JPS6070097A - 安定なｓ−アデノシル−ｌ−メチオニン塩の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は安定なＳ−アデノシル−Ｌ−メチオニン（ＳＡ
Ｍｅ　）塩をＳＡＭｅに極めて富んでいる酵母から大規
模に工業的製造するだめの新しい方法に関する。

スルホ−アデノシル−Ｌ−メチオニン（１）はメチル基
の主要な生物学的供与体であることが知られている。

この特別の特徴はとの化合物を始めに生物学的観点から
、次いでその可能な治療への応用の観点から極めて重要
なものとしている。

この分子を大規模に使用する場合に関連する主要問題は
、室温においてすら見られるその熱的不安定性ならびに
その製造および精製の複雑さにある。

従って、安定な塩を得ることおよびこのような塩の工業
的規模で実施できる製造方法は広く研究の対象ときれ、
本出願人による多くの特許の対象であった。安定なＳＡ
ＭＳ塩およびそれらの製造方法の両方に関する本出願人
の特許には、米国特許第３，８９３，９９９号、同第３
　、９５４　、７２６号、同第４，０５７，６８６号お
よびヨーロッノ々特許出願第８２１０７３３３．５号が
含まれる。

前記諸特許に記載されている方法は限定された塩または
１群の塩に特定化されている。さらにまだ、これらの方
法は制限した規模で使用すると優れた結果をもたらすが
、非常に大量のＳＡＭＳ塩の製造に使用するには厄介で
ある。

この点で、現時点までに開示された方法は次の操作の一
つまたは二つ以上を包含している。

ＳＡＭｆ３に富む（ＳＡＭｅの５〜７グ／に７）酵母溶
解物中に含まれているＳＡＭｅをピクロロン酸で沈殿さ
せ、次いでピクロロン酸アニオンを除去する操作； ＳＡＭＳを弱酸性イオン交換樹脂のコラムに通す操作； 活性炭で処理することによるか、または活性炭のカラム
を通すことによりＳＡＭＳ塩を精製する操作： ３０〜３５℃で減圧下に濃縮する操作；および最終塩を
凍結乾燥させる操作。

これらの操作の全部が、比較的少量の生成物に　５一 対して行なわれた場合（・では特別の問題は生じないし
、寸だ経済的にも受け入れられないものではない。しか
しながら、これらの操作は生成物の高い製造レベルで適
用すると、エネルギー価格および包含される容積の点の
両方からの理由で実用不可能になる。

ここに、いづれのＳＡＭＳ塩の大規模製造に対しても経
済的に、しかも簡単に均等に使用でき、従来達成された
ことのなかった非常に純粋な生成物の生成を可能にする
安定なＳＡＭＳ塩の製造方法が見出され、これが本発明
の主題を形成している。

本発明による新規方法は基本的に次の工程を包含する。

ａ）含水酵母の最終ＳＡＭｅ濃度が１２〜２０グ／Ｋｑ
になるまで、連続工程でメチオニンを添加することによ
り、ＳＡＭｅ含有酵母のＳＡＭｆ３を濃縮する工程、 ｂ）細胞の水解およびＦ３ＡＭｅに富む水溶液（溶解物
）を採取する工程、 　６− Ｃ＞　１．０．０００の公称カットオフ値を有するＵ、
　？。

膜を用いる限外戸主により細胞溶解物を処理する工程、 ｄ）　Ｕ、Ｆ、精製後の細胞溶解物を１００〜２００メ
ツシユの粒子寸法を有する弱酸性イオン交換樹脂のカラ
ムに通す工程、 ｅ）前記カラム通過溶出液を吸収性樹脂カラムに通す工
程、 ｆ）高拒絶性逆浸透脱塩膜を用いる逆浸透による前記カ
ラムの溶出液の濃縮工程、およびｇ）濃縮水溶液を噴霧
乾燥機により乾燥させる工程。

濃縮工程（ａ）はいずれか適当な酵母〔たとえばサツカ
ロマイセス・セレビシアエ（５ａｃｃｈａｒｏ　−ｍｙ
ｃｅｅ　ｃｅｒθｖ１θ１ａθ）、トルロプシス・ウチ
リス（Ｔｏｒｕｌｏｐｓｉｓ　ｕｔｉｌｉｓ　）、カン
ジダ・ウチリス（Ｃａｎａｉｄａ　ｕｔｉｌｉｓ　）等
〕に対して既知ノシュレンク（Ｓｈｌｅｎｋ）濃縮法（
ＥｎＺ７ｍ０１０ｇｉａ、２９．２３８頁（１９６５年
）〕を用いてメチオニンを添加することにより実施でき
る。

しかしながら、本出願人はこの濃縮操作を、含水酵母の
最終ＳＡＭｅイオン濃度が１２〜２０グ／Ｋｒになるま
で数回繰返すことが、本発明による方法の実施において
必須であることを見い出した。

現時点までに開示された全ての方法は６〜７ｆ／に９の
ＳＡＭｅを含有する濃縮原料酵母を使用していた。ＳＡ
Ｍｅ塩の工業的製造において、これより高い濃度は考え
られなかったしまた有利であるとは考えられなかった。

工程（ｂ）は１２〜２０７／ＫｇまでのＳＡＭｅを含有
する濃縮酵母を、先ず水および酢酸エチルで、次いで０
．Ｉ　Ｎ−０，５Ｎ　、好ましくは０．３５Ｎの硫酸で
周囲温度において処理し、このようにして細胞を水解さ
せ、存在するＳＡＭｅの実質的に１００係を溶液中に移
行させることにより行なう。

含水細胞の重量の１１２０〜１１５の量の水とアセテー
トとを使用すると好ましく、処理は１５〜４５分間の間
、好ましくは３０分間続けると好ましい。

硫酸を次いで加え、細胞氷解を１〜２時間、好ましくは
１，５時間続ける。

前記細胞氷解法は既知方法であるばかりでなく、また溶
液を細胞残留物から容易にｆ取できるような条件下に周
囲温度で実施するのが好適な方法であることに留意され
るべきである。

限外戸主工程（Ｃ）は本発明の目的に対して必須ではな
いが、細胞溶解物がタン・Ｑり質残留物を含有する場合
には実施すると好ましい。この観点で、このようなタン
・々り質残留物は次の工程で使用する樹脂に付着し、そ
の活性を漸進的に減じることが見い出された。

限外戸主は１０，０００の公称カットオフ値を有し、平
板状または管状の、好ましくは管状の膜を使用して実施
すべきである。

細胞溶解物をこれらの条件で限外沢過処理すると、次の
工程で使用する樹脂カラムは格別に長い平均寿命を有し
、これは製造価格の決定的利点であることが見い出され
た。限外戸主により精製ｉ〜だ細胞溶解物は工程（ｄ）
で１００〜２００メツシユの粒子寸法を有するＨ形の弱
酸性樹脂（Ｃ０ＯＨ）のカラムに３．５〜７のｐＨ，好
ましくは　９− ５のｐＨおよび樹脂の容積当り１〜３容量、好ましくは
２容量の液／時間速度で装入する。

前記したように、精製の目的で弱酸性イオン交換樹脂カ
ラムにＳＡＭ６１溶液を通す操作は既知の操作である。

しかしながら、前記特徴を有し、しかも１００〜２００
メツシユの粒子寸法を有する樹脂（通常使用されていだ
カラムの５０メツシユより大きい粒子寸法に比較して）
を使用すると、非常に純粋なＳＡＭｅを含有し、特に有
機塩、ポリはプチドおよび分解生成物を含有しない溶出
液が得られることが驚くべきことに見い出された。

本発明によるこの処理の唯一の残留不純物は５′−デオ
キシ−５′−メチルチオアデノシン（３−１０係）およ
び少量のアデニン並びに痕跡量の着色化合物である。

樹脂の使用量はＳＡＭｅのＩ　ＫＦ当り１０〜５０ｔ１
好ましくは３０　ｔである。

細胞溶解物はこのよりなカラムに通し、一定量の蒸留水
で、次いで０．１Ｍ酢酸で溶出液のｐＨが３より小にな
るまで洗浄し、次いで再度一定１０− 量の蒸留水で洗浄し、その後ＳＡＭｅを０．２　Ｎ　Ｈ
２ＳＯ４で溶出する。

硫酸塩以外の塩が要求される場合には、要求される酸の
０．２　Ｎ溶液で溶出する。

この処理の後の残留不純物の量および質は既知技法で必
須であると考えられている溶出後の活性炭によるＳＡＭ
Ｓの処理を省略させる。

活性炭は効果的であるが活性炭はそれ自体の重量の１５
係に少なくとも等しい量のＳＡＭｅを保留する性質を有
するので、著しい収率の減少をもたらすことから、この
省略は本発明の新規方法の極めて有利なもう一つの利点
である。

これに対して、１００〜２００メツシユの粒子寸法を有
する弱酸性樹脂を通過した後のＳＡＭＳ中に含まれる不
純物が、単純な吸収性重合体に通すことによシ全体的に
除去されることが予想外に見い出された。

適当な重合体はアンバーライ）　ＸＡＤ２、ＸＡＤ４お
よびＸＡＤ７であり、これらは工程（ｄ）からの溶出液
のような強酸性溶出液からのＳＡＭｅを実質的に保留し
ない。

工程（８）は溶出液を前記樹脂のカラムに樹脂の容積当
り０．２〜１容量、好ましくは０．５容量の液／時間速
度で通すことにより実施する。

樹脂の使用量はＳＡＭｅ　Ｉ　Ｋｙ当り１０〜５０ｔ１
好ましくは３０ｔである。ＳＡＭｅ溶液はカラノ・を通
過させ、次いでＳＡＭｌＢが溶出液から消失するまで２
０ｍＮＨ２ＳＯ４（ｉたはその他の所望の酸）で洗浄す
る。

非常に高純度のＳＡＭｅを約１．Ｏｒ　／　ｔの量で含
有する溶出液を次の濃縮工程に装入する。

逆浸透を使用する濃縮工程（ｆ）は工程（ｅ）からの溶
出液を、高Ｎａ　Ｃ１拒絶性逆浸透脱塩嘆を用いる逆浸
透処理に付することにより実施する。この膜はＳＡＭｅ
を実質的に完全に保留できるが、水および過剰の硫酸ま
たはその他の均等な酸は透過して排除することができる
。

ポリアミド膜はこれらが強酸性溶液中で良好な耐性を示
すことから好適に使用できる。

逆浸透による濃縮は工程（ｅ）からの溶出液を１０？／
１から１００〜２００　ｔ／ｌ　、好１しくは１２０　
？／ｌに濃縮することを可能にする。

その他の従来既知の方法（たとえば減圧下に濃縮する方
法）に比較して、　ＳＡＭｅ溶液の濃縮に逆浸透を用い
ると、下記の２大別点が得られる。

１）濃縮は減圧下濃縮に必要な３０〜３５°Ｃと比較し
て、２０℃の最高温度で行なわれる。このことはＳＡＭ
ｅＯ熱的不安定性の観点から非常に重要である。

２）溶出液が最終塩の化学量論量より過剰のＨ２ＳＯ４
を含有する場合に、この酸が逆浸透処理中に除去される
。これはその沈殿のためのＢａ水酸化物の使用を排除す
ることにより、従ってＢａ５Ｏ，の濾過の困難な問題お
よび相応して増大する価格の問題を排除することになる
。

前記したように本発明による新規方法において格別の利
点を有するこの濃縮方法の使用はこれらの工程を出るＳ
ＡＭｅが特別の濃度および純度レベルを有することを可
能にし、この方法は既知技術の方法でかつて使用された
ことはなかった。

１３− 逆浸透によシ濃縮されたＥＩＡＭｅの溶液をそのＳＡＭ
ｅおよび硫酸（または別の塩が所望された場合はその他
の酸）の濃度について分析し、硫酸および（または）そ
の他の酸を適当に加えて、所望の化学量論的組成が得ら
れる。

たとえば、化学量論的組成を調整して、ＢＡＭｅ２硫酸
塩−ｐ−トルエンスルホン酸塩が得られる。

この溶液を次いで噴霧乾燥を含む次の工程（ｇ）に装入
して最終生成物が得られる。

工程（ｇ）では、生成物を熱い空気の装入により乾燥室
中で霧化する。

導入口溶液の濃度（ＳＡＭθイオンとして表わす）は１
００〜２００グ／ｌ、好ましくは１２０１ｉｌ／ｌであ
る。

乾燥用空気、好ましくは予め除湿した空気の装入温度は
１４０〜２００℃、好ましくは１６０℃である。排出口
の空気温度は４０〜１００℃、好ましく　／は６０℃で
ある。

これらの条件下に、この工程を出る生成物は４０〜５０
°Ｃの温度を有し、これを次いで除湿空気１４− により周囲温度に迅速に冷却させる。工場は乾燥生成物
を連続的に分離する適当な装置を具備すべきである。

前記の全条件は乾燥処理を受けるＢＡＭｅ塩が分解を受
ける温度に達するのを防止するだめに必須である。

ＥＩＡＭｅ塩の噴霧乾燥はこれらの塩の高温に対する感
受性の故に従来は可能でなかったことに留意されるべき
である。

このような新しい処理工程の実行可能性は新しい逆浸透
工程を出る生成物の濃度の程度の結果として、および生
成物をいづれの分解を受けることなく乾燥させることを
可能にする限定的な入口および出口の空気温度、除湿お
よび分離速度条件の決定の結果として生じる。

本発明によるＢＡＭｅ塩の噴霧乾燥が既知の乾燥方法、
特に凍結乾燥による乾燥法に比較して、装置およびエネ
ルギーの点で格別の価格減少を導くことにまた留意され
るべきである。

結論として、その工程の各々が新規であり、また総合的
に新規である本発明による工業的規模でのＢＡＭｅ塩の
新規製造方法は従来法して達成されなかった収率、すな
わち９０係近くまだはそれ以上の収率で非常に高い純度
の生成物を得ることを可能にし、しかもこの方法は従来
既知の全ての方法に比較してはるかに簡単で安価である
。

この真に驚くべき結果は本発明の新規方法を支配してい
る成る数の限定的ノミラメ−ターが予想外に見い出され
た結果として得られたものである。

本発明による方法をさらに容易に再現できるようにする
ために、および得られる利点のかなりを例示するために
、次側を純粋に例示の目的で示すが、これらの例は本発
明の範囲および特許請求の範囲をいづれの場合でも制限
するものではない。

例　１ ｓＡＭｅ　２　ｇ酸塩−ｐ　−）ルエンスルホン酸塩ノ
製造 ５ｃｈｌｅｎｋ法［ＥｎＺｙｍＯｌｏｇｉａ　、　’１
９．２８３頁（１９６５年）〕によりＳＡＭｅについて
濃縮された（　１．７　ｇ／にグ）酵母７２０Ｋｇに、
酢酸エチル１１０ｔおよび水１１０　ｔを周囲温度で加
える。

３０分間、強力にかきまぜた後に、０．３５Ｎ硫酸１０
００　ｔを加え、攪拌をさらに１．５時間続ける。

混合物を回転フィルターに通して１過し、戸主ケーキを
水で洗浄して、ｓＡＭｅ　４．．４．ＯＳ’　／ｌ　（
コれは原料中に存在したＢＡＭｅの９９．５％に相当す
る）を含有する溶液２８００　ｔが得られる。

このようにして得られたＢＡＭｅ溶液（ｐＨ２，５）を
ｉｏ、ｏｏｏのカットオフ値を有する管状膜を用いる限
外戸主設備に装入する。

膜を去る透過液を適当な容器に採取し、他方濃縮物はこ
れが２００ｔの最終容量に達するまで連続的に再循環さ
せる。との時点で、蒸留水を加え、ＳＡＭｅが完全に抽
出されるまで再循環を続ける。

得られた限外ｒ過した細胞溶解物３５００　ｔのｐＨを
２ＮＮａＯＨの添加により５に調整する。

１７− ＋ Ｈ形のアンバーライ）　ＣＧ５０４００　ｔを含有する
カラムを作り、蒸留水で注意深く洗浄する。

この樹脂カラムに細胞溶解物を８００Ａ／時間の速度で
通し、この速度は処理全体を通して一定に維持する。

蒸留水４００　ｔ、　０．１　Ｍ酢酸３２００Ａ、次イ
テ蒸留水４００ｔを１順次通す。

５Ａｆｅを０．２　Ｎ硫酸８００ｔで溶出する。この方
法で得られた溶出１，８００ＡはＳＡＭＳ約１１．６に
９を含有する。

０、ＩＮ　ＮａＯＨ８００Ａおよび０．１Ｎ　Ｈ２ＳＯ
，８００４で予め活性化したアンバーライ）　ＸＡＤ４
４００　ｔを含有するカラムを作り、次いで蒸留水で注
意して洗浄する。

前工程で得られだＳＡＭ８溶液をこのカラムに２００ｔ
／時の速度で通し、この速度は処理全体を通して一定に
維持する。

次いで’ＸＪｍｍ硫酸４ｏｏｔを通す。

ＳＡＭｅ含有溶出液（ＢＡＭｅ　１１．３　Ｋｆを含有
する約１０００ｔ）を採取する。

このようにして得られた溶液をポリアミド脱塩膜を含む
平板状の逆浸透装置に装入する。

この装置で、ＳＡＭｅ溶液をＳＡＭｅ　１１．２に！１
７を含有する８０　ｌに濃縮する。

濃Ｈ２ＳＯ，１、８ｋｇおよびｐ−トルエンスルホン酸
４．８ｋｇを加える。

このようにして得られた溶液を１６０℃で空気とともに
噴霧乾燥機に装入する。

乾燥した生成物を噴霧乾燥機から連続的に取り出す。

得られた粉末２．１６ｋｇを分析すると、次の組成を示
す： Ｓ　ＡＭ　ｅ　５１％ Ｈ２ＳＯ４２５係 ｐ−トルエンスルホン酸　２２弼 Ｈ２０２弼 これはＳＡＭｅ・２Ｈ２ＳＯ４・ｐ−）ルエンスルホン
酸に相当する。収率：約９０係。

例　２ ｓＡＭｅ　２硫ｅ塩２　ｐ　−）ルエンスルホン酸塩の
製造 逆浸透による濃縮工程（この工程を含む）゛までは例１
の方法に従う。

逆浸透工程からの濃縮溶液に、濃Ｈ２Ｓｏ、　１．８１
−９およびｐ−トルエンスルホン酸９．６ｋｇを加える
。

乾燥は例１のとおりに行なう。

得られた粉末２６．５ｋ１７を分析すると次の組成を示
す： ＳＡＭｅ　４１−．５　％ Ｈ３Ｓｏ、　２０．５　％ ｐ−＋ｐ−エールルホン酸　３６係 Ｈ２Ｏ２チ これはＳＡＭｅ・２Ｈ２ＳＯ４・２ｐ−トルエンスルホ
ン酸塩に相当する。収率：約９０部。

例　３ Ｓ庫ｅ・２．５硫酸塩の製造 逆浸透による濃縮工程（この工程を含む）までは例１の
方法に従う。

逆浸透工程からの濃縮溶液に、濃Ｈ２ＳＯ４３，５ｋｇ
を加える。

乾燥は例１のとおりに行なう。

得られた粉末１ｓ　、　２　ｋｇを分析すると、次の組
成を示す： ＳＡＭｅ　６０．６　％ Ｈ２ＳＯ，３７，４チ Ｈ２Ｏ２係 これはＳＡＭｅ・２．５Ｈ２Ｓｏ４塩に相当する。収率
：約９０チ。

特許出願人　ビオリサーチ・ニス、ビー、エイ。

２１−

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. （１）Ｓ−アデノシル−Ｌ−メチオニン（ＳＡＭｅ）を
   含有する酵母濃縮物からＳＡＭｅの安定な塩を製造する
   方法であって、 ａ）原料酵母中のＳＡＭθ濃度を含水酵母の１２〜２０
   　ｆｌ　／　Ｋｑに調整し、ｂ）濃縮酵母から高ＳＡＭ
   ｅ濃度を有する細胞溶解物を生成し、Ｃ）この細胞溶解
   物を限外ｒ過処理し、（１）Ｆ’過主生成物１００〜２
   ００メツシユの粒子寸法を有する弱酸性樹脂に通し、次
   いで酸溶液で溶出し、θ）溶出液を吸収性重合体に通し
   、次いで酸水溶液で溶出し、ｆ）溶出液をＮａ　ｃｌ拒
   絶性逆浸透脱塩膜を用いて逆浸透処理し、濃縮ＳＡＭＳ
   溶液を化学量論的量の酸で処理して、これを要求される
   塩に完全に変換し、次いでｇ）　ＳＡＭｅ塩の濃縮溶液
   を噴霧乾燥機中で乾燥させることを特徴とする、前記Ｓ
   ＡＭｅの安定な塩の製造方法。
2. （２）工程（ａ）は、酵母をメチオニンで数回の連続工
   程で処理することにより実施する、特許請求の範囲第１
   項に記載の方法。
3. （３）工程（ｂ）は、濃縮酵母を酢酸エチルおよび硫酸
   で処理することにより実施する特許請求の範囲第１項に
   記載の方法。
4. （４）限外戸主工程（Ｃ）は、１０，０００の公称カッ
   トオフ値を有する膜を用いて行なう、特許請求の範囲第
   １項に記載の方法。
5. （５）工程（ｄ）はＨ形の弱酸性樹脂（Ｃ０ＯＨ）を３
   ．５〜７のｐＨおよび１〜３容量の液／時間速度で用い
   て行なう特許請求の範囲第１項に記載の方法。
6. （６）　工程（ｅ）は、アンバーライトＸＡＤ２．アン
   バーライトＸＡＤ４およびアンバーライトＸＡＤ７よシ
   なる群から選ばれる樹脂を使用し、溶出液を０．２〜１
   容量の液／時間速度で通すことにより行なう特許請求の
   範囲第１項に記載の方法。
7. （７）逆浸透工程（ｇ）は高いＮａＣｌ拒絶性の逆浸透
   脱塩、嘆を使用し、１００〜２００ｆ／ｌのＳＡＭＱ含
   有量が濃縮物に得られるまで行なう特許請求の範囲第１
   項に記載の方法。
8. （８）　噴霧乾燥工程（ｇ）を１４０〜２００℃の入口
   温度および４０〜１００℃の出口温度を有する除湿空気
   により行なう特許請求の範囲第１項に記載の方法。