JPS63236342A - ウエハ搬送装置 - Google Patents

ウエハ搬送装置

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Publication number
JPS63236342A
JPS63236342A JP62070628A JP7062887A JPS63236342A JP S63236342 A JPS63236342 A JP S63236342A JP 62070628 A JP62070628 A JP 62070628A JP 7062887 A JP7062887 A JP 7062887A JP S63236342 A JPS63236342 A JP S63236342A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
wafers
arm
positions
transferred
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62070628A
Other languages
English (en)
Inventor
Shozo Ueno
省三 上野
Hirozo Shima
島 博三
Hiroshi Yamamoto
山本 宏志
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP62070628A priority Critical patent/JPS63236342A/ja
Publication of JPS63236342A publication Critical patent/JPS63236342A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Specific Conveyance Elements (AREA)
  • Feeding Of Articles By Means Other Than Belts Or Rollers (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はウェハ搬送装置に関し、特にバッチ式プラズマ
CVD装置等に好適に適用し得るウェハ搬送装置に関す
る。
従来の技術 例えば、平行平板型のパッチ式プラズマCVD装置にお
いて、反応室内の処理済ウエノ・と未処理ウェハを交換
する方式には、一般的に第3図のように反応室内の供給
位置2oと取出位置19及びローダからの供給位置22
とアンローダへの取出位置23を別にするアーム割出方
式が用いられている。
発明が解決しようとする問題点 ところが、この方式ではウェハの搬入・搬出を同時に行
うことができず、搬送に時間を要するという問題があり
、さらに、アーム停止位置が反応室内の供給位置20と
取出位置19、ローダからの供給位置22とアンローダ
への取出位置23及び定位置の6ケ所必要で、アームが
大きくなるばかりか角度制御も複雑になるという問題が
あった。
本発明は従来のこのような問題点に鑑み、搬送時間を短
かくできると共に装置がコンパクトなウェハ搬送装置の
提供を目的とする。
問題点を解決するだめの手段 本発明のウェハ搬送装置は、ウェハを供給するローダ部
と、ウェハを取出すアンローダ部と、ウェハ処理部との
間のウェハ搬送装置であって、ウェハをベルト搬送する
予備室の両側に前記ローダ部とアンローダ部を接続し、
この予備室の中間部と前記ウエノ・処理部との間でウエ
ノ・を受渡しするダブル移載アームを配設したことを特
徴とする特許である。
作   用 本発明は上記構成を有するので、ローダ部から供給され
たウェハをベルト搬送して予備室の中間部に位置させた
状態でダブル移動アームを作動させることにより、ウェ
ハ処理部で処理済のウェハを予備室の中間部に取り出す
と同時に未処理のウェハをウェハ処理部内供給すること
ができ、予備室の中間部に取り出した処理済ウェハをア
ンローダ部にベルト搬送する間に次のローダ部から供給
されたウニ・へを中間部に搬送することができ、以上の
動作を繰り返すことによりウェハ処理部に対するウェハ
の搬入・搬出を短時間で能率的に行うことができる。
実施例 以下、本発明の実施例を第1図及び第2図にもとづいて
説明する。ローダ1及びアンローダ4はそれぞれ3@の
カセット室10から構成され、それぞれロータリポンプ
及びメカニカルブースタポンプによって真空引したり、
N2ガスによって大気に戻すことができる。
各カセット室10と予備室2はゲート了aによって分離
されている。カセット室10には、モータによって上昇
・下降可能なカセット台(図示せず)が配設されると共
にカセット台上のカセットからウェハを予備室2内に向
って搬出するベルト(図示せず)が設けられている。
予備室2は同様にロータリポンプ及びメカニカルブース
タポンプによって真空引することができる。予備室2と
反応室3はゲー)7bによって分離されている。予備室
2内には、ローダ1に対応するポジション2” r 2
 b 、 2 c 、中間部のポジション2d、アンロ
ーダ4に対応するポジション2e 、2f 、2g 、
及び中間部のポジション2dと反応室3内のポジション
3aとの間のポジション2hが設けられ、各ポジション
には光ファイバーの透過型センサーが設けられてウェハ
の有無を検出できる。ポジション2aと2d間、2dと
2q間は搬送ベルトが設けられている。前記ポジション
2dと2h間及び2hと3a間は供給アーム8と取出ア
ーム9を備えたダブル移載アームにて同時にウェハ移載
できるように構成されている。
反応室3は同様にロータリポンプ及びメカニカルブース
タポンプによって真空引することができ圧力制御できる
。反応室3内のサセプタ5上には11枚のウェハを載せ
ることができ、時計回りに回転する。又、サセプタ6の
原点検出とピッチ検出が可能でポジション3aを原点と
し、1枚目のウェハを搬入する。反応室3では、上部及
び下部電極でサセプタ6を加熱でき、温調器によって約
300℃に制御されたサセプタ5上のウェハは、真空度
的300mTORR下で反応ガスを供給し、高周波電源
1〜2KWでプラズマを発生させ、ウェハに薄膜を形成
することができる。
前記の供給アーム8と取出アーム9の作動機構は、第2
図a、bに示すように、アーム移載モータ11を回転さ
せるとトルクテンダー12.ギヤボックス13を通じて
供給アームカム14aと取出アームカム14bが同時に
回転する。このカムの形状にそってカムフォロア15a
 、 15bが扇形ギヤを有するレバー16a、16b
を動かし、それぞれ中間ギヤ17を通じてアーム駆動ギ
ヤ列18a、18bが回転し、供給アーム8及び取出ア
ーム9が同期して動くように構成されている。
次に実施例による作用を第1図とウェハポジションの流
れを示す第1表にもとづいて説明する。
サセプタ6上に処理済ウェハが11枚ある状態で、ウェ
ハ搬出のためサセプタ6を回転させながら原点検出する
。それと並行して未処理ウェハをポジション1a、1b
、ICのいずれかからベルト搬送しポジション2dへ運
ぶ。ここでウェハの向きを一定にするためのオリエンタ
ルフラット合わせ(姿勢規制)を行う。次に、カム14
a。
14bを半回転させると供給アーム8が動きポジション
2dのウェハは2hの移載される。供給アーム8に連動
して取出アーム9がポジション211’から2dへ動く
。この時ポジション2h′にはウェハがないのでポジシ
ョン2dにはウェハが移載されない。(ステップ1) さらに、カム14a、14bを半回転させると取出アー
ム9がポジション3aのウェハをポジション2 h’へ
移載する。取出アーム9に連動して供給アーム8が動く
とポジション2hのウェハはポジシラン3aへ移載され
る。この処理と並行してローダからは次のウェハがポジ
ション2dへ搬送サレ、オリエンタルフラット合わせを
している。
(ステップ2) 次に、カム14a、14bを半回転させると供給アーム
8が動いてポジション2dのウェハは2hへ移載される
。供給アーム8に連動して取出アーム9が動きポジショ
ン2h′のウェハがポジション2dへ移載される。
この処理と並行してサセプタが1ピッチ回転しポジショ
ン3aには2番目の処理済ウエノ・が来る。
(ステップ3) さらに、カム14a、14b回転させると取出アーム9
が動いてポジション3aのウェハをポジション2h′へ
移載する。取出アーム9に連1読して供給アーム8が動
きポジション2hのウェハはポジション3aへ移載され
る。この処理と並行してポジション2dのウェハはポジ
ション4a 、 4b 。
4cのいずれかへベルト搬送され、ローダからは次のウ
ェハがポジション2dへ搬送されてオリエンタルフラッ
ト合わせする。(ステップ4)このようにしてステップ
23まで処理すると反応室3内のすべてのウェハを最小
時間で交換できる。
第   1   表 「 N1〜11・・団・未処理ウェハ 01〜11・・・・・・処理済ウェハ 発明の効果 本発明のウェハ搬送によれば、ダブル移載アームを用い
てウェハ処理部と予備室の中間部との間でのウェハ供給
と取出しを同時に行え、かつ中間部とローダ部及びアン
ローダ部間の搬送もベルト搬送にて同期して搬送できる
ため、ウェハ処理部に対するウェハの出し入れ搬送時間
を大幅に短縮できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明をプラズマCVD装置に適用した一実施
例の全体概略平面図、第2図aはダブル移載アームの、
駆励機構の構成図、同すは同アームの動作説明図、第3
図は従来のウェハ移載装置の動作を示す平面図である。 1・・・・・ローダ、2・・・・・・予備室、3・・・
・・・反応室(ウェハ処理部)、4・・・・・・アンロ
ーダ、8・・・°゛°供給アーム、9・・・・・・取出
アーム。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第3

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ウェハを供給するローダ部と、ウェハを取出すアンロー
    ダ部と、ウェハ処理部との間のウェハ搬送装置であって
    、ウェハをベルト搬送する予備室の両側に前記ローダ部
    とアンローダ部を接続し、この予備室の中間部と前記ウ
    ェハ処理部との間でウェハを受渡しするダブル移載アー
    ムを配設したことを特徴とするウェハ搬送装置。
JP62070628A 1987-03-25 1987-03-25 ウエハ搬送装置 Pending JPS63236342A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62070628A JPS63236342A (ja) 1987-03-25 1987-03-25 ウエハ搬送装置

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JP62070628A JPS63236342A (ja) 1987-03-25 1987-03-25 ウエハ搬送装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63236342A true JPS63236342A (ja) 1988-10-03

Family

ID=13437083

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62070628A Pending JPS63236342A (ja) 1987-03-25 1987-03-25 ウエハ搬送装置

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JP (1) JPS63236342A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007049150A (ja) * 2005-08-05 2007-02-22 Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc Asia 半導体ワークピース処理システム及びその処理方法
JP2019208073A (ja) * 2011-03-11 2019-12-05 ブルックス オートメーション インコーポレイテッド 基板処理ツール

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007049150A (ja) * 2005-08-05 2007-02-22 Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc Asia 半導体ワークピース処理システム及びその処理方法
JP2019208073A (ja) * 2011-03-11 2019-12-05 ブルックス オートメーション インコーポレイテッド 基板処理ツール
US11195738B2 (en) 2011-03-11 2021-12-07 Brooks Automation, Inc. Substrate processing apparatus
US11978649B2 (en) 2011-03-11 2024-05-07 Brooks Automation Us, Llc Substrate processing apparatus

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