JPS61277420A - ウエルド部付射出成形品の表面処理方法 - Google Patents
ウエルド部付射出成形品の表面処理方法Info
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- JPS61277420A JPS61277420A JP11955685A JP11955685A JPS61277420A JP S61277420 A JPS61277420 A JP S61277420A JP 11955685 A JP11955685 A JP 11955685A JP 11955685 A JP11955685 A JP 11955685A JP S61277420 A JPS61277420 A JP S61277420A
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- forming
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- injection molded
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/26—Moulds
- B29C45/37—Mould cavity walls, i.e. the inner surface forming the mould cavity, e.g. linings
- B29C45/372—Mould cavity walls, i.e. the inner surface forming the mould cavity, e.g. linings provided with means for marking or patterning, e.g. numbering articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/0025—Preventing defects on the moulded article, e.g. weld lines, shrinkage marks
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、ウェルド部を有する射出成形品の表面に梨
地シボ模様を形成する表面処理方法に関するものである
。
地シボ模様を形成する表面処理方法に関するものである
。
（従来の技術）
従来から、射出成形においては、第９図に示した如く１
分割金型１．１間に形成されたキャビティ２内に複数の
ゲート３．３から溶融樹脂４．４を注入することにより
、キャビティ２内で第１０図、第１１図に示した様な射
出成形品５を形成することが一般におこなわれている。
分割金型１．１間に形成されたキャビティ２内に複数の
ゲート３．３から溶融樹脂４．４を注入することにより
、キャビティ２内で第１０図、第１１図に示した様な射
出成形品５を形成することが一般におこなわれている。
この様な射出成形では、各ゲート３．３からキャビティ
２内に注入される溶融樹脂４．４の先端同士がキャビテ
ィ２の中間でウェルド（溶着）して、射出成形品５の中
間部にウェルドライン（ウェルド部）６が形成される。
２内に注入される溶融樹脂４．４の先端同士がキャビテ
ィ２の中間でウェルド（溶着）して、射出成形品５の中
間部にウェルドライン（ウェルド部）６が形成される。
一方、この様な射出成形では、射出成形品５の外観を良
くするために、第１０図に示した梨地シボ等の模様や、
第１１図に示した皮シボ等の模様を射出成形品５の表面
に付けることが行われている。尚、第１０図に示した梨
地シボ等の模様は第１２図に示した様な梨地シボ形成用
の凹部７により形成されており、第１１図に示した皮シ
ボ等の模様は第１２図に示した皮シボ形成用の凹部８に
より形成されている。
くするために、第１０図に示した梨地シボ等の模様や、
第１１図に示した皮シボ等の模様を射出成形品５の表面
に付けることが行われている。尚、第１０図に示した梨
地シボ等の模様は第１２図に示した様な梨地シボ形成用
の凹部７により形成されており、第１１図に示した皮シ
ボ等の模様は第１２図に示した皮シボ形成用の凹部８に
より形成されている。
（発明が解決しようとする問題点）
ところで、上述した皮シボの模様の目すなわち深さＨが
深い凹部８は粗く形成されている。この結果、第１１図
に示した皮シボの模様を形成した射出成形品５では、第
１３図に示したウェルドライン６が表面に現出しないの
で、外観が損われることはない。
深い凹部８は粗く形成されている。この結果、第１１図
に示した皮シボの模様を形成した射出成形品５では、第
１３図に示したウェルドライン６が表面に現出しないの
で、外観が損われることはない。
しかし、上述した梨地シボ形成用の凹部７は深さｈが非
常に浅いものであり、又、凹部７の幅ａも非常に狭いも
のである。このため、上述した射出成形の際に、射出成
形品５に凹部７による梨地シボ模様を形成した場合、第
１０図の如く、射出成形品５の表面にウェルドライン６
が現出して。
常に浅いものであり、又、凹部７の幅ａも非常に狭いも
のである。このため、上述した射出成形の際に、射出成
形品５に凹部７による梨地シボ模様を形成した場合、第
１０図の如く、射出成形品５の表面にウェルドライン６
が現出して。
射出成形品５の外観が損われるものであった。
従って、上述した如くウェルドライン６が形成される様
な射出成形では、射出成形品５の表面に梨地シボ模様を
設けたい場合であっても、射出成形品５の表面に皮シボ
模様やウェルドラインの目立たないシボパターンを付け
たり、或いは、射出成形品５の材料組成を変えると共に
材料の光沢度を低くしたりして、ウェルドライン６が目
立たない様にしているのが現状であった。しかし、この
場合にあっては、当初の要望通りのデザインの製品が得
られないという問題があった。
な射出成形では、射出成形品５の表面に梨地シボ模様を
設けたい場合であっても、射出成形品５の表面に皮シボ
模様やウェルドラインの目立たないシボパターンを付け
たり、或いは、射出成形品５の材料組成を変えると共に
材料の光沢度を低くしたりして、ウェルドライン６が目
立たない様にしているのが現状であった。しかし、この
場合にあっては、当初の要望通りのデザインの製品が得
られないという問題があった。
そこで、この発明は、ウェルド部（ウェルドライン）が
設けられた射出成形品の表面にシボ深さが浅い梨地シボ
模様を設けても、ウェルド部が表面に明瞭に現出するこ
とのないウェルド部付射出成形品の表面処理方法を提供
することを目的とするものである。
設けられた射出成形品の表面にシボ深さが浅い梨地シボ
模様を設けても、ウェルド部が表面に明瞭に現出するこ
とのないウェルド部付射出成形品の表面処理方法を提供
することを目的とするものである。
（問題点を解決するための手段）
この目的を達成するため、この発明は、梨地シボ模様形
成内面を有する分割金型のキャビティ内に溶融樹脂を複
数のゲートから注入して、各ゲートからキャビティ内に
注入される各溶融樹脂の先端同士をキャビティの中間部
でウェルドさせると同時に、前記キャビティ内に溶融樹
脂を充填させることにより、前記キャビティ内にウェル
ド部付の射出成形品を形成すると共に、該射出成形品の
表面に梨地シボ模様を形成する様にしたウェルド部付射
出成形品の表面処理方法において、前記梨地シボ模様形
成内面の前記ウェルド部に対応する部分の左右所定幅外
の低シボ形成用凹凸部の凹凸差を５０μ以上に形成する
と共に、前記梨地シボ模様形成内面の前記ウェルド部に
対応する部分の左右所定幅内の高シボ形成用凹凸部の凹
凸差を６０μ以上に形成した前記分割金型をもちいて、
前記射出成形品を射出成形する際、該射出成形品のウェ
ルド部左右所定幅外の梨地シボの深さを前記低シボ形成
用凹凸部で５０μ以上に形成すると共に、前記射出成形
品のウェルド部左右所定幅内の梨地シボ深さを前記高シ
ボ形成用凹凸部で６０μ以上に形成する様にしたウェル
ド部付射出成形品の表面処理方法としたことを特徴とす
るものである。
成内面を有する分割金型のキャビティ内に溶融樹脂を複
数のゲートから注入して、各ゲートからキャビティ内に
注入される各溶融樹脂の先端同士をキャビティの中間部
でウェルドさせると同時に、前記キャビティ内に溶融樹
脂を充填させることにより、前記キャビティ内にウェル
ド部付の射出成形品を形成すると共に、該射出成形品の
表面に梨地シボ模様を形成する様にしたウェルド部付射
出成形品の表面処理方法において、前記梨地シボ模様形
成内面の前記ウェルド部に対応する部分の左右所定幅外
の低シボ形成用凹凸部の凹凸差を５０μ以上に形成する
と共に、前記梨地シボ模様形成内面の前記ウェルド部に
対応する部分の左右所定幅内の高シボ形成用凹凸部の凹
凸差を６０μ以上に形成した前記分割金型をもちいて、
前記射出成形品を射出成形する際、該射出成形品のウェ
ルド部左右所定幅外の梨地シボの深さを前記低シボ形成
用凹凸部で５０μ以上に形成すると共に、前記射出成形
品のウェルド部左右所定幅内の梨地シボ深さを前記高シ
ボ形成用凹凸部で６０μ以上に形成する様にしたウェル
ド部付射出成形品の表面処理方法としたことを特徴とす
るものである。
（作 用）
この様な方法によれば、複数のゲートからキャビティ内
に注入される溶融樹脂の先端同士がキャビティ内でウェ
ルドされると共に、キャビティ内に溶融樹脂が充填され
て、射出成形品がキャビティ内に形成される。この際、
射出成形品の表面に梨地シボ模様が形成され、この表面
のウェルド部の左右所定幅内の部分には他の部分の梨地
シボの深さより深い梨地シボが形成される。
に注入される溶融樹脂の先端同士がキャビティ内でウェ
ルドされると共に、キャビティ内に溶融樹脂が充填され
て、射出成形品がキャビティ内に形成される。この際、
射出成形品の表面に梨地シボ模様が形成され、この表面
のウェルド部の左右所定幅内の部分には他の部分の梨地
シボの深さより深い梨地シボが形成される。
この様な方法により形成された射出成形品においては、
ウェルド部（ウェルドライン）の梨地シボに係る部分が
深い梨地シボの部分で視認しにくくなり、ウェルドライ
ンが現出しない。
ウェルド部（ウェルドライン）の梨地シボに係る部分が
深い梨地シボの部分で視認しにくくなり、ウェルドライ
ンが現出しない。
（実施例）
以下、この発明の一実施例を第１図〜第８図に基づいて
説明する。
説明する。
第１図において、９は射出成形用の金型装置で、この金
型装置９は分割金型１０．１０から構成されている。こ
の各分割金型１０．１０には梨地シボ模様形成内面を有
する凹処１０ａ、 １０ａが形成されていて、この凹処
１０ａｅ １０ａ間にはキャビティ１１が形成されてい
る。 １２．１２はキャビティ１１に連通ずるゲートで
、このゲート１２．１２は分割金型間１０．１０間に形
成されている。
型装置９は分割金型１０．１０から構成されている。こ
の各分割金型１０．１０には梨地シボ模様形成内面を有
する凹処１０ａ、 １０ａが形成されていて、この凹処
１０ａｅ １０ａ間にはキャビティ１１が形成されてい
る。 １２．１２はキャビティ１１に連通ずるゲートで
、このゲート１２．１２は分割金型間１０．１０間に形
成されている。
この様な金型装置においては、ゲート１２．１２からキ
ャビティ１１内に溶融樹脂１３．１３を注入すると。
ャビティ１１内に溶融樹脂１３．１３を注入すると。
溶融樹脂１３．１３が第１図に示した如く層状になって
キャビティ１１の中央部に向けて流れ、溶融樹脂１３、
１３の先端部同士がキャビティ１１の中央部で接触して
ウェルド（溶融接合）される、尚、１４は溶融樹脂１３
．１３の先端部同士が溶融接合されることにより形成さ
れたウェルドライン（ウェルド部）である。
キャビティ１１の中央部に向けて流れ、溶融樹脂１３、
１３の先端部同士がキャビティ１１の中央部で接触して
ウェルド（溶融接合）される、尚、１４は溶融樹脂１３
．１３の先端部同士が溶融接合されることにより形成さ
れたウェルドライン（ウェルド部）である。
上述した凹所１０ａの梨地シボ模様形成内面には、第２
図及び第３図に示した様に、梨地シボ形成用凹凸部１５
が形成されている。この梨地シボ形成用凹凸部１５は、
第２図に示した様に、低シボ形成用凹凸部１６と高シボ
形成用凹凸部１７から構成されている。この低シボ形成
用凹凸部１６は梨地シボ模様形成内面の上述したウェル
ドライン１４に対応する部分１０ｂから左右所定幅外の
部分に形成されており、又、高シボ形成用凹凸部１７．
は梨地シボ模様形成内面の上述したウェルドライン１４
に対応する部分から左右所定幅内の部分に形成されてい
る。そして、この場合の所定幅ａは約１０■とされてい
ると共に、低シボ形成用凹凸部１６は凹凸差り、が５０
ａ以上に形成されており、又、高シボ形成用凹凸部１７
は凹凸差り、が６０ａ以上に形成されている。゛この様
な低シボ形成用凹凸部１６は、酸エツチング処理をした
面にサンドブラスト処理やビーズブラスト処理を施すこ
とにより形成したものである。また、高シボ形成用凹凸
部１７は、低シボ形成用凹凸部１６と同様な処理を施し
た後に、シボの関口形状を変えずに更に酸エツチング等
の処理を施すことにより深く形成したものである。
図及び第３図に示した様に、梨地シボ形成用凹凸部１５
が形成されている。この梨地シボ形成用凹凸部１５は、
第２図に示した様に、低シボ形成用凹凸部１６と高シボ
形成用凹凸部１７から構成されている。この低シボ形成
用凹凸部１６は梨地シボ模様形成内面の上述したウェル
ドライン１４に対応する部分１０ｂから左右所定幅外の
部分に形成されており、又、高シボ形成用凹凸部１７．
は梨地シボ模様形成内面の上述したウェルドライン１４
に対応する部分から左右所定幅内の部分に形成されてい
る。そして、この場合の所定幅ａは約１０■とされてい
ると共に、低シボ形成用凹凸部１６は凹凸差り、が５０
ａ以上に形成されており、又、高シボ形成用凹凸部１７
は凹凸差り、が６０ａ以上に形成されている。゛この様
な低シボ形成用凹凸部１６は、酸エツチング処理をした
面にサンドブラスト処理やビーズブラスト処理を施すこ
とにより形成したものである。また、高シボ形成用凹凸
部１７は、低シボ形成用凹凸部１６と同様な処理を施し
た後に、シボの関口形状を変えずに更に酸エツチング等
の処理を施すことにより深く形成したものである。
次に、この様な金型装置を用いたウェルド部付射出成形
品の成形及びその表面処理方法につき説明する。
品の成形及びその表面処理方法につき説明する。
溶融樹脂を上述した分割金型１０．１０間のキャビティ
１１内に一対のゲート１２．１２から注入すると、キャ
ビティ１１内に左右から溶融樹脂１３．１３が流入する
。この溶融樹脂１３．１３は、キャビティ１１の中央部
に向けて層状に流れて、先端部１３ａ、 １３ａ同士が
キャビティ１１の中央部でウェルド（溶融接合）される
。この溶融接合部すなわちウェルドライン１４は直線状
に形成されている。
１１内に一対のゲート１２．１２から注入すると、キャ
ビティ１１内に左右から溶融樹脂１３．１３が流入する
。この溶融樹脂１３．１３は、キャビティ１１の中央部
に向けて層状に流れて、先端部１３ａ、 １３ａ同士が
キャビティ１１の中央部でウェルド（溶融接合）される
。この溶融接合部すなわちウェルドライン１４は直線状
に形成されている。
そして、キャビティ１１内に溶融樹脂１３．１３が充填
されて、この溶融樹脂１３．１３が冷却硬化されると、
キヤとティ１１内に第４図に示した様な射出成形品１８
が形成される。そして、この際、射出成形品１８の表面
のウェルドライン１４に対応する部分１８ａの左右所定
幅外内には高シボ形成用凹凸部１７に。
されて、この溶融樹脂１３．１３が冷却硬化されると、
キヤとティ１１内に第４図に示した様な射出成形品１８
が形成される。そして、この際、射出成形品１８の表面
のウェルドライン１４に対応する部分１８ａの左右所定
幅外内には高シボ形成用凹凸部１７に。
より高シボ凹凸部１８ｂが形成され、射出成形品１８の
表面の他の部分には低シボ形成用凹凸部１６により低シ
ボ凹凸１８ｃ部が形成される。
表面の他の部分には低シボ形成用凹凸部１６により低シ
ボ凹凸１８ｃ部が形成される。
この射出成形品１８には第５図に示した如くウェルドラ
イン１４が表面までが形成される。しかし、ウェルドラ
イン１４が形成されている部分にはシボ深さが６０ａ以
上の深い高シボ凹凸部１８ｂが形成されているので、ウ
ェルドライン１４の露出部がライン形状をとどめない程
度にまで寸断される。一方。
イン１４が表面までが形成される。しかし、ウェルドラ
イン１４が形成されている部分にはシボ深さが６０ａ以
上の深い高シボ凹凸部１８ｂが形成されているので、ウ
ェルドライン１４の露出部がライン形状をとどめない程
度にまで寸断される。一方。
高シボ凹凸部１８ｂのシボ開口径りが非常に小さく形成
されているので、ウェルドライン１４のシボ底部１８ｄ
の部分は視認できない。この結果、射出成形品１８の表
面にはウェルドライン１４が認められない、尚、低シボ
凹凸部１８ｃはシボ深さｈ４が５０ａ程度に形成されて
いる。
されているので、ウェルドライン１４のシボ底部１８ｄ
の部分は視認できない。この結果、射出成形品１８の表
面にはウェルドライン１４が認められない、尚、低シボ
凹凸部１８ｃはシボ深さｈ４が５０ａ程度に形成されて
いる。
この点は第６図から明らかである。この第６図はシボ深
さとウェルドラインの視認性（ウェルド判定）との関係
を示したもので１図中、Ａ、、Ａ。
さとウェルドラインの視認性（ウェルド判定）との関係
を示したもので１図中、Ａ、、Ａ。
は夫々別のピースで、シボ深さｈを鏡面から１００μま
で形成したことによる梨地シボ判定線である。
で形成したことによる梨地シボ判定線である。
この第６図によれば、６０ａ以上ではウエルドライン１
４がほとんど目立たないことがわかる。
４がほとんど目立たないことがわかる。
また、射出成形品１８を成形する際のウェルド部ガス分
散性は第７図のガス分散特性線Ｂ、の如・くなり、又、
成形品の離型性は第７図の離型特性線Ｂ３の如くなる。
散性は第７図のガス分散特性線Ｂ、の如・くなり、又、
成形品の離型性は第７図の離型特性線Ｂ３の如くなる。
この第７図によれば、ウェルド部ガス分散性はシボ深さ
り、が深くなるほど良くなり、又、成形品の離型性はシ
ボ深さが深くなるほど悪くなる。そして、シボ深さり、
が６０μではウェルド部ガス分散性及び成形品の離型性
の両方が満足する状態となる。尚、この成形品の離型性
は上述した如くシボ深さｈｌが深くなるほど悪くなるが
、高シボ形成用凹凸部１７の部分はウェルドライン１４
の左右の非常に狭い幅内にのみ形成されているので、高
シボ形成用凹凸部１７の深さを６０μより深く形成して
も、ある程度までは深くできる。
り、が深くなるほど良くなり、又、成形品の離型性はシ
ボ深さが深くなるほど悪くなる。そして、シボ深さり、
が６０μではウェルド部ガス分散性及び成形品の離型性
の両方が満足する状態となる。尚、この成形品の離型性
は上述した如くシボ深さｈｌが深くなるほど悪くなるが
、高シボ形成用凹凸部１７の部分はウェルドライン１４
の左右の非常に狭い幅内にのみ形成されているので、高
シボ形成用凹凸部１７の深さを６０μより深く形成して
も、ある程度までは深くできる。
更に、射出成形品１８表面の耐キズ付き性や射出成形品
１８表面への耐塵埃付着性は、第８図に示した如くなる
。この第８図において、Ｃ１は射出成形品１８表面の耐
キズ付性を示す耐キズ付き性腺、Ｃ８は射出成形品１８
表面への耐塵埃付着性を示す耐塵埃付着性線である。こ
の第８図によれば、射出成形品１８表面の耐キズ付き性
は高シボ形成用凹凸部１７のシボ深さり、ｌが深くなる
ほど良くなるが。
１８表面への耐塵埃付着性は、第８図に示した如くなる
。この第８図において、Ｃ１は射出成形品１８表面の耐
キズ付性を示す耐キズ付き性腺、Ｃ８は射出成形品１８
表面への耐塵埃付着性を示す耐塵埃付着性線である。こ
の第８図によれば、射出成形品１８表面の耐キズ付き性
は高シボ形成用凹凸部１７のシボ深さり、ｌが深くなる
ほど良くなるが。
射出成形品１８表面への耐塵埃付着性は高シボ形成用凹
凸部１７のシボ深さが深くなるほど悪くなる。
凸部１７のシボ深さが深くなるほど悪くなる。
しかも、射出成形品１８表面の耐キズ付き性は高シボ形
成用凹凸部１７のシボ深さり、が６θμ以上では良いが
、射出成形品１８表面への耐塵埃付着性は高シボ形成用
凹凸部１７のシボ深さが８０μ以上になると非常に悪く
なる。
成用凹凸部１７のシボ深さり、が６θμ以上では良いが
、射出成形品１８表面への耐塵埃付着性は高シボ形成用
凹凸部１７のシボ深さが８０μ以上になると非常に悪く
なる。
これらの結果、高シボ形成用凹凸部１７のシボ深さｈ３
は、６０μ及びその近傍が最も良いが、６０μ〜８０μ
内であればいずれでも良いことがわかる。
は、６０μ及びその近傍が最も良いが、６０μ〜８０μ
内であればいずれでも良いことがわかる。
（発明の効果）
この発明は、以上説明したように、梨地シボ模様形成内
面を有する分割金型のキャビティ内に溶融樹脂を複数の
ゲートから注入して、各ゲートからキャビティ内に注入
される各溶融樹脂の先端同士をキャビティの中間部でウ
ェルドさせると同時に、前記キャビティ内に溶融樹脂を
充填させることにより、前記キャビティ内にウェルド部
付の射出成形品を形成すると共に、該射出成形品の表面
に梨地シボ模様を形成する様にしたウェルド部付射出成
形品の表面処理方法において、前記梨地シボ模様形成内
面の前記ウェルド部に対応する部分の左右所定幅外の低
シボ形成用凹凸部の凹凸差を５０μ以上に形成すると共
に、前記梨地シボ模様形成内面の前記ウェルド部に対応
する部分の左右所定幅内の高シボ形成用凹凸部の凹凸差
を６０μ以上に形成した前記分割金型をもちいて、前記
射出成形品を射出成形する際、該射出成形品のウェルド
部左右所定幅外の梨地シボの深さを前記低シボ形成用凹
凸部で５０μ以上に形成すると共に。
面を有する分割金型のキャビティ内に溶融樹脂を複数の
ゲートから注入して、各ゲートからキャビティ内に注入
される各溶融樹脂の先端同士をキャビティの中間部でウ
ェルドさせると同時に、前記キャビティ内に溶融樹脂を
充填させることにより、前記キャビティ内にウェルド部
付の射出成形品を形成すると共に、該射出成形品の表面
に梨地シボ模様を形成する様にしたウェルド部付射出成
形品の表面処理方法において、前記梨地シボ模様形成内
面の前記ウェルド部に対応する部分の左右所定幅外の低
シボ形成用凹凸部の凹凸差を５０μ以上に形成すると共
に、前記梨地シボ模様形成内面の前記ウェルド部に対応
する部分の左右所定幅内の高シボ形成用凹凸部の凹凸差
を６０μ以上に形成した前記分割金型をもちいて、前記
射出成形品を射出成形する際、該射出成形品のウェルド
部左右所定幅外の梨地シボの深さを前記低シボ形成用凹
凸部で５０μ以上に形成すると共に。
前記射出成形品のウェルド部左右所定幅内の梨地シボ深
さを前記高シボ形成用凹凸部で６０μ以上に形成するウ
ェルド部付射出成形品の表面処理方法としたので、ウェ
ルド部（ウェルドライン）が設けられた射出成形品の表
面にシボ深さが浅い梨地シボ模様を設けても、ウェルド
部が表面に明瞭に現出することがない、この結果、射出
成形品の外観がウェルド部により損われるのを防止でき
る。
さを前記高シボ形成用凹凸部で６０μ以上に形成するウ
ェルド部付射出成形品の表面処理方法としたので、ウェ
ルド部（ウェルドライン）が設けられた射出成形品の表
面にシボ深さが浅い梨地シボ模様を設けても、ウェルド
部が表面に明瞭に現出することがない、この結果、射出
成形品の外観がウェルド部により損われるのを防止でき
る。
第１図はこの発明の一実施例に係るウェルド部付射出成
形品の表面処理方法に用いる射出成形用の金型装置の断
面図、第２図は第１図に示した分割金型の平面図、第３
図は第２図の■−■線に沿う部分拡大断面図、第４図は
第１図に示した金型装置により形成した射出成形品の平
面図、第５図は第４図の■−■線に沿う部分拡大断面図
、第６図は第４図に示した射出成形品の外観特性線図。 第７図は第４図の射出成形品を成形する際のウェルド部
ガス分散特性及び成形品の離型性を示す特性線図、第８
図は第４図の射出成形品の耐キズ付き性及び耐塵埃付着
性を示す特性線図、第９図は従来の金型装置を示す断面
図、第１０図及び第１１図は第９図の金型装置により形
成された射出成形品の一例を示す平面図、第１２図は第
１０図の朋−朋線に沿う断面図、第１３図は第１１図の
ｘｍ−ｘｍ線に沿う断面図である。 ９・・・・金型装置 １０・・・・分割金型 １１・・・・キャビティ １２・・・・ゲート １３・・・・溶融樹脂 １３ａ・・・先端部 １４・・・・ウェルドライン（ウェルド部）１５・・・
・梨地シボ模様形成用凹凸部１６・・・・低シボ形成用
凹凸部 １７・・・・高シボ形成用凹凸部 １８・・・・射出成形品
形品の表面処理方法に用いる射出成形用の金型装置の断
面図、第２図は第１図に示した分割金型の平面図、第３
図は第２図の■−■線に沿う部分拡大断面図、第４図は
第１図に示した金型装置により形成した射出成形品の平
面図、第５図は第４図の■−■線に沿う部分拡大断面図
、第６図は第４図に示した射出成形品の外観特性線図。 第７図は第４図の射出成形品を成形する際のウェルド部
ガス分散特性及び成形品の離型性を示す特性線図、第８
図は第４図の射出成形品の耐キズ付き性及び耐塵埃付着
性を示す特性線図、第９図は従来の金型装置を示す断面
図、第１０図及び第１１図は第９図の金型装置により形
成された射出成形品の一例を示す平面図、第１２図は第
１０図の朋−朋線に沿う断面図、第１３図は第１１図の
ｘｍ−ｘｍ線に沿う断面図である。 ９・・・・金型装置 １０・・・・分割金型 １１・・・・キャビティ １２・・・・ゲート １３・・・・溶融樹脂 １３ａ・・・先端部 １４・・・・ウェルドライン（ウェルド部）１５・・・
・梨地シボ模様形成用凹凸部１６・・・・低シボ形成用
凹凸部 １７・・・・高シボ形成用凹凸部 １８・・・・射出成形品
Claims (1)
- 梨地シボ模様形成内面を有する分割金型のキャビティ内
に溶融樹脂を複数のゲートから注入して、各ゲートから
キャビティ内に注入される各溶融樹脂の先端同士をキャ
ビティの中間部でウエルドさせると同時に、前記キャビ
ティ内に溶融樹脂を充填させることにより、前記キャビ
ティ内にウエルド部付の射出成形品を形成すると共に、
該射出成形品の表面に梨地シボ模様を形成する様にした
ウエルド部付射出成形品の表面処理方法において、前記
梨地シボ模様形成内面の前記ウエルド部に対応する部分
の左右所定幅外の低シボ形成用凹凸部の凹凸差を５０μ
以上に形成すると共に、前記梨地シボ模様形成内面の前
記ウエルド部に対応する部分の左右所定幅内の高シボ形
成用凹凸部の凹凸差を６０μ以上に形成した前記分割金
型をもちいて、前記射出成形品を射出成形する際、該射
出成形品のウエルド部左右所定幅外の梨地シボの深さを
前記低シボ形成用凹凸部で５０μ以上に形成すると共に
、前記射出成形品のウエルド部左右所定幅内の梨地シボ
深さを前記高シボ形成用凹凸部で６０μ以上に形成する
ことを特徴とするウエルド部付射出成形品の表面処理方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11955685A JPS61277420A (ja) | 1985-06-01 | 1985-06-01 | ウエルド部付射出成形品の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11955685A JPS61277420A (ja) | 1985-06-01 | 1985-06-01 | ウエルド部付射出成形品の表面処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61277420A true JPS61277420A (ja) | 1986-12-08 |
Family
ID=14764237
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11955685A Pending JPS61277420A (ja) | 1985-06-01 | 1985-06-01 | ウエルド部付射出成形品の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61277420A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002096362A (ja) * | 2000-09-22 | 2002-04-02 | Teijin Chem Ltd | 艶消し状ポリカーボネート樹脂射出成形品 |
| JP2012020514A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Nissan Motor Co Ltd | 射出成形方法、及び射出成形型 |
| CN105459340A (zh) * | 2014-09-26 | 2016-04-06 | 托尔斯滕·米歇尔 | 模具 |
-
1985
- 1985-06-01 JP JP11955685A patent/JPS61277420A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002096362A (ja) * | 2000-09-22 | 2002-04-02 | Teijin Chem Ltd | 艶消し状ポリカーボネート樹脂射出成形品 |
| JP2012020514A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Nissan Motor Co Ltd | 射出成形方法、及び射出成形型 |
| CN105459340A (zh) * | 2014-09-26 | 2016-04-06 | 托尔斯滕·米歇尔 | 模具 |
| CN105459340B (zh) * | 2014-09-26 | 2018-02-09 | 托尔斯滕·米歇尔 | 模具 |
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