JPS6034095A - 印刷配線板の製造方法 - Google Patents

印刷配線板の製造方法

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JPS6034095A
JPS6034095A JP14359883A JP14359883A JPS6034095A JP S6034095 A JPS6034095 A JP S6034095A JP 14359883 A JP14359883 A JP 14359883A JP 14359883 A JP14359883 A JP 14359883A JP S6034095 A JPS6034095 A JP S6034095A
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JP
Japan
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plating
copper
chemical
layer
printed wiring
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JP14359883A
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English (en)
Inventor
岸 高志
藤井 宝
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Toshiba Chemical Products Co Ltd
Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Toshiba Chemical Products Co Ltd
Toshiba Chemical Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は、レミアテイテイブ法を用いた印刷配線板の製
造方法に関する。
[発明の技術的背景とその問題点] 一般に、印刷配線板は銅張積層板の表面にフAl−レジ
ストやインフレジスト等を用いて所定の回路パターンを
印刷し、これを硬化させて′#4酸性樹脂罷を形成した
後、全体を塩化第21入水溶液中に浸漬して露出した銅
箔部分をエツチング廃液しC製造されている。
しかしながら、このような方法においては、回路パター
ンを形成する銅箔部分は通富全面積の10〜40%程度
であり、残部はエツチングにj、り溶解除去されるため
、f演的に損失が大きいばかりでなく、エツチング廃液
のJul出については環境汚染防止の見地から制約を受
けるという問題かあった。
用いないセミアアイj−イブ法か開発されているλこの
、セミアデイテイブ法においCは、絶縁基板の上に熱硬
化型接着剤を塗イ1」シ、加熱硬化さぜC化学めっさ用
接着剤層を形成し、さらに所定の位置にスルーホールを
設番プた接名剤付絶縁基板を用いc図に示づような工程
にしたがって行なわれる。
クーなわら、まずこの接着剤イ」絶縁基板に親水化dメ
よひ粘性化の表面処理が施される〈親水化・活1牛 化
 ]二 稈 ) 。
次にスルーホール内壁を3む全面に厚さ0.1〜5μm
の化学ニッケルめっきあるいは化学111’lめつ8層
が形成された後(化学めっき]二程〉、スルーホール3
内壁と所定の回路パターンを除く仝m」にめっきレジス
ト層が設けられ(レジス1一層ン皮覆工程)、さらにス
ルーホール内壁と回路パターンに電気銅めっき層が設(
)られく電気めつき工程)次い(・めつきレジス1へ層
が剥離除去され(レジフト層剥因「に稈)、露出した化
学ニッケルめっきあるいは化学銅めっき層か塩化第2鉄
水溶液のようなエラチングミC溶解除去され回路パター
ンDI形成される(土ツブ〜ング丁稈)。
しかしながら、このようなセミアゾ5rテイ1ンノくに
d3いCIJ:、電気めつさ1−程にJ5いて形成きれ
る電気鋼めっき層の、伸ひ、抗張力等の物性、均−電着
性、スルーホールの信頌fiζ高密度パターン化等、印
刷配線板のスルー小−ルおよび回路パターンに要求され
る特1ノ1−について、そのツl\てを満足させるbの
(よ)qられCいなかった。
づなわ15、この電気めっき工程においL IJ、めつ
き′液とじてビロリンn授銅や硫n(11祠等のj伺塩
水溶液を用いる〕)法か7テなわれているが、例えばピ
I」リン酸鋼を用い(電気銅めっきを行なった場合には
、めっさ層の均−電盾fケに(りれている〕ζめに高ヂ
6度パターンの製作か可能となるか、めっき層の伸びか
5層程度と(((クスルーホール信頼性等のに3て充分
とはいえJ゛、まIこ硫lI※銅を用いた場合には、め
っき層の伸びは10%と良好であるか、均一電着性が充
分Cはなく、電気抵抗が銅よりも大きい化学ニッケルめ
っぎ層の上にめっさJる場合、「密度のパターンを形成
りることができないという問題かあった。
L発明の目的] 本発明者等は、かがる従来のfi1点を解消すべく鋭意
研究をすずめたところ、この電気めっぎ工程にa3いC
12種以上の銅めっき液を順に使用Jることにより、各
めっき液を使用した場合の利点が重畳されC慢ねた待1
9の電気銅めっ0層が形成Δれることを見い出した。
本発明はこのJ、うな知見に塁いてなされたもので、亀
′気銅めっき層の厚さの不均一や尋通不良、接員焼は等
を生しることなく、所望の電流効率を維持し、伸びや抗
張力等の物性や均−電盾性あるいはスルーホール(g 
fi+!J等の必要<’に特性を満足させる信頼性の高
い電気鋼めっき層が形成され)ζ印刷前編(板の製造方
法を提供覆ることを目的とする。
[発明の(■要] りなわら本発明は、セミアデイテイブ法の電気銅めっき
工程にお番ノる電気銅めっきを、2種以上Cいる。
本発明に使用する化学めっき用接盾剤付絶縁基板は、例
えば紙−フェノール樹脂113層板、カラス−エポキシ
樹脂梢層仮のJ、うな絶tA基板の両面に、熱硬化型の
化学めっき用接猶剤を塗イbし、加熱映1しさせて接盾
層を形成しスルーボールを穿設したしのC・ある。上記
の化学めっき用接着剤としCは、例えばアクリ1j二1
〜リルゴムとノボラック型また(Jレゾール型の)]、
ノール樹脂あるいはエポキシ樹脂とのン昆合物を主イホ
どし、必要に応してこれにジルコニウム化合物−bシリ
カを添加混合したしのツノ1用いられる。
また本発明においては、このような化学めつさ一用接着
剤LJ絶縁基板の全面に化学ニッケルめっきあるいは化
学銅めっき病を設けるか、この層の厚さは01〜5μm
 vあることが望ましい。この化学めっき層の厚さが0
.1μm 、J、り薄いと電気めっき工程にd3ける電
極として不充分となり、逆に5μmを越えると化学めつ
ご工程に長時間を要仕7−1−1−Ji’1g”zfl
lll−70)IPCT−リ4−ゝ//f片針’に+1
’7Nのに01間がかかり、かつ、スルーボール内壁や
回路パターン上の電気銅めっき層もエツチングされ(電
気的信頼性が低下してしまうためりrましくない。
本発明の電気めっさ1稈において、スルーボール内壁と
回路パターン上に′電気鋼めっきを行なうのに使用り−
るめっき液どしCは、ピ11リン酸銅、硫酸銅、肖l1
9銅、ホウフッ化銅の各水溶c1ジ等がある。本ブで明
にa3いては、これらの中から2種以上を選択し順に電
気S同めっきを行イヱい、¥?、なる結晶(14造をイ
jし物性等の族4釘る電気鋼めっさ層を重ねて形成づる
ことにより、電気銅めっき層に要求されるJj!目をづ
へC満足される印刷配線板を製造−リ−ることがCきる
[発明の実施例] 以1;本光明の実施IT/すによび比較例について記載
する。
実/I色例1 厚さ1.611+1の紙−フエノール樹脂積層板の両面
に、アクリロニ1〜リルゴム=101f7’1部(以下
単に部と略称する)、レゾール型フェノール樹脂20部
、ビスフェノール型エポキシ樹脂20部、シリカゲル1
0部および硬化剤10部を、メチルエブ−ルケ1〜ンー
ブゾルPロソルブン昆合)6桑(で)8解した化学めっ
き用接着剤をディップ弐〇塗イEし、用乾後160’C
のm11良′c’I 0分間・加熱L/T硬化さU1J
9さ30μmの化学めっき用接着剤層を形成した。
次いでこの化学めつさ“用接6剤イ」絶縁基板の所定個
所にトリルを用いr孔開【プ加工を施し・Cスルーホー
ルを設()だ後、化学めっき用接着剤層をり1」ム硫酸
混溜に浸漬しC親水化処理し、さらに塩化パラジウム溶
液に潤製して活性化処理を行なつlこ。
次に全体を」2.1化ニツケル、増、化アン1ラニウム
、次亜リン酸ソーグ、クエン酸す1−リウムからなる化
学ニッケルめつぎ液中に40℃で12分間浸泊しC、ス
ルーホール内壁を含む全面に17さ3/1mの化学ニッ
ケルめっき層を形成した後、スルー小−ル内壁と所定の
回路パターンを除く全面にマスク印刷によりぬつきレジ
スト層を?l!!覆し、乾燥後150o/ぶ濃度の過硫
酸アンモニウム水溶液および5〜20%の硫酸水溶液を
用いC化学ニッケルめっき層に活性化処理を煎しl〔。
次いC下記に示づピロリン酸銅J3よびホウフッ化銅の
水溶液中で電気銅めっきを順にfjl、rつで、スルー
ホール内壁と回路パターン上に電気鋼めっき層を形成し
た。
めっき液組成 (△)ビロリンri斐lit水ン8液:ビ1]リン酸j
同<Cu2F〕207・31−120)90++/ρ ピ[1リン酸カリ(K+P2O7) 355F1/17
 ンT::−1水 2 、!う ml/12光沢剤 1
011ρ/β (]3)ポウフッ化銅水溶液コ 銅 100リ /ρ ホウノッtl12 373 (1/ J2なJ5 、こ
のときの電気めっきの条f′4は次の通りである。
(△) (B) 電’(R密Iff : 3 △/dm7 3 △/ d
en’液)晶° 55°C40°C めつき旧間二 60分 70分 しかる後常法によりめつぎレジメ1一層を剥離除去し、
売出した化学ニッケルめ・つど一層を溜溝50°Cの過
6AMアンモニウムとベンゾトリアゾールとの混合−[
ツチング欣(前老の濃度250(1/ρ、後者のIf!
飼1.0(1/β)に浸油しC溶解除去し印刷配線板を
1[また。
実施例2 ピロリンllりj同d3よひ硫屡銅水溶液中で゛電気鋼
めっきを順(ご行なった以外は実施例1と同様にして印
刷配線板を製造した。
めっき液組成 <A)ピロリン酸銅水溶液: ピロリンQ’UKO(Cu 2 P 207・3N20
)90 g/λ ピロリン酸カリ(K4P2O7) 355 リ/λアン
モニア水 2.5mβ/β 光沢剤 1.01nβ/℃ (B) 硫酸銅水ン111液 : fUfltitR(Cu S O4・ 5 F+20)
 75 g/j2硫酸 (l−12SO4> 190 
(J/j2+W 、FiイAン(Cn−) 50 11
11mめっき条1’l: (A) (B) 電流Pi; IN : J△/ dn123Δ7 d+
n’液?品 : 555℃ 25℃ めつぎ(1,1間−60分 60分 実施例3 M+酸銅J3よひホウフッ化鋼水溶液中ひ順に電気銅め
っぎを行なった以外は実)崩例1と同様にしC印刷配線
4kを製造Iノだ。
めっき液組成 (A ) 1lA1酸銅水溶イ)9.:実施例2ど同−
組成()3)ボウフッ化銅水溶液。実施例1ど同一組成
めっき条イ!t:(A) (B) 実施例2ど 実施例1と 同一条件 向−条イ′1 実施例4 ビロリン酸4・1、I、III酸銅、ホウフッ化銅の水
溶液中C順に電気銅めっきを行なう他は実施例1と同様
にして印刷配線板を製)外した。
めっき液組成 (Δ)ビロリン酸銅水溶液:実施例2と同−組成(B)
硫酸銅水溶液:実施例2・と同一組成(C)ホウフツ化
銅水溶液;実施例1と同−組成めっき条(シ(− A B C 電流密麿、 実施例1 実施例2 実施例3液温、 と
同じ と同じ と同じ めっき時間: 実施例5 化学ニッケルめつぎを行なう代りに化学銅めつぎを行な
う他は実施例1と同様にして印刷配線板を 製 j告 
し 〕こ 。
化学銅めっき液: 1IIi[Mffl’l (C1So 4 ・51−1
20 >0.04M/λ E D 1−△−4Na O,08tvl/λNa O
H6g/f1 1−l Cl−100、1M / fl界面活性剤 1
0 +ng 7β 浸諺条f’170’cX30分間 実JAi例0 化学ニッケルめっきに代え(化学銅めっきを行なう他は
実施例2ど同様にしt El印刷配線板シJ造した。
化学鋼めっき液:実施例と同−組成 浸漬条イ′4:実施例5と同−条件 実施1a]7 化学ニッケルめっさに代えC化学銅め−)さを行なう他
は実施例3と同様にしC印刷配線板をヅN錯しIこ。
化学銅めっき欣:実施例1)と同−組成浸)0条11:
実7+色例5とl1lil−条1′1天施例8 化学ニッケルめっきに代えて化学銅めっきを行なう他は
実施例4と同様にしC印1111配線板を製造し ノこ
 。
化学銅めっき液:実施例と同−組成 浸漬系1′1:実施例5と同−条イ!1比較例1 電気銅めつ凸′をrtl11酸8111水ン6液(実施
例2と同一組成)中Cのみ行なった以外は実施例1と同
様にしC1印刷配線板を製造した。
めっき液組成 硫酸銅水)8液:実施例2とl−組成 めっき条件 電流1・Δ度: 3Δ/ (I11’ 液温: 25℃ めっき時間: 60分 比較例2 電気銅めっきをピL1リンe it・i水in it促
(実施例2と同一組成)中C゛のみ行なったJメ外は実
施例1と回4,1;にしCI’:l] 1iiQ配線板
製造した。
めっき条イ′1 電流密度: 3△/ (1111’ 液ンQ: 5 5 °C めっきt+、’i間= 60分 比較例3 化学ニッケルめっきに代えて化学銅め・〕きを行なう他
は比較例1ど同様にしC印刷前わi)板を製造しIこ。
化学銅めっき潰:実施例5ど同一組成 ?夛漬条1′1゛実罷例5ど同−条1′1比較例4 化学ニッケルめっきに代えC化学銅めっきを行なう他は
比較例2と同様にしC印刷配線板を製造しl、:、。
化学銅めつさ″液:実加例5と同−組成浸漬条件:実施
例5と同−条f′1− 以上のす;施例および比較例で45tられた印刷配線板
の基4に特性、電気銅めっき層の物性と均−電着す!■
およびスルーホールの仁9・fi性を測定した。測定結
果を次表に示す。
なお基板特性の引き剥がし強度と半[11耐熱+!Iの
11jll定(ま、JIS(、−6481に準しC行な
い、またスルーボールの信頼性IJ −65℃X30分
、次いr125℃×30分の冷熱」ブイクル後のスルー
ホールの状態を観察して行なった。
(以下余白) (注) ※1「均一電着性」の○は良好 ×は 悪い を表わす。
※2[スルーボール信頼性」の◎は 良好○は 普通 △は やや悪い を表わす。
(以F余白) 「発明の効果」 以」二の実施例からも明らかなように71Cざ℃1月に
よれば、電気銅めっき層の厚さの不j勺−イしi′]j
Gt通イ;良a3よひ接貞!立()を牛しることなく 
19i望のiT: 2’Ar望ノ率が肩(持され、電気
銅めっき層の物性−、スル−11へ−ルの(N 2jj
性に饅れ、高品度〕<クーン(Isσ)可1jピな印刷
配線板が簀られる。
【図面の簡単な説明】
1に1面はレミアアイノイブ法にJ、る印K11ll 
fII!イ5)(赦σ〕製貼方法を1.)δ明りるlこ
めのフ(」−チ11−1〜cd与る。 代理人弁理士 須 山 佐 −

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)スルーホールを有する化学めっき用接着剤付絶縁
    基板の表面に、 (A)親水化および活性化処理を施づ工程と、(B)化
    学めっきを施す工程と、 (C)スルーホール内壁と所定の回路パターンを除く全
    面にめっきレシスト層を被覆り−る工程と、 (D)電気鋼めっきを施してスルーホール内壁と回路パ
    ターンに電気銅めっき層を設ける工程と、 (「〉前記めっきレジス1へ層を剥離除去する工程と、 (「)露出した化学めっき層を溶解除−hツる工程とを
    、 順に行なう印刷配線板の製造方法にd3いて、@記(0
    )の工程における電気鋼めっぎを、2種以上る印刷配線
    板の製造方法。
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