JPS6362233A - 反応性イオンエツチング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ウェハ搬送メカニズムを備え、半導体製造
に供用する反応性イオンエツチング装置に関するもので
ある。

〔従来の技術〕

第２図は例えば日立製作所カタログ［−２ｏｂＡ日立枚
葉式ドライエツチング袈置」に示された従来の反応性イ
オンエツチング装置を示し、図において、ウェハ（１）
はカセットＬ２１（、？）に収容される。エツチング美
貌（１００）と後部ｊ中装置（２０θ）は、反応槽（／
（７／）と（コ（７／）の電極構造は異るがウェハ搬送
メカニズムは同一としており、それぞれ搬入用ロードロ
ック室（１０２）（２０コ）、搬出用ローベルト（／θ
６）（２θ６）、ステージ（／（１７７）　（２ｏ７）
。

ウェハ（１）の搬送アーム（１０ｔ）　（１０ｑ　）お
よび（２０ｇ　）。

（２０Ｖ）、ウェハ（１）の通過孔を形成するゲートシ
ャッタ（Ｉｌｏ）〜（／／コ）、（コｉｏ−コ／／）予
備室（／／Ｊ）（コへ７）等を備えている。

以上の構成により、エツチングに引き続いて後処理を行
う場合、ゲートシャッタ（Ｉｌｏ）を開きロードロック
室（１０２）内のカセット（２）からウェハ（１）を搬
入用ベルト（１０１１）で予備室（／／、？）に送り込
み、横送りベルト（７ｏｚ）でステージ（１０７）に送
り、図示は略したが必要な場合、ウェハ（１）のオリエ
ンテーションフラットの位賀合せを行った後、搬送アー
ム（１０８）で反応相（／θ／）に送る。

エツチング完了後、搬送アーム（１０ｙ　）でワエハ（
１）をステージ（１０り）に戻し、ゲートシャッタ（／
／コ）を開いた後、横送りベルト（ｌｏｇ）（二ｏｒ）
でウエヒ（１）をステージ（２ｏｑ）へ送り、ゲートシ
ャッタ（／／コ）を閉じた後、搬送アーム（コＯｇ）で
ウェハ（１）を反応槽（コＯ／）へ送る。後処理完了後
、搬送アーム（−０９）でステージ（２０７）ＶＣ７エ
ハ（１）を戻す、ゲートシャッタ（２／／）を開いた後
、横送りベルト（２０５）および搬出ベルト（ＪＡ）テ
ウエハ（／′）を搬出用ロードロック室（コＯＪ）内の
カセット（３）に回収する。

上記一連の動作の途中からコ枚目のウェハ（１）が動作
をスタートし、同様にしてエツチング、後処理を流す。

〔発明が解決しようとする問題点〕

従来の反応性イオンエツチング装ｆＲ，は以上のように
構成されているため、エツチング装置も後処理装置も同
一メカニズムとすることができ装置の標準化が可能であ
り、個々の装置を単独でも連続でも使用できる利点があ
る。しかしながら、エツチングと後処理を必ず連続させ
て使用するプロセスに使用する場合はぜいたくな装置と
なるという問題点があった。

この発明は上記の問題点を解消するためになされたもの
で、エツチングと後処理が連続に行える小形の反応性イ
オンエツチング装置を得ることを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明に係る反応性イオンエツチング装置は、７つの
予備室内に反応槽を２組配置し、第１の反応槽、第２の
反応槽に対向して、第１のステージ、第一のステージを
備え、第１のステージと第１の反応槽間でウェハを搬送
する第１の搬送アーム、第１．第一のステージ、第１．
第一の反応槽間でウェハを搬送する第二の搬送アーム、
第二のステージと第一の反応槽間でウェハを搬送する第
３の搬送アームを配設したものである。

〔作　用〕

この発明圧おいては、第１の反応槽でエツチングした後
、第２の搬送アームでウェハを第２の反応槽に移し、後
処理を引き続き行うことが可能である。なお、第１〜第
３の搬送アームの作用により、第１と第２の反応槽を個
別に使用することも可能である。

〔実施例］ 第１図はこの発明の一実施例を示し、図におＡて、後処
理付きエツチング装ｆ（，７ｏｏ）は、エツチングを行
うための第１の反応槽（，７ｏ　／）、後処理を行うた
めの第２の反応槽（Ｊｏ２）、搬入側ロー　）’　０　
ツク室（、？（７，７）、搬出側ロードロック室（，７
（７ダ）、第１の反応槽（Ｊｏ／）および第一の反応槽
（３０２）を同時に収納する予備室（，３０！；）、搬
入用ベルト（Ｊｏ＆）、搬出用ベルｈ　（３０７）、搬
入用に使用し、必要に応じウェハ（１）のオリエンテー
ションフラット合せの機構を組み込んでいる第１のステ
ージ（３ｏｔ＞、Ｗｊ出用に使用する第一のステージ（
３０９）、第１のステージ（ｔｏｇ）から第１の反応槽
（３０／）にウェハ（１）を搬送する第１の搬送アーム
（３１０）、第１の反応槽（、？　０　／　）から第一
の反応槽（３０２）にウェハ（１）を搬送する第一の搬
送アーム（、？／／）、第一の反応槽（３０２）（３ｏ
３）と予備室（３ＯＳ）の間を真空遮断するだめの第１
のゲートシャッタ（，７／、７）　、搬出用ロードロッ
ク室（ｊｏｙ）と予備室（、？θ＆）の間を真空遮断す
るための第一のゲートシャッタ（３ハ・等を備えている
。

次に、作用について説明する。搬入用ロードロック室（
３ｏ、ｙ）を真空排気し、予備室（Ｊｏｇ）と同圧とな
った時点で第１のゲートシャッタ（，７／、７）を開放
し、搬入用ベルト（３ｏ６）でカセット（２）からウェ
ハ（１）を７枚、第１のステージ（３０１）に搬送する
。次に第１の搬送アーム（、ｙｌｏ）でウェハ（１）を
第１のステージ（３Ｏｔ）から第１の反応槽（、ｙｏ／
）に搬送し、エツチング処理を行う。エッチング完了後
、第一の搬送アーム（Ｊ／／）で第１の反応槽（、？　
０　／　）から第二の反応槽（、？　０２）ヘウエハ（
１）を搬送し後処理を行う。後処理完了後筒３の搬送ア
ーム（、Ｖ　ｔ　２）で第一の反応槽（３０コ）から第
２のステージ（、？（７９）ヘウエハ（１）を搬送する
、なお、前記の動作完了以前に搬出用ロードロック室（
、ｙＯｐ）を真空排気し、予備室（３０ｔ）と同圧にし
た後筒−のゲートシャッタ（、？　／　ｑ　）を開放し
ておく。次に、搬出用ベルト（３０り）で第２のステー
ジ（ＪＯ９）からカセット（３）ヘウエハ（／ｌを回収
する。

なお、複数枚のウェハ（１）を連続的に処理する場合は
、前のウェハ（１）を第１の反応槽（，７（７／）から
第一の反応槽（３０２）へ搬送するタイミングに合わせ
て、次のウェハ（／ｌを第１の反応槽へ送り込むように
すれば連続的に処理することができる。

また、第１の反応槽（、？　０　／　）のみの処理でウ
ェハ（１）を搬出する場合は、第一の搬送アーム（，７
／　／）で第１の反応槽（３０／）から第一のステージ
（，７７７？）ヘウエハ（１）を搬送することができる
。

さらに、第一の反応槽（３０コ）のみの処理が必要な場
合は、第一の搬送アーム（３１０）で第１のステージ（
３０ｔ）から第２の反応槽（３０２）ヘウエハ（１）を
搬送することができる。

なお、上記実施例は反応性イオンエツチング装置につい
て説明したが、枚葉方式で２つの処理を連続して行う他
のプロセス装置（例えばＣＶＤ装置ｔ）Ｋｆ適用できる
ことはいうまでもない。

さら忙、上記実施例ではλつの反応槽を７つの予備室に
収納する例で説明しているが、反応槽が３つ以上になっ
てもこの発明の延長線上で構成できる。

なお、上記実施例では搬入用および搬出用ロードロック
室とｔ＄／および第一のステージ間のウェハ搬送はベル
ト搬送を使用しているがどのような搬送方式を使用して
もよい。

〔発明の効果］ 以上、のように、この発明によれば２つの反応室を７つ
の予備室内圧収納し、３本の搬送アームでウェハを搬送
するようＫしたため、処理能力が向上し、かつ、所要部
品が大幅に削減する結果、低廉化、省スペース化が達成
される効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例の概略平面図、第２図は従
来の反応性イオンエツチング装置の概略平面図である。 （１）・・ウェハ、弁日巧ヰ（３００）・・後処理付エ
ツチング装置、（３ｏｉ）・−第１の反応槽、（ｔＯ２
）・・第二の反応槽、（３ｏｒ）・・予備室、（，７０
ｇ）　−・ｋ　／のステージ、（、ｊ０９）、＠第一の
ステージ、（３１０）・・第１の搬送アーム、（、？／
／）・−第一の搬送アーム、（、ｙｙ２）　＠拳第３の
搬送アーム、 なお、各図中、同一符号は同−筐たけ相当部分を示す。 第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 単一の予備室内に配置されたエッチングを行う第１の反
   応槽および後処理を行う第２の反応槽と、前記第１およ
   び第２の反応槽に対向して配置されたウェハ搬入用の第
   １のステージおよびウェハ搬出用の第２のステージと、
   前記第１のステージと前記第１の反応槽間でウェハを搬
   送する第１の搬送アームと、前記第１、第２のステージ
   と前記第１、第２の反応槽間で前記ウェハを搬送する第
   ２の搬送アームと、前記第２のステージと前記第２の反
   応槽間で前記ウェハを搬送する第３の搬送アームとを備
   えてなる反応性イオンエッチング装置。