JPS62132321A - ドライエツチング装置 - Google Patents
ドライエツチング装置Info
- Publication number
- JPS62132321A JPS62132321A JP27162485A JP27162485A JPS62132321A JP S62132321 A JPS62132321 A JP S62132321A JP 27162485 A JP27162485 A JP 27162485A JP 27162485 A JP27162485 A JP 27162485A JP S62132321 A JPS62132321 A JP S62132321A
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- JP
- Japan
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- wafers
- dummy
- etching
- load
- chamber
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、多数枚のウェハーをエンチング室に装着して
エツチングを行うドライエツチング装置に関するもので
ある。
エツチングを行うドライエツチング装置に関するもので
ある。
〔従来の技術と発明が解決しようとする問題点〕従来、
バッチ式のドライエツチング装置では、一度にエツチン
グすることができるウェハーの枚数が決まっており、こ
の決められた枚数のウェハ−を装着してエツチングを行
っている。この決められた枚数のウェハーを装着しない
でエツチングを行うと、当該装着しなかったウェハーの
位置に設けられた電極が汚れたり、この電極自体がエツ
チングされ当該電極からスパッタされた物質が他のウェ
ハーに付着したり、あるいは装着した他のウェハーに対
するエツチング分布やエツチングレートに悪影響を与え
たりする。これらの障害を避けるため、装着するウェハ
ーの枚数が決められた枚数に満たない場合には、この満
たない分に相当するダミーウェハーを装着してエツチン
グする必要がある。
バッチ式のドライエツチング装置では、一度にエツチン
グすることができるウェハーの枚数が決まっており、こ
の決められた枚数のウェハ−を装着してエツチングを行
っている。この決められた枚数のウェハーを装着しない
でエツチングを行うと、当該装着しなかったウェハーの
位置に設けられた電極が汚れたり、この電極自体がエツ
チングされ当該電極からスパッタされた物質が他のウェ
ハーに付着したり、あるいは装着した他のウェハーに対
するエツチング分布やエツチングレートに悪影響を与え
たりする。これらの障害を避けるため、装着するウェハ
ーの枚数が決められた枚数に満たない場合には、この満
たない分に相当するダミーウェハーを装着してエツチン
グする必要がある。
特に、この種のドライエツチング装置は、最終工程の近
くで用いられるものであり、精密を要するものである。
くで用いられるものであり、精密を要するものである。
このため、Alルジスト、S i Ot −、S tな
どの混在した表面をもち、しかもエツチングによってこ
の混在比率が変わって行くようなウェハーと、一定の表
面をもつダミーウェハーとを混ぜて配置するときには、
両者の混ぜ比率および混ぜパターンを可及的に一定かつ
対称にすべき必要性がある。これは、エツチング処理を
行う各ロフトにおいて、同一の枚数のダミーウェハーを
エツチング室に配置(ダミーウェハーの枚数の配分)す
ると共に、このダミーウェハーを配置する位置を可及的
に対称的(等間隔)に宜く(ダミーウェハーの配置の配
分)ようにする必要がある。
どの混在した表面をもち、しかもエツチングによってこ
の混在比率が変わって行くようなウェハーと、一定の表
面をもつダミーウェハーとを混ぜて配置するときには、
両者の混ぜ比率および混ぜパターンを可及的に一定かつ
対称にすべき必要性がある。これは、エツチング処理を
行う各ロフトにおいて、同一の枚数のダミーウェハーを
エツチング室に配置(ダミーウェハーの枚数の配分)す
ると共に、このダミーウェハーを配置する位置を可及的
に対称的(等間隔)に宜く(ダミーウェハーの配置の配
分)ようにする必要がある。
第2図は従来のドライエツチング装置の構成の断面図を
示す、このドライエツチング装置を用いてエツチング室
13中に所定の枚数のウェハーおよびダミーウェハーを
配置してエツチング処理を行うときには、次の如くして
いる。第1に、エツチング室ゲートバルブ19を閉状態
にすると共にロードロック室ゲートバルブ15を開状態
にする。
示す、このドライエツチング装置を用いてエツチング室
13中に所定の枚数のウェハーおよびダミーウェハーを
配置してエツチング処理を行うときには、次の如くして
いる。第1に、エツチング室ゲートバルブ19を閉状態
にすると共にロードロック室ゲートバルブ15を開状態
にする。
第2に、エツチング処理すべきウェハーとダミーウェハ
ーとをロードロック室ロードカセット16中に挿入する
。この場合、既述したように、1回のエツチング処理で
ウェハーを処理することができる総枚数に不足する場合
には、その不足分のダミーウェハーを挿入する。第3に
、ロードロック室ゲートバルブ15を閉状態にしてロー
ドロック室12を真空排気した後、エツチング室ゲート
バルブ19を開状態にする。第4に、ロードロック室ロ
ードカセット16に格納されているウェハーおよびダミ
ーウェハーをエツチング室13中に順次装着し、エツチ
ング室ゲートバルブ19を閉状態にしてエツチング処理
を行う、第5に、エツチング処理を終了した後、逆の順
序でウェハーおよびダミーウェハーをロードロック室ア
ンロードカセット17中に格納し、次いで大気中に取り
出してダミーウェハーを分離する。
ーとをロードロック室ロードカセット16中に挿入する
。この場合、既述したように、1回のエツチング処理で
ウェハーを処理することができる総枚数に不足する場合
には、その不足分のダミーウェハーを挿入する。第3に
、ロードロック室ゲートバルブ15を閉状態にしてロー
ドロック室12を真空排気した後、エツチング室ゲート
バルブ19を開状態にする。第4に、ロードロック室ロ
ードカセット16に格納されているウェハーおよびダミ
ーウェハーをエツチング室13中に順次装着し、エツチ
ング室ゲートバルブ19を閉状態にしてエツチング処理
を行う、第5に、エツチング処理を終了した後、逆の順
序でウェハーおよびダミーウェハーをロードロック室ア
ンロードカセット17中に格納し、次いで大気中に取り
出してダミーウェハーを分離する。
以上説明したように、手動でウェハーおよびダミーウェ
ハーをロードロック室ロードカセット16に挿入してい
たのでは、人が一々挿入する枚数を数えたり、等間隔に
配置されるように計算などして挿入しなければならない
問題がある。
ハーをロードロック室ロードカセット16に挿入してい
たのでは、人が一々挿入する枚数を数えたり、等間隔に
配置されるように計算などして挿入しなければならない
問題がある。
この問題を解決する装置として、1回のエツチング処理
に不足するダミーウェハーを自動的に挿入(オートロー
ド)する第3図に示すようなエツチング装置がある。こ
の装置を用いてダミーウェハーを装着するときには、第
3図に示すように、大気とエツチング室23との間に設
けたロードロック室22内に配置したロードロック室ロ
ードカセット27中に、エツチングを行うウェハーと、
ウェハーの不足分に相当するダミーウェハーとを装填し
ている。そして、この装填は、ウェハーをオートローダ
−21内に配置したオートローダ−ロードカセット24
から、ロードロック室22内に配置したロードロック室
ロードカセット27に搬送後、不足するウェハーに相当
する枚数のダミーウェハーをオートローダ−ダミーカセ
ット25からロードロック室ロードカセット27に搬送
することによって行っている。このようにウェハーをロ
ードロック室ロードカセット27に装填後、不足分のダ
ミーウェハーを一括して装填したのでは、ダミーウェハ
ーは最後に集中して装填されることどなり、バッチ処理
を行った場合に、最後のバッチ処理の部分にダミーウェ
ハーが集中し、このRnのロットでのバッチ処理された
ウェハ一群だけが、エツチング特性の違ったものになっ
てしまうという問題点がある。
に不足するダミーウェハーを自動的に挿入(オートロー
ド)する第3図に示すようなエツチング装置がある。こ
の装置を用いてダミーウェハーを装着するときには、第
3図に示すように、大気とエツチング室23との間に設
けたロードロック室22内に配置したロードロック室ロ
ードカセット27中に、エツチングを行うウェハーと、
ウェハーの不足分に相当するダミーウェハーとを装填し
ている。そして、この装填は、ウェハーをオートローダ
−21内に配置したオートローダ−ロードカセット24
から、ロードロック室22内に配置したロードロック室
ロードカセット27に搬送後、不足するウェハーに相当
する枚数のダミーウェハーをオートローダ−ダミーカセ
ット25からロードロック室ロードカセット27に搬送
することによって行っている。このようにウェハーをロ
ードロック室ロードカセット27に装填後、不足分のダ
ミーウェハーを一括して装填したのでは、ダミーウェハ
ーは最後に集中して装填されることどなり、バッチ処理
を行った場合に、最後のバッチ処理の部分にダミーウェ
ハーが集中し、このRnのロットでのバッチ処理された
ウェハ一群だけが、エツチング特性の違ったものになっ
てしまうという問題点がある。
例えば1度に10枚のウェハーをバッチ処理する能力を
持つドライエツチング装置があり、この装置中のロード
ロック室ロードカセット27中に41枚のウェハーを装
填した場合、9枚のダミーウェハーが最後の部分に集中
的に装填される。そして、バンチ処理は、10枚のウェ
ハーを装着した状態のもとで4回行われ、最後に1枚の
ウェハーと9枚のダミーウェハーとを装着した状態のも
とで行われることとなり、特に最後のバッチ処理で処理
されたウェハーのエツチング特性が、それ以外のバッチ
処理で処理されたウェハーのエツチング特性と比較して
大きく相違してしまうという問題点がある。
持つドライエツチング装置があり、この装置中のロード
ロック室ロードカセット27中に41枚のウェハーを装
填した場合、9枚のダミーウェハーが最後の部分に集中
的に装填される。そして、バンチ処理は、10枚のウェ
ハーを装着した状態のもとで4回行われ、最後に1枚の
ウェハーと9枚のダミーウェハーとを装着した状態のも
とで行われることとなり、特に最後のバッチ処理で処理
されたウェハーのエツチング特性が、それ以外のバッチ
処理で処理されたウェハーのエツチング特性と比較して
大きく相違してしまうという問題点がある。
尚、第3図図中ロードロック室ゲートバルブ26は、ロ
ードロック室22と大気との間を真空的に遮断するため
のものであると共に、開放した場合にこの開放部分から
ウェハーおよびダミーウェハーを搬送するためのもので
ある。同様に、エツチング室ゲートバルブ29は、エツ
チング室23とロードロック室22との間を真空的に遮
断するためのものであると共に、ウェハーおよびダミー
ウェハーを搬送するためのものである。
ードロック室22と大気との間を真空的に遮断するため
のものであると共に、開放した場合にこの開放部分から
ウェハーおよびダミーウェハーを搬送するためのもので
ある。同様に、エツチング室ゲートバルブ29は、エツ
チング室23とロードロック室22との間を真空的に遮
断するためのものであると共に、ウェハーおよびダミー
ウェハーを搬送するためのものである。
第3図に示す装置は、もう一つの問題点を抱えている。
それは、ダミーウェハーが毎回ロードロック室22を素
通りして大気とエツチング室23とを往復する点であり
、ダミーウェハーの分だけ搬送時間が余分にかかると共
に、その分だけ排気能力の増加が必要となってしまうこ
とである。更に、ダミーウェハーによって塵埃が持ち込
まれる機会も増加してしまうことである。
通りして大気とエツチング室23とを往復する点であり
、ダミーウェハーの分だけ搬送時間が余分にかかると共
に、その分だけ排気能力の増加が必要となってしまうこ
とである。更に、ダミーウェハーによって塵埃が持ち込
まれる機会も増加してしまうことである。
本発明は、前記問題点を解決するために、エツチング室
と大気との間に設けたロードロツタ室内に、ウェハーを
一時的に収納するロードカセットと、ダミーウェハーを
収納するダミーカセットとを設け、大気から当該ロード
ロック室内に搬送したウェハーの枚数を計数し、この計
数した総枚数およびバッチ処理する枚数に基づいて、ウ
ェハーおよびダミーウェハーの枚数と配置の順序とを夫
々可及的に等配分し、かつエツチング室に可及的に等間
隔に配置されるように装填する構成を採用することによ
り、エツチング特性のバラツキが生じないようにしてい
る。
と大気との間に設けたロードロツタ室内に、ウェハーを
一時的に収納するロードカセットと、ダミーウェハーを
収納するダミーカセットとを設け、大気から当該ロード
ロック室内に搬送したウェハーの枚数を計数し、この計
数した総枚数およびバッチ処理する枚数に基づいて、ウ
ェハーおよびダミーウェハーの枚数と配置の順序とを夫
々可及的に等配分し、かつエツチング室に可及的に等間
隔に配置されるように装填する構成を採用することによ
り、エツチング特性のバラツキが生じないようにしてい
る。
第1図に示す本発明の1実施例構成の断面図を用いて問
題点を解決するための手段を説明する。
題点を解決するための手段を説明する。
第1図において、ロードロック室2は、エツチングを行
うエツチング室3と大気との間に設けたものであって、
大気からウェハーを搬送する場合には、大気圧に保持さ
れ、一方、エツチング室3にウェハーを搬送する場合に
は、真空に保持されるものである。
うエツチング室3と大気との間に設けたものであって、
大気からウェハーを搬送する場合には、大気圧に保持さ
れ、一方、エツチング室3にウェハーを搬送する場合に
は、真空に保持されるものである。
ロードロック室ロードカセット6は、一時的にウェハー
を収納するものである。
を収納するものである。
ロードロック室ダミーカセント8は、ダミーウェハーを
収納するものである。
収納するものである。
第1図を用いて説明した構成を採用し、ロードロック室
ダミーカセット8内に予めダミーウェハーを収納してお
く。この状態のもとで、オートローダ−1内に配置した
オートローダ−ロードカセット4から、ロードロック室
2内に配置したロードロック室ロードカセット6に対し
てウェハーを搬送して収納し、この収納したウェハーの
総枚数を計数する。この計数した総枚数に基づいて、バ
ッチ処理するウェハーの枚数に対して挿入するダミーウ
ェハーの枚数および挿入する順序を決定し、この決定に
基づいてダミーウェハーをウェハーの間に可及的に等配
置する態様でllli次エツチング室3に搬送して装着
する。この装着した態様例を第1図図中エツチング室3
中に斜線を用いてダミーウェハー10−1を示す。斜線
のないものは、ウェハー10−2を示す。
ダミーカセット8内に予めダミーウェハーを収納してお
く。この状態のもとで、オートローダ−1内に配置した
オートローダ−ロードカセット4から、ロードロック室
2内に配置したロードロック室ロードカセット6に対し
てウェハーを搬送して収納し、この収納したウェハーの
総枚数を計数する。この計数した総枚数に基づいて、バ
ッチ処理するウェハーの枚数に対して挿入するダミーウ
ェハーの枚数および挿入する順序を決定し、この決定に
基づいてダミーウェハーをウェハーの間に可及的に等配
置する態様でllli次エツチング室3に搬送して装着
する。この装着した態様例を第1図図中エツチング室3
中に斜線を用いてダミーウェハー10−1を示す。斜線
のないものは、ウェハー10−2を示す。
以上説明したように、ロードロック室ロードカセット6
中に収納したウェハーの総枚数に基づいて、ウェハーの
間にダミーウェハーを挿入した態様でエツチング室3に
自動的に搬送することが可能となる。
中に収納したウェハーの総枚数に基づいて、ウェハーの
間にダミーウェハーを挿入した態様でエツチング室3に
自動的に搬送することが可能となる。
第1図は本発明の1実施例構成の断面図を示す。
第1図図示構成を用いた具体例を説明する。
第1図において、オートローグーロードカセット4中に
任意の枚数のウェハー例えば41枚を収納し、エツチン
グ室3内に一度に10枚づつ装填してエツチングを行う
場合について説明する。この場合、予めロードロック室
ダミーカセット8中にダミーウェハーを収納しておく。
任意の枚数のウェハー例えば41枚を収納し、エツチン
グ室3内に一度に10枚づつ装填してエツチングを行う
場合について説明する。この場合、予めロードロック室
ダミーカセット8中にダミーウェハーを収納しておく。
第1に、エツチング室ゲートバルブ9を閉状態にし、次
いでロードロック室2に大気を導入した後、ロードロッ
ク室ゲートバルブ5を開状態にする。
いでロードロック室2に大気を導入した後、ロードロッ
ク室ゲートバルブ5を開状態にする。
第2に、オートローダ−ロードカセット4中に収納され
ているウェハーを、ロードロック室ロードカセット6中
に搬送して収納する。
ているウェハーを、ロードロック室ロードカセット6中
に搬送して収納する。
第3に、ロードロック室ゲートパルプ5を閉状態にして
ロードロック室2を真空排気する。
ロードロック室2を真空排気する。
第4に、ロードロック室ロードカセット6中に収納した
ウェハーの総枚数(41枚)を計数する。
ウェハーの総枚数(41枚)を計数する。
第5に、エツチング室3に搬送するウェハーおよびダミ
ーウェハーの枚数を夫々算出すると共に、ダミーウェハ
ーを可及的に等間隔に配置するために搬送する順序を算
出しておく0例えば、第1回目ないし第4回目の搬送は
ウェハー8枚とダミーウェハー2枚であってかつダミー
ウェハーを配置する順序を例えば第1図に示すように第
3番目と第8番目、第5回目の搬送はウェハー9枚とダ
ミーウェハー1枚であってかつダミーウェハーを配置す
る順序を例えば第3番目と算出する。
ーウェハーの枚数を夫々算出すると共に、ダミーウェハ
ーを可及的に等間隔に配置するために搬送する順序を算
出しておく0例えば、第1回目ないし第4回目の搬送は
ウェハー8枚とダミーウェハー2枚であってかつダミー
ウェハーを配置する順序を例えば第1図に示すように第
3番目と第8番目、第5回目の搬送はウェハー9枚とダ
ミーウェハー1枚であってかつダミーウェハーを配置す
る順序を例えば第3番目と算出する。
第6に、エツチング室ゲートバルブ9を開状態にする。
第7に、ロードロツタ室ロードカセット6に収納されて
いるウェハーおよびロードロック室ダミーカセット8に
収納されているダミーウェハーを、エツチング室ゲート
バルブ9を介してエツチング室3内に順次搬送する。こ
の際、第5のステップで算出したようにウェハーの枚数
の間に可及的に等分に配分されるようにダミーウェハー
を例えば第3番目と第8番目に順次搬送する。
いるウェハーおよびロードロック室ダミーカセット8に
収納されているダミーウェハーを、エツチング室ゲート
バルブ9を介してエツチング室3内に順次搬送する。こ
の際、第5のステップで算出したようにウェハーの枚数
の間に可及的に等分に配分されるようにダミーウェハー
を例えば第3番目と第8番目に順次搬送する。
第8に、エツチング室3内で所定のエツチング処理を行
った後、前述したと逆の手順によってウェハーとダミー
ウェハーとが順次取り出され、ロードロツタ室ロードカ
セット6およびロードロック室ダミーカセント日中に収
納される。そして、オードローダ−1を介して大気中に
取り出される。
った後、前述したと逆の手順によってウェハーとダミー
ウェハーとが順次取り出され、ロードロツタ室ロードカ
セット6およびロードロック室ダミーカセント日中に収
納される。そして、オードローダ−1を介して大気中に
取り出される。
以上説明した場合は、10枚のバッチ処理であったが、
このバッチ処理は何枚でも、同様に処理し得るものであ
る。例えば8枚のバッチ処理であって、オートローグー
ロードカセット4内に41枚のウェハーを収納した場合
には、第1回目ないし第5回目の搬送はウェハー7枚と
ダミーウェハーi枚、第6回目の搬送はウェハー6枚と
ダミーウェハー2枚を行えばよい。この場合、各ロフト
に割り当てられたダミーウェハーが、可及的に等間隔に
配置されるように順次搬送する。
このバッチ処理は何枚でも、同様に処理し得るものであ
る。例えば8枚のバッチ処理であって、オートローグー
ロードカセット4内に41枚のウェハーを収納した場合
には、第1回目ないし第5回目の搬送はウェハー7枚と
ダミーウェハーi枚、第6回目の搬送はウェハー6枚と
ダミーウェハー2枚を行えばよい。この場合、各ロフト
に割り当てられたダミーウェハーが、可及的に等間隔に
配置されるように順次搬送する。
(発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、エツチング室と
大気との間に設けたロードロック室内に、ウェハーを一
時的に収納するロードカセットと、ダミーウェハーを収
納するダミーカセットとを設け、大気から当該ロードロ
ック室内に搬送したウェハーの総枚数を計数し、この計
数した総枚数およびバッチ処理する枚数に基づいて、ウ
ェハーおよびダミーウェハーの枚数と配置の順序とを夫
々可及的に等配分してエツチング室に装填する構成を採
用しているため、ウェハーの間に可及的に等分にダミー
ウェハーを自動的に配置させてエツチング処理を行わせ
ることが可能となり、エツチング特性のバラツキが生じ
ないようにすることができる。更に、ダミーウェハーが
ロードロック室内にとどまるため、ウェハーを搬送する
時間が実質的に短縮され、排気ポンプが小容量で足りる
と共に塵埃を持ち込む機会が少なくなる。
大気との間に設けたロードロック室内に、ウェハーを一
時的に収納するロードカセットと、ダミーウェハーを収
納するダミーカセットとを設け、大気から当該ロードロ
ック室内に搬送したウェハーの総枚数を計数し、この計
数した総枚数およびバッチ処理する枚数に基づいて、ウ
ェハーおよびダミーウェハーの枚数と配置の順序とを夫
々可及的に等配分してエツチング室に装填する構成を採
用しているため、ウェハーの間に可及的に等分にダミー
ウェハーを自動的に配置させてエツチング処理を行わせ
ることが可能となり、エツチング特性のバラツキが生じ
ないようにすることができる。更に、ダミーウェハーが
ロードロック室内にとどまるため、ウェハーを搬送する
時間が実質的に短縮され、排気ポンプが小容量で足りる
と共に塵埃を持ち込む機会が少なくなる。
第1図は本発明の1実施例構成の断面図、第2図および
第3図は従来のドライエツチング装置の構成の断面図を
示す。 図中、1はオートローダ−12はロードロック室、3は
エツチング室、4はオートローダ−ロードカセット、5
はロードロック室ゲートバルブ、6はロードロ、り室ロ
ードカセット、8はロードロック室ダミーカセント、9
はエツチング室ゲートバルブを表す。
第3図は従来のドライエツチング装置の構成の断面図を
示す。 図中、1はオートローダ−12はロードロック室、3は
エツチング室、4はオートローダ−ロードカセット、5
はロードロック室ゲートバルブ、6はロードロ、り室ロ
ードカセット、8はロードロック室ダミーカセント、9
はエツチング室ゲートバルブを表す。
Claims (3)
- (1)エッチング室にウェハーを所定枚数搬送した後、
エッチングを行うドライエッチング装置において、 エッチングを行うエッチング室と大気との間に設け、か
つ真空排気および大気を導入し得る機構を備えると共に
、大気中からエッチング室およびエッチング室から大気
中にウェハーを搬送し得る機構を設けたロードロック室
を備え、 大気からロードロック室に搬送されるウェハーの総枚数
に基づいて、エッチング室に搬送されかつ配置されるべ
きダミーウェハーの枚数を配分し、ウェハーおよびこの
配分したダミーウェハーをエッチング室に搬送するよう
構成したことを特徴とするドライエッチング装置。 - (2)上記配分されたダミーウェハーを可及的に等間隔
にエッチング室中に配置するよう混入順序を制御するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載のドライ
エッチング装置。 - (3)上記ロードロック室内に一時的にウェハーを収納
するロードカセットおよびダミーウェハーを収納するダ
ミーカセットを備えたことを特徴とする特許請求の範囲
第(1)項又は第(2)項記載のドライエッチング装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27162485A JPS62132321A (ja) | 1985-12-04 | 1985-12-04 | ドライエツチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27162485A JPS62132321A (ja) | 1985-12-04 | 1985-12-04 | ドライエツチング装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62132321A true JPS62132321A (ja) | 1987-06-15 |
Family
ID=17502665
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27162485A Pending JPS62132321A (ja) | 1985-12-04 | 1985-12-04 | ドライエツチング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62132321A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0265252A (ja) * | 1988-08-31 | 1990-03-05 | Nec Kyushu Ltd | 半導体製造装置 |
WO2000003417A1 (de) * | 1998-07-09 | 2000-01-20 | Tec-Sem Ag | Vorrichtung und verfahren zur bereitstellung eines vollständigen waferstapels |
US6446353B2 (en) | 1990-08-29 | 2002-09-10 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus |
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