JPS62216367A - 圧接型半導体装置 - Google Patents
圧接型半導体装置Info
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- JPS62216367A JPS62216367A JP5832886A JP5832886A JPS62216367A JP S62216367 A JPS62216367 A JP S62216367A JP 5832886 A JP5832886 A JP 5832886A JP 5832886 A JP5832886 A JP 5832886A JP S62216367 A JPS62216367 A JP S62216367A
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Landscapes
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- Thyristors (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ゲートターンオフサイリスタ(以下GTOと
呼ぶ)、シリコン制御素子、ダイオードおよび1−ラン
ジスタ等の半導体素子と電極とを、加圧接触する半導体
装置に係り、特に半導体素子の圧縮応力の集中を低減し
、均一な応力分布を得るのに好適な圧接型半導体装置に
関するものである。
呼ぶ)、シリコン制御素子、ダイオードおよび1−ラン
ジスタ等の半導体素子と電極とを、加圧接触する半導体
装置に係り、特に半導体素子の圧縮応力の集中を低減し
、均一な応力分布を得るのに好適な圧接型半導体装置に
関するものである。
GTO、サイリスタ、ダイオード、1〜ランジスタ等の
半導体素子と電極とを加圧接触させる圧接型半導体装置
は、一般に電力用の半導体装置として知られている。
半導体素子と電極とを加圧接触させる圧接型半導体装置
は、一般に電力用の半導体装置として知られている。
この種の半導体装置は、特開昭60−4260号にて開
示されている。この従来の圧接型半導体装置をG T
Oを例として第3図を参照して説明する。
示されている。この従来の圧接型半導体装置をG T
Oを例として第3図を参照して説明する。
半導体素子1の両側に、該素子1の熱膨張係数に近い熱
膨張係数を有する温度補償板を接合する。
膨張係数を有する温度補償板を接合する。
半導体素子10カソード側の温度補償板は環状のゲート
電極2の外周に外側の環状温度補償板3、またゲート電
極2の内周には、中央部に開口孔4aが設けられた円板
状の内側補償板4が接合され、半導体素子1−のアノー
ド側には円板状の補償板5が接合されている。上記温度
補償板3,4゜50更に背面側には、熱及び電気伝導率
の高いポスト電極極7,8が接合され、このポスト電極
7゜8を矢印の方向に押圧し加圧圧接する構造になって
いる。また、上記ゲート電極2は絶縁体9で覆われ、板
バネ10を介し、半導体素子1側に抑圧され位置決めさ
れている。
電極2の外周に外側の環状温度補償板3、またゲート電
極2の内周には、中央部に開口孔4aが設けられた円板
状の内側補償板4が接合され、半導体素子1−のアノー
ド側には円板状の補償板5が接合されている。上記温度
補償板3,4゜50更に背面側には、熱及び電気伝導率
の高いポスト電極極7,8が接合され、このポスト電極
7゜8を矢印の方向に押圧し加圧圧接する構造になって
いる。また、上記ゲート電極2は絶縁体9で覆われ、板
バネ10を介し、半導体素子1側に抑圧され位置決めさ
れている。
上記第3図の構造のように、半導体素子1の両側に温度
補償板3,4と5を設けた理由は、半導体素子1とポス
ト電極7,8との熱膨張係数の違いにより、装置稼動時
と停止時等の温度変化によって半導体素子1−に大きな
せん断力が加わるのを防ぐためである。従って、温度補
償板3,4.5はタングステンあるいはモリブデン等の
半導体素子1と熱膨張係数の近い金属が用いられる。ま
た、従来から使用されているサイリスタ、ダイオード等
の電力用半導体素子のカン−1く電極は電気的に一体で
構成されているが、G T” 0や大電力トランジスタ
等の半導体素子]は第4図(a)、(b)に示すように
カソード電極11が多数の突起状に分割されているため
、圧接により半導体素子1に加わる応力が問題となる。
補償板3,4と5を設けた理由は、半導体素子1とポス
ト電極7,8との熱膨張係数の違いにより、装置稼動時
と停止時等の温度変化によって半導体素子1−に大きな
せん断力が加わるのを防ぐためである。従って、温度補
償板3,4.5はタングステンあるいはモリブデン等の
半導体素子1と熱膨張係数の近い金属が用いられる。ま
た、従来から使用されているサイリスタ、ダイオード等
の電力用半導体素子のカン−1く電極は電気的に一体で
構成されているが、G T” 0や大電力トランジスタ
等の半導体素子]は第4図(a)、(b)に示すように
カソード電極11が多数の突起状に分割されているため
、圧接により半導体素子1に加わる応力が問題となる。
特にGTOでは分割された各々のカソード電極11が独
立したGTOであり、これが並列動作するので、カソー
ド面全体に均一な圧接が要求される。ところがこの種の
圧接型半導体装置は、圧接時に半導体素子へ加わる応力
を有限要素法(FEM)等で計算すると、モデル化した
第6図(8)の構造と基本的に同じであるので、第6図
(b)のように温度補償板3,4の周端直下に面圧力(
圧縮応力)が集中する。そして場合によっては圧縮応力
の集中のため、半導体素子を破壊するまでになる。第5
図は上記半導体素子1の1つの独立したGTOを拡大し
たものであるが、温度補償板3および4の周辺近傍に圧
接された部分の電極+1aが潰された状態を呈すること
がある。
立したGTOであり、これが並列動作するので、カソー
ド面全体に均一な圧接が要求される。ところがこの種の
圧接型半導体装置は、圧接時に半導体素子へ加わる応力
を有限要素法(FEM)等で計算すると、モデル化した
第6図(8)の構造と基本的に同じであるので、第6図
(b)のように温度補償板3,4の周端直下に面圧力(
圧縮応力)が集中する。そして場合によっては圧縮応力
の集中のため、半導体素子を破壊するまでになる。第5
図は上記半導体素子1の1つの独立したGTOを拡大し
たものであるが、温度補償板3および4の周辺近傍に圧
接された部分の電極+1aが潰された状態を呈すること
がある。
このように、特開昭60−4260号公報に記載されて
いる半導体装置の構造は強度信頼性の点については配慮
されていなかった。
いる半導体装置の構造は強度信頼性の点については配慮
されていなかった。
」1記従来技術は前述のように強度信頼性の点について
配慮がされておらず、機械的強度の面で問題があった。
配慮がされておらず、機械的強度の面で問題があった。
4一
本発明の目的は、ポスト電極の圧接周端縁直下に位置す
る分割電極への部分的な圧縮応力の集中を緩和し、さら
に、ゲート電極や温度補償板を精度良く位置決めして、
強度信頼性を向−1ニさせる圧接型半導体装置を提供す
ることにある。
る分割電極への部分的な圧縮応力の集中を緩和し、さら
に、ゲート電極や温度補償板を精度良く位置決めして、
強度信頼性を向−1ニさせる圧接型半導体装置を提供す
ることにある。
上記目的は、半導体素子を圧接する温度補償板の内外周
寸法を、圧接されるポスト電極より、内。
寸法を、圧接されるポスト電極より、内。
外径側とも周縁部より適宜中だけ大きく突出させること
により達成される。
により達成される。
また、本発明の実施例によれば、温度補償板の厚みをt
とすると、突出寸法Q =0.5t −1,1tが望ま
しい。
とすると、突出寸法Q =0.5t −1,1tが望ま
しい。
圧接型半導体装置の加圧時に温度補償板にはボス1〜電
極に接していない突出部分が形成されており、この突出
部分を含む温度補償板で半導体素子を加圧するようにし
たので、ポスト電極に接合されていない突出部分が弾性
変形して荷重分担する。
極に接していない突出部分が形成されており、この突出
部分を含む温度補償板で半導体素子を加圧するようにし
たので、ポスト電極に接合されていない突出部分が弾性
変形して荷重分担する。
それによって、温度補償金属板の周縁直下位置の電極へ
の応力集中は緩和されて、局部に大きな応力が生じるこ
とがない。
の応力集中は緩和されて、局部に大きな応力が生じるこ
とがない。
以下本発明の一実施例を第1図、第2図にもとずき説明
する。第1図は組付完了した圧接型半導体装置の断面図
、第2図は組付構造を示す断面図である。
する。第1図は組付完了した圧接型半導体装置の断面図
、第2図は組付構造を示す断面図である。
円板状の半導体素子21は、−1−面にカソード側の温
度補償板22、環状のゲート電極27、温度補償板23
を配設し、下面にアノード側の温度補償板24を配設し
、更にその背面側に夫々ポスト電極25.26を配置し
ている。−1−起生導体素子21の一面(図示では−1
−面)のカソード側に接合される環状の温度補償板22
は厚さtを有し、その内側に環状のゲート電極27が配
設され、更に、このゲート電極27の内側に、中心部に
開口穴23aを穿ち、厚さtを有する円板状の温度補償
板23が配置されている。また、上記ゲート電極27の
外壁部は絶縁性スペーサ28で覆われている。」二部温
度補償板22.23、ゲート電極27の外側に接合され
るカソード側ポスト電極25は、」二部ゲート電極27
が挿入される環状溝25a及び中央に凹部25bが形成
されている。」二部ゲート電極27は」二部溝25a内
に配設され、バネ等の弾性部材29を介在して半導体素
子21に押圧されている。
度補償板22、環状のゲート電極27、温度補償板23
を配設し、下面にアノード側の温度補償板24を配設し
、更にその背面側に夫々ポスト電極25.26を配置し
ている。−1−起生導体素子21の一面(図示では−1
−面)のカソード側に接合される環状の温度補償板22
は厚さtを有し、その内側に環状のゲート電極27が配
設され、更に、このゲート電極27の内側に、中心部に
開口穴23aを穿ち、厚さtを有する円板状の温度補償
板23が配置されている。また、上記ゲート電極27の
外壁部は絶縁性スペーサ28で覆われている。」二部温
度補償板22.23、ゲート電極27の外側に接合され
るカソード側ポスト電極25は、」二部ゲート電極27
が挿入される環状溝25a及び中央に凹部25bが形成
されている。」二部ゲート電極27は」二部溝25a内
に配設され、バネ等の弾性部材29を介在して半導体素
子21に押圧されている。
半導体素子21の他の面(図示では下面)のアノード側
には、素子21と同径の円板状の温度補償板24が接合
され、更にその外側には温度補償板24よりやや小径の
円板状のポスト電極26が接合されている。」二部半導
体素子21.アノード側温度補償板24は、環状の外壁
部材35の内壁に配設された位置決めリング30に嵌入
され、樹脂等の充填材31にて接着され、位置決め固定
される。また、」二部カソード側ポスト電極25の外周
には」二部フランジ32、その裏側には裏フランジ33
を突設し、このフランジを」二部外壁部材35の端面に
ポスト電pA25を素子21側に押圧状に固着され、該
電極25及び温度補償板22.23は素子21に加圧圧
接されている。
には、素子21と同径の円板状の温度補償板24が接合
され、更にその外側には温度補償板24よりやや小径の
円板状のポスト電極26が接合されている。」二部半導
体素子21.アノード側温度補償板24は、環状の外壁
部材35の内壁に配設された位置決めリング30に嵌入
され、樹脂等の充填材31にて接着され、位置決め固定
される。また、」二部カソード側ポスト電極25の外周
には」二部フランジ32、その裏側には裏フランジ33
を突設し、このフランジを」二部外壁部材35の端面に
ポスト電pA25を素子21側に押圧状に固着され、該
電極25及び温度補償板22.23は素子21に加圧圧
接されている。
また、アノード側ポスト電極26も外周に下部フランジ
34髪突設し、このフランジ34を上記外壁部材35の
他方の端面にポスト電極26を素子21側に押圧状に固
着し、上記ポスト電極26及び温度補償板24は半導体
素子21に加圧圧接される。更に、ゲート電極27も弾
性部材29を介在して半導体素子21に加圧圧接される
。
34髪突設し、このフランジ34を上記外壁部材35の
他方の端面にポスト電極26を素子21側に押圧状に固
着し、上記ポスト電極26及び温度補償板24は半導体
素子21に加圧圧接される。更に、ゲート電極27も弾
性部材29を介在して半導体素子21に加圧圧接される
。
しかして、上記カソード側の温度補償板22.23は、
その内外径は、上面に圧接されるポスト電極25の外径
、環状溝25a、凹部25bの内外径の周縁より、適宜
寸法突出されている。即ち、温度補償板22の外径は、
ポスト電極25の外径より0寸法だけ大径に、内径は、
環状溝25aの外径より0寸法だけ小径に、また温度補
償板23の外径はポスト電極25の環状溝25aの内径
より0寸法だけ大径に、開口穴23aの径(内径)は、
凹所25bの径(内径)より0寸法だけ小径に形成され
る。−に記各Q寸法はfl=0.5t〜1.1tである
。このように寸法を定めると、ポスト電極25の加圧圧
接時及び装置稼動時に半導体素子21の、」二部ポスト
電極の周縁部の対向位置に圧縮応力が集中することなく
応力集中は緩和される。即ち、温度補償板22.23は
ポスト電極25に接していない0寸法の突出部を含む全
面積で半導体素子21を加圧するようになり、ポスト電
極25に接していない0寸法の部分が弾性変形して荷重
分担する。
その内外径は、上面に圧接されるポスト電極25の外径
、環状溝25a、凹部25bの内外径の周縁より、適宜
寸法突出されている。即ち、温度補償板22の外径は、
ポスト電極25の外径より0寸法だけ大径に、内径は、
環状溝25aの外径より0寸法だけ小径に、また温度補
償板23の外径はポスト電極25の環状溝25aの内径
より0寸法だけ大径に、開口穴23aの径(内径)は、
凹所25bの径(内径)より0寸法だけ小径に形成され
る。−に記各Q寸法はfl=0.5t〜1.1tである
。このように寸法を定めると、ポスト電極25の加圧圧
接時及び装置稼動時に半導体素子21の、」二部ポスト
電極の周縁部の対向位置に圧縮応力が集中することなく
応力集中は緩和される。即ち、温度補償板22.23は
ポスト電極25に接していない0寸法の突出部を含む全
面積で半導体素子21を加圧するようになり、ポスト電
極25に接していない0寸法の部分が弾性変形して荷重
分担する。
この作用をモデル化した第7図について有限要素法(F
EM)により計算すると第7図のように応力集中がほと
んど集中しないほぼ平坦な圧縮応力分布を得ることがで
きる。
EM)により計算すると第7図のように応力集中がほと
んど集中しないほぼ平坦な圧縮応力分布を得ることがで
きる。
いわゆる、温度補償板22.23の半径方向の突出寸法
Qは厚みtと深い関係があり、既に、Q=0.5t〜1
.1tとすれば良いことを説明した。次にその根拠を説
明する。
Qは厚みtと深い関係があり、既に、Q=0.5t〜1
.1tとすれば良いことを説明した。次にその根拠を説
明する。
先ず、第7図の形状を便宜上、第8図のようにおきかえ
る。第7図の場合と同様に第8図でも温度補償板22.
23をポスト電極25で上面よりqなる力で圧接すると
、 22.23と43の圧接面u−vラインの面圧力分
布は第8図のようになり、右側の■近傍に比較的大きな
面圧力が作用する。その応力分布について、端部■から
aだけ内に入ったところまでの平均面圧力がQであり、
aを小さい寸法にとれば、第7図及び第8図の厚みtの
温度補償板22.23の突出部Qのm−n面(半導体素
子の圧接面でもある)に作用する面圧分布は第9図の計
算モデルより求められる。
る。第7図の場合と同様に第8図でも温度補償板22.
23をポスト電極25で上面よりqなる力で圧接すると
、 22.23と43の圧接面u−vラインの面圧力分
布は第8図のようになり、右側の■近傍に比較的大きな
面圧力が作用する。その応力分布について、端部■から
aだけ内に入ったところまでの平均面圧力がQであり、
aを小さい寸法にとれば、第7図及び第8図の厚みtの
温度補償板22.23の突出部Qのm−n面(半導体素
子の圧接面でもある)に作用する面圧分布は第9図の計
算モデルより求められる。
第9図のm−n面に作用する圧縮応力分布の算出方法の
一例として、S 、 P 、 T imoshemko
and J 。
一例として、S 、 P 、 T imoshemko
and J 。
N、 Goodjer共著のTheory of El
astjcity (チモシェンコとグツドイヤー両氏
による弾性学)なる則界及び国内で一般的となっている
参考書に記載されているものがある。いわゆる、第9図
のm−n面に作用する圧縮応力σ2は次の(1)式より
求まる。
astjcity (チモシェンコとグツドイヤー両氏
による弾性学)なる則界及び国内で一般的となっている
参考書に記載されているものがある。いわゆる、第9図
のm−n面に作用する圧縮応力σ2は次の(1)式より
求まる。
・・・・・・・・・(1)
一例として、Q=80M Pa、 a =0.0]m
m、 Q =0.8mm、 t = 1mm、すなわ
ち、↓=0.8の場合で、i=1〜50まで計算したと
き(i=30程度で充分に収束している)と計算結果を
第10図に示す。
m、 Q =0.8mm、 t = 1mm、すなわ
ち、↓=0.8の場合で、i=1〜50まで計算したと
き(i=30程度で充分に収束している)と計算結果を
第10図に示す。
最大応力はX=Oの位置に生じ、その値σz1で端面の
Q =0.8mm位置の応力σ2.を除すと0.45と
最大応力σ2.と端面の応力σ2゜の比の関係を求め、
結果を第11図に示す。
Q =0.8mm位置の応力σ2.を除すと0.45と
最大応力σ2.と端面の応力σ2゜の比の関係を求め、
結果を第11図に示す。
すなわち、突出部端面の圧縮応力σ2.が、最大応力σ
2.より10%以上小さくなれば、温度補償板で圧接さ
れる半導体素子の強度は充分保障される対応する横軸を
調べると、−’−=0.5であり、半径を 方向の突出寸法Qは厚みの0.5倍以」二であれば良い
。
2.より10%以上小さくなれば、温度補償板で圧接さ
れる半導体素子の強度は充分保障される対応する横軸を
調べると、−’−=0.5であり、半径を 方向の突出寸法Qは厚みの0.5倍以」二であれば良い
。
ところで、第11図によると、0寸法が大になるに従い
、なだらかに圧縮応力は小となっていき、fi=1.3
5tのところで効果が零となる。このこと〜0.1が強
度向」二の適正範囲と考えられ、このときの突出寸法f
l=0.5t〜1.1tと定められる。
、なだらかに圧縮応力は小となっていき、fi=1.3
5tのところで効果が零となる。このこと〜0.1が強
度向」二の適正範囲と考えられ、このときの突出寸法f
l=0.5t〜1.1tと定められる。
この結果、第1図と第2図に示した本発明による圧接型
半導体装置の半導体素子21の圧縮応力分布は第12図
のようにほぼ平坦となる。また半導体素子21と温度補
償板22.23の接触面積が増大し、さらに、圧縮応力
分布がほぼ均一となることより、機械的強度信頼性の向
上と、電気的、熱的特性の向」二も図れるのである。実
施例ではGTOについて説明したが、これらの効果はサ
イリスタ、ダイオード、トランジスタ等に応用できるこ
とは当然である。
半導体装置の半導体素子21の圧縮応力分布は第12図
のようにほぼ平坦となる。また半導体素子21と温度補
償板22.23の接触面積が増大し、さらに、圧縮応力
分布がほぼ均一となることより、機械的強度信頼性の向
上と、電気的、熱的特性の向」二も図れるのである。実
施例ではGTOについて説明したが、これらの効果はサ
イリスタ、ダイオード、トランジスタ等に応用できるこ
とは当然である。
以」二説明したように本発明によれば、温度補償板を介
してポスト電極により圧接される半導体素子の部分的な
応力集中を効果的に防ぎ、圧接型半導体装置の電気的、
熱的特性を向上させ、さらに機械的強度を増大させるこ
とができ、信頼性の向上をはかることが出来る。
してポスト電極により圧接される半導体素子の部分的な
応力集中を効果的に防ぎ、圧接型半導体装置の電気的、
熱的特性を向上させ、さらに機械的強度を増大させるこ
とができ、信頼性の向上をはかることが出来る。
第1図は本発明の一実施例を示すGTOサイリスタを示
す横断面図、第2図はその組付状態を示す横断面図、第
3図は圧接面に溝のある従来の半導体装置、第4図はG
TOサイリスタのカソード側の突起を示し、(a)図は
平面図、(b)図は断面図、第5図は突起のつぶれ変形
状況図で、(a)図は平面図、(b)図は断面図、第6
図は従来の圧接型半導体装置をモデル化した形状図を示
す。第7図は本発明の半導体装置のモデル図、第8図、
第9図は圧接端部近傍の応力算出用のモデル図、第10
図は圧接部の突出寸法と圧縮応力の関係図、第11図は
寸法比と応力比の関係図、第12図は本発明半導体装置
の圧縮応力分布図である。 21・・・半導体素子、22.23・・・カソード側の
温度補償板、24・・・アノード側の温度補償板、25
・・カソードポスト電極、27・・・ゲート電極、28
・・・絶縁性スペーサ、29・・・板ばね、30・・・
位置決めリング。
す横断面図、第2図はその組付状態を示す横断面図、第
3図は圧接面に溝のある従来の半導体装置、第4図はG
TOサイリスタのカソード側の突起を示し、(a)図は
平面図、(b)図は断面図、第5図は突起のつぶれ変形
状況図で、(a)図は平面図、(b)図は断面図、第6
図は従来の圧接型半導体装置をモデル化した形状図を示
す。第7図は本発明の半導体装置のモデル図、第8図、
第9図は圧接端部近傍の応力算出用のモデル図、第10
図は圧接部の突出寸法と圧縮応力の関係図、第11図は
寸法比と応力比の関係図、第12図は本発明半導体装置
の圧縮応力分布図である。 21・・・半導体素子、22.23・・・カソード側の
温度補償板、24・・・アノード側の温度補償板、25
・・カソードポスト電極、27・・・ゲート電極、28
・・・絶縁性スペーサ、29・・・板ばね、30・・・
位置決めリング。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、少なくとも一対のP層とN層を有する半導体素子と
、この半導体素子のカソード側に、所定の厚さと半導体
素子の熱膨張係数に近い熱膨張係数を有する環状板状の
外側温度補償板と、上記外側温度補償板と同一厚さ及び
同一熱膨張係数で中心部に開口穴を設けた内側温度補償
板とを、上記外側温度補償板の内側に適宜間隔を有して
内側温度補償板を配置して接合し、両温度補償板の背面
に円板状のポスト電極を接合状に配設し、このポスト電
極は、温度補償板との接触面中央部に凹所を、外周部の
内外温度補償板の間隔部に対向する位置に環状溝を形成
し、上記間隔部及び環状溝に環状のゲート電極と、この
電極を半導体素子側に押圧付勢する弾性部材を配設し、
一方、半導体素子のアノード側に、上記温度補償板と同
じ熱膨張係数を有するアノード側温度補償板を接合状に
配設し、上記各温度補償板、両ポスト電極及び環状のゲ
ート電極を同心状に配置した状態で、両ポスト電極に加
圧力を与えて半導体素子とポスト電極とを温度補償板を
介在して圧接してなる圧接型半導体装置において、カソ
ード側の外側温度補償板の外周縁、内周縁及び内側温度
補償板の外周縁、中心部の開口穴周縁を圧接される、ポ
スト電極の外周、環状溝及び凹部の周縁より適宜寸法突
出状に大きく形成することを特徴とする圧接型半導体装
置。 2、カソード側の内外側温度補償板の厚さがtで、突出
寸法l=0.5t〜1.1tである特許請求の範囲第1
項記載の圧接型半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61058328A JPH0691117B2 (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 圧接型半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61058328A JPH0691117B2 (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 圧接型半導体装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7281866A Division JP2604997B2 (ja) | 1995-10-30 | 1995-10-30 | 圧接型半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62216367A true JPS62216367A (ja) | 1987-09-22 |
JPH0691117B2 JPH0691117B2 (ja) | 1994-11-14 |
Family
ID=13081229
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61058328A Expired - Lifetime JPH0691117B2 (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 圧接型半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0691117B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04352457A (ja) * | 1991-05-30 | 1992-12-07 | Mitsubishi Electric Corp | 圧接型半導体装置及びその製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5978539A (ja) * | 1982-10-27 | 1984-05-07 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
-
1986
- 1986-03-18 JP JP61058328A patent/JPH0691117B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5978539A (ja) * | 1982-10-27 | 1984-05-07 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04352457A (ja) * | 1991-05-30 | 1992-12-07 | Mitsubishi Electric Corp | 圧接型半導体装置及びその製造方法 |
US5278434A (en) * | 1991-05-30 | 1994-01-11 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Pressure engagement structure for a full press-pack type semiconductor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0691117B2 (ja) | 1994-11-14 |
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