱還流を5時間行った。冷却後クロロホルムを加え
飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、
残渣物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーより精製
しくWax:Ac0flt−3:1)315■(95,
5%)の(Is、 33) −3−(4−ベンジルオキ
シ) −1−((Is、23)−1,2−ジヒドロキシ
−3−ベンジルオキシ−1−プロピル〕−8−メトキシ
−3,4−ジヒドロ−2(1)1)−イソキノリンカル
ボン酸−1゜l−ジメチルエチルを得た。
’H−NMR(400MHz CDCh  δ)7.2
4〜7.37(1011,曽)、7.19(111,d
d、J−8,2゜7.3Hz)、6.79(IH,d、
J−8,2Hz)、6.76(IH,d、J−7,3H
z)、5.68(IH,d、J−10,9flz)、4
.57(IH,d。
J−12,0Hz)、4.59(111,d、J−12
,0Hz)、4.497(IH。
d、J−12,011z)、4.494(IH,d、J
−12,011z)、3.99〜4.06(LH,+w
)、3.825(3H,s)、3.63 〜3.37(
4H,m)、3.45〜3.50(211,m)、3.
30(III、dd。
J−15,3,6,5Hz)、2.67<III、dd
、J−15,3,11,5Hz)。
2.38(18,d、J−10,4Hz)、1.96〜
2.10(IH,m)。
1.35〜1.70(58,―)、1.45(91,s
)。
Masa(m/z)   424(IH”−181)。
IR(neat)3450.295Q、28T0.16
60.1600.1480゜1450.140G、13
65.13353−’〔α〕も”−+19.4°(C−
1,01、CHCl5)参考例11 3−(4−ベンジルオキシブチル)−1−((4R,5
R)−5−ベンジルオキシ−2,2Bn −ジメチルー1.3−ジオキソラン−4−イル〕−8−
メトキシイソキノリン230■より参考例1Oに従い、
(IR,3R)−3−(4−ベンジルオキシブチル)−
1−((IR,2R)−1゜2−ジヒドロキシ−3−ベ
ンジルオキシ−1−プロピル〕−8−メトキシ−3,4
−ジヒドロ−2(18)−イソキノリンカルボン酸−1
,1−ジメチルエチル189m(74%)を得た。
’H−NMR%IR,およびMassスペクトルは参考
例1Oと一敗した。
比旋光度 〔α)g”−−19,4°(c−0,991+CHCl
5)参考例12 1          0Bn H0Bn (is、3S)−3−(4−ベンジルオキシブチル’)
−1−((is、23)−1,2−ジヒドロキシ−3−
ベンジルオキシ−1−プロピル)−8−メトキシ−3,
4−ジヒドロ−2(IH)−イソキノリンカルボン酸1
.1−ジメチルエチル225■をメタノール25−1に
溶解し、メタ遇ヨウ素酸ナトリウム279■と水2.5
a+1を室温で加え6時間攪拌した。その後0℃に冷却
し水素化ホウ素ナトリウムを原料が薄層クロマトグラフ
ィーで消失するまで加えそのまま30分攪拌した0反応
後、酢酸エチルを加え水、亜硫酸ナトリウムで洗浄しさ
らに飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後
濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィーで(II@
)l:^c011t−4:1)精製し、152.8w 
(90,jχ)の(Is、3S)−3−(4−ベンジル
オキシブチル)−1−ヒドロキシメチル−8−メトキシ
−3,4−ジヒドロ−2(IH)−イソキノリンカルボ
ン酸1,1−ジメチルエチルを得た。
1日−NMR(400Mむ CDCl5   δ )7
.24〜7.36(5H,m)、7.17(1)1.t
、J−7,9Hz)。
6.74(2H,t、J−7,911z)、5.62 
〜5.70(IH,br)。
4.50(2H,s)、4.10〜4.20(111,
br)、3.92(1B。
br、dd、J−10,5,4,5Hz)、3.83(
3H,a)、3.59(IH。
dd、J−10,5,9,3Hz)、3.49(3B、
 t、J−6,411z)。
2.99(111,dd、J−15,9,6,9Hz)
、 2.71(1t1.dd。
J−15,9,7,2Hz)、1.86〜1.96(1
11,−)、1.44 〜1.72(511,m)、1
.47(9H,s)。
Mass(s+/z)  424(M”−CIlmOH
)。
IR(neat) 3450.2940.2860.1
670.159G、1460゜1390.1360.1
260cm−’〔α〕 も・−−10,6@ (C−1
,06,CHCl*)参考例13 (IR,3R)−3−(4−ベンジルオキシブチル)−
1−((IR,2R)−1,2−ジヒドロキシ−3−ベ
ンジルオキシ−1−プロピル)−8−メトキシ−3,4
−ジヒドロ−2(IH)−インキノリンカルボン酸−1
,1−ジメチルエチル190■より参考例12に従い(
IR,3R)−3−(4−ベンジルオキシブチル)−1
−ヒドロキシメチル−8−メトキシ−3,4−ジヒドロ
−2(18)−イソキノリンカルボン酸−1,1−ジメ
チルエチル142■(99%)を得た。
’H−NMR,IR,およびMassスペクトルは参考
例12と一致した。
比旋光度 〔α〕6°−+9.92° (C= 1.02 、CH
Ch)参考例14 H0Bn (Is、3S)−3−(4−ベンジルオキシブチル)−
1−ヒドロキシメチル−8−メトキシ−3,4−ジヒド
ロ−2(IH)−イソキノリンカルボン酸−1,1−ジ
メチルエチル152.8■をテトラヒドロフラン4ml
に溶解しジイソプロピルエチルアミン3.21を0℃で
加え、更にクロルメチルメチルエーテル3.2mlを加
え室温で2時間攪拌した0重曹を加え酢酸エチルで希釈
し3N−塩酸で洗浄、さらに重曹水、飽和食塩水で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥し濃縮した。残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製して(Hew:
Ac0Et−4:1) 169.341 (99%)の
(Is、33)−3−(4−ベンジルオキシブチル)−
1−((メトキシメトキシHzルツー8−メトキシ−3
,4−ジヒドロ−2(IH)−イソキノリンカルボン酸
−1,1−ジメチルエチルを得た。
’H−NMR(400M1lz CDCl5  δ)7
.24〜7.36(58,s)、7.15(LH,t、
J−7,9Hz)。
6.73(2H,d、J=7.9Hz) 、5.66〜
5.94(IH,br)4.64 (1M、 d、 J
−6,5Hz) 、 4.57 (IH,d、 6.5
Hz) 。
4.50(211,s)、3.90〜4.16(18,
br)、3.82(3H,s)。
3.71〜3.77(IHl−)、3.63〜3.69
(IH,s+)、3.49(28,t 、J−6,51
1z)、2.99(IH,br、dd、J−15,96
,9Hz)、2.75(IH,dd、J−15,9Hz
、8.3Hz)、1.97〜2.08(IH4)、1.
40 −1.80(5H,置)、1.45(9H,s 
)。
Mass(s/z)  499(M”−1)、  42
4(M”−CIhOMOM)。
IR(nea t) 3450.2950.2870.
1690.1590.1470゜1390.1365.
1260cn−’参考例15 Bn 3.4−ジヒドロ−2(IH)−イソキノリンカルボン
酸−1,1−ジメチルエチル162■より参考例14に
従い、(IR,3R)−3−(4−ベンジルオキシブチ
ル)−1−((メトキシメトキシ)メチル〕−8−メト
キシー3.4−ジヒドロ−2(IH)−イソキノリンカ
ルボン酸−1゜1−ジメチルエチルエステル68■(9
0%)を得た。
’H−11MR%IR,およびMassスペクトルは参
考例14と一致した。
比旋光度 〔α〕ドーー8.79° (C−1,18、CHCl5
)(IR 3R)−3 (4−ベンジルオキシブ チル)−1−ヒドロキシメチル−8−メトキシ−実施例
1 (Is、3S)−3−(4−ベンジルオキシブチル)−
1−((メトキシメトキシ)メチルツー8−メトキシ−
3,4−ジヒドロ−2(IH)−イソキノリンカルボン
酸−1,1−ジメチルエチル56.1mをメタノールl
Qmlに溶解しPd(OR)*−Cを少量加えフラスコ
内を水素置換し室温で2時間攪拌後エーテルを加えセラ
イト濾過し濾液を濃縮した。減圧下放置した後、4ml
の塩化メチレンを加え、あらかじめ101.3μiのオ
キザリルクロリドを9.4mlの塩化メチレンに溶解し
一78℃で162μlのジメチルスルホキシドの塩化メ
チレン140μm溶液を滴下したものに一78℃で加え
そのまま30分攪拌後、0℃にして30分攪拌した。エ
ーテルを加え水洗、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシ
ウム乾燥し711Wした。残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(Hex : Ac0E t−2:l
)で精製し、39.4■の粗アルデヒドを得た。
これを塩化メチレン2.4mlに溶解し、1%トリメチ
ルブロモシランジクロロメタン溶液3 m lを室温で
加えた。10分間攪拌し、95%MeOH水7mlを加
え5分間攪拌した後、ロータリーエノ<ボレーターで濃
縮した。そこにベンゼン5mlとメタノール2.5ml
を加え、ロータリーエノイボレーターで濃縮する作業を
3回行い、減圧上放置後、メタノールに溶解しエバポレ
ーターでWI4WMする作業を3回行った。その後12
m1のメタノールに溶解し、シアン化ナトリウム48■
を室温で加え1時間攪拌した。溶媒を濃縮後そのままf
jiJiクロマトグラフィーにて精製(”Hsx:Ac
01!t−1:1) 1.18■(59%)の(43,
63,11aS) −4−シアノ−6−ヒドロキシメチ
ルー7−メトキシー1 3.4,6,11.1la−ヘ
キサヒドロ−2H−ベンゾ(b)キノリジンを得た。
’H−NMR(400MHz、CDCl5.δ)7.1
3(18,t、 J−’?、9Hz) 、6.73(I
Ld、J−7,9+1g) 。
6.68(1B、d、J−7,9Hz)、4.19 〜
4.23(2H,m)。
3.82(38,s)、3.75(111,dt、J−
10,9,4,2,4,21(z)。
3.56(1M、ddd、J−10,9,4,1,7,
9Hz)、2.72〜2.81(E、m)、2.56 
〜2.68(IH,m)、2.38(IH,dd、J−
4,2,7,9Hz)、1.70 〜2.06(58,
−)、1.38(IH。
dddd、J−4,6,10,7,12,7,12,7
112)。
Mass軸/z)  2T3(M’ + 1) 、 2
44(M”−CIItCL) 。
241(M’−CHgOH)。
rR(neat) 3500.2950,2220.1
590.1475,1385,1260゜1080.1
060.750 am−’比旋光度 (α) 5’−+ 17.4°(C=1.34. Cl
Cl5)。
実施例2 HOBn      □ ハ (IR,3R)−3−(4−ベンジルオキシブチル)−
1−((メトキシメトキシ)メチルツー8−メトキシ−
3,4−ジヒドロ−2(LH)−インキノリンカルボン
酸−1,1−ジメチルエチル28.9■より実施例1に
従い(4R,6R11aR)−4−シアノ−6−ヒドロ
キシメチルー7−メトキシー1,3.4,6.11.1
la−へキサヒドロ−2H−ベンツ゛(b)キノリジン
を9.3IIIr(59%)得た。
’)l−NMR,IR,及び)lassスペクトルは実
施例1と一致した。
比旋光度 実施例3 HH (4S、6S、11aS)−4−シアノ−6−ヒドロキ
シメチルー7−メトキシーL、3.4゜6.11,1l
a−ヘキサヒト0−28−ベンゾ(b)キノリジン2弯
をピリジン5滴に溶解し、無水酢酸2滴を加え室温で終
夜攪拌した。その後、メタノールを加えさらにエーテル
を加えIN=塩酸で洗浄後、飽和食塩水で洗浄し硫酸マ
グネシウムで乾燥した。濾液をt!縮しシリカゲル薄層
クロマトグラフィーにて分離精製を行い、 (Hew:Ac0ttt−7:3) 2 、I Q *
 (91,0%)の(4S。
63.11aS)−6−アセドキシメチルー4−シアノ
−7−メトキシ1.3.4,6.11゜11a−へキサ
ヒドロ−2H−ベンゾ(b)キノリジンを得た。
’H−NMR(400MH2,CDC1,、δ)7.1
5(lil、 t、J−7,9Hz) 、6.72(I
H,d、J−7,9Hz) 。
6.69(LH,d、J−7,9Hz)、4.28〜4
.35(2H,m)。
4.24(IH,br、 t、J−3,5Hz)、4.
0O(IH,dd、J−6,8゜11.4Hz)、3.
81(3H,s)、2.65 〜2.75(1)1.s
)。
2.55〜2.65(LH,@)、2.02(3H,s
)、1.60〜1.99(5H,m)、1.31(IH
,dddd、J〜4.4.10.4.12.9゜12.
9Hz)。
Mass(m/z)  287(M”−HCN)、  
241(M”−0Ac)。
IR(neat) 2950,1740.1595.1
460.1380.1260.1225゜1095.1
Q60.780 cII−’比旋光度 〔α) v” ”  16.5 ’ (、C−0,79
89MeOH) 。
比旋光度 (α) r:、輸” 16.3 ” (C−0,589
1MeOH) 一実施例4 試 験 例 (癌細胞増殖阻害試験) HH (4R,6R,11aR)−4−シアノ−6−ヒトロキ
シメチルーフーメトキシー1.3,4゜6.11,1l
a−ヘキサヒト0−2H−ベンゾ(b)キノリジン5.
8■より実施例3に従い、(4R,6R,11aR)−
6−アセドキシメチルー4−シアノ−7−メドキシー1
.3,4,6゜1111a−ヘキサヒトtlll−2H
−ベンゾ(b)キノリジン5.9■(88%)を得た。
H−NMR,IR,及び門assスペクトルは実施例3
に一致した。
マウスリンパ性白血病細胞(P2S5)を10%仔牛脂
児血清含有のRPMI−1640培養液に加え、培養細
胞数を5X10’個/1mlに調整し、本発明の4−シ
フノー7−メトキシ−1゜3.4.6,11,1la−
ヘキサヒドロ−2H−ベンゾ(b)キノリジン誘導体(
1)を所定の濃度になるように添加し、37℃で2日間
培養した。コールタ−カウンターを用い、浮遊細胞数を
計数して、対照区に対する増殖阻害率から、50%細胞
増殖阻害濃度rCsaを求めた結果を第−票に示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼−( I ) で表される2H−ベンゾ〔b〕キノリジン誘導体および
    その対掌体(式中、Rは水素原子又は炭素数1から5の
    直鎖状もしくは分枝状低級アシル基である)。
JP25999489A 1989-10-06 1989-10-06 2H―ベンゾ[b]キノリジン誘導体 Pending JPH03123780A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007301345A (ja) * 2006-05-10 2007-11-22 Jin-Gu Joung 防塵マスク
US7745058B2 (en) 2006-02-02 2010-06-29 Sony Corporation Non-aqueous solvent, non-aqueous electrolyte compositions, and non-aqueous electrolyte secondary battery
JP2010521993A (ja) * 2006-12-05 2010-07-01 タルモン,エミリオ 鼻腔内用エアフィルター

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