JPS60258492A - 錫メツキ線の製造方法 - Google Patents
錫メツキ線の製造方法Info
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- JPS60258492A JPS60258492A JP60086636A JP8663685A JPS60258492A JP S60258492 A JPS60258492 A JP S60258492A JP 60086636 A JP60086636 A JP 60086636A JP 8663685 A JP8663685 A JP 8663685A JP S60258492 A JPS60258492 A JP S60258492A
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- JP
- Japan
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- bath
- wire
- plated
- manufacturing
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21C—MANUFACTURE OF METAL SHEETS, WIRE, RODS, TUBES OR PROFILES, OTHERWISE THAN BY ROLLING; AUXILIARY OPERATIONS USED IN CONNECTION WITH METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL
- B21C37/00—Manufacture of metal sheets, bars, wire, tubes or like semi-manufactured products, not otherwise provided for; Manufacture of tubes of special shape
- B21C37/04—Manufacture of metal sheets, bars, wire, tubes or like semi-manufactured products, not otherwise provided for; Manufacture of tubes of special shape of bars or wire
- B21C37/042—Manufacture of coated wire or bars
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/04—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the coating material
- C23C2/08—Tin or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/30—Electroplating: Baths therefor from solutions of tin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/34—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/06—Wires; Strips; Foils
- C25D7/0607—Wires
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、２段階の錫メツキ工程によって、特に電子技
術用の直径が０．１から１．５ａｖ＋までの例えば銅の
ようなＮＥ−金属からなる錫メッキされた線を製造する
方法に関する。
術用の直径が０．１から１．５ａｖ＋までの例えば銅の
ようなＮＥ−金属からなる錫メッキされた線を製造する
方法に関する。
ドイツ連邦共和国特許第２９３１９３９号明細書におい
て既に２段階の工程のよる錫メツキ方法が知られている
。この方法の揚台銅線は始めの錫メッキの前に設定寸法
に引抜き加工され、焼鈍しされ、それから２段階の工程
で電気式に錫メッキされ、その場合こ二に引抜き工程が
入れられ、続いて高速で最終寸法に引抜き加工され、焼
鈍し領域で短時間で焼鈍しされ、最後に強く冷却される
。
て既に２段階の工程のよる錫メツキ方法が知られている
。この方法の揚台銅線は始めの錫メッキの前に設定寸法
に引抜き加工され、焼鈍しされ、それから２段階の工程
で電気式に錫メッキされ、その場合こ二に引抜き工程が
入れられ、続いて高速で最終寸法に引抜き加工され、焼
鈍し領域で短時間で焼鈍しされ、最後に強く冷却される
。
その場合焼鈍しは、銅線が焼鈍しされるが錫層は部分的
にしか浴融されないように短時間で行なわれる。それに
よって銅と錫との間の拡散層の修勢が阻止される。
にしか浴融されないように短時間で行なわれる。それに
よって銅と錫との間の拡散層の修勢が阻止される。
この方法の場合、銅線が２回にわたって非常に強く錫メ
ッキされねばならず、錫の消費量が非常に多く、更に短
時間の浴融によって線に対する錫被覆層の合心性が悪く
なる危険があり、銅と錫との間の拡散層の不在によって
将来のろう付けの際に錫メッキ線が剥がれる（Ｅｎｔｎ
ｅｔｚｕｎｇ）危険がある。
ッキされねばならず、錫の消費量が非常に多く、更に短
時間の浴融によって線に対する錫被覆層の合心性が悪く
なる危険があり、銅と錫との間の拡散層の不在によって
将来のろう付けの際に錫メッキ線が剥がれる（Ｅｎｔｎ
ｅｔｚｕｎｇ）危険がある。
電子技術用の線を錫メッキする場合、一般に２つの方法
が取られ、即ち火力式の錫メツキ方法あるいは電気式の
錫メツキ方法が取られ、いずれの方法も一長一短を有し
ている。火力式の錫メッキによれば、金属間拡散層の形
勢に基づいて線材料に対する錫層の最も大きな接着が得
られる。これによって線の剥がれ（Ｅｎｔｎｅｔｚｕｎ
ｇ）に対する良好な強度が得られる。しかし同時にこの
方法は、線の上の錫層の被覆が同心的に行なわれず、錫
メッキ層に簿い箇所および厚い箇所が生ずるという欠点
を有している。所定の錫メッキの等級に対してＤＩＮ（
ドイツ工業規格）が条件づけているようなかかる錫メッ
キ線の人工時効において、この薄い箇所の範囲において
拡散層の成長によって使用できない面が生じ、これは線
を不合格品にしてしまう。これを防止づるために、非常
に厚肉に錫を被覆する必要がある。
が取られ、即ち火力式の錫メツキ方法あるいは電気式の
錫メツキ方法が取られ、いずれの方法も一長一短を有し
ている。火力式の錫メッキによれば、金属間拡散層の形
勢に基づいて線材料に対する錫層の最も大きな接着が得
られる。これによって線の剥がれ（Ｅｎｔｎｅｔｚｕｎ
ｇ）に対する良好な強度が得られる。しかし同時にこの
方法は、線の上の錫層の被覆が同心的に行なわれず、錫
メッキ層に簿い箇所および厚い箇所が生ずるという欠点
を有している。所定の錫メッキの等級に対してＤＩＮ（
ドイツ工業規格）が条件づけているようなかかる錫メッ
キ線の人工時効において、この薄い箇所の範囲において
拡散層の成長によって使用できない面が生じ、これは線
を不合格品にしてしまう。これを防止づるために、非常
に厚肉に錫を被覆する必要がある。
電気式の錫メッキは、線の上において錫の成長が同心的
に行なわれ、錫層が良好な無孔性を有しているという利
点を持っている。しかし電気式の錫メツキ方法の欠点は
金属間拡散層の不在にあり、それによって線を曲げる際
に錫層が容易にはがれ、ろう付は試験の際に心材料の剥
がれ（Ｅｎｔｎｅｔｚｕｒ＋ｏ）が生ずる。
に行なわれ、錫層が良好な無孔性を有しているという利
点を持っている。しかし電気式の錫メツキ方法の欠点は
金属間拡散層の不在にあり、それによって線を曲げる際
に錫層が容易にはがれ、ろう付は試験の際に心材料の剥
がれ（Ｅｎｔｎｅｔｚｕｒ＋ｏ）が生ずる。
（発明の目的）
本発明の目的は、従来技術の欠点を除去し、火力式の錫
メツキ方法の利点および電気式の錫メツキ方法の利点と
を組み合わせて、非常に薄く、一様な合心性を有し、気
泡が無く、充分な拡散層によって良好な接着およびそれ
に伴って剥がれ（ｔ、ｎｔｒｔｅｔｚｕｎｇ）に対する
良好な強度を持った錫層を線に設けることにある。
メツキ方法の利点および電気式の錫メツキ方法の利点と
を組み合わせて、非常に薄く、一様な合心性を有し、気
泡が無く、充分な拡散層によって良好な接着およびそれ
に伴って剥がれ（ｔ、ｎｔｒｔｅｔｚｕｎｇ）に対する
良好な強度を持った錫層を線に設けることにある。
（発明の概要および効果）
本発明によればこの目的は、既に最終的に引抜き加工さ
れた線がまず薄く火力式で錫メッキされ、続いて電気式
〇最終のメッキ層厚さに錫メッキされることによって達
成される。この方法によれば冒頭に述べた直径の線を５
μｍの錫層で均一にメッキでき、この場合代表的な値と
して±１，５μｍの銅線が得られる。この線は火力式の
錫メツキ工程に基づいて充分な拡散層が作られ、他方で
は続く電気式の錫メッキに基づいてその均一な被覆によ
って良好な合心性を有する。本発明に基づく方法で得ら
れる小さな誤差によって、不合格率が小さくなり、これ
は層厚さによる良好な錫消費量と共に非常に経済的な製
造方法を提供する。
れた線がまず薄く火力式で錫メッキされ、続いて電気式
〇最終のメッキ層厚さに錫メッキされることによって達
成される。この方法によれば冒頭に述べた直径の線を５
μｍの錫層で均一にメッキでき、この場合代表的な値と
して±１，５μｍの銅線が得られる。この線は火力式の
錫メツキ工程に基づいて充分な拡散層が作られ、他方で
は続く電気式の錫メッキに基づいてその均一な被覆によ
って良好な合心性を有する。本発明に基づく方法で得ら
れる小さな誤差によって、不合格率が小さくなり、これ
は層厚さによる良好な錫消費量と共に非常に経済的な製
造方法を提供する。
本発明の発展形態において、普通に前処理された線が、
錫浴、錫−鉛浴あるいは錫−ニッケル浴において４００
〜２４０℃好ましくは３６０〜２６０℃の温度で２秒好
ましくは１秒以下の時間帯にわたって火力的に錫メッキ
されることを提案する。このようにして０．５〜１．５
μｍ好ましくは１．２μｍの層厚さが得られ、その場合
拡散層は約０．５μｍまでの厚さを有している。
錫浴、錫−鉛浴あるいは錫−ニッケル浴において４００
〜２４０℃好ましくは３６０〜２６０℃の温度で２秒好
ましくは１秒以下の時間帯にわたって火力的に錫メッキ
されることを提案する。このようにして０．５〜１．５
μｍ好ましくは１．２μｍの層厚さが得られ、その場合
拡散層は約０．５μｍまでの厚さを有している。
本発明の別の形態において、火力的に錫メッキされた後
に冷却され普通の方式で前処理された線が、錫浴、錫−
鉛浴あるいは錫−ニッケル浴、好ましくは光沢鉛−錫浴
において、例えば３〜１０μｍ好ましくは４μｍの層厚
さに電気的に錫メッキされることを提案する。
に冷却され普通の方式で前処理された線が、錫浴、錫−
鉛浴あるいは錫−ニッケル浴、好ましくは光沢鉛−錫浴
において、例えば３〜１０μｍ好ましくは４μｍの層厚
さに電気的に錫メッキされることを提案する。
本発明の更に別の形態において、１５〜４０秒の錫メツ
キ浴内の滞在時間において４μｍの錫メッキ層を持った
直径が０．４〜１゜ｏＩＩｌｍの線の電気式の錫メッキ
が約５μｍの最終層厚さまで行なわれることを提案する
。
キ浴内の滞在時間において４μｍの錫メッキ層を持った
直径が０．４〜１゜ｏＩＩｌｍの線の電気式の錫メッキ
が約５μｍの最終層厚さまで行なわれることを提案する
。
更に本発明の発展形態において、火力式の錫メッキと電
気的の錫メッキとの間の冷却が空気で好ましくは対向流
で行なわれることを提案する。
気的の錫メッキとの間の冷却が空気で好ましくは対向流
で行なわれることを提案する。
本発明に基づく方法の錫メッキに対して、線材料として
例えば銅、洋銀、青銅、黄銅がそれらの合金を含めて対
象どなるが、鉄も対象となる。丸線を使用するばかに、
平線、角形線、影線ならびにテープも使用できる。錫被
覆層としてＤ −ｒ Ｎ ＮＡ格に相応した純粋の錫あ
るいは鉛−錫が優れている。
例えば銅、洋銀、青銅、黄銅がそれらの合金を含めて対
象どなるが、鉄も対象となる。丸線を使用するばかに、
平線、角形線、影線ならびにテープも使用できる。錫被
覆層としてＤ −ｒ Ｎ ＮＡ格に相応した純粋の錫あ
るいは鉛−錫が優れている。
次に本発明に基づく錫メツキ方法を実施ツる２つの例に
ついて説明する。
ついて説明する。
例１
既に最終寸法に引抜き加工されている銅線が、８Ｑｍ／
ｎ＋ｉｎの速度で長さ１ｍの浸漬浴を通過する。
ｎ＋ｉｎの速度で長さ１ｍの浸漬浴を通過する。
続いてこの銅線洗浄槽並びにはんだ液槽を通過し、はん
だ液槽において溶剤処理が行なわれる。それから銅線は
案内ローラを介して２６０℃の長さ１．１ｍの錫−鉛浴
の中に傾斜しで入りこむ。そこで線は案内ローラを介し
て垂直に上向きに転向され、その場合錫浴を引抜きブロ
ックの範囲から出る。線は長さが約２．５〜３ｍの冷却
領域を垂直に上向きに通過し、その場合線は管の中で対
向流で流れる空気でほぼ常温に冷却される。
だ液槽において溶剤処理が行なわれる。それから銅線は
案内ローラを介して２６０℃の長さ１．１ｍの錫−鉛浴
の中に傾斜しで入りこむ。そこで線は案内ローラを介し
て垂直に上向きに転向され、その場合錫浴を引抜きブロ
ックの範囲から出る。線は長さが約２．５〜３ｍの冷却
領域を垂直に上向きに通過し、その場合線は管の中で対
向流で流れる空気でほぼ常温に冷却される。
案内ローラを介して長さが１ｍの電解浸漬浴の中にやっ
て来た線は、続いて水で洗浄され、その後酸洗いされる
。線は最後に電気式に錫メッキするために光沢鉛−錫浴
の中に入り、線はこの中を一連の案内ローラを介して約
４７ｍの距離にわたって通過する。その電気式の錫浴内
における滞在時間は８０ ｍ／ｓｅｃの速度において約
３５秒である。
て来た線は、続いて水で洗浄され、その後酸洗いされる
。線は最後に電気式に錫メッキするために光沢鉛−錫浴
の中に入り、線はこの中を一連の案内ローラを介して約
４７ｍの距離にわたって通過する。その電気式の錫浴内
における滞在時間は８０ ｍ／ｓｅｃの速度において約
３５秒である。
電気式に錫メッキした後、線は最終的に巻ぎ取られる前
に洗浄槽および乾燥領域を通過する。
に洗浄槽および乾燥領域を通過する。
この例に対して０．５〜ｏ、ｓｍｍの太さの線が採用さ
れ、その場合火力式の錫メツキ領域において、約１．２
μｍの層厚さが約０．５μｍの拡散層において得られる
。
れ、その場合火力式の錫メツキ領域において、約１．２
μｍの層厚さが約０．５μｍの拡散層において得られる
。
続く電気式の錫メッキにおいて、約４μｍの錫層は約５
μｍの最終層厚さにされる。
μｍの最終層厚さにされる。
例２
直径が約０．５〜０．８ＩＩＩＩＢの線が長さ１ｍの最
初の浸漬浴を１２０ ＩＩｌ／ｍｉｎの速度で通過する
。浸漬浴における電流密度は例１に比べて約３０％高め
られている。錫−鉛の火力式錫メツキ浴は３６０℃の温
度を有し、長さは変わらずに１．１ｍである。線の案内
および引抜きブロックの通過は例１と動揺に行なわれ、
同じように冷却領域を通過する。
初の浸漬浴を１２０ ＩＩｌ／ｍｉｎの速度で通過する
。浸漬浴における電流密度は例１に比べて約３０％高め
られている。錫−鉛の火力式錫メツキ浴は３６０℃の温
度を有し、長さは変わらずに１．１ｍである。線の案内
および引抜きブロックの通過は例１と動揺に行なわれ、
同じように冷却領域を通過する。
冷却流の線は１２０ ｍ／１ｎの速度で光沢鉛−錫の電
気式のメッキ浴の中に約２３秒の滞在時間で入り込む。
気式のメッキ浴の中に約２３秒の滞在時間で入り込む。
電流強さは例１に比べて約５０％高められている。洗浄
、乾燥および巻き取りは例１と同様に行なわれる。上述
のパラメータにおいて例１とほぼ同様の層厚さの錫メッ
キが得られる。
、乾燥および巻き取りは例１と同様に行なわれる。上述
のパラメータにおいて例１とほぼ同様の層厚さの錫メッ
キが得られる。
以下図面に示す実施例に基づいて本発明を説明する。
第１図において１はコイラーであり、このコイラー１か
ら最終寸法に引抜き加工された素線が引き出され、後続
配置された浸漬浴２を通過される。
ら最終寸法に引抜き加工された素線が引き出され、後続
配置された浸漬浴２を通過される。
続いて洗浄槽３およびはんだ液が満たされた浴剤処理槽
４が配置されている。素線は浴剤処理槽４から案内ロー
ラ５を介して斜めに温度が約２６０〜３６０℃の中に入
る。この錫浴６の中には別の案内ローラ７があり、線は
この案内ローラ７を介して垂直に上向きに転向され、引
抜きブロック８の範囲で錫浴６から出る。続いて線は垂
直方向に上向きに長さが約２．５〜３ｍの冷却領域を通
過する。その場合冷却領域は管で形成され、対向流で空
気が吹き込まれ、この管の中を線が通されている。火力
式に錫メッキされた線は、案内ローラ１０を介して第２
図に基づく電気式の錫メツキ装置へ入れるために下向き
に転向される。
４が配置されている。素線は浴剤処理槽４から案内ロー
ラ５を介して斜めに温度が約２６０〜３６０℃の中に入
る。この錫浴６の中には別の案内ローラ７があり、線は
この案内ローラ７を介して垂直に上向きに転向され、引
抜きブロック８の範囲で錫浴６から出る。続いて線は垂
直方向に上向きに長さが約２．５〜３ｍの冷却領域を通
過する。その場合冷却領域は管で形成され、対向流で空
気が吹き込まれ、この管の中を線が通されている。火力
式に錫メッキされた線は、案内ローラ１０を介して第２
図に基づく電気式の錫メツキ装置へ入れるために下向き
に転向される。
浸漬浴１１が電気式の錫メツキ装置の入口を形成し、線
はこの浸漬浴１１から洗浄槽１２および続いて酸洗い１
３に送られる。酸洗い１３には電解錫メッキ浴１４が続
き、ここには多数の案内ローラ１５，１６が配置されて
いる。錫メッキ浴の空間的に狭い広がりにおいて錫メッ
キ浴における線の相応した湘在時間を得るために、線は
案内ローラを介して数回曲げられて導かれている。これ
によって生ずる機械的な抵抗に打ち勝つために、ローラ
１５はモータ１７で駆動される。線は電解錫メッキ浴を
出た後、洗浄槽１８を通過し、最後に図示していない乾
燥装置を通過した後、完成線としてコイラー１９に巻き
取られる。
はこの浸漬浴１１から洗浄槽１２および続いて酸洗い１
３に送られる。酸洗い１３には電解錫メッキ浴１４が続
き、ここには多数の案内ローラ１５，１６が配置されて
いる。錫メッキ浴の空間的に狭い広がりにおいて錫メッ
キ浴における線の相応した湘在時間を得るために、線は
案内ローラを介して数回曲げられて導かれている。これ
によって生ずる機械的な抵抗に打ち勝つために、ローラ
１５はモータ１７で駆動される。線は電解錫メッキ浴を
出た後、洗浄槽１８を通過し、最後に図示していない乾
燥装置を通過した後、完成線としてコイラー１９に巻き
取られる。
第１図は本発明に基づく火力式の錫メツキ装置の概略構
成図、第２図は電気式の錫メツキ装置の概略構成図であ
る。 １・・・コイラー、２・・・浸漬浴、３・・・洗浄槽、
４・・・浴剤処理槽、５・・・案内ローラ、６・・・錫
浴、７・・・案内ローラ、８・・・引抜きブロック、９
・・・冷却領域、１０・・・案内ローラ、１１・・・浸
漬浴、１２・・・洗浄槽、１３・・・酸洗い、１４・・
・錫メッキ浴、１５．１６・・・案内ローラ、１７・・
・モータ、１８・・・洗浄槽、１９・・・コイラー。 出願人代理人 猪 股 清
成図、第２図は電気式の錫メツキ装置の概略構成図であ
る。 １・・・コイラー、２・・・浸漬浴、３・・・洗浄槽、
４・・・浴剤処理槽、５・・・案内ローラ、６・・・錫
浴、７・・・案内ローラ、８・・・引抜きブロック、９
・・・冷却領域、１０・・・案内ローラ、１１・・・浸
漬浴、１２・・・洗浄槽、１３・・・酸洗い、１４・・
・錫メッキ浴、１５．１６・・・案内ローラ、１７・・
・モータ、１８・・・洗浄槽、１９・・・コイラー。 出願人代理人 猪 股 清
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、２段階の錫メツキ工程によって、特に電子技術用の
直径がＱ、１ｍｍ好ましくはｌｏｎ＋ｍまでの例えば銅
のようなＮＥ−金属からなる錫メッキされた線を製造す
る方法において、既に最終的に引抜き加工された線がま
ず火力式で錫メッキされ、続いて電気的で最終のメッキ
層厚さに錫メッキされることを特徴とり゛る錫メッキ線
の製造方法。 ２、 普通に前処理された線が、錫浴、錫−鉛浴あるい
は錫−ニッケル浴において４００〜２４０℃好ましくは
３６０〜２６０℃の温度で２秒好ましくは１秒以下の時
間帯にわたって火力的に錫メッキされることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項に記載の錫メッキ線の製造方法
。 ３、 線が０．５〜１．５μｍ好ましくは１．２μｍの
層厚さに火力的に錫メッキされることを特徴とする特許
請求の範囲第２項に記載の錫メッキ線の製造方法。 ４、 火力的に錫メッキされた後に冷却され普通の方式
で前処理きれた線が、錫浴、錫−鉛浴あるいは錫−ニッ
ケル浴、好ましくは光沢鉛〜錫浴において、例えば３〜
１０μｍ好ましくは４μｍの層厚さに電気的に錫メッキ
されることを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第
３項のいずれかに記載の錫メッキ線の製造方法。 ５、 直径が０．４〜ｉ、Ｑｎｌｍの線が電気式の錫メ
ッキで、１５〜４０秒の錫メツキ浴内の滞在時間におい
て４μｍの錫メッキ層を持った約５μｍの最終層厚さま
で行なわれることを特徴とする特許請求の範囲第３項に
記載の錫メッキ線の製造方法。 ６、 冷却が空気で好ましくは対向流で行なわれること
を特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の錫メッキ線
の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3420514.4 | 1984-06-01 | ||
| DE3420514A DE3420514C2 (de) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | Verfahren zur Herstellung verzinnter Drähte |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60258492A true JPS60258492A (ja) | 1985-12-20 |
Family
ID=6237423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60086636A Pending JPS60258492A (ja) | 1984-06-01 | 1985-04-24 | 錫メツキ線の製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4661215A (ja) |
| JP (1) | JPS60258492A (ja) |
| AT (1) | AT387040B (ja) |
| DE (1) | DE3420514C2 (ja) |
| FI (1) | FI78507C (ja) |
| FR (1) | FR2565255B1 (ja) |
| IT (2) | IT8522059V0 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT386147B (de) * | 1986-04-16 | 1988-07-11 | Neumayer Karl | Verfahren zur herstellung von band- bzw. drahtfoermigem material |
| US5236574A (en) * | 1989-05-08 | 1993-08-17 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Electroplating of hot-galvanized steel sheet and continuous plating line therefor |
| GB9309521D0 (en) * | 1993-05-08 | 1993-06-23 | United Wire Ltd | Improved method |
| CA2176892C (en) * | 1995-05-22 | 2002-10-29 | Stephen R. Moysan, Iii | Article having a decorative and protective coating simulating brass |
| DE19633615C2 (de) * | 1996-08-21 | 2001-05-23 | Edelhoff Adolf Feindrahtwerk | Verfahren zum Aufbringen einer lötbaren metallischen Außenbeschichtung auf einen Draht aus einer Aluminiumlegierung |
| AU8670798A (en) * | 1997-07-30 | 1999-02-22 | Whitaker Corporation, The | Two layer solderable tin coating |
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