JPH0533529B2 - - Google Patents

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JPH0533529B2
JPH0533529B2 JP61205854A JP20585486A JPH0533529B2 JP H0533529 B2 JPH0533529 B2 JP H0533529B2 JP 61205854 A JP61205854 A JP 61205854A JP 20585486 A JP20585486 A JP 20585486A JP H0533529 B2 JPH0533529 B2 JP H0533529B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ウエハ搬送メカニズムを備え、半
導体製造に供用する反応性イオンエツチング装置
に関するものである。
〔従来の技術〕
第２図は例えば日立製作所カタログ「Ｒ−
206A日立枚葉式ドライエツチング装置」に示さ
れた従来の反応性イオンエツチング装置を示し、
図において、ウエハ１はカセツト２，３に収容さ
れる。エツチング装置１００と後処理装置２００
は、反応槽１０１と２０１の電極構造は異るがウ
エハ搬送メカニズムは同一としており、それぞれ
搬入用ロードロツク室１０２，２０２、搬出用ロ
ードロツク室１０３，２０３、搬入用ベルト１０
４，２０４、横送りベルト１０５，２０５、搬出
用ベルト１０６，２０６、ステージ１０７，２０
７、ウエハ１の搬送アーム１０８，１０９および
２０８，２０９、ウエハ１の通過孔を形成するゲ
ートシヤツタ１１０〜１１２、２１０〜２１１、
予備室１１３，２１３等を備えている。
以上の構成により、エツチングに引き続いて後
処理を行う場合、ゲートシヤツタ１１０を開きロ
ードロツク室１０２内のカセツト２からウエハ１
を搬入用ベルト１０４で予備室１１３に送り込
み、横送りベルト１０５でステージ１０７に送
り、図示は略したが必要な場合、ウエハ１のオリ
エンテーシヨンフラツトの位置合せを行つた後、
搬送アーム１０８で反応槽１０１に送る。
エツチング完了後、搬送アーム１０９でウエハ
１をステージ１０７に戻し、ゲートシヤツタ１１
２を開いた後、横送りベルト１０５，２０５でウ
エハ１をステージ２０７へ送り、ゲートシヤツタ
１１２を閉じた後、搬送アーム２０８でウエハ１
を反応槽２０１へ送る。後処理完了後、搬送アー
ム２０９でステージ２０７にウエハ１を戻す。ゲ
ートシヤツタ２１１を開いた後、横送りベルト２
０５および搬出ベルト２０６でウエハ１を搬出用
ロードロツク室２０３内のカセツト３に回収す
る。
上記一連の動作の途中から２枚目のウエハ１が
動作をスタートし、同様にしてエツチング、後処
理を施す。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の反応性イオンエツチング装置は以上のよ
うに構成されているため、エツチング装置も後処
理装置も同一メカニズムとすることができ装置の
標準化が可能であり、個々の装置を単独でも連続
でも使用できる利点がある。しかしながら、エツ
チングと後処理を必ず連続させて使用するプロセ
スに使用する場合はぜいたくな装置となるという
問題点があつた。
この発明は上記の問題点を解消するためになさ
れたもので、エツチングと後処理が連続に行える
小形の反応性イオンエツチング装置を得ることを
目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明による反応性イオンエツチング装置は、
単一の予備室内に配置されたエツチングを行う第
１の反応槽及び後処理を行う第２の反応槽と、前
記第１及び第２の反応槽に対向して配置されたウ
エハ搬入用の第１のステージ及びウエハ搬出用の
第２のステージと、前記第１のステージと前記第
１の反応槽間で前記ウエハを搬送すると共に長さ
が一定で且つ回動自在に配設した第１の搬送アー
ムと、前記第１のステージと前記第２のステージ
との中間に位置し、前記第１，第２の反応槽間で
前記ウエハを搬送すると共に長さが一定で且つ回
動自在に配設した第２の搬送アームと、前記第２
のステージと前記第２の反応槽間で前記ウエハを
搬送すると共に長さが一定で且つ回動自在に配設
した第３の搬送アームとを備えた構成である。
〔作用〕
搬入用ベルト等を利用して第１のステージまで
搬送されたウエハは、第１の搬送アームにより、
第１のステージから第１の反応槽まで移され、こ
の第１の反応槽内でウエハをエツチングした後、
第２の搬送アームにより、第１の反応槽から第２
の反応槽までウエハを移し、この第２の反応槽内
で後処理を行い、後処理完了後、前記第３の搬送
アームにより、第２の反応槽から第２のステージ
までウエハを搬送する。その後、例えば搬入用ベ
ルト等によつて搬出側ロードロツク室までウエハ
を搬送して一連のエツチング処理を完了させるこ
とで、狭い予備室内でウエハを簡単且つ確実に搬
送することができる。
〔実施例〕
第１図はこの発明の一実施例を示し、図におい
て、後処理付きエツチング装置３００は、エツチ
ングを行うための第１の反応槽３０１、後処理を
行うための第２の反応槽３０２、搬入側ロードロ
ツク室３０３、搬出側ロードロツク室３０４、第
１の反応槽３０１および第２の反応槽３０２を同
時に収納する予備室３０５、搬入用ベルト３０
６、搬出用ベルト３０７、搬入用に使用し、必要
に応じウエハ１のオリエンテーシヨンフラツト合
せの機構を組み込んでいる第１のステージ３０
８、搬出用に使用する第２のステージ３０９、第
１のステージ３０８から第１の反応槽３０１にウ
エハ１を搬送する第１の搬送アーム３１０、第１
の反応槽３０１から第２の反応槽３０２にウエハ
１を搬送する第２の搬送アーム３１１、第２の反
応槽３０２から第２のステージ３０９へウエハ１
を搬送する第３の搬送アーム３１２、搬入用ロー
ドロツク室３０３と予備室３０５の間を真空遮断
するための第１のゲートシヤツタ３１３、搬出用
ロードロツク室３０４と予備室３０５の間を真空
遮断するための第２のゲートシヤツタ３１４等を
備えている。また、前記各第１〜第３の搬送アー
ム３１０，３１１，３１２は、それぞれ一定の長
さ即ち所定の長さを有すると共に、予備室３０５
内で回動支点を中心として回動自在に配設されて
いる。なお、各第１〜第３の搬送アーム３１０，
３１１，３１２の所定長さは、前記回動支点の位
置に応じて、全て同じにしたり全て異なるものに
し得ることは言うまでもない。
次に、作用について説明する。搬入用ロードロ
ツク室３０３を真空排気し、予備室３０５と同圧
となつた時点で第１のゲートシヤツタ３１３を開
放し、搬入用ベルト３０６でカセツト２からウエ
ハ１を１枚、第１のステージ３０８に搬送する。
次に第１の搬送アーム３１０でウエハ１を第１の
ステージ３０８から第１の反応槽３０１に搬送
し、エツチング処理を行う。エツチング完了後、
第２の搬送アーム３１１で第１の反応槽３０１か
ら第２の反応槽３０２へウエハ１を搬送し後処理
を行う。後処理完了後第３の搬送アーム３１２で
第２の反応槽３０２から第２のステージ３０９へ
ウエハ１を搬送する。なお、前記の動作完了以前
に搬出用ロードロツク室３０４を真空排気し、予
備室３０５と同圧にした後第２のゲートシヤツタ
３１４を開放しておく。次に、搬出用ベルト３０
７で第２のステージ３０９からカセツト３へウエ
ハ１を回収する。
なお、複数枚のウエハ１を連続的に処理する場
合は、前のウエハ１を第１の反応槽３０１から第
２の反応槽３０２へ搬送するタイミングに合わせ
て、次のウエハ１を第の反応槽へ送り込むように
すれば連続的に処理することができる。
また、第１の反槽３０１のみの処理でウエハ１
を搬出する場合は、第２の搬送アーム３１１で第
１の反応槽３０１から第２のステージ３０９へウ
エハ１を搬送することができる。
さらに、第２の反応槽３０２のみの処理が必要
な場合は、第２の搬送アーム３１０で第１のステ
ージ３０８から第２の反応槽３０２へウエハ１を
搬送することができる。
なお、上記実施例は反応性イオンエツチング装
置について説明したが、枚葉方式で２つの処理を
連続して行う他のプロセス装置（例えばCVD装
置）に適用できることはいうまでもない。
さらに、上記実施例では２つの反応槽を１つの
予備室に収納する例で説明しているが、反応槽が
３つ以上になつてもこの発明の延長線上で構成で
きる。
なお、上記実施例では搬入用および搬出用ロー
ドロツク室と第１および第２のステージ間のウエ
ハ搬送はベルト搬送を使用しているがどのような
搬送方式を使用してもよい。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明によれば２つの反応室
を１つの予備室内に収納し、３本の搬送アームで
ウエハを搬送するようにしたため、搬送速度や搬
送経路に対する規制が多い搬送ベルトを多用せず
に、搬送アームのもつ回転を有効に利用すること
で、単純な構造をもつて搬送速度（処理能力）を
アツプさせ、しかも部品点数の減らすことで、装
置の小型化に寄与すると共に装置の故障をも少な
くし、装置の低廉化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
第１図はこの発明の一実施例の概略平面図、第
２図は従来の反応性イオンエツチング装置の概略
平面図である。 １……ウエハ、３００……後処理付エツチング
装置、３０１……第１の反応槽、３０２……第２
の反応槽、３０５…予備室、３０８……第１のス
テージ、３０９……第２のステージ、３１０……
第１の搬送アーム、３１１……第２の搬送アー
ム、３１２……第３の搬送アーム。なお、各図
中、同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ 単一の予備室内に配置されたエツチングを行
    う第１の反応槽及び後処理を行う第２の反応槽
    と、前記第１及第２の反応槽に対向て配置された
    ウエハ搬入用の第１のステージ及ウエハ搬出用の
    第２のステージと、前記第１のステージと前記第
    １の反応槽間で前記ウエハを搬送すると共に長さ
    が一定で且つ回動自在に配設した第１の搬送アー
    ムと、前記第１のステージと前記第２のステージ
    との中間に位置し、前記第１，第２の反応槽間で
    前記ウエハを搬送すると共に長さが一定で且つ回
    動自在に配設した第２の搬送アームと、前記第２
    のステージと前記第２の反応槽間で前記ウエハを
    搬送すると共に長さが一定で且つ回動自在に配設
    した第３の搬送アームとを備えたことを特徴とす
    る反応性イオンエツチング装置。
JP61205854A 1986-09-03 1986-09-03 反応性イオンエツチング装置 Granted JPS6362233A (ja)

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