JPS62222489A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
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- JPS62222489A JPS62222489A JP61064605A JP6460586A JPS62222489A JP S62222489 A JPS62222489 A JP S62222489A JP 61064605 A JP61064605 A JP 61064605A JP 6460586 A JP6460586 A JP 6460586A JP S62222489 A JPS62222489 A JP S62222489A
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- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 abstract description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 2
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
コラムトランスファーゲートのトランジスタに低しきい
値のトランジスタを用いると共に、書込み回路の駆動レ
ベルをクランプする回路を設け、半導体記憶装置の高速
動作を可能とする。
値のトランジスタを用いると共に、書込み回路の駆動レ
ベルをクランプする回路を設け、半導体記憶装置の高速
動作を可能とする。
本発明は半導体記憶装置に係り、特に、コラムトランス
ファーゲートに低しきい値のトランジスタを用いたスタ
ティック型半導体記憶装置に関する。
ファーゲートに低しきい値のトランジスタを用いたスタ
ティック型半導体記憶装置に関する。
第4図は従来のスタティックRAMの特定のビット線に
沿った回路を書込み方向に部分的に示すものである。第
4図において、スタティック型のメモリセル1がビット
線BL、 BLバーに接続されており、セルロードのト
ランジスタT5.TOをVccliに備え、ビット線B
L、 BLバーの他端はコラムトランスファーゲートの
トランジスタT1.T2 (N−chM。
沿った回路を書込み方向に部分的に示すものである。第
4図において、スタティック型のメモリセル1がビット
線BL、 BLバーに接続されており、セルロードのト
ランジスタT5.TOをVccliに備え、ビット線B
L、 BLバーの他端はコラムトランスファーゲートの
トランジスタT1.T2 (N−chM。
Sトランジスタ)を介してデータバス(DB、 DBバ
ー)に接続している。また、データバスには書込み回路
(ライト・アンプ)2が備えられている。
ー)に接続している。また、データバスには書込み回路
(ライト・アンプ)2が備えられている。
書込み回路2は接地側に、それぞれのゲートに書込みデ
ータD、 Dバーが入力するトランジスタT3、T4
と、Vcc側に接続する負荷のトランジスタT7、T8
とを有している。なお、通常のようにデータバスにはセ
ンスアンプが備えられているがここでは図示していない
。
ータD、 Dバーが入力するトランジスタT3、T4
と、Vcc側に接続する負荷のトランジスタT7、T8
とを有している。なお、通常のようにデータバスにはセ
ンスアンプが備えられているがここでは図示していない
。
この回路の書込み動作は通常のようにワード選択信号に
より特定のワード線(図示せず)を立ち上げ、コラム選
択信号により特定のセル1が選択され、書込みデータD
、DバーのどちらかがH”になることにより、データバ
ス、ビット線が引かれて書込み可能なL”レベルとなり
、セル1に書込みが行なわれる。第5図にその動作波形
図を示している。
より特定のワード線(図示せず)を立ち上げ、コラム選
択信号により特定のセル1が選択され、書込みデータD
、DバーのどちらかがH”になることにより、データバ
ス、ビット線が引かれて書込み可能なL”レベルとなり
、セル1に書込みが行なわれる。第5図にその動作波形
図を示している。
この従来の半導体記憶装置において、コラム選択用のト
ランスファーゲートTl、T2は従来ノーマル・エンハ
ンス(Norma l S:hkanca ) ・ト
ランジスタが使用されていた。このノーマル・エンハン
ス・トランジスタをトランスファーゲートに使用する時
、そのしきい値が比較的高く、読出し時にビット線の情
報が速やかにデータバスに伝達されず高速化の点で不十
分であるという問題があった。
ランスファーゲートTl、T2は従来ノーマル・エンハ
ンス(Norma l S:hkanca ) ・ト
ランジスタが使用されていた。このノーマル・エンハン
ス・トランジスタをトランスファーゲートに使用する時
、そのしきい値が比較的高く、読出し時にビット線の情
報が速やかにデータバスに伝達されず高速化の点で不十
分であるという問題があった。
即ち、読出し時に、ビット線とデータバスのレベルはV
cc−GNDの中間レベルにあって、差電圧としては比
較的低いゲート・バイアスの印加されたトランスファー
ゲートを介して、電圧レベルの伝達がなされねばならず
、トランスファーゲートのコンダクタンスが不充分とな
って、ビット線の情報に追従してデータ伝達されていか
ない。BL、 BLバーの動きは緩慢であるから、その
追従が遅いことによってアクセスロス等が起る。
cc−GNDの中間レベルにあって、差電圧としては比
較的低いゲート・バイアスの印加されたトランスファー
ゲートを介して、電圧レベルの伝達がなされねばならず
、トランスファーゲートのコンダクタンスが不充分とな
って、ビット線の情報に追従してデータ伝達されていか
ない。BL、 BLバーの動きは緩慢であるから、その
追従が遅いことによってアクセスロス等が起る。
そこで、より高速化を実現するために、ビット線情報が
速やかにデータバスに伝達するように低しきい値(Vt
h)のライト・ドーズ(Right Dose)トラン
ジスタやノン・ドーズ(Non Dose ) ト
ランジスタを使用することが考えられた。
速やかにデータバスに伝達するように低しきい値(Vt
h)のライト・ドーズ(Right Dose)トラン
ジスタやノン・ドーズ(Non Dose ) ト
ランジスタを使用することが考えられた。
しかしながら、コラムトランスファーゲートのトランジ
スタに低しきい値でgm (相互コンダクタンス)大
のトランジスタを使用したとき、次のような問題がある
ことがわかった。
スタに低しきい値でgm (相互コンダクタンス)大
のトランジスタを使用したとき、次のような問題がある
ことがわかった。
■ 高速にセルに書込みを行なう目的で書込み回路の駆
動トランジスタのT3.T4のgm(相互コンダクタン
ス)を高くすると、ビット線の“L”レベルが必要以上
に下がって(第5図の点線参照)ライトリカバリタイム
を悪化させる。
動トランジスタのT3.T4のgm(相互コンダクタン
ス)を高くすると、ビット線の“L”レベルが必要以上
に下がって(第5図の点線参照)ライトリカバリタイム
を悪化させる。
■ ライトリカバリタイムを悪化させない目的で書込み
回路2のトランジスタT3.T4のgmをビット線の“
L”レベルが必要以上に下がらない値にすると、書込み
速度が遅くなる。
回路2のトランジスタT3.T4のgmをビット線の“
L”レベルが必要以上に下がらない値にすると、書込み
速度が遅くなる。
本発明は上記従来の問題点を解決するために、書込み回
路の駆動レベルをクランプする回路を設けることを主要
な特徴とするものである。
路の駆動レベルをクランプする回路を設けることを主要
な特徴とするものである。
本発明の構成によれば、低しきい値でgm大のコラムト
ランスファーゲートのトランジスタの採用により、読出
し時にビット線の情報を速やかにデータバスに伝達する
ことが可能になる。また一方、ライトリカバリタイムに
対しては、書込み回路のレベルクランプで必要レベルを
設定できるため、書込み回路の駆動トランジスタに高g
m)ランジスタを採用し高速の書込み動作を行なうこと
ができる。
ランスファーゲートのトランジスタの採用により、読出
し時にビット線の情報を速やかにデータバスに伝達する
ことが可能になる。また一方、ライトリカバリタイムに
対しては、書込み回路のレベルクランプで必要レベルを
設定できるため、書込み回路の駆動トランジスタに高g
m)ランジスタを採用し高速の書込み動作を行なうこと
ができる。
第1図(A)は本発明の実施例の半導体記憶装置を書込
み方向について示す要部回路図である。
み方向について示す要部回路図である。
また、第2図に実施例の半導体記憶装置の部分をより広
範囲に示す回路図を示している。第1図及び第2図にお
いて、先に示した第4図と同一部分について同一符号で
指示している。第1図(A)において、従来の第4図と
異なるのは書込み回路2の駆動トランジスタT3.T4
のソースに所要段の順バイアスのダイオードから成るク
ランプ回路3を設けている点である。また、コラム・ト
ランスファーゲートのトランジスタTI、T2には低し
きい値(vth >のライト・ドーズ(Right D
oseHシきい値コントロールのためのイオン打ち込み
)トランジスタまたはノン・ドーズ(Non Dos
e ) )ランジスタが使用されている。
範囲に示す回路図を示している。第1図及び第2図にお
いて、先に示した第4図と同一部分について同一符号で
指示している。第1図(A)において、従来の第4図と
異なるのは書込み回路2の駆動トランジスタT3.T4
のソースに所要段の順バイアスのダイオードから成るク
ランプ回路3を設けている点である。また、コラム・ト
ランスファーゲートのトランジスタTI、T2には低し
きい値(vth >のライト・ドーズ(Right D
oseHシきい値コントロールのためのイオン打ち込み
)トランジスタまたはノン・ドーズ(Non Dos
e ) )ランジスタが使用されている。
それにより、第3図の動作波形図のように、書込み回路
の駆動時に書込みレベルがクランプ回路3により、書込
みに必要なレベル(VR)に設定され、ビット線のL”
レベルの下がり過ぎが防止され、ライトリカバリタイム
の悪化なく高速の書込みができる。また、読出し時にコ
ラムトランスファーゲートの低しきい値且つgm大のト
ランジスタによりビット線の情報を高速にデータバスに
伝達でき高速の続出し動作が可能となる。
の駆動時に書込みレベルがクランプ回路3により、書込
みに必要なレベル(VR)に設定され、ビット線のL”
レベルの下がり過ぎが防止され、ライトリカバリタイム
の悪化なく高速の書込みができる。また、読出し時にコ
ラムトランスファーゲートの低しきい値且つgm大のト
ランジスタによりビット線の情報を高速にデータバスに
伝達でき高速の続出し動作が可能となる。
第1図(B)は本発明の実施例の他の例であり、クラン
プ回路3をダイオード接続のトランジスタの所要段(こ
の例では1段)を用いて実現したものである。その他は
第1図(A)と同様である。
プ回路3をダイオード接続のトランジスタの所要段(こ
の例では1段)を用いて実現したものである。その他は
第1図(A)と同様である。
以上のことから明らかなように、本発明によれば、ワー
ドトランスファーゲートに低しきい値掻マ゛ 1m大のトランジスタを使用することに伴う従来のライ
トリカバリタイムの悪化を、書込み回路(にクランプ回
路を設けることにより駆動レベルをクランプして書込み
に必要なレベルを設定できるようにし5、ビット線レベ
ルの下がり過ぎを防止し、ライトリカバリタイムを悪化
することなく高速の書込みを可能にした。そして読出し
時にコラムトランスファーゲートの低しきい値高gm)
ランジスタによりビット線情報を高速にデータバスに伝
達して高速の読出し動作を可能とした。
ドトランスファーゲートに低しきい値掻マ゛ 1m大のトランジスタを使用することに伴う従来のライ
トリカバリタイムの悪化を、書込み回路(にクランプ回
路を設けることにより駆動レベルをクランプして書込み
に必要なレベルを設定できるようにし5、ビット線レベ
ルの下がり過ぎを防止し、ライトリカバリタイムを悪化
することなく高速の書込みを可能にした。そして読出し
時にコラムトランスファーゲートの低しきい値高gm)
ランジスタによりビット線情報を高速にデータバスに伝
達して高速の読出し動作を可能とした。
第1図(A>、 (B)はそれぞれ本発明の実施例及
び他の実施例の回路要部を示す図、第2図は実施例のよ
り広範囲な部分を示す回路図、第3図は本発明の実施例
の動作波形図、第4図及び第5図は従来例の回路要部を
示す図及び動作波形図である。 1・・・ (メモリ)セル 2・−・書込み回路(ライト・アンプ)3・・・クラン
プ回路 TI、T2 ・・・コラムトランスファーゲートのトラ
ンジスタ T3 、T4・・・書込み回路の駆動トランジスタDB
・・・データバ″ス D・・・書込みデータ BL・ ・・ビット線 実施例の回路図 第 1 図 実施例の回路図 第2WA
び他の実施例の回路要部を示す図、第2図は実施例のよ
り広範囲な部分を示す回路図、第3図は本発明の実施例
の動作波形図、第4図及び第5図は従来例の回路要部を
示す図及び動作波形図である。 1・・・ (メモリ)セル 2・−・書込み回路(ライト・アンプ)3・・・クラン
プ回路 TI、T2 ・・・コラムトランスファーゲートのトラ
ンジスタ T3 、T4・・・書込み回路の駆動トランジスタDB
・・・データバ″ス D・・・書込みデータ BL・ ・・ビット線 実施例の回路図 第 1 図 実施例の回路図 第2WA
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 スタティック型半導体記憶装置において、 書込み回路にその駆動レベルをクランプする回路を設け
てなることを特徴とす半導体記憶装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6460586A JP2559028B2 (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | 半導体記憶装置 |
US07/022,291 US4829477A (en) | 1986-03-20 | 1987-03-05 | Semiconductor memory device |
KR1019870002245A KR940000147B1 (ko) | 1986-03-20 | 1987-03-13 | 개선된 기입회로를 갖는 반도체 기억장치 |
EP87104103A EP0239021B1 (en) | 1986-03-20 | 1987-03-20 | Semiconductor memory device |
DE8787104103T DE3780492T2 (de) | 1986-03-20 | 1987-03-20 | Halbleiterspeicheranordnung. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6460586A JP2559028B2 (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | 半導体記憶装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62222489A true JPS62222489A (ja) | 1987-09-30 |
JP2559028B2 JP2559028B2 (ja) | 1996-11-27 |
Family
ID=13263052
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6460586A Expired - Fee Related JP2559028B2 (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | 半導体記憶装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
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EP (1) | EP0239021B1 (ja) |
JP (1) | JP2559028B2 (ja) |
KR (1) | KR940000147B1 (ja) |
DE (1) | DE3780492T2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US4939693A (en) * | 1989-02-14 | 1990-07-03 | Texas Instruments Incorporated | BiCMOS static memory with improved performance stability |
US4985864A (en) * | 1989-06-23 | 1991-01-15 | Vlsi Technology, Inc. | Static random access memory having column decoded bit line bias |
JP2582439B2 (ja) * | 1989-07-11 | 1997-02-19 | 富士通株式会社 | 書き込み可能な半導体記憶装置 |
JPH03176890A (ja) * | 1989-12-04 | 1991-07-31 | Toshiba Corp | 複数ポート半導体メモリ |
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1986
- 1986-03-20 JP JP6460586A patent/JP2559028B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-03-05 US US07/022,291 patent/US4829477A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-13 KR KR1019870002245A patent/KR940000147B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1987-03-20 DE DE8787104103T patent/DE3780492T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-20 EP EP87104103A patent/EP0239021B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
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JPH02308498A (ja) * | 1989-05-16 | 1990-12-21 | Samsung Electron Co Ltd | 半導体メモリ装置のライトドライバ回路 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR940000147B1 (ko) | 1994-01-07 |
KR870009388A (ko) | 1987-10-26 |
DE3780492T2 (de) | 1993-03-11 |
EP0239021A2 (en) | 1987-09-30 |
EP0239021B1 (en) | 1992-07-22 |
US4829477A (en) | 1989-05-09 |
EP0239021A3 (en) | 1989-07-19 |
DE3780492D1 (de) | 1992-08-27 |
JP2559028B2 (ja) | 1996-11-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |