JPH042147A - 半導体基板の保管装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 半導体基板の保管装置の保管雰囲気の改善に関し、 半導体基板の保管装置のメインルーム内の雰囲気を悪化
させないで、ウェーハキャリアをメインルームに自動的
に搬入・搬出することが可能となる半導体基板の保管装
置の提供を目的とし、内部が不活性ガス雰囲気のメイン
ルーム内に、半導体基板を収納したウェーハキャリアを
保管棚に載置して保管する半導体基板の保管装置であっ
て、前記メインルームには窒素導入口と調圧弁と雰囲気
ガスの組成を測定するガスの取り出し口とを具備し、前
記ウェーハキャリアを前記メインルームに搬入する前に
、前記ウェーハキャリアを載置し雰囲気を不活性ガスに
置換する手段と室内圧を表示する圧力計と雰囲気の組成
を測定するガスの取り出し口と、外気を遮断するゲート
バルブを備え、前記メインルームとゲートバルブを介し
て接続されているロードロック室と、前記ゲートバルブ
を開いて、前記ロードロック室からウェーハキャリアを
取り出し、前記メインルームの前記保管棚に前記ウェー
ハキャリアを載置或いは前記保管棚から前記ウェーハキ
ャリアを取り出す搬送機構とを具備するよう構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、半導体基板の保管装置の保管雰囲気の改善に
関するものである。

近年の高集積化した半導体装置の製造工程において半導
体基板を保管する場合に、保管雰囲気の湿度を低下させ
、半導体基板が汚染されないようにするため、清浄で且
つ低湿度の窒素雰囲気内に半導体基板を保管することが
必要である。

以上のような状況から、清浄で且つ低湿度の窒素雰囲気
内に半導体基板を保管することが可能な半導体基板の保
管装置が要望されている。

〔従来の技術〕

従来の半導体基板の保管装置について第５図、第６図に
より詳細に説明する。

第５図は従来の空気雰囲気の半導体基板の保管装置の構
造を示す図であり、第６図は従来の窒素雰囲気の半導体
基板の保管装置の構造を示す図である。

第５図に示す従来の空気雰囲気の半導体基板の保管装置
においては、半導体基板の保管装置が設置されているク
リーンルーム内の空気を上部に設けたファンｌｉｅによ
り空気導入口１１ｂから導入し、ＨＥ　Ｐ　Ａフィルタ
Ｉ１ｇで濾過した清浄な空気をメインルーム１１内に導
入し、メインルーム１１の下部に設けた空気排出口１１
ｃから排出してメインルーム１１内を清浄空気雰囲気に
している。

第６図に示す従来の窒素雰囲気の半導体基板の保管装置
おいては、メインルーム２１の上部に設けた窒素導入口
２１ｂから微量の清浄で且つ低湿度の窒素を導入し、下
部に設けた窒素排出口２１ｃから排出してメインルーム
２１内を清浄で且つ低湿度の窒素雰囲気にしている。

いずれの場合においても、半導体基板６を収納したウェ
ーハキャリア５は、メインルームに設けた保管棚に載置
して保管するようになっており、メインルームの図示し
ない扉を開放してウェーハキャリア５の搬入・搬出を行
っている。

〔発明が解決しようとする課題〕

以上説明した従来の半導体基板の保管装置においては、
半導体基板を収納したウェーハキャリアを半導体基板の
保管装置のメインルームの保管棚にウェーハキャリアを
載置或いは取り出す場合には扉を開放して作業者が出し
入れを行っているため、その度にメインルーム内の雰囲
気が悪くなっており、製造工程を自動化する場合にはウ
ェーハキャリアのハンドリング方法を考慮しなければな
らないという問題点があり、また、空気雰囲気中にて保
管している場合に酸素や湿度の影響を受は易いという問
題点があった。

本発明は以上のような状況から、半導体基板の保管装置
のメインルーム内の雰囲気を悪化させないで、ウェーハ
キャリアをメインルームに自動的に搬入・搬出すること
が可能となる半導体基板の保管装置の提供を目的とした
ものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の半導体基板の保管装置は、内部が不活性ガス雰
囲気のメインルーム内に、半導体基板を収納したウェー
ハキャリアを保管棚に載置して保管する半導体基板の保
管装置であって、このメインルームには窒素導入口と調
圧弁と雰囲気ガスの組成を測定するガスの取り出し口と
を具備し、このウェーハキャリアをこのメインルームに
搬入する前に、このウェーハキャリアを！！置し雰囲気
を不活性ガスに置換する手段と室内圧を表示する圧力計
と雰囲気の組成を測定するガスの取り出し口と外気を遮
断するゲートバルブを備え、このメインルームとゲート
バルブを介して接続されているロードロツタ室と、この
ゲートバルブを開いて、このロードロック室からウェー
ハキャリアを取り出し、メインルームの保管棚にこのウ
ェーハキャリアを載置或いは保管棚からこのウェーハキ
ャリアを取り出す搬送機構とを具備するよう構成する。

〔作用〕

即ち本発明においては、半導体基板を収納したウェーハ
キャリアを、ロードロック室内の雰囲気を外気から遮断
しているゲートバルブを開いてロードロック室内に載置
してゲートバルブを閉じ、窒素導入口から窒素を導入し
、排気口からロードロツタ室内の空気を排出して窒素と
置換し、室内の雰囲気の組成を測定するガスを取り出し
口から取り出して図示しない酸素濃度測定装置によって
空気が窒素と充分に置換されたことを確認した後、ロー
ドロツタ室とメインルームとを接続しているゲートバル
ブを開き、メインルーム内に設けた搬送機構を用いてウ
ェーハキャリアをロードロック室から取り出して、メイ
ンルームの保管棚の所定の位置にウェーハキャリアを搬
送する。

ウェーハキャリアを保管棚から取り出す場合には、この
工程とは逆にウェーハキャリアを搬送機構によって保管
棚から取り出し、ロードロック室を窒素雰囲気にしてお
き、メインルームとロードロツタ室とを接続しているゲ
ートバルブを開いてウェーハキャリアをロードロツタ室
内に載置し、このゲートバルブを閉じた後、ロードロッ
ク室を外気から遮断しているゲートバルブを開いてウェ
ーハキャリアをロードロック室外に取り出すことが可能
となる。

〔実施例〕

以下第１図〜第４図により本発明による一実施例の半導
体基板の保管装置を詳細に説明する。

第１図は本発明による一実施例の半導体基板の保管装置
の正面図であり、第２図は第１図のＡＡ断面図、第３図
は第１図のＢ−Ｂ断面図、第４図は第１図のＣ−Ｃ断面
矢視図である。

本発明の半導体基板の保管装置のメインルーム１には、
半導体基板６を収納したウェーハキャリア５を載置して
保管する保管棚１ａと、仕切板ｉｆにて仕切られた領域
の窒素をＨＥＰＡフィルタ１ｇを通して循環させるファ
ン１ｅと、窒素導入口１ｂと調圧弁１ｃと取り出し口２
ｄとが設けられている。

窒素導入口１ｂからは微量の窒素が常に導入されており
、室内圧が大気圧を超えた場合には調圧弁１ｃによって
室内の窒素を放出して室内圧を調圧している。取り出し
口１ｄからは常に室内の窒素を取り出して図示しない酸
素濃度測定装置に送ってメインルーム１内の窒素の酸素
濃度を監視し、酸素濃度が高くなれば、窒素の導入量を
増加して酸素濃度を低下させて、メインルーム内が常に
清浄で且つ低湿度の窒素雰囲気になるようにしている。

ウェーハキャリア５を搬入する場合には、まず第３図に
示すロードロック室２のゲートバルブ２ｅを開いて半導
体基板６を収納したウェーハキャリア５をロードロック
室２内に載置してゲートバルブ２ｅを閉じた後、窒素導
入口２ａから窒素を導入し、排気口２ｂから室内の空気
を排出して窒素と置換する。取り出し口２ｄからは室内
の窒素を取り出して図示しない酸素濃度測定装置に送っ
てロードロック室２内の窒素の酸素濃度を監視して酸素
濃度が所定の値よりも小さくなると、ロードロック室２
とメインルーム１とを接続しているゲートバルブ３を開
き、メインルーム１内に設けた搬送機構の前後搬送機構
４０の先端部に設けたクランプ機構４ｄによりウェーハ
キャリア５を把持し、搬送機構の図示しない制御盤を操
作してウェーハキャリア５を載置すべき保管棚１ａの位
置を指定することにより、左右搬送機構４ａと上下搬送
機構４ｂ及び前後搬送機構４ｃを駆動し、クランプ機構
４ｄにより把持したウェーハキャリア５を保管棚１ａの
指定の位置に載置する。１０ツトの半導体基板６はに２
個のウェーハキャリア５に収納されているので、この２
個のウェーハキャリア５を同じ保管棚１ａに載置してい
る。

ウェーハキャリア５を保管棚１ａに載置する場合には、
第２図の最上段に二点鎖線にて示すように前後搬送機構
４０を最も長く伸ばしてウェーハキャリア５を保管棚１
ａの臭の位置に載置し、保管棚１ａの手前の位置にウェ
ーハキャリア５を載置する場合には、中段に二点鎖線に
て示すように前後搬送機構４０を伸ばしてウェーハキャ
リア５を保管棚１ａに載置する。

ウェーハキャリア５を保管棚１ａから取り出す場合には
、載置する場合と同様に、取り出すべきウェーハキャリ
ア５を保管している保管棚１ａの位置を指定することに
より、前後搬送機構４０によりクランプ機構４ｄによっ
て把持したウェーハキャリア５を保管棚１ａの指定の位
置から取り出し、第２図の下段に示すように、クランプ
機構４ｄで把持したウェーハキャリア５を前後搬送機構
４０を縮めた状態で上下搬送機構４ｂ及び左右搬送機構
４８を駆動してウェーハキャリア５をゲートバルブ３の
前まで搬送し、ゲートバルブ３を開いてウェーハキャリ
ア５を雰囲気を窒素に置換したロードロック室２内に載
置し、前後搬送機構４０を縮めてゲートバルブ３を閉じ
た後、ロードロック室２のゲートバルブ２ｅを開いてウ
ェーハキャリア５を取り出す。

このようにロードロック室２内の空気と窒素との置換と
、ロードロック室２のゲートバルブ２ｅと、メインルー
ムｌとロードロック室２との間のゲートバルブ３の開閉
及び搬送機構の駆動により、メし インルーム１室内の窒素雰囲気を悪化ｌないで、ロード
ロック室２に搬入したウェーハキャリア５を、メインル
ーム１内の所定の保管棚１ａに収納し、或いはメインル
ーム１の所定の保管棚１ａからウェーハキャリア５をロ
ードロック室２に搬出することが可能となる。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように本発明によれば、ロード
ロツタ室と搬送機構とを設けることにより、メインルー
ムの窒素雰囲気を悪化することなく、ウェーハキャリア
のメインルームへの搬入・搬出を自動的に行うことが可
能となる利点があり、著しい経済的及び、信顧性向上の
効果が期待できる半導体基板の保管装置の提供が可能と
なる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による一実施例の半導体基板の保管装置
の正面図、 第２図は第１図のＡ−Ａ断面図、 第３図は第１図のＢ−Ｂ断面図、 第４図は第１図のＣ−Ｃ断面矢視図、 第５図は従来の空気雰囲気の半導体基板の保管装置の構
造を示す図、 第６図は従来の窒素雰囲気の半導体基板の保管装置の構
造を示す図である。 である。 図において、 １はメインルーム、１ａは保管棚、 １ｂは窒素導入口、　ＩＣは調圧弁、 １ｄは取り出し口、　１ｅはファン・ １ｆは仕切板、 ２はロードロク室、 ２ｂは排気口、 ２ｄは取り出し口、 ３はゲートバルブ、 ４ｂは上下搬送機構、 ４ｄはクランプ機構、 ６は半導体基板、 を示す。 １ｇはＨＥＰＡフィルタ、 ２ａは窒素導入口、 ２ｃは圧力計、 ２ｅはゲートバルブ、 ４ａは左右搬送機構、 ４ｃは前後搬送機構、 ５はウェーハキャリア、 本発明による一実施例の半導体基板の保管装置の正面図
第１図のＢ−Ｂ断面図 第 図 第１図のＡ Ａ断面図 第１図のＣ−Ｃ断面矢視図 第 図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 　内部が不活性ガス雰囲気のメインルーム（１）内に、
   半導体基板（６）を収納したウェーハキャリア（５）を
   保管棚（１ａ）に載置して保管する半導体基板の保管装
   置であって、 前記メインルーム（１）には窒素導入口（１ｂ）と調圧
   弁（１ｃ）と雰囲気ガスの組成を測定するガスの取り出
   し口（１ｄ）とを具備し、 前記ウェーハキャリア（５）を前記メインルーム（１）
   に搬入する前に、前記ウェーハキャリア（５）を載置し
   雰囲気を不活性ガスに置換する手段（２ａ、２ｂ）と室
   内圧を表示する圧力計（２ｃ）と雰囲気の組成を測定す
   るガスの取り出し口（２ｄ）と、外気を遮断するゲート
   バルブ（２ｅ）を備え、前記メインルーム（１）とゲー
   トバルブ（３）を介して接続されているロードロック室
   （２）と、 前記ゲートバルブ（３）を開いて、前記ロードロック室
   （２）からウェーハキャリア（５）を取り出し、前記メ
   インルーム（１）の前記保管棚（１ａ）に前記ウェーハ
   キャリア（５）を載置或いは前記保管棚（１ａ）から前
   記ウェーハキャリア（５）を取り出す搬送機構（４ａ、
   ４ｂ、４ｃ、４ｄ）と、 を具備することを特徴とする半導体基板の保管装置。