JPH04173756A - ４―ｔｅｒｔ―ブトキシ―４′―フルオロビフェニルおよびその製造法 - Google Patents
４―ｔｅｒｔ―ブトキシ―４′―フルオロビフェニルおよびその製造法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
発明の目的
（産業上の利用分野）
本発明は、液晶物質、医薬合成中間体として有用な４−
フルオロ−４′−ヒドロキシビフェニルの合成前駆体と
なる新規な４− ｔｅｒ＊−プトキ。
フルオロ−４′−ヒドロキシビフェニルの合成前駆体と
なる新規な４− ｔｅｒ＊−プトキ。
シー４′−フルオロビフェニルおよびその製造法に関す
る。
る。
（従来の技術）
本発明の化合物を脱ｔａｒｔ−ブチル化して得られる４
−フルオロ−４′−ヒドロキシビフェニルは、これまで
以下に示す数段階の反応によって合成されている。
−フルオロ−４′−ヒドロキシビフェニルは、これまで
以下に示す数段階の反応によって合成されている。
■ ４−フルオロ−４１−二トロビフェニルを還元して
４−アミノ−４′−フルオロビフェニルとし、ざらにジ
アゾ化反応を経由して合成する方法〔ドイツ公開特詐第
２，０６２，９５６号（１９６９）） ’ ■ ４−ベンジルオキシ−ビフェニルをフルオロスルホ
ン化、フッ素化を経て、最後に脱ベンジル化する方法〔
米国特許第３．６２２．６１９号（１９７１）） ■ ４−アミノ−４′−メトキシビフェニルを経由して
、フッ素化、脱メトキシ化する方法（特開昭５７−６４
６３１号公報） （発明が解決しようとする課題） 従来の４−フルオロ−４′−ヒドロキシビフェニルの合
成法は、上に述べたような煩雑な単位において難点が多
い。
４−アミノ−４′−フルオロビフェニルとし、ざらにジ
アゾ化反応を経由して合成する方法〔ドイツ公開特詐第
２，０６２，９５６号（１９６９）） ’ ■ ４−ベンジルオキシ−ビフェニルをフルオロスルホ
ン化、フッ素化を経て、最後に脱ベンジル化する方法〔
米国特許第３．６２２．６１９号（１９７１）） ■ ４−アミノ−４′−メトキシビフェニルを経由して
、フッ素化、脱メトキシ化する方法（特開昭５７−６４
６３１号公報） （発明が解決しようとする課題） 従来の４−フルオロ−４′−ヒドロキシビフェニルの合
成法は、上に述べたような煩雑な単位において難点が多
い。
本発明は、これらの従来の方法の代り、４−フルオロ−
４′−ヒドロキシ１ビフエニルの工業的に有利な合成手
段を提供することにある。
４′−ヒドロキシ１ビフエニルの工業的に有利な合成手
段を提供することにある。
（課題を解決するための手段）
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意検討を
続けた。その結果、目的とする４−フルオロ−４′−ヒ
ドロキシビフェニルを工業的に合成する上で、前駆体と
して新規化合物である、４− ｔａｒｔ−ブトキシ−４
′−フルオロビフェニルを使用して反応させることが極
めて有効であることを見出した。
続けた。その結果、目的とする４−フルオロ−４′−ヒ
ドロキシビフェニルを工業的に合成する上で、前駆体と
して新規化合物である、４− ｔａｒｔ−ブトキシ−４
′−フルオロビフェニルを使用して反応させることが極
めて有効であることを見出した。
すなわち、前駆体である４ −Ｌｅｒｔ−ブトキシ−４
′−フルオロビフェニルは、穏やかな酸性条件において
容易に脱ｔａｒｔ−ブチル化反応が完結して、はぼ定量
的に４−フルオロ−４′−ヒドロキシビフェニルが得ら
れることがわかった。また、このような前駆体を得る方
法を検討したところ、次に示す反応（Ａ）、（Ｂ）によ
って合成されることが極めて有利であることが判明した
。
′−フルオロビフェニルは、穏やかな酸性条件において
容易に脱ｔａｒｔ−ブチル化反応が完結して、はぼ定量
的に４−フルオロ−４′−ヒドロキシビフェニルが得ら
れることがわかった。また、このような前駆体を得る方
法を検討したところ、次に示す反応（Ａ）、（Ｂ）によ
って合成されることが極めて有利であることが判明した
。
（ｒＶ）
上記（Ａ）、（Ｂ）の反応式中”’Ｃ”ＣａＬ、はＰｄ
Ｘバホスフィン）を示し、Ｘは、互いに同一または相異
なってもよく、塩素原子、臭素原子、沃素原子を示す。
Ｘバホスフィン）を示し、Ｘは、互いに同一または相異
なってもよく、塩素原子、臭素原子、沃素原子を示す。
以下に本発明の４− ｔａｒｔ−ブトキシ−４′−フル
オロビフェニルを製造する方法について具体的に説明す
る。
オロビフェニルを製造する方法について具体的に説明す
る。
まず、原料となるグリニヤール試薬（ＩＩ）および（Ｉ
ＩＩ）は公知であり、ハロゲン原子のＸ（塩素原子、臭
素原子または沃素原子）の違いにより合成条件は異るが
、テトラヒドロフラン単独あるいはベンゼン、トルエン
、キシレン等との混合溶媒系、またはジエチルエーテル
、ジブチルエーテル、ジグライム等のエーテル系の溶媒
中で、金属マグネシウムとの反応で得られる。また、原
料の（ＩＩＩ）および（Ｖ）式化合物は公知であり、既
知方法により工業的に容易に製造して用いることができ
る。
ＩＩ）は公知であり、ハロゲン原子のＸ（塩素原子、臭
素原子または沃素原子）の違いにより合成条件は異るが
、テトラヒドロフラン単独あるいはベンゼン、トルエン
、キシレン等との混合溶媒系、またはジエチルエーテル
、ジブチルエーテル、ジグライム等のエーテル系の溶媒
中で、金属マグネシウムとの反応で得られる。また、原
料の（ＩＩＩ）および（Ｖ）式化合物は公知であり、既
知方法により工業的に容易に製造して用いることができ
る。
本発明の反応は、使用する原料の種類によって、（Ａ）
ルートまたは（Ｂ）ルートのいずれでも採用できる。そ
して、この反応は式中のハライドのＸの違いによってグ
リニヤール試薬（１１）、（ＴＶ）の生成および（ＩＩ
Ｉ）または（Ｖ）式化合物とのカップリング反応性に差
があり、特にグリニヤール試薬のカップリング対象体と
なるアリールハライド（ｍ）、（Ｖ）は実用上ハライド
として、臭素、および沃素の使用が望ましい。
ルートまたは（Ｂ）ルートのいずれでも採用できる。そ
して、この反応は式中のハライドのＸの違いによってグ
リニヤール試薬（１１）、（ＴＶ）の生成および（ＩＩ
Ｉ）または（Ｖ）式化合物とのカップリング反応性に差
があり、特にグリニヤール試薬のカップリング対象体と
なるアリールハライド（ｍ）、（Ｖ）は実用上ハライド
として、臭素、および沃素の使用が望ましい。
本発明のカップリング反応は、これらのグリニヤール試
薬（ＩＩ）、（Ｉ［＋）とアリールハライド（ＩＩＩ）
、 （ｒＶ）をホスフィンを配位したパラジウム化合物
を触媒として進行する。使用できるパラジウムとしては
、塩化パラジウム、臭化パラジウム、沃化パラジウムが
、そして、配位子ホスフィンとしては、トリフェニルホ
スフィンのような芳香族ホスフィンや、１．１−ビスジ
フェニルホスフィノメタン、１．２−ビスジフェニルホ
スフィノエタン、１．３−１４”スジフェニルホスフィ
ンプロパン、 １．４−ビスジフェニルホスフィノブタ
ン、１．ｓ−ヒスジフェニルホスフィノペンタン、１．
１’−ビスジフェニルホスフィノフェロセン等の２座間
位ホスフィンを用いることができる。
薬（ＩＩ）、（Ｉ［＋）とアリールハライド（ＩＩＩ）
、 （ｒＶ）をホスフィンを配位したパラジウム化合物
を触媒として進行する。使用できるパラジウムとしては
、塩化パラジウム、臭化パラジウム、沃化パラジウムが
、そして、配位子ホスフィンとしては、トリフェニルホ
スフィンのような芳香族ホスフィンや、１．１−ビスジ
フェニルホスフィノメタン、１．２−ビスジフェニルホ
スフィノエタン、１．３−１４”スジフェニルホスフィ
ンプロパン、 １．４−ビスジフェニルホスフィノブタ
ン、１．ｓ−ヒスジフェニルホスフィノペンタン、１．
１’−ビスジフェニルホスフィノフェロセン等の２座間
位ホスフィンを用いることができる。
反応を行うにあたっては、アリールハライド（ＩＩＩ）
まＩ；は（ＴＶ）を前記したごとくのテトラヒドロ７ラ
ンの単独あるいはこれとベンゼン、トルエン、キシレン
等との混合溶媒、またはジエチルエーテル、ジブチルエ
ーテル、ジグライム等のエーテル系の溶媒に溶解してお
き、ここにホスフィンを配位子とするパラジウム触媒を
０．０１〜１モル％程度、望ましくは０．１モル％を添
加し、１０−１００°Ｃの範囲で必要に応じて還流温度
条件でグリニヤール試薬（Ｉ［）または（ＴＶ）を滴下
して熟成反応を行うと、反応は容易に完結する。
まＩ；は（ＴＶ）を前記したごとくのテトラヒドロ７ラ
ンの単独あるいはこれとベンゼン、トルエン、キシレン
等との混合溶媒、またはジエチルエーテル、ジブチルエ
ーテル、ジグライム等のエーテル系の溶媒に溶解してお
き、ここにホスフィンを配位子とするパラジウム触媒を
０．０１〜１モル％程度、望ましくは０．１モル％を添
加し、１０−１００°Ｃの範囲で必要に応じて還流温度
条件でグリニヤール試薬（Ｉ［）または（ＴＶ）を滴下
して熟成反応を行うと、反応は容易に完結する。
この反応を行うに際して上記の反応順序とは逆に、グリ
ニヤール試薬中にアリールハライドを滴下すると、フッ
素への置換カップリング反応が若干ではあるが併行して
起り、収率の低下が見られる。
ニヤール試薬中にアリールハライドを滴下すると、フッ
素への置換カップリング反応が若干ではあるが併行して
起り、収率の低下が見られる。
反応終了後は、常法に従って反応液に、塩化アンモニウ
ム水溶液、酢酸水、希塩酸あるいは希硫酸を加えて生成
したマグネシウム塩を溶解して除去する。そして分液し
て有機層を分取し、その溶媒を留去して、残留物を減圧
蒸留あるいは再結晶精製することによって、目的とする
４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−４′−フルオロビフェニルを
得ることができる。
ム水溶液、酢酸水、希塩酸あるいは希硫酸を加えて生成
したマグネシウム塩を溶解して除去する。そして分液し
て有機層を分取し、その溶媒を留去して、残留物を減圧
蒸留あるいは再結晶精製することによって、目的とする
４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−４′−フルオロビフェニルを
得ることができる。
この化合物（１）をベンゼンやトルエン、ジクロルメタ
ン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、メタノール、
エタノール、酢酸等の溶媒ニ溶解し、塩酸、臭化水素酸
、硫酸等の酸で処理することにより、（Ｉ）式中のｔｅ
ｒｔ−ブチル基は容易に脱離され、液晶物質、医薬合成
中間体として有用な４−フルオロ−４′−ヒドロキシビ
フェニルが高収率で得られる。
ン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、メタノール、
エタノール、酢酸等の溶媒ニ溶解し、塩酸、臭化水素酸
、硫酸等の酸で処理することにより、（Ｉ）式中のｔｅ
ｒｔ−ブチル基は容易に脱離され、液晶物質、医薬合成
中間体として有用な４−フルオロ−４′−ヒドロキシビ
フェニルが高収率で得られる。
次に、本発明化合物の製造方法の実施例を挙げる。
実施例Ｉ （＾）ルートによる製法
還流冷却器、温度計、滴下ロートおよび撹拌機を備えた
反応器を窒素置換し、マグネシウム粒４８．６ｇ （２
モル）と小量の臭化エチルを入れ撹拌しつつ還流するま
で加熱しマグネシウム粒を活性化した。続いて４− Ｌ
ｅｒｔ−ブトキシクロルベンゼン１８６．７ｇ （１モ
ル）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）／ ）ルエン（２
／ｌ）のＩＱに溶解して７８〜８５℃で４時間かけて滴
下ロートより滴下した。
反応器を窒素置換し、マグネシウム粒４８．６ｇ （２
モル）と小量の臭化エチルを入れ撹拌しつつ還流するま
で加熱しマグネシウム粒を活性化した。続いて４− Ｌ
ｅｒｔ−ブトキシクロルベンゼン１８６．７ｇ （１モ
ル）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）／ ）ルエン（２
／ｌ）のＩＱに溶解して７８〜８５℃で４時間かけて滴
下ロートより滴下した。
その後８５℃で２時間熟成し、４− ｔａｒｔ−ブトキ
シフェニルマグネシウムクロライドを得た。ここでの変
換率は９９．８％であった。
シフェニルマグネシウムクロライドを得た。ここでの変
換率は９９．８％であった。
同様に、還流冷却器、温度計、滴下ロートおよび撹拌機
を備えた反応器を窒素置換し、この中に４−フルオロブ
ロモベンゼン１７５．０９ （１モル）、ＰｄＣＱ、
・ｄｐｐｅ（ｄｐｐｅは、１．２−ビスジフェニルホス
フィノエタンを示す。以下同じ） ０．６ｇ（０，１モ
ル％）およびＴＨＦ／トルエン（２／ ｌ ）２００ｍ
（ｌを入れ、７０°Ｃまで加熱する、この中にさきに調
製しｆ： ４− ＬｅｒＬ−ブトキシフェニルマグネシ
ウムクロライドを７０〜８５℃で２時間かけて滴下した
。続いてそのままの温度で３０分熟成した。
を備えた反応器を窒素置換し、この中に４−フルオロブ
ロモベンゼン１７５．０９ （１モル）、ＰｄＣＱ、
・ｄｐｐｅ（ｄｐｐｅは、１．２−ビスジフェニルホス
フィノエタンを示す。以下同じ） ０．６ｇ（０，１モ
ル％）およびＴＨＦ／トルエン（２／ ｌ ）２００ｍ
（ｌを入れ、７０°Ｃまで加熱する、この中にさきに調
製しｆ： ４− ＬｅｒＬ−ブトキシフェニルマグネシ
ウムクロライドを７０〜８５℃で２時間かけて滴下した
。続いてそのままの温度で３０分熟成した。
その後室温にもどして反応液中に注水してマグネシウム
塩を取り除き、これを濃縮し、粗４−フルオロ−４’
−ｔｅｒｔ−ブトキシビフェニルを得た。ここでの変換
率は４−フルオロブロモベンゼンに対して９６．２％で
あった。
塩を取り除き、これを濃縮し、粗４−フルオロ−４’
−ｔｅｒｔ−ブトキシビフェニルを得た。ここでの変換
率は４−フルオロブロモベンゼンに対して９６．２％で
あった。
この粗４−フルオロー４’−ｒｅｒｔ−ブトキシビフェ
ニルを蒸留して１９０〜ｂ クションに目的とする４−フルオロ−４’ −ｔｅｒｔ
−ブトキシフェニルが得られた。収率は９０％で融点は
１０２〜＋０４°Ｃであった。
ニルを蒸留して１９０〜ｂ クションに目的とする４−フルオロ−４’ −ｔｅｒｔ
−ブトキシフェニルが得られた。収率は９０％で融点は
１０２〜＋０４°Ｃであった。
’Ｈ−ＮＩＪＲ（ＣＤＣＩ２１）ｐｐｍ ：１．３６
（９Ｈ，ｓ、ＱＣ（ＣＨｓ）ｓ）６．９５〜７
．５３ （８Ｈ，ｍ、ｂｉｐｈｅｎｙｌ）実施例２（
Ａ）ルートによる製法 実施例１と同様の反応器を窒素置換し、４−フルオロヨ
ードベンゼン２２２．０９（１モル）とＰｄＣ０ｚ’ｄ
ｐｐｅ Ｏ，６ｇ（０，１モル％）、ＴＨＦ／ ）ルエ
ン（２／ Ｉ ）２００Ｗｌ（ｌを入れ７０℃まで加熱
する、この中に実施例１と同様に調製した４ −ｔｅｒ
Ｌ−ブトキシフェニルマグネシウムクロライドを７０〜
８５℃で２時間かけて滴下した。続いてそのままの温度
で３０分熟成した。その後室温にもどして反応液中に注
水してマグネシウム塩を取り除き、これを濃縮し、粗４
−フルオロ−４’−ｔｅｒＥ−ブトキシビフェニルを得
た。ここでの変換率は４−フルオロヨードベンゼンに対
して９７．８％であつＩこ。
（９Ｈ，ｓ、ＱＣ（ＣＨｓ）ｓ）６．９５〜７
．５３ （８Ｈ，ｍ、ｂｉｐｈｅｎｙｌ）実施例２（
Ａ）ルートによる製法 実施例１と同様の反応器を窒素置換し、４−フルオロヨ
ードベンゼン２２２．０９（１モル）とＰｄＣ０ｚ’ｄ
ｐｐｅ Ｏ，６ｇ（０，１モル％）、ＴＨＦ／ ）ルエ
ン（２／ Ｉ ）２００Ｗｌ（ｌを入れ７０℃まで加熱
する、この中に実施例１と同様に調製した４ −ｔｅｒ
Ｌ−ブトキシフェニルマグネシウムクロライドを７０〜
８５℃で２時間かけて滴下した。続いてそのままの温度
で３０分熟成した。その後室温にもどして反応液中に注
水してマグネシウム塩を取り除き、これを濃縮し、粗４
−フルオロ−４’−ｔｅｒＥ−ブトキシビフェニルを得
た。ここでの変換率は４−フルオロヨードベンゼンに対
して９７．８％であつＩこ。
この粗４−フルオロー４’−Ｌｅｒｔ−ブトキシビフェ
ニルを蒸留すると、１９０〜ｂ フラクションに目的とする４−フルオロ−４′−Ｌｅｒ
Ｌ−ブトキシビフェニルが得られた。収率は９２％であ
った。
ニルを蒸留すると、１９０〜ｂ フラクションに目的とする４−フルオロ−４′−Ｌｅｒ
Ｌ−ブトキシビフェニルが得られた。収率は９２％であ
った。
実施例３（Ｂ）ルートによる製法
実施例１と同様の反応器を窒素置換し、マグネシウム粒
４８．６ｇ（２モル）を活性化した。続いて４−フルオ
ロブロモベンゼン１７５．０ｇ（１モル）をＴＩＩＦ／
）ルエン（２／１） ｌＱに溶解した物を３５〜４
０℃で４時間かけて滴下ロートより滴下した。その後４
０℃で２時間熟成し４−フルオロフェニルマグネシウム
ブロマイドを得た。ここでの変換率は９９．９％であっ
た。
４８．６ｇ（２モル）を活性化した。続いて４−フルオ
ロブロモベンゼン１７５．０ｇ（１モル）をＴＩＩＦ／
）ルエン（２／１） ｌＱに溶解した物を３５〜４
０℃で４時間かけて滴下ロートより滴下した。その後４
０℃で２時間熟成し４−フルオロフェニルマグネシウム
ブロマイドを得た。ここでの変換率は９９．９％であっ
た。
また同様な反応器を窒素置換し、４− ｔｅｒｔ −ブ
トキシブロモベンゼン２２９．１ｇ（１モル）トＰａＣ
Ｌ ・ｄｐｐｅ Ｏ，６９（０，１モル％） 、ＴＨＦ
／ ｔ−ルエン（２／ ｌ ） ２００ｍＱを入れ７０
℃まテ加熱スル、この中に調製した４−フルオロフェニ
ルマグネシウムブロマイドを７０〜８５°Ｃで２時間か
けて滴下した。続いてそのままの温度で３０分熟成した
。
トキシブロモベンゼン２２９．１ｇ（１モル）トＰａＣ
Ｌ ・ｄｐｐｅ Ｏ，６９（０，１モル％） 、ＴＨＦ
／ ｔ−ルエン（２／ ｌ ） ２００ｍＱを入れ７０
℃まテ加熱スル、この中に調製した４−フルオロフェニ
ルマグネシウムブロマイドを７０〜８５°Ｃで２時間か
けて滴下した。続いてそのままの温度で３０分熟成した
。
その後室温にもどして反応液中に、注水してマグネシウ
ム塩を取り除き、これを濃縮し、粗４−フルオロー４’
−ｔｅｒｔ−ブトキシビフェニルを得た。ここでの変換
率は４− ｔｅｒｔ−ブトキシブロモベンゼンに対して
９３．８％であった。
ム塩を取り除き、これを濃縮し、粗４−フルオロー４’
−ｔｅｒｔ−ブトキシビフェニルを得た。ここでの変換
率は４− ｔｅｒｔ−ブトキシブロモベンゼンに対して
９３．８％であった。
この粗４−フルオロー４’−ｔｅｒＬ−ブトキシビフェ
ニルを蒸留すると、１９０〜ｂ ７ラクシヨンに目的とする４−７ルオロー４′−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシビフェニルが得られた。収率は８８％であ
った。
ニルを蒸留すると、１９０〜ｂ ７ラクシヨンに目的とする４−７ルオロー４′−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシビフェニルが得られた。収率は８８％であ
った。
実施例４（Ｂ）ルートによる製法
実施例１と同様の反応器を窒素置換し、マグネシウム粒
４８．６ｇ（２モル）を活性化した。続いて４−フルオ
ロクロルベンゼン１３０．６９（１モル）をＴＨＦ／
）ルエン（２／１）ＩＱに溶解した物を７８〜８５℃で
４時間かけて滴下ロートより滴下した。その後８５℃で
２時間熟成し４−フルオロフェニルマグネシウムクロラ
イドを得た。ここでの変換率は９９．７％であった。
４８．６ｇ（２モル）を活性化した。続いて４−フルオ
ロクロルベンゼン１３０．６９（１モル）をＴＨＦ／
）ルエン（２／１）ＩＱに溶解した物を７８〜８５℃で
４時間かけて滴下ロートより滴下した。その後８５℃で
２時間熟成し４−フルオロフェニルマグネシウムクロラ
イドを得た。ここでの変換率は９９．７％であった。
また同様な反応器を窒素置換し、４− ｔｅｒｔ −ブ
トキシブロモベンゼン２２９．１ｇ（１モル）とＰｄＣ
Ｑｘ−ｄｐ’ｐｅ ０．６ｇ（０−１モル％）、ＴＨＦ
／トルエン（２／ ｌ ） ２００！ｌ（ｌを入れ７０
°Ｃまで加熱する、こ−の中に調製した４−フルオロフ
ェニルマグネンウムクロライドを７０〜８５°Ｃで２時
間かけて滴下した６続いてそのままの温度で３０分熟成
した。
トキシブロモベンゼン２２９．１ｇ（１モル）とＰｄＣ
Ｑｘ−ｄｐ’ｐｅ ０．６ｇ（０−１モル％）、ＴＨＦ
／トルエン（２／ ｌ ） ２００！ｌ（ｌを入れ７０
°Ｃまで加熱する、こ−の中に調製した４−フルオロフ
ェニルマグネンウムクロライドを７０〜８５°Ｃで２時
間かけて滴下した６続いてそのままの温度で３０分熟成
した。
その後室温にもどして反応液中に注水してマグネシウム
塩を取り除き、これを濃縮し、粗４−フルオロー４’
−ｔａｒｔ −フトキシビフェニルヲ得た。ここでの変
換率は４− ｔｅｒｔ−ブトキシクロルベンゼンに対し
て９２．１％であった。
塩を取り除き、これを濃縮し、粗４−フルオロー４’
−ｔａｒｔ −フトキシビフェニルヲ得た。ここでの変
換率は４− ｔｅｒｔ−ブトキシクロルベンゼンに対し
て９２．１％であった。
この粗４−フルオロー４’−ｔｅｒｔ−ブトキシビフェ
ニルを蒸留すると、＋９０−１９２°Ｃｉ／１８ｍｍＨ
ｇのフラクンヨンに目的とする４−７ルオロー４′−ｔ
ａｒｔ−ブトキシビフェニルが得られた。収率は８５％
であつｌ二。
ニルを蒸留すると、＋９０−１９２°Ｃｉ／１８ｍｍＨ
ｇのフラクンヨンに目的とする４−７ルオロー４′−ｔ
ａｒｔ−ブトキシビフェニルが得られた。収率は８５％
であつｌ二。
参考例 １
４−フルオロ−４’ −ｃｅｒｔ−ブトキシビフェニル
２００ｇを１．４−ジオキサン２Ｑに溶解し、４０％硫
酸２００ｇを加えて２時間撹拌した。濃縮後、粗４−フ
ルオロー４′−ヒドロキシビフェニルを得Ｉ：。
２００ｇを１．４−ジオキサン２Ｑに溶解し、４０％硫
酸２００ｇを加えて２時間撹拌した。濃縮後、粗４−フ
ルオロー４′−ヒドロキシビフェニルを得Ｉ：。
変換率は９９．９％であった。この粗結晶をエタノール
で再結晶すると４−フルオロ−４′−ヒドロキンビフェ
ニルの鱗片状結晶が得られた。収率は９４％で、融点は
１７０〜１７１．５℃であった。
で再結晶すると４−フルオロ−４′−ヒドロキンビフェ
ニルの鱗片状結晶が得られた。収率は９４％で、融点は
１７０〜１７１．５℃であった。
参考例 ２
４−フルオロ−４’−ＬｅｒＬ−ブトキンビフェニル２
００ｇを１．４−ジオキサン２Ｑに溶解し、３６％塩酸
１００ｈを加えて３時間撹拌した。濃縮後、粗４−フル
オロー４′−ヒドロキシビフェニルを得た。
００ｇを１．４−ジオキサン２Ｑに溶解し、３６％塩酸
１００ｈを加えて３時間撹拌した。濃縮後、粗４−フル
オロー４′−ヒドロキシビフェニルを得た。
変換率は９９．７％であった。この粗結晶をエタノール
で再結晶すると４−フルオロ−４′−ヒドロキンビフェ
ニルの鱗片状結晶が得られた。収率は９２％であった。
で再結晶すると４−フルオロ−４′−ヒドロキンビフェ
ニルの鱗片状結晶が得られた。収率は９２％であった。
参考例 ３
４−フルオロ−４’−ｔｅｒｔ−ブトキシビフェニル２
００ｇを１．４−ジオキサン２Ｑに溶解し、ｐ−トルエ
ンスルホン酸を加えて４時間撹拌した。濃ｍｆｆ１、粗
４−フルオロー４′−ヒドロキシビフェニルを得た。変
換率は９８．５％であった。この粗結晶をエタノールで
再結晶すると４−フルオロ−４′−ヒドロキシビフェニ
ルの鱗片状結晶が得られた。収率は９０％であった。
００ｇを１．４−ジオキサン２Ｑに溶解し、ｐ−トルエ
ンスルホン酸を加えて４時間撹拌した。濃ｍｆｆ１、粗
４−フルオロー４′−ヒドロキシビフェニルを得た。変
換率は９８．５％であった。この粗結晶をエタノールで
再結晶すると４−フルオロ−４′−ヒドロキシビフェニ
ルの鱗片状結晶が得られた。収率は９０％であった。
（発明の効果）
本発明化合物は、穏やかな酸性条件での脱ｔｅｒｔ−ブ
チル化して液晶物質、医薬合成中間体として有用な４−
フルオロ−４′−ヒドロキシビフェニルがほぼ定量的に
得られる。そして、この方法は従来のいずれの方法より
工業的に有利である。したがって、本発明の化合物はこ
の前駆体物質として極めて有用である。また、本発明の
化合物は既知化合物から工業的に容易に製造することが
できる。
チル化して液晶物質、医薬合成中間体として有用な４−
フルオロ−４′−ヒドロキシビフェニルがほぼ定量的に
得られる。そして、この方法は従来のいずれの方法より
工業的に有利である。したがって、本発明の化合物はこ
の前駆体物質として極めて有用である。また、本発明の
化合物は既知化合物から工業的に容易に製造することが
できる。
特許出頼人 北興化学工業株式会社
手続補正書（自発）
平成４年２月夕日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １） ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−４′−フルオロ
ビフェニル。 ２）次式で示されるｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニルマ
グネシウムハライド ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｘは、塩素原子、臭素原子または沃素原子を示す） と、次式で示されるｐ−フルオロベンゼン ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｘは上記と同じであり、同一または相異なってもよい
） とを、ホスフィンを配位子とするパラジウム触媒の存在
下で反応することを特徴とする ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−４′−フルオロビ
フェニルの製造法。 ３）次式で示されるｐ−フルオロフェニルマグネシウム
ハライド ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｘは、塩素原子、臭素原子または沃素原子を示す） と、次式で示されるｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシハロベンゼ
ン ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｘは上記と同じであり、同一または相異なってもよい
） とを、ホスフィンを配位子とするパラジウム触媒の存在
下で反応することを特徴とする ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−４′−フルオロビ
フェニルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2298864A JP2827050B2 (ja) | 1990-11-06 | 1990-11-06 | ４―ｔｅｒｔ―ブトキシ―４′―フルオロビフェニルおよびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2298864A JP2827050B2 (ja) | 1990-11-06 | 1990-11-06 | ４―ｔｅｒｔ―ブトキシ―４′―フルオロビフェニルおよびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04173756A true JPH04173756A (ja) | 1992-06-22 |
| JP2827050B2 JP2827050B2 (ja) | 1998-11-18 |
Family
ID=17865182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2298864A Expired - Fee Related JP2827050B2 (ja) | 1990-11-06 | 1990-11-06 | ４―ｔｅｒｔ―ブトキシ―４′―フルオロビフェニルおよびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2827050B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003055285A (ja) * | 2001-08-09 | 2003-02-26 | Hokko Chem Ind Co Ltd | ４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−４’−ハロゲノビフェニルおよびその製法、並びに４−ハロゲノ−４’−ヒドロキシビフェニルの製法 |
| JP2007119379A (ja) * | 2005-10-26 | 2007-05-17 | Tosoh Corp | ジハロゲン化ビフェニル類の製造方法 |
| WO2009008447A1 (ja) | 2007-07-11 | 2009-01-15 | Kyoto University | 触媒組成物及びそれを用いたクロスカップリング化合物の製造方法 |
| US8211820B2 (en) | 2007-03-09 | 2012-07-03 | Kyoto University | Catalyst composition, and process for production of cross-coupling compound using the same |
-
1990
- 1990-11-06 JP JP2298864A patent/JP2827050B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003055285A (ja) * | 2001-08-09 | 2003-02-26 | Hokko Chem Ind Co Ltd | ４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−４’−ハロゲノビフェニルおよびその製法、並びに４−ハロゲノ−４’−ヒドロキシビフェニルの製法 |
| JP2007119379A (ja) * | 2005-10-26 | 2007-05-17 | Tosoh Corp | ジハロゲン化ビフェニル類の製造方法 |
| US8211820B2 (en) | 2007-03-09 | 2012-07-03 | Kyoto University | Catalyst composition, and process for production of cross-coupling compound using the same |
| WO2009008447A1 (ja) | 2007-07-11 | 2009-01-15 | Kyoto University | 触媒組成物及びそれを用いたクロスカップリング化合物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2827050B2 (ja) | 1998-11-18 |
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