JPS613313A

JPS613313A - 磁気ヘツド

Info

Publication number: JPS613313A
Application number: JP12480484A
Authority: JP
Inventors: Tatsuo Hisamura; 達雄久村; Shoichi Kano; 加納　庄一; Heikichi Sato; 平吉佐藤; Tomio Kobayashi; 富夫小林
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1984-06-18
Filing date: 1984-06-18
Publication date: 1986-01-09
Also published as: JPH0475565B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕本発明は、強磁性酸化物材料と強磁性金属材料との複合
磁性材料からなる磁気ヘッドに関し、特に擬似ギャップ
による影響を防止し安定な再生を行なえる磁気ヘッドに
関する。〔背景技術とその問題点〕近年、たとえばＶＴＲ（ビデオテープレコーダ）を用い
て磁気記録媒体である磁気テープに信号の高密度記録が
行なわれるようになるに従い、磁気テープとして残留磁
束密度Ｂｒと抗磁力Ｈｅがともに高いメタルテープ等が
使用されるようになってきている。ところで、このメタルテープ等の高い抗磁力Ｈｃを持つ
磁気テープに信号を高密度に磁気記録するには、磁気ギ
ャップより発生する磁界の強度が高く、しかも狭いトラ
ンク幅の磁気ヘッドを用いる必要がある。そこで、このような磁気ヘッドとしては、第１図に斜視
図または第２図にそのテープ対接面が示されているよう
な磁気ヘッドが提案されている。この磁気ヘッドは、磁気コア半体１，２が強磁性酸化物
のＭｎ−Ｚｎフェライト等より形成され、磁気ギヤツブ
ｇ側のフェライト突起部３，４と溶融充填されたガラス
の非磁性材５，６とを連ねた平面上には、スパッタリン
グ等によりセンダスト等の強磁性金属薄膜７Ａ、７Ｂが
被着形成されている。また、被着形成されたこの強磁性
金属薄膜７Ａ、７Ｂ上にはガラスの非磁性材８が溶融充
填されている。上記磁気ヘッドは、このように強磁性酸化物材料と強磁
性金属材料との複合磁性材料からなり、磁気ギャップＩ
が高透磁率を有する上記強磁性金属薄膜７Ａ、７Ｂによ
り形成されていることで、ヘッドの磁気抵抗が小さく、
磁気ギャップｇから発生される磁界の強度が高くなって
おり、また形成される金属薄膜７Ａ、７Ｂの厚みをコン
トロールすることで狭トラツク化が容易に行なえるため
メタルテープ等に高密度に磁気記録するのに適したヘッ
ドとなっている。ここで、上記強磁性金属薄膜７Ａ、７Ｂの形成面が磁気
ギャップｇの形成面に対して所要角度で傾斜しているこ
とは、再生時のクロストークを防止するなどの働きがあ
る。なお、この磁気ヘッドはアジマス記録を行なえるように
、磁気ギャップｇの形成面が所定のアジマス角度で傾斜
している。また、複合磁性材料からなりメタルテープ等に高密度に
磁気記録するのに適した磁気ヘッドとして、第３図に斜
視図才た第４図にその磁気テープ対接面が示されている
ヘッドがさらに提案されている。この磁気ヘッドは、磁気コア半休１１．１２が強磁性酸
化物のＭｎ−Ｚｎフェライト等により形成され、磁気ギ
ャップｇがセンダスト等の強磁性金属薄膜１７Ａ、１７
Ｂのみで形成されている。また、この磁気ヘッドは、ヘエライト突起部１３゜１４
とガラスの非磁性材１５．１６との界面がアジマス角と
は異なる方向に二段階に屈曲しており、クロストークの
発生をさらに防げるようになっている。ところで、上述の２つの磁気ヘッドは、磁気コア半休の
突起部３，４また１３．１４が磁気ギャップｇの中心Ｏ
に対して左右点対称な形状に形成されている。ところが、ギャップ面の研削工程や研摩工程において、
左右の磁気コア半休の研削や研摩量に差が生じると、こ
の対称性がそこなわれてくる場合がある。第５図には、第３図の磁気ヘッドの場合について、左右
の点対称のそこなわれた例が示されている。この第５図において、Ａ、Ｄに狭まれた軌跡は、磁気ギ
ャップ９の軌跡であり、摺動する磁気テープへの信号の
記録ゾーンとなっており、またＣは記録ゾーンＡ、Ｄの
中心を示している。またＡ−。Ｄ間に挾まれたＭ、Ｎは磁気コア半休１１．１２の突起
部２３．２４の先端２３Ａ、２４Ａが通過する位置とな
っており、突起部２３．２４が磁気ギャップＩの中心Ｏ
に対して左右点対称でないため、Ｍ、Ｎの中心はＣから
ずれた位置となっている。このような磁気ヘッドでは、磁気テープから信号の再生
を行なう場合、１〜５ＭＨｚと高い再生周波数域につい
ては、磁気ギャップｇの中心Ｏが上記記録ゾーンＡ、Ｄ
間の中心Ｃ上を通過する時に最も大きな再生出力を得る
ことができるようになっているが、一方数十〜数百ｋＨ
ｚの低周波域の信号の再生においては、上記突起部２３
．２４の先端２３Ａ、２４Ａが記録ゾーンＡ、Ｄ間の中
心Ｃ上をまたがる様な位置を通過する時に最も大きな再
生出力となる。すなわち、高周波数域の再生では磁気ギャップｇの中心
Ｏで再生出力が最大となり、低周波数域の再生では上記
先端２３Ａ、２４Ａを結んだ磁気ギヤツブｇ上の位置Ｐ
においてほぼ再生出力が最大となる。これは、高域において再生に寄与するは弾磁性金属薄膜
１７Ａ、１７Ｂどうしが突き合わされて形成される磁気
ギャップＩであるが、低域においてはアジマスロスが７
Ｊ＼さくなることにもより、フェライトの上記先端２３
Ａ、２４Ａ部が再生に寄与するようになるためである。すなわち、再生信号の周波数が低くなり信号の波長が上
記先端２３Ａ、２４Ａ間の距離と等しいオーダーになる
と、磁気ギャップｙであるメインギャップ以外に、フェ
ライトの先端２３Ａ、２４Ａがギャップエツジとして作
用し、擬似ギャップが形成されるようになるためである
。このような状態では、低域周波数と高域周波数をともに
含んだ信号の記録再生を行なおうとすると、一方の周波
数の再生出力が低くなってしまい、また磁気ヘッドのト
ランク上の位置において両者の再生出力に変化が生じる
ようになる。これは、安定な二周波数域の重畳記録再生を行なおうと
する場合において大きな障害となる。そこで、このような問題を解決するために、第１図およ
び第３図に示した磁気ヘッドのように。フェライトの突起部３，４また１３．１４の形状や先端
位置を磁気ギャップＩの中心０に対して左右が点対称と
なるように形成しなければならない。しかし、高い精度で点対称に形成するためには、上述の
ギャップ面の研摩量を左右のコア半休において完全に同
一にしなければならず、これには１〜２μｍ以下という
高い研摩精度が要求されるようになる。このように高精度の加工を行なうことは非常に難しく、
歩留りの低下をまねいてしまい、磁気ヘッドの価格を上
昇させてしまうことになる。〔発明の目的〕そこで、本発明はこのような実情に鑑み提案されたもの
であり、低域と高域をともに含んだ二周波数域の信号の
記録再生を行なうにあたって、磁気ヘッドの加工精度が
低く右でも、磁気ギャップのトランク幅の中心において
低域周波数および高域周波数ともに再生出力が最大とな
り、安定な再生が行なえ、しかも安価である磁気ヘッド
を提案することを目的とする。〔発明の概要〕この目的を達成するために本発明の磁気ヘッドは、強磁
性酸化物よりなる磁気コア半体対の接合面に真空薄膜形
成技術により強磁性金属薄膜を形成し、この磁気コア半
体対を突き合わせて磁気ギャップを形成してなる磁気ヘ
ッドにおいて、上記磁気ギャップ形成面と上記強磁性金
属薄膜形成面とが所要角度で傾斜しており、かつ磁気テ
ープ対接面に前記強磁性酸化物と前記強磁性金属薄膜お
よび非磁性材が配され、これら三者の交差点がトラック
幅を規定す色領域の外にあることを特徴としており磁気
ギャップの中心において低域周波数および高域周波数と
もに再生出力が最大となり、安定した信号の再生を行な
うことができる。〔実施例〕以下、本発明の実施例を図面に基づき詳細に説明する。第６図は本発明に係る磁気ヘッドの斜視図であり、第７
図はこの磁気ヘッドの磁気テープ対接面を拡大して示す
平面図である。第６図および第７図において、上記磁気ヘッドの構成を
説明すると、磁気コア半休３１．３２は強磁性酸化物の
Ｍｎ−Ｚｎフェライト等により形゛　成され、磁気ギヤ
ツブｇ側に形成されたフェライトの突起部３３．３４の
一側部にはガラスが非磁性材３５．３６として溶融充填
されている。また、この突起部３３と非磁性材３５を連
ねた平面上、および突起部３４と非磁性材３６を連ねた
平面上には高透磁率合金のセンダスト等からなる強磁性
金属薄膜３７Ａ、３７Ｂがスパッタリング等の真空薄膜
形成技術を用いて被着形成されている。また、被着形成
された強磁性金属薄膜３７Ａ、３７Ｂ上にはガラスが非
磁性材３Ｂとして溶融充填されており、この強磁性金属
薄膜３７Ａ、３７Ｂのみにより磁気ギャツプｇが形成さ
れるようになっている。すた、上記接合面すなわち磁気ギャップｇの形成面は所
定のアジマス角度で傾斜しており、アジマス記録が行な
えるようになっている。また、磁気ギャップｌの形成面と上記強磁性金属薄膜３
７Ａ、３７Ｂの形成面とは所要角度で傾斜しており、こ
の実施例では傾斜角θがたとえば４５°となっている。この傾斜角θは２０’〜８ｏ０程度に選ぶのがよく、こ
れによりクロストークが防止され、また磁気テープ対接
面の耐摩耗性が向上されるようになる。また、上記磁気ヘッドにおいては、磁気テープ対接面に
現われている強磁性酸化物、強磁性金属薄膜３７Ａ　、
　３７Ｂ、および非磁性材３５　、３６の該三者の交差
点Ｘ１．Ｙｔ　が、磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗを
規定する領域の外に出ている。すなわち、上記突起部３３．３４の先端３３Ａ。３４Ａは、トラック幅Ｔｗの領域の外に位置している。また、突起部３３．３４の形状は磁気ギャップＩの中心
Ｏに対して左右点対称とはなっていない。この様子は第７図に示されており、磁気ギャップｇによ
る信号の記録ゾーンＡ、Ｄ間（トランク幅Ｔｗに等しい
）の領域外に、上記先端３３Ｎ。３４Ａの通過軌跡Ｑｌ、Ｒ】が位置するようになってい
る。これにより上記磁気ヘッドでは、低域と高域をともに含
んだ三周波数域の信号の重畳記録再生を行なうにあたっ
て、磁気ギヤノブｇのトラック幅Ｔｗの中心Ｏ（以下磁
気ギャップｇの中心Ｏというつにおいて低域周波数およ
び高域周波数ともに再生出力が最大となる。このように
低域での再生出力最大位置と高域での再生出力最大位置
とが磁気ギヤツブｇ上で一致することで、磁気テープよ
り安定した信号の再生が行なえるようになる。これは、つぎのような理由によるものである。すなわち、１〜５ＭＨｚの高域周波数の再生においては
、磁気ギャップｇの中心Ｏが上記記録ゾーンＡ、Ｄ間の
中心Ｃ上を通過する時に再生出力が最大となるのは前述
の通りであるが、数十〜数百ｋＨｚの低域周波数の再生
では、記録ゾーンＡ、Ｄの領域外にある上記先端３３Ａ
、３４Ａが擬似ギヤノブとして作用し再生に寄与するよ
うになるには大幅なトラックずれが起きなければならな
い。この大幅なトラックずれはメインギャップである磁気ギ
ヤツブｇによる低域周波数の再生出力レベルを大幅に減
少させてしまうことになり、結果的に磁気ギャップｇの
中心０が記録ゾーンＡ、Ｄ間の中心Ｃを通過する時に低
域での再生出力が最大となる。このように、上記磁気ヘッドでは、トラック幅Ｔｗの領
域の外に上記先端３３Ａ、３４Ａを位置させたことによ
り、高周波数域の再生出力が最大となるトラッキング位
置と低周波数域の再生出力が最大となるトラッキング位
置とが一致し、低域および高域を共に含んだ三周波数域
の重量記録再生を行なうのに適したヘッドとなっている
。丈た、上記先端３３Ａ、３４Ａの位置すなわち上記強磁
性酸化物、強磁性金属薄膜３７Ａ、３７Ｂ、および非磁
性材３５．３６の三者の交差点Ｘｌ。Ｙｌ　をこのように規定したことにより、上記突起部３
３．３４の形状や先端３’３Ａ、３４Ａ部の位置は、第
７図に示すように磁気ギャップｇの中心０に対して左右
点対称でなくともよくなり、中心Ｏから先端３３Ａ、３
４Ａへの距離は１０〜２０μｍ程度の緩い精度でよいよ
うになっている。これにより、磁気コア半体対の接合面
すなわち磁気ギャップｌの形成面を研削および研摩する
加工精度が緩やかになり、加工精度に１０〜２０μｍ程
度のバラツキが許容されるようになる。このため、上記
磁気ヘッドを作製する歩留りが高くなり、非常に安価な
磁気ヘッドが提供されるようになる。ところで上記磁気ヘッドでは、上記金属薄膜３７Ａ、３
７Ｂが磁気ギヤツブｇの近傍部のみに形成されているた
め、金属薄膜３７Ａ、３７Ｂの形成面積が少なくてすみ
、たとえばパンクリング装置で一括処理可能な個数を大
幅に増やせることで量産性の向上を図ることができる。このように、単位薄膜形成面積から作製可能な磁気ヘッ
ドの個数が多いことで、さらに安価に磁気ヘッドを提供
できる。また、被着形成される上記金属薄膜３７Ａ、３７Ｂの膜
厚ｔは、ｔ　＝　ＴＷｓｉｎ　Ｑでよいことから、トランク幅に相当する膜厚を被着形成
する必要がなく、ヘッド作製に要する時間が短縮される
ようになる。ここで、Ｔｗはトラック幅であり、θは上
記金属薄膜形成面と磁気ギヤノブ形成面とのなす角度で
ある。また、強磁性酸化物のコア半体３１，３２に被着形成さ
れる上記金属薄膜３７Ａ、３７Ｂの形成面積が少ないこ
とから、コア半休、金属薄膜両者の熱膨張係数の差によ
って生じる磁気ヘッド作製時の薄膜３７Ａ、３７Ｂの歪
やコア半体３１，３２の折損、ヒビの混入を防止するこ
とができ、磁気ヘッドの信頼性を向上することができる
とともに、磁気ヘッド製造の歩留りを向上することがで
きる。また、磁気ギャップＩを形成する高透磁率の上記金属薄
膜３７Ａ、３７Ｂが磁気ギャップＩの近傍部に配されて
いることと、磁気ヘッド後部側が接合面積の広い強磁性
酸化物で形成されていることによって、磁気抵抗が小さ
く感度の高い高性能な磁気ヘッドとなっている。また、磁気ギャップＳが高透磁率を有する上記強磁性金
属薄膜３７Ａ、・３７Ｂのみで形成されていることから
、磁気ギャップ９から発生される磁界の強度が高くメタ
ルテープ等の高い抗磁力Ｈｅを持つ磁気テープに磁気記
録するのに適した磁気ヘッドとなっている。また、コア半体３１の突起部３３と非磁性材３５上を連
ねた一平面上に上記金属薄膜３７Ａが被着形成され、ま
たコア半体３２の突起部３４と非磁性材３６上を連ねた
一平面上に上記金属薄膜３７Ｂが被着形成されているこ
とにより、たとえばセンダスト膜からなるこの金属薄膜
３７Ａ、３７Ｂの膜構造、すなわち柱状晶の成長方位は
、形成面全体に亘って一方向に平行にそろった均一なも
のとなっている。このため、上記磁気ヘッドは、磁路に
沿った方向で、上記金属薄膜３７Ａ、３７Ｂの全体が高
い透磁率を示すようになり、高い記録再生出力が得られ
る。また、上記磁気ヘッドの後部側は、Ｍｎ−Ｚｎフェライ
ト等の強磁性酸化物どうしを突き合わせて接合しており
、上記金属薄膜３７Ａ、３７Ｂとコア半休３１．３２と
の密着性が悪くとも、大きな接着強度を得ることができ
、歩留りの向上を図ることができる。また、加工時にバ
ンクトラックずれが発生するようなこともなく、信頼性
の高い磁気ヘッドとなっている。さらに、上記磁気ヘッドの磁気テープ対接面のほとんど
が強磁性酸化物となっていることから、高い耐摩耗性を
有する磁気ヘッドとなっている。また、上記磁気ヘッドでは、数μｍのトラック幅から数
十μｍのトラック幅の広範囲のトラック゛　　幅を容易
に形成することができ、被着形成される上記金属薄膜３
７Ａ、３７Ｅの膜厚を薄くすることで狭トラツク化の磁
気ヘッドが容易に得られる。ここで、上記金属薄膜３７Ａ、３７Ｂは連続した一層を
被着形成しているが、絶縁膜を介して多層に強磁性金属
薄膜を被着形成するようにしてもよい。また、上記突起部３３．３４と非磁性材３５゜３６との
界面は、アジマス角とは異なる方向にたとえば二段階に
屈曲していることにより、突起部３３．３４の屈曲部

【
こよる磁気テープ上の隣接または隣々接トラックからの
信号のピックアツプ量がアジマス損失によって減少され
、クロストークの発生が防止されるようになっている。つぎに、上述の第６図に示す磁気ヘッドの製造工程を第
８図乃至第１４図に基づき説明する。まず、第８図に示すように、たとえばＭｎ　−Ｚｎフェ
ライト等の強磁性酸化物基板４０の長手方向の一稜部に
上方の開いた断面多角形状の切溝４１を、回転砥石また
は電解エツチング等により複数形成する。すなわち、上
記基板４０の上面４３は磁気ギャップ形成面に対応し、
上記切溝４１は基板４０の磁気ギャップ形成位置近傍部
に相当する部分に形成される。つぎに、第９図に示すように、上記切溝４１に高融点ガ
ラス４２Ａを溶融充填したのち、上面４３と前面４４と
を平面研摩する。つぎに、第１０図に示すように、ガラス４２Ａを充填し
た上記切溝４１の一部とやや多口にオーバランプするよ
うに上記−稜部に切溝４１と隣り合う断面Ｖ字状の切溝
４５を複数形成する。この時、形成される切溝４５の内
壁面４６には、上記ガラス４２Ａの一部が露出している
。また、この内壁面４６と上記上面４３との交線４７は
、上記前面４４と直角をなしている。また、この内壁面
４６と上面４３とのなす角度は、前述のθのたとえば４
５°となっている。つぎに、第１１図に示すように、上記基板４０の切溝４
５近傍に、スパックリング等の真空薄膜形成技術を用い
て、高透磁率合金のたとえばセンダストを被着し、強磁
性金属薄膜４８を形成する。この時、上記内壁面４６上に効率よく被着するように、
上記基板４０を傾斜させパンクリング装置内に配置する
ようにする。つぎに、第１２図に示すように、上記金属薄膜４゛８が
被着された上記切溝４５に、上記ガラス４２Ａよりも低
融点のガラス４９を溶融充填したのち、上面４３と前面
４４とを平面研摩し鏡面仕上げを行なう。ここで行なう
研摩は前述の理由により緩い精度でよい。この時、前の
工程で被着した上記金属薄膜４８の一部が上記切溝４５
の内壁面４６に残り、この内壁面４６に強磁性金属薄膜
４８Ａが被着した状態となる。ここで、前面４４に現わ
れているフィライト基板と金属薄膜４８Ａとガラス４２
Ａとの交差点ｙ＋は、上面４３と前面４４とが作る稜線
上の金属薄膜４８Ａとガラス４９との境界点α（トラッ
ク幅Ｔｗを規定する点）に比べて、よりガラス４９側に
位置している。これにより、前記交差点Ｙ】が前述のよ
うに規定されるようになる。また、巻線溝側のコア半休を形成するために、第１２図
に示すように加工の施した強磁性酸化物基板４０に、巻
線溝５１を形成する溝加工を行ない、第１３図に示す強
磁性酸化物基板５０を得る。この基板５０で、切溝４１には高融点ガラス４２Ｂが溶
融充填され、切溝４５の内壁面には強磁性金属薄膜４８
Ｂが被着形成されている。ここで、図中交差点Ｘ１は交
差ａｙｌに対応しており、境界点γは境界点αに対応し
、前記交差点Ｘ０の位置が前述のように規定されるよう
になる。つぎに、上記基板４０の磁気ギャップ形成面となる上面
４３と上記基板５０の磁気ギャップ形成面となる上面５
２とを膜付けしたギャップスペーサを介して第１４図に
示すように突き合わせ、ガラス融着を行なう。その後、
基板４０と基板５０とを合体させたブロック５３をこの
接合面に対してアジマス角だけ傾けたａ−ａ線、ａ′−
ａ′線の位置でスライシング加工することで、アジマス
角で傾斜する磁気ギャップを有する複数個のヘントチツ
ブを得ることができる。なお、基板接合面に対して垂直
にスライシングすると普通のヘッドチップが形成できる
。ここで、上記ギャップスペーサさしては、Ｓ　！　０
２．　ＺｒＯ２、Ｔａ２’５．　Ｃｒ　等を用いること
ができる。つぎに、上記へラドチップの磁気テープ対接面を円筒研
摩することで、第６図に示す磁気ヘッドとなる。この第６図の磁気ヘッドにおいて、コア半体３２は上記
基板４０を母材としており、コア半体３１は上記基板５
０が母材となっている。また、非磁性材３５，３６は上
記高融点ガラス４２Ｂ、４２Ａにそれぞれ対応し、非磁
性材３８は上記低融点ガラス４９に対応している。また
、この磁気ヘッドの強磁性金属薄膜３７Ａ、３７Ｂは、
上記金属薄膜４８Ｂ、４８Ａにそれぞれ対応している。さらに、上記磁気ヘッドの巻線穴３９は、上記基板５０
に形成された巻線溝５１に対応している。ところで、磁気ギャップ近傍部にのみ強磁性金属薄膜を
形成するのではなく、ヘッドの前面部すなわちフロント
ギャップ形成面より後部側すなわちバックギャップ形成
面まで連続して強磁性金属薄膜を形成した本発明の他の
実施例となる第１５図の磁気ヘッドについて説明する。また、第１６図にはこの磁気ヘッドの磁気テープ対接面
が示されている。この磁気ヘッドはアジマス記録用の磁気ヘッドとなって
おり、磁気コア半休６１．６２が強磁性酸化物のたとえ
ばＭｎ’−Ｚｎフェライトで形成され、磁気ギヤツブＩ
側の突起部６３．６４は磁気ヘッドの後部側まで連続し
て形成されている。また、この突起部６３．６４の一側
部はアジマス角とは異なる方向にたとえば二段階に屈曲
しており、この−側部にはガラスの非磁性材６５．６６
が後部側まで連続して溶融充填されている。また、突起部６３．６４と非磁性材６５．６６を連ねた
平面上には、スパッタリング等でセンダスト等の強磁性
金属薄膜６７Ａ、６７Ｂが後部側まで連続して被着形成
され、この金属薄膜６７Ａ。６７Ｂ上にはガラスの非磁性材６８が同様に後部側まで
溶融充填されている。上記金属薄膜６７Ａ、６７Ｂは磁気ギャップ形成面に対
してたとえば４５°の傾斜角θで傾斜しており、この金
属薄膜６７Ａ、６７Ｂのみにより磁気ギャップＩが形成
されている。ところで、上記突起部６３．６４、金属薄膜６７Ａ、６
７Ｂ、および非磁性材６５．６６の三者の交差点Ｘ２　
、　Ｙ２はトラック幅Ｔｗを規定する領域の外に位置す
るようになっている。すなわち、第１６図に示すように
、磁気ギャップｇによる記録ゾーンＡ、Ｄの外を、突起
部６３．６４の先端６３Ａ、６４Ａが通過するようにな
っている。Ｑ２＋Ｒ２はこの先端６３Ａ、６４Ａが通過
する軌跡である。このため、上記磁気ヘッドでは、第６図の磁気ヘッドと
同様に、磁気ヘッドｇの中心Ｏにおいて、低域周波数お
よび高域周波数ともに再生出方が最大となり、低域と高
域をともに含んだ信号の記録再生を行なうのに適したヘ
ッドとなっている。また前述の理由から加工精度が緩くてもよく、歩留りが
高まることでコスト的に安価な磁気へノドの提供が可能
となっている。つぎに、上記磁気ヘッドの製造工程を第１７図乃至第２
３図に基づき説明する。ます、第１７図に示すように、Ｍｎ−Ｚｎフェライト等
の強磁性酸化物基板７０の上面部に、回転砥石等を用い
て、上方の開いた断面多角形状の溝７１を上面部を横切
るように複数形成する。つぎに、第１８図に示すように５上記溝７１に高融点ガ
ラス７２を溶融充填したのち、平面研摩加工を行なう。つぎに、第１９図に示すよ・うに、上記溝７１の一部と
やや多口にオーバラップし該溝料と隣接した断面Ｖ字状
の溝７３を複数形成する。この溝７３の内壁面の傾斜角
度は、上面に対してたとえば４ツとなっている。つぎに、第２０図に示すように、上記基板７０の上面部
に、センダスト等をスパッタリング、イオンブレーティ
ング、蒸着等の真空薄膜形成技術を用いて被着形成し、
上記溝７３部に強磁性金属薄膜７４を形成する。つぎに、溝７３部分の金属薄膜７４面上に低融点ガラス
７６を溶融充填し、第２１図に示すように、上記基板７
０の上面部および前面部を平面研摩加工する。ここで行
なう研摩は緩い精度でよい。ここで、基板前面に現やれているフィライト基板と金属
薄膜１４とガラス７２との交差点ｙ２は、基板上面と前
面とが作る稜線上の金属薄膜７４とガラス７６との境界
点αに比べて、よりガラスγ６側に位置している。これ
により、前記交差点Ｙ２が規定される。また、巻線溝側のコア半休を形成するために、第２１図
に示すように加工の施した上記基板７０に、巻線溝７５
を形成する溝加工を行ない、第２２図に示す強磁性酸化
物基板７Ｔを得る。ここで、図中交差点Ｘ２は交差点ｙ
２に対応しており、境界点γは境界点αに対応し、前記
交差点Ｘ２の位置が規定されるようになる。つぎに、第２３図に示すように、上記基板７０と上記基
板７７とを上記金属薄膜７４が被着された側の平面部が
向かい合うようにしてギャップスペーサを介して突き合
わせ、ガラスを用いて融着接合することでブロック７８
とする。つぎに、上記ブロック７８をｂ−ｂ線、ｂ−ｂ線の位置
でスライシング加工することで、複数個のヘントチノブ
を得ることができる。その後、上記へラドチップの磁気テープ摺接面を円筒研
摩することで、第１５図に示した磁気ヘッドとなる。こ
こで、この磁気ヘッドのコア半体６１は上記基板７７を
母材としており、コア半体６２は上記基板７０を母材と
している。また、強磁性金属薄膜６７Ａ、６７Ｂは上記
金属薄膜７４に対応し、非磁性材６５．６６は上記高融
点がラス７２に対応し、非磁性材６８は上記低融点ガラ
ス７６に対応している。また、巻線穴６９は上記巻線溝
７５に対応している。なお、第６図および第１５図に示す磁気ヘッドは、磁気
ギャップＩの中心Ｏに対してヘエライト突起部の先端が
点対称となっていないが、この先端の位置を左右点対称
としてもよい。つぎに、第２４図に示す他の実施例の磁気ヘッドを説明
する。この磁気ヘッドはアジマス記録用のヘッドとなっ
ている。上記磁気ヘッドは、磁気ギャップ形成面に対して強磁性
金属薄膜８７の形成面がたとえば４５°の傾斜角θで傾
斜しており、Ｍｎ−Ｚｎフェライト等からなる磁気コア
半休８１．８２の突起部８３゜８４の先端８３Ａ、８４
Ａが、トラック幅Ｔｗを規定する領域の外に位置してい
る。また、このように先端８３Ａ、８４Ａがトラック幅
ＴＷの領域外にあることから、突起部８３．８４の形状
は左右点対称でなくともよく、一方の突起部８３と充填
されたガラス８５との界面は単に傾斜した形状となって
いるが、他方の突起部８４とガラス８６との界面は二段
階に屈曲した形状となっている。また、第２５図にはさらに他の実施例となるアジマス記
録用の磁気ヘッドが示されている。この磁気ヘッドは、磁気ギャップ形成面に対してたとえ
ば４５°の傾斜角θで傾斜するように強磁性金属薄膜９
７が形成され、Ｍｎ−Ｚｎフェライト等からなる磁気コ
ア半休９１．９２の突起部９３．９４の先端９３Ａ、９
４Ａがトラック幅Ｔｗの領域外に位置している。また、
一方の突起部９３とガラス９５との傾斜した界面はなめ
らかとなっているが、他方の突起部９４とガラス９６と
の界面は凹凸面となっている。この凹凸面はヘッドを作
製する研摩工程を充分に行なわないことにより生じたも
のであるが、上記先端９３Ａ、９４Ａがトラック幅ＴＷ
の領域外にあることから特性上影響はない。第２４図や第２５図に示す磁気ヘッドは、第６図および
第１５図に示す磁気ヘッドと同様に磁気ヘッドｇの中心
Ｏにおいて、低域および高域周波数ともに再生出力が最
大となるようになっている。ところで、磁気コア半休を形成する強磁性酸化物として
は、Ｍｎ−Ｚｎフェライトの他にＮｉ　−Ｚｎフェライ
ト等を用いてもよい。また、強磁性金属薄膜を形成する
高透率磁性材料としては、センダストの他にパーマロイ
や非晶質合金を用いてもよい。〔発明の効果〕以上の説明から明らかなように、本発明によれば、強磁
性酸化物からなる磁気コア半休の接合面とは傾斜するよ
うに防接台面近傍に強磁性金属薄膜を形成しており、ま
た磁気テープ対接面には強磁性酸化物、上記金属薄膜、
および非磁性材が配され、これらの三者の交差点がトラ
ック幅を規定する領域の外に位置している。このため、磁気ギャップのトラック幅の中心において低
域周波数および高域周波数ともに再生出力が最大となり
、安定した再生が行なえることから、低域および高域周
波数をともに含んだ信号の記録再生に適したヘッドとな
っている。また、ヘッドの加工精度を低くできることから歩留りが
向上され、コスト的安価な磁気ヘッドの提供が可能とな
っている。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の磁気ヘッドの斜視図、第２図は第１図の
磁気ヘッドの磁気テープ対接面を示す平面図、第３図は
従来の他の例の磁気ヘッドを示す斜視図、第４図は第３
図の磁気ヘッドの磁気テープ対接面を示す平面図、第５
図は従来のさらに他の例の磁気ヘッドの磁気テープ対接
面を示す平面図、第６図は本発明の一実施例となる磁気
ヘッドの斜視図、第７図は第６図の磁気ヘッドの磁気テ
ープ対接面を示す平面図、第８図乃至第１４図は第６図
の磁気ヘッドを作製する工程を順に示す斜視図、第１５
図は本発明の他の実抛例となる磁気ヘッドの斜視図、第
１６図は第１５図の磁気ヘッドの磁気テープ対接面を示
す平面図、第１７図乃至第２３図は第１５図の磁気ヘッ
ドを作製する工程を順に示す斜視図、第２４図は本発明
のさらに他の実施例となる磁気ヘッドの磁気テープ対接
面を示す平面図、第２５図は本発明のさらに他の実施例
となる磁気ヘッドの磁気テープ対接面を示す平面図であ
る。３１．３２，６１．６２，８１．８２，９１．９２・・
・・・・・・・・・・・・磁気コア半休３３．３４，６
３，６４，８３．８４，９３．９４・・・・・・・・・
・・・・・・・・・突起部３３Ａ、３４Ａ、６３Ａ、６
４Ａ、８３Ａ、８４Ａ。９３Ａ、９４Ａ・・・・・・先　端３５．３６，３８，６５，６６．６８，８５，８６゜９
５．９６・・・・・・・・・・・・非磁性材３７Ａ、３
７Ｂ、６７Ａ、６７Ｂ、８７Ａ、８７Ｂ。

Claims

【特許請求の範囲】

強磁性酸化物よりなる磁気コア半体対の接合面に真空薄
膜形成技術により強磁性金属薄膜を形成し、この磁気コ
ア半体対を突き合わせて磁気ギャップを形成してなる磁
気ヘッドにおいて、上記磁気ギャップ形成面と上記強磁
性金属薄膜形成面とが所要角度で傾斜しており、かつ磁
気テープ対接面に前記強磁性酸化物と前記強磁性金属薄
膜および非磁性材が配され、これら三者の交差点がトラ
ック幅を規定する領域の外にあることを特徴とする磁気
ヘッド。