JPS62192390A

JPS62192390A - １，２−ジクロロ−１，２，２−トリメチル−１−フエニルジシランの製造法

Info

Publication number: JPS62192390A
Application number: JP3280986A
Authority: JP
Inventors: Yoichiro Nagai; 永井　洋一郎; Hamao Watanabe; 渡辺　濱夫; Yoshinori Akutsu; 阿久津　義徳
Original assignee: YUKI GOSEI YAKUHIN KOGYO KK
Current assignee: YUKI GOSEI YAKUHIN KOGYO KK
Priority date: 1986-02-19
Filing date: 1986-02-19
Publication date: 1987-08-22
Anticipated expiration: 2009-04-27
Also published as: JPH0631270B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、式（Ｉ［Ｉ）ＣＱ　　Ｍｅ２　Ｓｉ　Ｓｉ　Ｍｅ　ＣＱ、　　　　（
ｍ）（式中、Ｍｅはメチル基を表わす）で示される１、１．２−トリクロロ−１，２，２−トリ
メチルジシラン（以下、ジシラン（ＩＩＩ）と称する）
と一般式（ＴＶ）Ｐｈ　　ＭｇＸ　　　　　　　　　　　　　（ＩＶ）（
式中、Ｐｈはフェニル基を、又はハロゲン原子を表わす
）で示されるフェニルマグネシウムハライド（以下、マグ
ネシウム試剤と称する）とをコバルト触媒の存在下に反
応させることからなる式（ＩＩ）ＣＱ　　Ｍｇ２Ｓｉ　
Ｓｉ　Ｍｅ　Ｐｈ　ＣＱ　　（ＩＩ）（式中、ｐｈおよ
びＭｅは前記と同一の意味を表わす）で示される１、２−ジクロロ−１，２，２−トリメチル
−１−フェニルジシラン（以下、ジシラン（ＩＩ）と称
する）の製造法に関する発明である。

本発明のジシラン（Ｉｌ）は、電気伝導体、フォトレジ
スト、光情報記憶材料等としての機能を有するポリシラ
ンの中間体として有用な化合物である。

（従来技術）従来、ジシラン（Ｉ［Ｉ）の如き１，１．２−トリクロ
ロジシラン骨格構造へのアリール基の選択的な導入手段
は開示されておらず、ジシラン〔ｌｌｌ〕の１−位のク
ロロ基１個のみに選択的にフェニル基を導入したジシラ
ン（ｎ）も文献未載の化合物である。

（発明が解決すべき問題点）ジシラン（ＩＩ［］とマグネシウム試剤との反応でジシ
ラン〔■〕を製造する際、この反応を無触媒で行うと、
目的とする１、２−ジクロロジシラン型であるジシラン
（Ｉｌ）のほかに、１，１−ジクロロジシラン型である
式ＣＩ］Ｐｈ　　Ｍｅ２　Ｓｉ　　Ｓｉ　　Ｍｅ　　ＣＯ２（Ｉ
）（式中、ｐｈおよびＭｅは前記と同一の意味を表わす
）で示される１、１−ジクロロ−１，２，２−トリメチル
−２−フェニルジシラン（以下、ジシラン（Ｉ）と称す
る）がほぼ１：１の割合で生成し、ジシラン［１）また
はジシラン（Ｉｌ）のみを選択的に得られない欠点を有
している。

（問題を解決するための手段）本発明者らはジシラン（ｍ）とマグネシウム試剤との反
応において、ジシラン（ＩＩ）のみを選択的に製造する
方法について検討した結果、この反応をコバルト触媒の
存在下に行うことにより、ジシラン（ＩＴ）のみを選択
的に得る本発明を完成したものである。

本発明の製造法を化学反応式で示すと下記のようになる
。

（以下余白）（ＩＩＩ）　　　　　　　　　　　　　　　（Ｉｆ）本
発明で用いるコバルト触媒として塩化コバルト（ＣｏＣ
Ｑ　２）が代表的なものであるが、これに限定されるも
のではない。本発明の原料であるジシラン（ｍ）は、塩
化メチルと金属ケイ素とからジクロロジメチルシランを
合成する際に副生するジシラン留分より得られる。また
、マグネシウム試剤としてはフェニルマグネシウムブロ
マイドやフェニルマグネシウムクロライドのようなフェ
ニルマグネシウムハライドが用いられる。

本発明は、ジシラン〔■〕１当量とマグネシウム試剤１
当量とを０．０１〜０．１当量のコバルト触媒の存在下
に、非プロトン性溶媒、たとえばｎ−ヘキサン、テトラ
ヒドロフラン、エチルエーテル、トルエン、ベンゼンな
どの溶媒中で反応させる。反応温度は０〜５０℃が好適
であり、通常は１〜１２時間で反応は完結するが、これ
らの反応条件に限定されない。反応終了後、常法の精製
法により精製し、ジシラン（ｍ）に対して８０％以上の
収率で高純度のジシラン［１１）が得られる。

（効　　果）本発明は、ジシラン（ｍ）とマグネシウム試剤との反応
の触媒としてコバルト触媒を見出したものであり、コバ
ルト触媒の存在下に反応を行うことにより、１，２−ジ
クロロジシラン型であるジシラン（ｎ）を選択的に、か
つ好収率で得るものである。また、原料であるジシラン
（ｍ）は、塩化メチルと金属ケイ素とからジクロロジメ
チルシランを合成する際に１０〜２０％程度副生するジ
シラン留分より得られるが、現在このジシラン留分は未
利用のまま貯蔵または廃棄されており、本発明はかかる
未利用資源の有効利用をはかるものである。

（実施例）以下、実施例および比較例により説明する。

比較例冷却管、滴下ロート、温度計および攪拌機を備えたＩＱ
四つロフラスコに、１．Ｌ２−トリクロロ−１，２，２
−トリメチルジシラン１０３．８ｇ　（０，５モル）お
よびエチルエーテル２００ｇを仕込み、攪拌しながらフ
ェニルマグネシウムブロマイド９０．５ｇ（０，５モル
）のエチルエーテル溶液を、反応温度を２５〜３０℃に
保ちながら３時間を要して滴下した。滴下終了後、２５
〜３０℃で２時間攪拌を続け、反応を完結させた。次い
で反応物を同定するために、副生じたマグネシウム塩を
戸別して得た生成物の少量を水素化アルミニウムリチウ
ムで還元し、還元生成物のＪ（−ＮＭＲスペクトル（ｃ
　、、’ｏ　ｓ　）を測定した結果、下記のようにａ、
ｂの水素が確認でき、その強度比は１：１であった。

ａ　　：　３．２−３．５　ｐｐｍ　　（ｑ）ｂ　　：
　３．６−４．４　ｐｐｍ　　（ｍ）従って、本反応の
生成物はＩ、１−ジクロロ−１，、２、２−トリメチル
−２−フェニルジシランと１，２−ジクロロ−１，２，
２−トリメチル−１−フェニルジシランとの１：１の混
合物である。

実施例比較例と同じ装置に、１，１．２−トリクロロ−１，２
゜２−トリメチルジシラン１０３．８ｇ（０，５モル）
、塩化コバルト６．５ｇ（０，０５モル）およびエチル
エーテル２００ｇを仕込み、攪拌しながらフェニルマグ
ネシウムブロマイド９０．５ｇ（０，５モル）のエチル
エーテル溶液を、反応温度を２５〜３０℃に保ちながら
３時間を要して滴下した。滴下終了後２５〜３０℃で２
時間攪拌を続は反応を完結させた。副生じたマグネシウ
ム液を戸別して得た生成物を、比較例と同様にして’Ｈ
−ＮＭＲスペクトル（ｃｓｏｓ）を測定した結果、１，
２−ジクロロ−１，２，２−トリメチル−１−フェニル
ジシランが良好な選択性で得られることを確認した。次
いで常法により精製し、１，２−ジクロロ−１，２，２
−トリメチル−１−フェニルジシラン１０３．５ｇを得
た。収率８３％。

沸点　：１２９〜１３１℃７２０ｍｍＨｇマススペクト
ル：　　２４９（ｍ＋１）プロトンＮＭＲスペクトル（
ＣＣＬ）：ａ　：　７．１〜７．６　ｐｐｍ　（ｍ　、
　５　Ｈ）ｂ　：　０．４５　　　ｐｐ＋ａ　（ｓ　、
　６　Ｈ）ｃ　：　０．６５　　　ｐｐｍ　（ｓ　、　
３　Ｈ）赤外吸収スペクトル（ＮａＣＱ　）　：　（Ｃ
ｍ−１）３１８０、２９７５．１４８５．１４３０゜１
４００、１２５５．１１１５゜手続補正書昭和６１年７月９日３、補正をする者事件との関係　特許出願人東京都中央区京橋二丁目１７番４号有機合成薬品工業株式会社代表者玉重雅雄４、代理人明細書の「発明の詳細な説明」の欄６、補正の内容

Claims

【特許請求の範囲】１、式〔III〕Ｃｌ　Ｍｅ＿２　Ｓｉ　Ｓｉ　Ｍｅ　Ｃｌ＿２〔III〕
（式中、Ｍｅはメチル基を表わす）で示される１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリ
メチルジシランと一般式〔IV〕Ｐｈ　ＭｇＸ〔IV〕（式中、Ｐｈはフェニル基を、Ｘはハロゲン原子を表わす）で示されるフェニルマグネシウムハライドとをコバルト
触媒の存在下に反応させることを特徴とする式〔II〕Ｃｌ　Ｍｅ＿２　Ｓｉ　Ｓｉ　Ｍｅ　Ｐｈ　Ｃｌ〔II〕
（式中、ＰｈおよびＭｅは前記と同一の意味を表わす）で示される１，２−ジクロロ−１，２，２−トリメチル
−１−フェニルジシランの製造法。２、コバルト触媒が塩化コバルトである特許請求の範囲
第１項記載の１，２−ジクロロ−１，２，２−トリメチ
ル−１−フェニルジシランの製造法。