KR960008156Y1 - 스퍼터링 장비의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템 - Google Patents

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KR960008156Y1 KR2019930010318U KR930010318U KR960008156Y1 KR 960008156 Y1 KR960008156 Y1 KR 960008156Y1 KR 2019930010318 U KR2019930010318 U KR 2019930010318U KR 930010318 U KR930010318 U KR 930010318U KR 960008156 Y1 KR960008156 Y1 KR 960008156Y1
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Abstract

요약 없음

Description

스퍼터링 장비의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템
제1도는 일반적인 스퍼터링 장비의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템을 나타낸 구조도.
제2도 내지 제6도는 본 고안에 의한 스퍼터링 장비의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템을 설명하기 위한 도면으로서,
제2도는 본 고안 웨이퍼 트랜스퍼 시스템의 구조도.
제3도 및 제4도는 본 고안 스토리지 엘리베이터의 구조를 보인 평면도 및 정면도.
제5도는 본 고안 스토리지 엘리베이터의 진공 배선도.
제6도는 본 고안에 사용되는 제2로버트의 사시도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1, 1', 1'' : 프로세서 챔버2 : 로드록 챔버
3 : 카세트 핸들러5 : 웨이퍼 스토리지 엘리베이터
6 : 제1로버트7, 7' : 펌핑포트
11 : 웨이퍼 스토리지 엘리베이터 수납 챔버12, 12' : 제1, 제2슬리트 밸브
20 : 펌핑수단21, 21' : 펌핑포트
22 : 진공펌프23 : 진공라인
24 : 이솔레이션 밸브25 : 티/씨(T/C)게이지
26 : 밸러스트 밸브27 : 베큠스위치
30 : 퍼지수단31 : 벤트포트
32 : 퍼지가스 공급부33 : 퍼지라인
34 : 티/씨게이지35 : 대기압스위치
36 : 벤트 밸브37 : 필터
40 : 펌핑채널50 : 제2로버트
51 : 지지판52 : 제1관절
53 : 제2관절54 : 로버트 아암
55 : 진공포트
본 고안은 실리콘 기판위에 금속박막을 형성하는 스퍼터링(sputtering) 장비의웨이퍼 트랜스퍼 시스템(Wafer transfer system)에 관한 것으로, 특히 로드록 챔버(Loadlock Chamber)를 대기중에 노출시키지 않고, 항시 공정 진공상태로 유지하여 웨이퍼의 로딩 및 언로딩시 로드록 챔버가 대기중에 노출됨으로 인하여 발생되는 파티클(Particle) 및 로버트 블레이드(Tobot blade)의 정전기 발생으로 인한 에러발생을 최소화하며, 웨이퍼의 흡습현상을 방지하도록 한 스퍼터링 장비의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 제조공정에서 금속증착 공정이란 실리콘 기판위에 소정의 금속박막을 증착시켜 집적회로 소자의 게이트(gate)나 전극을 형성하는 공정이다.
이와같은 금속증착 공정에 사용되는 장비의 일예로 스프터링 장비가 알려져 있다.
이와같은 스퍼터링 장비는 크게 실제 증착공정이 이루어지는 수개의 프로세스 챔버와, 각각의 프로세스 챔버로 웨이퍼를 로딩(loading)시킴과 아울러 공정완료된 웨이퍼를 프로세스 챔버로부터 웨이퍼 카세트로 언로딩(Unloading)시키는 웨이퍼 트랜스퍼 시스템으로 구성되어 있다.
제1도는 종래 웨이퍼 트랜스퍼 시스템의 구조를 보인 도면으로서 도면에서 1, 1', 1'' 및 1'''는 프로세스 챔버를 보인 것이고, 2는 로드록 챔버를 보인 것이며, 3은 카세트 핸들러를 각각 보인 것이다.
도시한 바와같이, 수개의 프로세스 챔버(1)(1')(1'')(1''')들은 방사상으로 배열, 설치되어 있고, 상기 프로세스 챔버(1)(1')(1'')(1''')들의 방사상 배열에 의해 형성된 내측공간부에는 로드록 챔버(2)가 형성되어 있으며, 카세트 핸들러(3)에는 2개의 웨이퍼 카세트(4)(4')가 장착되어 진다.
또한, 상기 로드록 챔버(2)에는 웨이퍼 카세트(4)의 웨이퍼를 공정수량(6개 또는 8개)만큼 일시 저장하는 웨이퍼 스토리지 엘리베이터(5) 및 웨이퍼 카세트(4)의 웨이퍼를 웨이퍼 스토리지 엘리베이터(5)로 이동시킴과 아울러 그 엘리베이터(5)의 웨이퍼를 각각의 프로세스 챔버(1)(1')(1'')(1''')로 이동시키는 로버트(6)가 구비되어 있는 한편, 2개의 펌핑포트(7)(7') 및 하나의 벤트포트(8)가 형성되어 로드록 챔버(2)를 선택적으로 대기압상태 또는 진공상태로 유지시키도록 되어 있다.
즉, 도시하지는 않았으나 상기 펌핑포트(7)(7')는 펌핑라인에 연결되어 있고, 벤트포트(8)는 퍼지라인에 연력되어 로드록 챔버(2) 내부를, 예를들어 웨이퍼 카세트(4)의 웨이퍼 스토리지 엘리베이터(5)로 옮길때에는 대기압상태로, 또한 스토리지 엘리베이터(5)의 웨이퍼들을 각각의 프로세서 챔버(1)(1')(1'')(1''')로 옮길때에는 공정진공상태로 유지시키도록 되어 있다.
이를 위하여, 로드록 챔버(2)와 카세트 핸들러(3) 사이에는 인/아웃 슬리트 밸브(I/O Slit Valve)(9)가, 로드록 챔버(2)와 각각의 프로세서 챔버(1)(1')(1'')(1''')와의 경계부에는 챔버 슬리트 밸브(10)가 각각 개폐 가능하게 설치되어 선택적으로 동작하도록 되어 있다.
이와같이 구성되는 종래 웨이퍼 트랜스퍼 시스템의 웨이퍼 로딩 동작은, 작업자가 두개의 웨이퍼 카세트(4)(4')를 카세트 핸들러(3)에 넣고 프론트 판넬의 로드스위치(도시되지 않음)를 누르면, 로드록 챔버(2)가 벤트되어 대기압상태로 됨과 동시에 대기압 감지센서(도시되지 않음)의 신호에 의해 인/아웃 슬리트 밸브(9)가 열리게 되고, 이와같은 상태에서 로버트(6)가 웨이퍼 카세트(4)의 웨이퍼를 웨이퍼 스토리지 엘리베이터(5)로 공정수량만큼 이동시키게 된다. 이때 웨이퍼의 이동은 센터화인더 센서(Centerfinder Sensor)(10a)에 의해 감지된다.
이후, 로버트(6)의 반복 동작으로 공정수량만큼의 웨이퍼 이동이 완료되면, 인/아웃 슬리트 밸브(9)는 자동으로 닫히게 되고, 이어서 로드록 챔버(2)는 내부는 핌핑되어 공정진공 상태로 된다.
이때, 각각의 프로세서 챔버(1)(1')(1'')(1''')는 NH3가스에 의해 세정되고, 바로 펌핑되어 진공상태가 되며, 이와같은 상태에서 각각의 챔버슬리트 밸브(10)가 열리면서 로버트(6)에 의해 웨이퍼 스토리지 엘리베이터(5)의 웨이퍼가 각각의 프로세서 챔버(1)(1')(1'')(1''') 내로 이동되어 공정이 진행된다. 이후 공정 완료후에는 상기의 역순으로 진행되어 웨이퍼가 웨이퍼 카세트(4)(4')로 언로딩 됨으로써 1사이클의 공정이 완료된다.
그러나, 상기한 바와같은 종래 구조의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템은 웨이퍼 로딩 및 언로딩시 로드록 챔버(2)를 대기압상태에서 진공상태로, 다시 진공상태에서 대기압상태로 변환시켜야하므로 로버트(6)에 정전기가 발생됨과 아울러 메카니즘(Mechanism)이 달라지게 되어 각종 로버트 에러가 발생하게 되고, 이와같은 로버트 에러에 따른 로버트의 웨이퍼 픽-업(pick-up) 불능으로 웨이퍼의 파손을 유발하는 단점이 있었고, 또 파티클 발생 및 공정 후 언로딩시 웨이퍼의 흡습현상으로 인한 증착막의 품질저하를 유발하는 단점이 있었다.
이를 감안하여 안출한 본 고안의 주목적은 로드록 챔버를 대기에 노출시키지 않음으로써 로드록 챔버의 대기중 노출로인한 로버터의 정전기 발생을 방지하고 파티클을 감소시킬 수 있도록 한 스퍼터링 장비의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템을 제공함에 있다.
본 고안의 다른 목적은, 웨이퍼 스토리지 엘리베이터를 별도의 스토리지 엘리베이터 챔버에 내장함과 아울러 그 스토리지 엘리베이터 챔버를 진공상태로 유지함으로써 공정 후 언로딩시 웨이퍼의 흡습현상을 방지하도록 한 스퍼터링 장비의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템을 제공하는데 있다.
상기와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여, 수개의 프로세스 챔버들과 연통되도록 연결 설치된 로드록 챔버와, 카세트 핸들러에 수납된 웨이퍼 카세트의 웨이퍼들을 공정수량만큼 일시저장하는 웨이퍼 스토리지 엘리베이터 및 그 스토리지 엘리베이터의 웨이퍼를 각각의 프로세스 챔버내로 이동시키는 제1로버트를 구비한 것에 있어서, 상기 로드록 챔버의 후방단에 내부압력이 공정진공상태 또는 대기압상태로 전환유지되는 별도의 챔버를 형성하여 이에 웨이퍼 스토리지 엘리베이터를 격리, 수납함과 아울러 상기 챔버의 상, 하단에 그 내부 압력에 따라 자동으로 개폐되는 제1, 제2슬리트 밸브를 각각 설치하여 로드록 챔버가 대기중에 노출되지 않고 항시공정 진공상태를 유지하도록 하고, 상기 웨이퍼 스토리지 엘리베이터 수납챔버와 카세트 핸들러 사이에 카세트 핸들러의 웨이퍼들을 공정수량만큼 웨이퍼 스토리지 엘리베이터로 이동시키는 웨이퍼 이동수단을 설치하여 구성한 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장비의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템이 제공된다.
상기 로드록 챔버에는 그 내부를 공정진공상태로 유지시키기 위한 펌핑라인 연결용 펌핑포트가 형성된다.
상기 웨이퍼 스토리지 엘리베이터 수납 챔버에는 2개의 펌핑포트, 그 펌핑포트에 연결된 진공펌프 및 상기 펌핑포트와 진공펌프를 연결하는 진공라인의 도중에 각각 착설된 이솔레이션 밸브, T/C게이지, 벨러스트 밸브, 베큠스위치로 구성되어 챔버내를 펌핑하는 펌핑수단과, 1개의 벤트포트, 그 벤트포트에 연결된 퍼지가스공급부 및 상기 벤트포트와 퍼지가스 공급부를 연결하는 퍼지라인의 도중에 각각 착설된 T/C게이지, 대기압스위치, 벤트 밸브, 필터로 구성되어 챔버내를 퍼지하는 퍼지수단이 구비되고 진공압력을 고르게 확산시키기 위한 펌핑채널이 구비된다.
상기 웨이퍼 이동수단은, 지지판, 제1관절, 제2관절, 로버트아암 및 웨이퍼를 흡착하는 진공포트를 구비한 제2로버트와, 상기 제2로버트를 구동시키는 스텝핑 모터와, 상기 제2로버트의 구동 회전각을 제한하는 리미트스위치로 구성된다.
상기 진공포트는 그의 진공압이 펌핑수단의 베큠스위치에 의해 조절된다.
상기와 같은 본 고안에 의한 스퍼터링 장비의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템은 로드록 챔버가 대기중에 전혀 노출되지 않고 항상 공정진공상태를 유지하게 되므로 종래와 같은 정전기 발생으로 인한 로버트 에러를 최소화함으로써 웨이퍼 파손 및 파티클 감소의 효과가 있고, 또 웨이퍼 스토리지 엘리베이터부위를 펌핑하여 진공상태를 유지함으로써 TEOS2공정 진행시, SOG2 공정 후에 발생하기 쉬운 웨이퍼 흡습현상을 최소화 할 수 있다는 효과등이 있다.
이하, 상기한 바와같은 본 고안에 의한 스퍼터링 장비의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템을 첨부도면에 의거하여 보다 상세히 설명한다.
첨부한 제2도 내지 제6도는 본 고안 웨이퍼 트랜스퍼 시스템을 나타낸 도면으로서, 제2도는 본 고안의 전체구조도, 제3도 및 제4도는 본고안 스토리지 엘리베이터의 구조를 보인 평면도 및 정면도, 제5도는 본 고안 스토리지 엘리베이터의 진공배선도, 제6도는 본 고안에 사용되는 제2로버트의 사시도를 각각 나타낸 것이다.
도시한 바와같이, 본 고안에 의한 스퍼터링 장비의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템은 수개의 프로세스 챔버(1')(1'')(1''')들과 연통되도록 연결 설치된 로드록 챔버(2)와, 카세트 핸들러(3)에 수납된 웨이퍼 카세트의 웨이퍼(W)들을 공정수량만큼 일시저장하는 웨이퍼 스토리지 엘리베이터(5) 및 그 웨이퍼 스토리지 엘리베이터(5)의 웨이퍼(W)를 각각 프로세스 챔버(1')(1'')(1''')내로 이동시키는 제1로버트(6)를 구비한 것에 있어서, 상기 로드록 챔버(2)의 후방단에 내부압력이 선택적으로 공정진공상태 또는 대기압상태로 전환, 유지되는 별도의 챔버(11)를 형성하여 이에 웨이퍼 스토리지 엘리베이터(5)를 격리, 수납함과 아울러 상기 챔버(11)의 상, 하단부에 그 내부압력에 따라 자동으로 개폐되는 제1, 제2슬리트 밸브(12)(12')를 각각 설치하여 로드록 챔버(2)가 대기중에 노출되지 않고 항시 공정진공상태를 유지하도록 되어 있고, 상기 웨이퍼 스토리지 엘리베이터 수납 챔버(11)와 카세트 핸들러(3) 사이에 그 카세트 핸들러(3)의 웨이퍼들을 공정수량만큼 웨이퍼 스토리지 엘리베이터(5)로 이동시키는 웨이퍼 이동수단을 설치한 구조로 되어 있다.
보다 상세히 살펴보면, 상기 로드록 챔버(2)에는 그 내부를 공정진공상태로 유지시키기 위한 펌핑라인 연결용 펌핑포트(7)(7')만이 형성되어 도시되지 않은 구동회로의 프로세스 벨러스트에 연결되어 있고, 각 프로세스 챔버(1')(1'')(1''')와의 연결부에는 챔버 슬리트 밸브(10)가 각각 개재되어 있으며, 내부에는 제1로버트(6)가 구동 가능하게 설치되어 있는바, 이는 구동회로의 포라인(Foreline)/백킹(Backing)에 연결되어 있다.
또한 상기 웨이퍼 스토리지 엘리버이터 수납 챔버(11)에는 제3도 및 제5도에 도시한 바와같이, 챔버(11)내를 펌핑하는 펌핑수단(20) 및 퍼지하는 퍼지수단(30)이 구비됨과 아울러 진공압력을 고르게 확산시키기 위한 펌핑채널(40)이 구비되어 있는 바, 상기 펌핑수단은 2개의 펌핑포트(21)(21')와, 그 펌핑포트(21)(21')에 연결된 진공펌프(22)와, 상기 펌핑포트(21)(21')와 진공펌프(22)를 연결하는 진공라인(23)의 도중에 각각 착설된 이솔레이션 밸브(22), T/C게이지(25), 벨러스트 밸브(26), 베큠스위치(27)로 구성되어 있고, 상기 퍼지수단(30)은 벤트포트(31)와, 그 벤트포트(31)에 연결된 퍼지가스 공급부(32)와, 상기 벤트포트(31)와 퍼지가스 공급부(32)를 연결하는 퍼지라인(33)의 도중에 각각 착설된 T/C게이지(34), 대기압스위치(35), 벤트 밸브(36) 및 필터(37)로 구성되어 있다.
상기 진공펌프(22)는 5∼10Torr까지 펌핑가능한 것을 사용하고, 상기 필터(35)로 흐르는 퍼지가스의 압력은 20∼30psi로 규정함이 바람직하다.
여기서, 상기 베큠스위치(27)는 도시되지 않은 구동회로의 블레이드 베큠 포느(Blade Vacuum Port)에 연결되어 있고, 상기 벤트밸브(36)는 구동회로의 로드 벤트(Load Vent)에 연결되어 있다.
한편, 상기 웨이퍼 이동수단은 360°로 회전가능하게 설치되어 웨이퍼를 흡착하는 제2로버트(50)와, 상기 제2로버트(50)를 회전구동시키는 스텝핑 모터 및 상기 제2로버트(50)의 구동회전각을 180°로 제한하는 리미트스위치로 구성되어 있다.
상기 제2로버트(50)는 제6도에 도시한 바와같이, 지지판(51)과 그 지지판(51)에 차례로 구비된 제1관절(52), 제2관절(53) 및 로버트 아암(54)과, 상기 로버트 아암(54)의 단부에 형성딘 진공포트(55)로 구성되어 있는 바, 상기 지지판(51), 제1관절(52) 및 제2관절(53)은 알루미늄 재질로 형성함이 비람직하고, 로버트 아암(54)은 알루미늄이나 세라믹으로, 진공포트(55)는 테프론이나 알루미늄으로 형성함이 바람직하다.
여기서 상기 진공포트(55)는 펌핑수단(20)의 베큠스위치(27)에 연결되어 그 진공압이 조절되도록 되어 있다.
도면중 미설명부호 9은 인/아웃 슬리트 밸브, 10a는 센퍼화인더센서, 13은 웨이퍼 안착부를 보인 것이고, 14, 15 및 16은 웨이퍼 스토리지 엘리베이터를 구성하는 로우플레이트, 업퍼플레이트 및 트레이 엘리베이터를 각각 보인 것이다.
이하, 상기한 바와같은 본 고안에 의한 웨이퍼 트랜스퍼 시스템의 동작 및 그에 따르는 효과를 설명한다.
먼저, 웨이퍼 로딩 플로우를 보면, 카세트 핸들러(3)에 50매의 웨이퍼가 안착되고, 이어서 인/아웃 슬리트 밸브(9)가 열림과 동시에 제2로버트(50)가 구동하여 카세트 핸들러(3)의 웨이퍼를 웨이퍼 스토리지 엘리베이터(5)로 옮겨 안착시킨다. [이때, 웨이퍼 스토리지 엘리버이터 수납 챔버(11)의 내부는 대기압상태이므로 제2슬리트밸브(12')는 개방, 제1슬리트 밸브(12)는 클로우즈상태가 되어 상기 동작이 이루어진다.]
이후, 요구하는 수량의 웨이퍼가 스토리지 엘리베이터(5)가 적재되면, 인/아웃 슬리트 밸브(9)를 닫고, 엘리베이터 챔버(11) 내를 벤트포트(31)를 통해 약 5초 동안 퍼지한 후 계속해서 약 15∼20초 동안 펌핑하여 진공상태를 형성한다. 이에따라 제1슬리트 밸브(12)가 개방됨과 동시에 제1로보트(6)가 구동하여 웨이퍼 스토리지 엘리베이터(5)의 웨이퍼들을 각각의 프로세스 챔버(1')(1'')(1''')로 이동시키는 것이다. [이때, 제2슬리트 밸브(12')는 클로우즈상태이고, 로드록 챔버(2)는 계속적인 펌핑으로 진공상태를 유지하게 된다.]
이와같이 웨이퍼를 로딩하여 공정을 진행한 후에는 상기의 역순으로 언로딩을 진행하게 되는 바, 먼저 제1로버트(6)가 동작하여 각각의 프로세스 챔버(1')(1'')(1''')들로부터 웨이퍼들을 순착적으로 웨이퍼 스토리지 엘리베이터(5)로 이동시킨다. [이때, 웨이퍼 스토리지 엘리베이터 수납 챔버(11)는 진공상태이다.]
이와같이 하여 웨이퍼들이 스토리지 엘리베이터(5)로 모두 이동되면, 제1슬리트 밸브(12)가 클로우즈됨과 동시애 제2슬리트 밸브(12')는 개방되고, 인/아웃 슬리트 밸브(9)가 닫힌 상태에서 벤트포트(31)를 통해 퍼지가스를 공급하여 웨이퍼 스토리지 엘리버이터 수납 챔버(11)내를 퍼지 및 대기압 분위기로 조성한다.
이에따라 인/아웃 슬리트 밸브(9)가 오픈되면서 제2로버트(50)가 구동하여 웨이퍼 스토리지 엘리베이터(5)의 웨이퍼들을 카세트 핸들러(3)의 웨이퍼 카세트로 이동시켜 어로딩하는 것이다.
즉, 본 고안의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템은 제2로버트(50)로 웨이퍼 카세트의 웨이퍼(W)를 스토리지 엘리베이터(5)로 이동시킨 후, 그 스토리지 엘리베이터(5)가 수용된 챔버(11)를 진공상태로 형성한다. 이러한 동작으로 상기 챔버(11)의 슬리트 밸브(12)(12')가 압력의 변화로 인하여 상부는 열리고, 하부는 닫히며, 이와같은 상태에서 제1로버트(6)가 구동하여 웨이퍼를 각각의 프로세스 챔버(1')(1'')(1''')로 로딩시킨다. 즉 로드록 챔버(2)를 진공상태로 유지한 상태에서 로딩 및 언로딩 작업을 행할 수 있는 것이다.
이상에서 상세히 설명한 바와같이, 본 고안에 의한 스퍼터링 장비의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템은 로드록 챔버가 대기중에 전혀 노출되지 않고 항상 공정진공상태를 유지하게 되므로 종래와 같이 로드록 챔버가 대기중에 노출됨으로 인하여 발생되는 정전기등으로 인한 로버트 에러를 최소화할 수 있고, 이에따라 웨이퍼 파손 및 파티클의 현저한 감소효과를 기대할 수 있으며, 또한, 웨이퍼 스토리지 엘리베이터 부위를 펌핑하여 진공상태를 유지함으로서 TEOS2공정시, SOG공정 후에 발생하기 쉬운 웨이퍼 흡습현상을 최소화할 수 있다는 등의 효과를 기대할 수 있다.

Claims (5)

  1. 수개의 프로세스 챔버(1')(1'')(1''')들과 연통되도록 설치된 로드록 챔버(2)와, 카세트 핸들러(3)의 웨이퍼(W)들을 고정수량만큼 일시 저장하는 웨이퍼 스토리지 엘리베이터(5) 및, 상기 웨이퍼 스토리지 엘리베이터(5)의 웨이퍼를 각각의 프로세스 챔버(1')(1'')(1''')로 이동시키는 제1로버트(6)를 구비한 것에 있어서, 상기 로드록 챔버(2)의 후방단에 내부압력이 공정진공상태 또는 대기압상태로 전환유지되는 별도의 챔버(11)를 형성하여 이에 웨이퍼 스토리지 엘리베이터(5)를 격리, 수납함과 아울러 상기 챔버(11)의 상,하단부에 그 내부압력에 따라 자동으로 개,폐되는 제1, 제2슬리트 밸브(12)(12')를 설치하여 로드록 챔버(2)가 대기중에 노출되지 않고 항시 공정진공상태를 유지하도록 하고, 상기 웨이퍼 스토리지 엘리베이터 수납 챔버(11)와 카세트 핸들러(3) 사이에 카세트 핸들러(3)의 웨이퍼들을 웨이퍼 스토리지 엘리베이터(5)로 이동시키는 웨이퍼 이동수단을 설치하여 구성한 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장비의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 로드록 챔버(2)에는 그 내부를 공정진공상태로 유지시키기 위한 펌핑라인 연결용 펌핑포트(7)(7')가 형성된 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장비의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템.
  3. 제1항에 있어서, 상기 웨이퍼 스토리지 엘리베이터 수납 챔버(11)에는 펌핑포트(21)(21'), 그 펌핑포트(21)(21')에 연결된 진공펌프(22) 및 상기 펌핑포트(21)(21')와 진공펌프(22)를 연결하는 진공라인(23)의 도중에 각각 착설된 이솔레이션 밸브(24), 티/씨게이지(25), 벨러스터 밸브(26), 베큠스위치(27)로 구성되어 내를 펌핑하는 펌핑수단과, 벤트포트(31), 그 벤트포트(31)에 연결된 퍼지가스 공급부(32) 및 상기 벤트포트(31)와 퍼지가스 공급부(32)를 연결하는 퍼지라인(33)의 도중에 각각 착설된 티/씨게이지(34), 대기압스위치(35), 벤트 밸브(36), 필터(37)로 구성되어 챔버(11) 내를 퍼지하는 퍼지수단이 구비되고, 진공압력을 고르게 확산시키기 위한 펌핑채널(40)이 구비된 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장비의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템.
  4. 제1항에 있어서, 상기 웨이퍼 이동수단은 지지판(51), 제1관절(52), 제2관절(53), 로버트 아암(54) 및 웨이퍼를 흡착하는 진공포트(55)를 구비한 제2로버트(50)와, 상기 제2로버트(50)를 회전구동시키는 스텝핑모터와, 상기 제2로버트(50)의 구동 회전각을 제한하는 리미트스위치로 구성된 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장비의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템.
  5. 제4항에 있어서, 상기 진공포트(55)는 그 진공압이 펌핑수단의 베큠스위치(27)에 의해 조절되도록 구성된 스퍼터링 장비의 웨이퍼 트랜스퍼 시스템.
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