JP2545591B2

JP2545591B2 - ウェーハ処理装置

Info

Publication number: JP2545591B2
Application number: JP24705688A
Authority: JP
Inventors: 和夫日浦; 元一金沢; 治松本
Original assignee: Kokusai Electric Corp
Current assignee: Kokusai Electric Corp
Priority date: 1988-09-30
Filing date: 1988-09-30
Publication date: 1996-10-23
Anticipated expiration: 2011-10-23
Also published as: JPH0294647A

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、ウェーハより半導体素子を製造する場合に
用いられるウェーハ処理装置、特に低圧ガス雰囲気等の
特定雰囲気中での処理を必要とする工程、例えばドライ
エッチング、CVD（化学蒸着）等に用いられるウェーハ
処理装置に関するものである。

［従来の技術］従来のウェーハ処理装置としてはバッチ方式、枚葉方
式のものがある。

バッチ方式、枚葉方式のいずれも１つの工程を処理す
る処理装置であって、バッチ方式のものは複数のウェー
ハを真空容器等の処理室の中に同時に収納し処理するも
のであり、枚葉方式のものは一枚ずつ処理室に収納して
処理するものである。

［発明が解決しようとする課題］然し乍ら上記したバッチ方式、枚葉方式では以下に述
べる様な不具合がある。

近年ではLSIの集積度が増々高くなり、超LSIも製造さ
れており、LSIの集積度の高度化に追従して、ウェーハ
も大型化してきている。従って、一度に複数のウェーハ
を収納して処理するバッチ方式では、処理装置が大型化
し、コスト的、スペース的に難しくなる。更に、集積度
の高密度化は処理装置の高精度化、製品の高品質化も要
求するが、バッチ方式ではウェーハのセットされた位置
に起因するバラツキが生じてしまう。

又、枚葉方式では一枚ずつ処理を行うので時間当りの
処理枚数（スループット）が低く、生産能率が悪い。

更に、両者ともウェーハが必要な加工処理が終ると処
理室より取出され、次の処理工程へ回されるが、超LSI
等の半導体素子の製造ではウェーハの状態で多くの異な
った処理工程を経なければならないが、処理工程間の移
送時のゴミの付着や汚染を生じることもあり、これが製
品の欠陥、品質の低下の原因となっていた。

本発明は斯かる実情に鑑み、ゴミの付着、汚染等を防
止すると共に高スループットを実現し、高品質、高能率
で処理し得るウェーハ処理装置を提供しようとするもの
である。

［課題を解決するための手段］本発明は、回転可能な回転座に屈伸可能な３節アーム
を設け、回転座と３節アームとの協働によりウェーハを
搬送可能とした少なくとも２以上のハンドリングユニッ
トと、ハンドリングユニットとハンドリングユニットと
の間に設けられ、複数段の位置にウェーハを収納可能で
且各位置共ウェーハが通過可能とした貯留カセットを有
し、該貯留カセットを昇降可能とした貯留ステージと、
該貯留ステージとハンドリングユニットとの間に設けら
れ、昇降可能且回転可能なウェーハ載置盤を有するアラ
イメントユニットと、該アライメントユニットと前記貯
留ステージとの間に位置し、ウェーハの周縁を検知する
少なくとも３以上の光検知器を有し、ウェーハを通過可
能に構成したセンサユニットとを内部に具備する搬送ユ
ニットを設け、該搬送ユニットの前記ハンドリングユニ
ットの１つに対応させ、ウェーハが装填されたカートリ
ッジをロード、アンロードする為のロードユニット、ア
ンロードユニットをそれぞれ真空ゲート弁を介して前記
搬送ユニットに設け、前記他のハンドリングユニットに
対応させ所要数のウェーハ処理ユニットをそれぞれ真空
ゲート弁を介して前記搬送ユニットに設け、該搬送ユニ
ット及び該搬送ユニットに設けられる前記各ユニットを
気密に構成したウェーハ処理装置及び回転可能な回転座
に屈伸可能な３節アームを設け、回転座と３節アームと
の協働によりウェーハを搬送可能とした少なくとも２以
上のハンドリングユニットと、ハンドリングユニットと
ハンドリングユニットとの間に設けられ、複数段の位置
にウェーハを収納可能で且各位置共ウェーハが通過可能
とした貯留カセットを有し、該貯留カセットを昇降可能
とした貯留ステージと、該貯留ステージとハンドリング
ユニットとの間に設けられ、昇降可能且回転可能なウェ
ーハ載置盤を有するアライメントユニットと、該アライ
メントユニットと前記貯留ステージとの間に位置し、ウ
ェーハの周縁を検知する少なくとも３以上の光検知器を
有し、ウェーハを通過可能に構成したセンサユニットと
を内部に具備する搬送ユニットを設け、該搬送ユニット
の前記ハンドリングユニットの１つに対応させ、ウェー
ハが装填されたカートリッジを出入れ可能とした真空容
器内に水平な軸心を中心に90゜回転可能とした回転基板
を有し、該回転基板を昇降可能に構成したロードユニッ
トを真空ゲート弁を介して前記搬送ユニットに設け、該
ロードユニットと対称的な構成としたアンロードユニッ
トを前記ロードユニットに対向させ、真空ゲート弁を介
して前記搬送ユニットに設け、前記他のハンドリングユ
ニットに対応させ所要数のウェーハ処理ユニットをそれ
ぞれ真空ゲート弁を介して前記搬送ユニットに設け、該
搬送ユニット及び該搬送ユニットに設けられる前記各ユ
ニットを気密に構成したウェーハ処理装置に係るもので
ある。

［作用］各ユニットは真空ゲート弁によってそれぞれ独立した
気密の室となり、各ユニットでの処理、作動は必要とさ
れる所定の雰囲気で行われ、各ユニット間のウェーハの
移動は真空状態で行い、又ハンドリングユニット間のウ
ェーハの移動は貯留ステージで中継されて行われ、貯留
ステージから処理ユニットへ、処理ユニットから処理ユ
ニットへの他のハンドリングユニットによる移動途中
で、アライメントユニット、センサユニットによるウェ
ーハの姿勢修正を適宜行う。

更に、ロードユニットへのウェーハカートリッジの装
入はウェーハ差入れ口を上にして行い、該ロードユニッ
トで90゜姿勢を変更して、差入れ方向を水平とし、アン
ロードユニットではウェーハカートリッジ取出し時に90
゜姿勢を変更して差入れ口を上とする。

［実施例］以下図面を参照しつつ本発明の一実施例を説明する。

第１図、第２図に於いて、１は搬送ユニット、２はロ
ードユニット、３はアンロードユニット、４は第１処理
ユニット、５は第２処理ユニット、６は第３処理ユニッ
トを示し、これらはいずれも真空容器の中に諸機器を収
納する構成である。

又、ロードユニット２は真空ゲート弁７を介して搬送
ユニット１に気密に連設され、アンロードユニット３は
真空ゲート弁８を介し搬送ユニット１の前記ロードユニ
ット２と対峙する位置に連設する。第１処理ユニット
４、第２処理ユニット５、第３処理ユニット６は後述す
る第２ハンドリング機構14を中心に等距離の位置に配置
され、真空ゲート弁9,10,11を介して前記搬送ユニット
１に連設してある。

次に、搬送ユニット１、ロードユニット２、アンロー
ドユニット３、第１処理ユニット４、第２処理ユニット
５、第３処理ユニット６、それぞれについて説明する。

搬送ユニット１の真空容器12内のロードユニット２と
アンロードユニット３との中間位置に第１ハンドリング
ユニット13を設け、又第１処理ユニット４、第２処理ユ
ニット５、第３処理ユニット６の配置中心に第２ハンド
リングユニット14を設ける。第１ハンドリングユニット
13と第２ハンドリングユニット14の間で、第１ハンドリ
ングユニット13側から貯留ステージ15、光学式センサユ
ニット16、アライメントユニット17を配設する。

前記第１ハンドリングユニット13は第６図に示される
様に駆動機構を収納する本体18と、該本体18に回転可能
に設けられた回転座19と、該回転座19に回転可能に設け
た第１アーム20と、該第１アーム20に回転可能に設けた
第２アーム21と、該第２アーム21に回転可能に設けたプ
レトアーム22から成っており、前記駆動機構は回転座19
と各アーム20,21,22とをそれぞれ独立して駆動する様に
なっており、特に第１アーム20、第２アーム21、プレー
トアーム22は相互の協働によってプレートアーム22が直
進運動をする様になっている。

次に、貯留ステージ15は、上段、中段、下段の３つの
位置にウェーハ23（第７図参照）を収納可能で且各位置
共ウェーハ23が通過可能な貯留カセット24を昇降駆動機
構25で昇降可能とした構成である。

前記光学式センサユニット16は、ウェーハ23、プレー
トアーム22′が通過可能な空間28を有すると共にウェー
ハ23の外周と同一径を有する円周上に発光ダイオード、
フォトトランジスタ等の投光素子、受光素子26a,26b,26
c,26dを４対、更にセンサユニット16の中心に１対27、
それぞれウェーハ23の通過路を挾んで設ける。

又、前記アラインメントユニット17はウェーハ載置盤
29を回転させ且昇降させる機能を有している。

更に、第２ハンドリングユニット14は第１ハンドリン
グユニット13と同様な構成であり、相違するところは、
プレートアーム22′が前記ウェーハ載置盤29と干渉しな
い様切欠部30が設けられている。

前記ロードユニット２は第３図、第４図に示される様
に真空容器の中にウェーハカートリッジ31の姿勢を90゜
交換する支持回転機構32と、該支持回転機構32を上昇降
する為の昇降機構33（第５図）を具備しており、真空容
器にはウェーハカートリッジ31を出入れ可能な開口部と
該開口部を開閉し、閉状態では気密を保持できる蓋（い
ずれも図示せず）が設けられている。

支持回転機構32の昇降基板34には水平な軸35が回転自
在に設けられ、該軸35にＬ字状の回転基板36が固着して
おり、軸35をモータ等所要の手段で回転することにより
ウェーハカートリッジ31の姿勢が変更される様になって
いる。

次に、前記昇降機構33を説明する。

真空容器の底板37にガイドロッド38を下方に向って垂
直に設け、該ガイドロッド38下端に台座39を固着し、該
ガイドロッド38には軸受40を介してスライダ41を摺動自
在に設ける。前記台座39には前記ガイドロッド38と平行
にスクリューロッド42を回転自在に設けてあり、該スク
リューロッド42はウォームギア43を介してモータ44によ
って回転される様になっていると共に前記スライダ41に
設けたナット45と螺合している。

又、前記台座39にはスクリューロッド42を気密に覆う
中空の支柱46を前記底板37を遊貫せしめて立設し、更に
支柱46の周囲はベローズ47によって気密に覆う。

而して、モータ44を駆動させることにより、ウォーム
ギア43を介してスクリューロッド42を回転させ得、スラ
イダ41即ち支持回転機構32を昇降させ得る様になってい
る。

前記第１処理ユニット４、第２処理ユニット５、第３
処理ユニット６は略同一の構成を有しているので以下は
第１処理ユニット４について説明する。

第１処理ユニット４は前記した様に真空容器で内部が
気密となる様構成されており、該第１処理ユニット４の
内部と前記搬送ユニット１の内部とは真空ゲート弁９を
介して連通する。

第１処理ユニット４の中心部にはウェーハ支持機構48
が設けられている。該ウェーハ支持機構48については特
に詳述しないが、３点又は４点でウェーハを支持するウ
ェーハ支持ピンを有し、該ウェーハ支持ピンは昇降可能
となっている。又、49は排気ユニットを示す。

以下作動を説明する。

搬送ユニット１に連設する各処理ユニット4,5,6は該
ウェーハ処理装置に要求される所望の処理、例えば、ド
ライエッチング、CVD、PVD（物理蒸着）等の処理を行い
得るものを選定しておく。

各真空ゲート弁7,8,9,10,11を閉じ、各処理ユニット
4,5,6を排気ユニット49により真空雰囲気とし、又搬送
ユニット１についても図示しない排気・給気ユニットに
よって真空雰囲気としておく。

該ウェーハ処理装置を稼動させる為の準備として、ロ
ードユニット２には未処理のウェーハ23を装填したウェ
ーハカートリッジ31を装入し、アンロードユニット３に
は空のウェーハカートリッジ31を装入する。ロードユニ
ット２、アンドロードユニット３ともに気密に密閉し、
図示しない排気・給気ユニットで内部を真空とする。内
部が真空となったところで真空ゲート弁7,8を開ける。

ロードユニット２、アンドロードユニット３を真空引
している間に、第３図の状態から第４図の状態へとウェ
ーハカートリッジ31の姿勢を所要の手段で軸35を回転さ
せ変更させておく。これは、ウェーハ23の運搬にはウェ
ーハカートリッジ31よりウェーハ23が脱落しない様、ウ
ェーハの差入れ口が上になる様にして運ぶが、ウェーハ
処理装置でのウェーハ23のハンドリングの方向が水平方
向であることによる。

第１ハンドリングユニット13のプレートアーム22の運
動方向がロードユニット２に対し進退する様に回転座19
を回転させ位置決めする。又、昇降機構33は、所望位置
例えば最上段のウェーハ23が取出せる様プレートアーム
22の垂直方向の位置が最上段のウェーハと２段目のウェ
ーハとの間となる様、モータ44を駆動してウェーハカー
トリッジ31の位置決めをする。

次に、第１アーム20、第２アーム21、プレートアーム
22を協働させてプレートアーム22を前記ウェーハカート
リッジ31に挿入する。プレートアーム22が挿入されると
昇降機構33によってウェーハカートリッジ31を若干下げ
最上段のウェーハ23をプレートアーム22上に載置せしめ
る。第１アーム20、第２アーム21、プレートアーム22の
協働でプレートアーム22を後退させウェーハ23をカート
リッジ31より引出す。回転座19を90゜回転させプレート
アーム22が貯留ステージ15に向って進退する様にする。

貯留ステージ15の昇降駆動機構15はウェーハ23が貯留
カセット24の所定の段、例えば最上段に挿入される様貯
留カセット24の上下方向の位置決めをしておく。

第１ハンドリングユニット13によってウェーハ23を貯
留カセット24の最上段に挿入した後、昇降駆動機構25は
貯留カセット25を若干上昇させ、ウェーハ23を貯留カセ
ット25で保持する。第１ハンドリングユニット13のプレ
ートアーム22を後退させる。

第２ハンドリングユニット14のプレートアーム22′を
貯留カセット24に挿入し、その状態で昇降駆動機構25で
貯留カセット24を若干下げ、ウェーハ23をプレートアー
ム22′に移載する。

第２ハンドリングユニット14はプレートアーム22′を
ウェーハ23の中心がアライメントユニット17の中心と一
致する位置迄後退させる。この位置では光学式センサユ
ニット16がウェーハ23の周縁を検出し得るようになって
おり、投・受光素子26a,26b,26c,26dの周縁検出結果が
同一状態となった時にウェーハ23の中心とアライメント
ユニット17との中心が合致したと判断されウェーハ23の
水平方向の位置合せが完了するが、各投・受光素子の検
出結果が同一状態でない場合は、プレートアーム22′の
水平方向の移動によって水平方向の位置合せを行う。

水平方向の位置合せ後回転方向の位置合せはウェーハ
載置盤29を上昇させウェーハ装置盤29でウェーハ23を回
転させ、投・受光素子27でウェーハ23の切欠部23aを検
出することで行う。例えば、投・受光素子27の行路がウ
ェーハ23によって遮断されていない回転角度を求めれ
ば、切欠部23aの中心位置即ちウェーハ23の回転方向の
位置を検出し得、位置合せを行うことができる。このア
ラインメントユニット17の作用により他のユニットに於
けるウェーハのアラインメント機能を省略できる。

ウェーハ23のアライメントが完了すると再びプレート
アーム22′によってウェーハ23を受取る。

ウェーハ23を処理する順序が第１処理ユニット４、第
２処理ユニット５、第３処理ユニット６の順に行われる
とすると第１処理ユニット４の内部４を真空とし、真空
ゲート弁９を開け、第２ハンドユニット14でウェーハ23
をウェーハ支持機構48上迄移動させ、ウェーハ支持機構
48はウェーハ支持ピン（図示せず）を上昇させウェーハ
23を保持する。

第２ハンドリングユニット14がプレートアーム22′を
後退させた後真空ゲート弁９が閉じられ、排気ユニット
49と図示しないガス供給ユニットで第１処理ユニット４
の内部が処理に必要な雰囲気とされ、所定のウェーハ処
理が行われる。

第１処理ユニット４でのウェーハ処理が完了すると第
１処理ユニット４及び第２処理ユニット５の内部が真空
にされ、真空ゲート弁9,10が開かれ、第２ハンドリング
ユニット14と第１、第２処理ユニットのウェーハ支持機
構48,48との協働によって、ウェーハ23を第１処理ユニ
ット４から第２処理ユニット５へと移動する。

第２処理ユニット５の真空ゲート弁10が閉じられ、排
気ユニット49と図示しないガス供給ユニットで第２処理
ユニット４の内部が処理に必要な雰囲気とされ、所定の
ウェーハ処理が行われる。

空きとなった第１処理ユニットには前述したと同様の
作動でロードユニット２よりウェーハ23を取出し、第１
処理ユニット４へ装入する。

第２処理ユニット５でウェーハ処理が終ると、第１処
理ユニット４から第２処理ユニット５へウェーハ23を移
動させたのと同様の作動で第３処理ユニット６へウェー
ハ23を移動する。

第３処理ユニット６でのウェーハ処理が終ると第２ハ
ンドリングユニット14で処理完了のウェーハ23を取出
し、貯留ステージ15の貯留カセット24へ収納せしめる。
この収納位置は未処理ウェーハ23との干渉を避ける為、
例えば３段目とする。更に、処理完了のウェーハ23は第
１ハンドリングユニット13によって貯留ステージ15より
取出され、アンドロードユニット３の昇降機構33との協
働により、ウェーハカートリッジ31へと収納される。

以上述べた如く、未処理のウェーハ23がロードユニッ
ト２より第１ハンドリングユニット13より取出され、順
次供給されると共に各処理が終了毎に次行程への処理へ
と第２ハンドリングユニット14によって順次送られ、更
に処理完了のものはアンロードユニット３へ収納され
る。これら、ウェーハの各ユニット間の移動は搬送ユニ
ット１を経て行われ、しかも真空中で行われる。

尚、１つの処理から次の処理へ移動する際に再度アラ
インメントが必要な場合にはアラインメントユニット17
へ戻され、或は１つの処理から前の処理へ戻す場合もあ
り、この場合直接戻してもよく或は前処理中で処理ユニ
ットにウェーハが残っている場合等では一旦貯留ステー
ジ15に中継させる様にしてもよい。この時は、貯留カセ
ット24で収納場所を２段目とすれば、未処理ウェーハ、
処理完了ウェーハ等と干渉しないので好都合である。

又、上記実施例では貯留カセットのウェーハ収納段数
を３段としたが、２段としても４段以上としても勿論か
まわない。収納段数を複数段とするとバッファ機能を発
揮し、各ユニットに於ける処理時間等によって生じるハ
ンドリング時期のずれによって生じるロスタイムを吸収
でき効率が上がる。

更に、ウェーハの移動経路についても効率、処理手順
を考慮して適宜決定すればよく、ロードユニット、アン
ロードユニットについてもその機能を固定する必要がな
く、ロードユニットから取出し処理完了したものをロー
ドユニットへ戻すようにしてもよい。更に、本装置を生
産ラインの途中に設ければラインに沿って流れてくるウ
ェーハを処理することになるので上記した如き構成のロ
ードユニット、ダンロードユニットは必要なくなる。

又、上記実施例では処理ユニットを３組設けたが、２
組であってもよい。或は搬送ユニットの処理ユニットが
設けられる部分の形状を５角形、６角形として処理ユニ
ットを４組、５組設けてもよい。更に、ハンドリングユ
ニットを直線的に３組以上設け、各ハンドリングユニッ
ト間に貯留ステージを設け、増設したハンドリングユニ
ットに対応させ各種ユニットを増設させてもよい。

その他本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更を加
え得ることは言うまでもない。

［発明の効果］以上述べた如く本発明によれば下記の優れた効果を発
揮する。

（ｉ）処理方式は枚葉方式であるのでウェーハの大型化
に対応できると共に品質にバラツキがなく高品質の処理
が可能である。

（ii）一度に複数の処理を行うので高スループットが得
られる。

（iii）ウェーハの移動は常に真空状態で行われるの
で、各処理間での汚染を防止できると共にゴミの付着が
防止でき、高品質化を図れ、不良品発生率を大幅に低減
できる。

（iv）ウェーハの搬送経路途中にウェーハのアライメン
トユニットを設けているので、各ユニットでのアライメ
ント機構を省略でき装置を簡略化し得ると共に、各処理
室での処理前のアライメント作業を省略し得スループッ
トの向上が図れる。

（ｖ）独立してウェーハを搬送可能とした複数のハンド
リングユニットとハンドリングユニット間に設けた貯留
ステージにより、処理ユニットへのウェーハの搬入、搬
出と、ロード、アンロードユニットへのウェーハの搬
入、搬出を個別に行い得る様にしたので、ウェーハの処
理状態に拘らずウェーハのロード、アンロードを行うこ
とができ、時間的ロスを無くすることができると共にウ
ェーハの処理の多様化に対処することができる。

（vi）ウェーハを複数段で支持できる貯留カセットを設
けたので、該貯留カセットがバッファ機能を発揮し、各
ユニットに於ける処理時間差によって起因し、ハンドリ
ング時期のずれによって生じるロスタイムを吸収でき、
効率が上がる。

（vii）ウェーハカートリッジの装入、取出はウェーハ
差入れ口を上にして行うので、装入、取出し時にウェー
ハを落す等の事故を未然に防ぎ得る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す平面図、第２図は第１
図のＡ−Ａ矢視図、第３図、第４図はロードユニット、
アンロードユニットの支持回転機構の斜視図、第５図は
ロードユニット、アンロードユニットの昇降機構を示す
説明図、第６図はハンドリングユニットの斜視図、第７
図はウェーハの斜視図である。１は搬送ユニット、２はロードユニット、３はアンロー
ドユニット、４は第１処理ユニット、５は第２処理ユニ
ット、６は第３処理ユニット、7,8,9,10,11は真空ゲー
ト弁、13は第１ハンドリングユニット、14は第２ハンド
リングユニット、15は貯留ステージ、23はウェーハを示
す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者松本治東京都西多摩郡羽村町神明台２―１―１国際電気株式会社羽村工場内 (56)参考文献特開昭60−211856（ＪＰ，Ａ) 特公昭61−30030（ＪＰ，Ｂ２)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】回転可能な回転座に屈伸可能な３節アーム
を設け、回転座と３節アームとの協働によりウェーハを
搬送可能とした少なくとも２以上のハンドリングユニッ
トと、ハンドリングユニットとハンドリングユニットと
の間に設けられ、複数段の位置にウェーハを収納可能で
且各位置共ウェーハが通過可能とした貯留カセットを有
し、該貯留カセットを昇降可能とした貯留ステージと、
該貯留ステージとハンドリングユニットとの間に設けら
れ、昇降可能且回転可能なウェーハ載置盤を有するアラ
イメントユニットと、該アライメントユニットと前記貯
留ステージとの間に位置し、ウェーハの周縁を検知する
少なくとも３以上の光検知器を有し、ウェーハを通過可
能に構成したセンサユニットとを内部に具備する搬送ユ
ニットを設け、該搬送ユニットの前記ハンドリングユニ
ットの１つに対応させ、ウェーハが装填されたカートリ
ッジをロード、アンロードする為のロードユニット、ア
ンロードユニットをそれぞれ真空ゲート弁を介して前記
搬送ユニットに設け、前記他のハンドリングユニットに
対応させ所要数のウェーハ処理ユニットをそれぞれ真空
ゲート弁を介して前記搬送ユニットに設け、該搬送ユニ
ット及び該搬送ユニットに設けられる前記各ユニットを
気密に構成したことを特徴とするウェーハ処理装置。
【請求項２】回転可能な回転座に屈伸可能な３節アーム
を設け、回転座と３節アームとの協働によりウェーハを
搬送可能とした少なくとも２以上のハンドリングユニッ
トと、ハンドリングユニットとハンドリングユニットと
の間に設けられ、複数段の位置にウェーハを収納可能で
且各位置共ウェーハが通過可能とした貯留カセットを有
し、該貯留カセットを昇降可能とした貯留ステージと、
該貯留ステージとハンドリングユニットとの間に設けら
れ、昇降可能且回転可能なウェーハ載置盤を有するアラ
イメントユニットと、該アライメントユニットと前記貯
留ステージとの間に位置し、ウェーハの周縁を検知する
少なくとも３以上の光検知器を有し、ウェーハを通過可
能に構成したセンサユニットとを内部に具備する搬送ユ
ニットを設け、該搬送ユニットの前記ハンドリングユニ
ットの１つに対応させ、ウェーハが装填されたカートリ
ッジを出入れ可能とした真空容器内に水平な軸心を中心
に90゜回転可能とした回転基板を有し、該回転基板を昇
降可能に構成したロードユニットを真空ゲート弁を介し
て前記搬送ユニットに設け、該ロードユニットと対称的
な構成としたアンロードユニットを前記ロードユニット
に対向させ、真空ゲート弁を介して前記搬送ユニットに
設け、前記他のハンドリングユニットに対応させ所要数
のウェーハ処理ユニットをそれぞれ真空ゲート弁を介し
て前記搬送ユニットに設け、該搬送ユニット及び該搬送
ユニットに設けられる前記各ユニットを気密に構成した
ことを特徴とするウェーハ処理装置。